JP2007080603A - 膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置 - Google Patents
膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007080603A JP2007080603A JP2005264865A JP2005264865A JP2007080603A JP 2007080603 A JP2007080603 A JP 2007080603A JP 2005264865 A JP2005264865 A JP 2005264865A JP 2005264865 A JP2005264865 A JP 2005264865A JP 2007080603 A JP2007080603 A JP 2007080603A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- area
- effective
- film pattern
- liquid
- solvent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 94
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 28
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 title claims description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 176
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 88
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 84
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 66
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 46
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 40
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 claims 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 abstract description 16
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 11
- 239000012761 high-performance material Substances 0.000 abstract 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 130
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 71
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 63
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 17
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 16
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 15
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 14
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 14
- OQCFWECOQNPQCG-UHFFFAOYSA-N 1,3,4,8-tetrahydropyrimido[4,5-c]oxazin-7-one Chemical compound C1CONC2=C1C=NC(=O)N2 OQCFWECOQNPQCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 13
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 13
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 12
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 8
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 5
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 5
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 4
- -1 polyphenylene vinylene Polymers 0.000 description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 4
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- HBEDSQVIWPRPAY-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrobenzofuran Chemical compound C1=CC=C2OCCC2=C1 HBEDSQVIWPRPAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 2
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 2
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YJUUZFWMKJBVFJ-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethylimidazolidin-4-one Chemical compound CN1CN(C)C(=O)C1 YJUUZFWMKJBVFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLCLIOISYBHYDZ-UHFFFAOYSA-N 1,4,4-triphenylbuta-1,3-dienylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)=CC=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KLCLIOISYBHYDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCNCGHJSNVOIKE-UHFFFAOYSA-N 9,10-diphenylanthracene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=CC=CC=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 FCNCGHJSNVOIKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N aluminum magnesium Chemical compound [Mg].[Al] SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N coumarin 6 Chemical compound C1=CC=C2SC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N cyclohexylbenzene Chemical compound [CH]1CCCC[C@@H]1C1=CC=CC=C1 HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- VOFUROIFQGPCGE-UHFFFAOYSA-N nile red Chemical compound C1=CC=C2C3=NC4=CC=C(N(CC)CC)C=C4OC3=CC(=O)C2=C1 VOFUROIFQGPCGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- ZXZKYYHTWHJHFT-UHFFFAOYSA-N quinoline-2,8-diol Chemical compound C1=CC(=O)NC2=C1C=CC=C2O ZXZKYYHTWHJHFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 239000001022 rhodamine dye Substances 0.000 description 1
- YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N rubrene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/88—Dummy elements, i.e. elements having non-functional features
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/12—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
- H10K71/13—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
- H10K71/135—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing using ink-jet printing
Abstract
【課題】 基板面内で均一な膜厚のパターンを形成することが可能な膜パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の膜パターンの形成方法は、機能性材料を溶媒に溶解ないし分散させてなる機能液を基体P上に配置し、前記機能液から溶媒を除去することにより、前記機能性材料からなる膜パターンを形成する方法であって、前記膜パターンが形成される前記基体Pの有効領域TE及び前記有効領域TEの周囲の非有効領域TDに液体受容部PE,PDを形成する工程と、前記有効領域TEに形成された前記液体受容部PEに前記機能液を配置する工程と、前記非有効領域TDに形成された前記液体受容部PDに前記機能液又は溶媒を配置する工程とを有し、前記非有効領域TDにおける前記液体受容部PDのサイズを、前記有効領域TEの中心部Cから遠い領域ほど大きくすることを特徴とする。
【選択図】 図2
【解決手段】 本発明の膜パターンの形成方法は、機能性材料を溶媒に溶解ないし分散させてなる機能液を基体P上に配置し、前記機能液から溶媒を除去することにより、前記機能性材料からなる膜パターンを形成する方法であって、前記膜パターンが形成される前記基体Pの有効領域TE及び前記有効領域TEの周囲の非有効領域TDに液体受容部PE,PDを形成する工程と、前記有効領域TEに形成された前記液体受容部PEに前記機能液を配置する工程と、前記非有効領域TDに形成された前記液体受容部PDに前記機能液又は溶媒を配置する工程とを有し、前記非有効領域TDにおける前記液体受容部PDのサイズを、前記有効領域TEの中心部Cから遠い領域ほど大きくすることを特徴とする。
【選択図】 図2
Description
本発明は、膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置に関するものである。
近年、有機蛍光材料等の機能性材料をインク化し、該インク(機能液)を基体上に吐出する液滴吐出法により、機能性材料のパターニングを行う方法を採用して、一対の電極間に該機能性材料からなる機能層が挟持された構成の有機エレクトロルミネッセンス装置(以下、有機EL装置という)、特に機能性材料として有機発光材料を用いた有機EL装置の開発が行われている(例えば特許文献1〜4を参照)。
上述した機能性材料のパターニング法として、基体上に形成したITO等からなる画素電極の周囲にバンクと呼ばれる隔壁を形成し、次に画素電極及びこの画素電極に隣接する前記バンクの一部を親液性に処理するとともにバンクの残りの部分を撥液性に処理した後、機能層の構成材料を含むインクを画素電極に吐出して乾燥することにより、該画素電極上に機能層を形成する方法が採用されている。具体的には、複数のノズルが副走査方向に沿って配列されてなるノズル列を有する液滴吐出ヘッドを用い、この液滴吐出ヘッドを基体に対して主走査方向に走査しつつ、前記ノズルからインクを吐出することにより、画素電極上に機能層を形成する方法が知られている。このような方法は、マイクロオーダーの液滴を画素領域に配することが可能なため、材料の利用効率を考えると、スピンコートなどの方法に比べて有効である。
しかしながら、画素電極が配された表示領域(有効領域)のうち周辺部では、インクから蒸発する溶媒蒸気の分圧が該表示領域の中央部よりも少なくなる場合がある。このような現象が生じると、周辺部において溶媒の蒸発速度が極端に速くなり、その結果、製造される有機EL装置において機能層の膜厚むらや1画素内での膜の偏り(膜の断面形状が斜めに傾いた状態)が生じる惧れがある。このような膜厚むらが生じた有機EL装置は、その特性が低下し、これを表示装置等として用いた場合には、表示むらを生じることもある。そこで、これを解決するために、例えば特許文献5のような技術が開示されている。
特開平11−54270号公報
特開2001−291587号公報
特開2004−31360号公報
特開2004−127897号公報
特開2002−222695号公報
上記特許文献5に開示された技術は、表示領域の外側に表示に寄与しないダミー領域(非有効領域)を形成し、該ダミー領域にも機能層と同一のインクを塗布することで、表示領域内における溶媒蒸気の分圧のばらつきを小さくするものである。通常は、ダミー領域に表示領域と同様のパターンのバンクを形成し、該バンクの開口部にインクを塗布するものとしている。この方法によれば、表示領域の中央部と周辺部で溶媒の乾燥が等しく進行するので、機能層の膜厚むらや膜の偏りのない高品質な膜を形成することが可能となる。
ダミー領域に吐出されるインクは表示用の画素を形成するものではないので、表示領域に形成される画素(有効画素)と区別して、ダミー画素と呼ばれることがある。上記のような膜厚むらの発生を防止するためには、少なくとも数列から数十列分のダミー画素を形成する必要があるが、従来は全てのダミー画素を有効画素と同じピッチ、同じパターンで形成していたため、インクを表示領域と同様に塗布するのみでは、必ずしも十分な膜厚むらの解消には至らない場合があった。つまり、基体に吐出されたインクの乾燥は同心円状に周辺から進行するため、例えば矩形に設けられた表示領域の角部では、それ以外の部分よりも溶媒の乾燥が速くなる場合があり、これにより膜厚むらの発生を十分に回避できない場合があった。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、基板面内で均一な膜厚のパターンを形成することが可能な膜パターンの形成方法及びデバイスの製造方法を提供することを目的とする。また、このような方法により形成された均一な膜パターンを備えた有機EL装置を提供することを目的とする。
上記の課題を解決するため、本発明の膜パターンの形成方法は、機能性材料を溶媒に溶解ないし分散させてなる機能液を基体上に配置し、前記機能液から溶媒を除去することにより、前記機能性材料からなる膜パターンを形成する方法であって、前記膜パターンが形成される前記基体の有効領域、及び前記有効領域の周囲の非有効領域に、液体受容部を形成する工程と、前記有効領域に形成された前記液体受容部に前記機能液を配置する工程と、前記非有効領域に形成された前記液体受容部に前記機能液又は溶媒を配置する工程とを有し、前記非有効領域における前記液体受容部のサイズを、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど大きくすることを特徴とする。
この方法によれば、非有効領域における液体受容部のサイズを有効領域の中心部から遠い領域ほど大きくしているので、配置した機能液から蒸発する溶媒の分圧の低くなり易い有効領域の角部等においても溶媒の分圧が急激に低下することがなく、有効領域全体で蒸発した溶媒蒸気の分圧を均一化することが可能である。溶媒蒸気の分圧は、配置された溶媒の表面積に依存し、配置された溶媒の表面積が大きいほど蒸発した溶媒の分圧は大きくなる。本発明においては、配置する溶媒の表面積を液体受容部のサイズによって調節し、これにより有効領域内で溶媒の分圧に偏りが生じないようにしているので、有効領域全体で機能液から溶媒が蒸発する速度、すなわち乾燥速度が均一になり、膜厚むらや膜の偏りなどがない高品質な膜を形成することができる。特に膜厚むらや膜の偏りなどが発生し易い有効領域の角部等においても、均一で高品質な膜を形成することが可能となる。
この方法によれば、非有効領域における液体受容部のサイズを有効領域の中心部から遠い領域ほど大きくしているので、配置した機能液から蒸発する溶媒の分圧の低くなり易い有効領域の角部等においても溶媒の分圧が急激に低下することがなく、有効領域全体で蒸発した溶媒蒸気の分圧を均一化することが可能である。溶媒蒸気の分圧は、配置された溶媒の表面積に依存し、配置された溶媒の表面積が大きいほど蒸発した溶媒の分圧は大きくなる。本発明においては、配置する溶媒の表面積を液体受容部のサイズによって調節し、これにより有効領域内で溶媒の分圧に偏りが生じないようにしているので、有効領域全体で機能液から溶媒が蒸発する速度、すなわち乾燥速度が均一になり、膜厚むらや膜の偏りなどがない高品質な膜を形成することができる。特に膜厚むらや膜の偏りなどが発生し易い有効領域の角部等においても、均一で高品質な膜を形成することが可能となる。
この場合、液体受容部に配置する機能液又は溶媒の量は、液体受容部のサイズに応じて変えてもよいし、液体受容部のサイズに関係なく一定としてもよい。液体受容部に配置された機能液又は溶媒は流動によって液体受容部のサイズに濡れ広がるため、配置される機能液又は溶媒の量が同じでも、表面積(すなわち溶媒分子の分圧)としては液体受容部のサイズに応じたものが得られるからである。ただし、濡れ広がった機能液又は溶媒は乾燥速度も速いため、乾燥期間中に十分な持続時間を確保したい場合には、液体受容部のサイズに応じて、配置する機能液又は溶媒の量も変えることが好ましい。
本発明においては、前記非有効領域における前記液体受容部のサイズを、前記有効領域の中心部からの距離に応じて3段階以上で変化させるものとすることができる。
この方法によれば、より乾燥むらの少ない膜パターンを形成することができる。
この方法によれば、より乾燥むらの少ない膜パターンを形成することができる。
本発明においては、前記非有効領域における前記液体受容部のサイズを、矩形に設けられた前記有効領域の角部において最も大きくするものとすることができる。
この方法によれば、従来最も問題となっていた有効領域の角部近傍における膜厚むらや膜の偏りなどの不均一性を解消し、有効領域全体にわたって均一な膜を形成することができる。
この方法によれば、従来最も問題となっていた有効領域の角部近傍における膜厚むらや膜の偏りなどの不均一性を解消し、有効領域全体にわたって均一な膜を形成することができる。
本発明においては、前記液体受容部を、隔壁によって区画された領域として形成するものとすることができる。
この方法によれば、隔壁によって膜パターンの形状が規定されることから、例えば隣接する隔壁間の幅を狭くするなど、隔壁を適切に形成することにより、膜パターンの微細化や細線化を図ることができる。
この方法によれば、隔壁によって膜パターンの形状が規定されることから、例えば隣接する隔壁間の幅を狭くするなど、隔壁を適切に形成することにより、膜パターンの微細化や細線化を図ることができる。
本発明においては、前記有効領域における前記液体受容部の間隔(配列ピッチ)と前記非有効領域における前記液体受容部の間隔とを概ね同じ間隔で形成するものとすることができる。
この方法によれば、非有効領域への機能液又は溶媒の配置を有効領域に配置する場合と同じ条件で行なうことができる。特に、液滴吐出法で機能液又は溶媒を吐出する場合には、有効領域と非有効領域とで吐出ピッチを変えることなく連続して吐出を行なうことができるので、工程が簡単になる。
この方法によれば、非有効領域への機能液又は溶媒の配置を有効領域に配置する場合と同じ条件で行なうことができる。特に、液滴吐出法で機能液又は溶媒を吐出する場合には、有効領域と非有効領域とで吐出ピッチを変えることなく連続して吐出を行なうことができるので、工程が簡単になる。
本発明においては、前記非有効領域における前記液体受容部を、前記有効領域の外周に沿って少なくとも2列以上形成するものとすることができる。
この方法によれば、より確実に乾燥むらを防止することができる。
この方法によれば、より確実に乾燥むらを防止することができる。
本発明においては、前記機能液又は前記溶媒の配置を液滴吐出法により行なうものとすることができる。
この方法によれば、液滴吐出法を用いることにより、スピンコート法などの他の塗布技術に比べて、液体材料の消費に無駄が少なく、基体上に配置する液体材料の量や位置の制御を行ないやすい。
この方法によれば、液滴吐出法を用いることにより、スピンコート法などの他の塗布技術に比べて、液体材料の消費に無駄が少なく、基体上に配置する液体材料の量や位置の制御を行ないやすい。
本発明の膜パターンの形成方法は、機能性材料を溶媒に溶解ないし分散させてなる機能液を基体上に配置し、前記機能液を乾燥することにより、前記機能性材料からなる膜パターンを形成する方法であって、前記膜パターンが形成される前記基体の有効領域に前記機能液を配置する工程と、前記有効領域の周囲の非有効領域に前記機能液又は前記溶媒を配置する工程とを有し、前記非有効領域に配置する単位面積当たりの前記溶媒の表面積を、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど大きくすることを特徴とする。
この方法によれば、乾燥が速く、溶媒分子の分圧が急激に低下し易い有効領域の角部等においても、膜厚むらや膜の偏りなどがない高品質な膜を形成することができる。
この方法によれば、乾燥が速く、溶媒分子の分圧が急激に低下し易い有効領域の角部等においても、膜厚むらや膜の偏りなどがない高品質な膜を形成することができる。
本発明のデバイスの製造方法は、膜パターンを有するデバイスの製造方法であって、前記膜パターンの形成工程が、前述した本発明の膜パターンの形成方法により行なわれることを特徴とする。
この方法によれば、有効領域全体にわたって均一な膜を有する高性能なデバイスを提供することができる。
本発明のデバイスとしては、例えば、有機エレクトロルミネッセンス装置やカラーフィルタ基板等があり、これら有機エレクトロルミネッセンス装置の有機機能層(発光層、電荷輸送層等)や画素電極のパターン、又はカラーフィルタ基板のカラーフィルタパターンの形成工程等に、本発明の膜パターンの形成方法を好適に適用することができる。
この方法によれば、有効領域全体にわたって均一な膜を有する高性能なデバイスを提供することができる。
本発明のデバイスとしては、例えば、有機エレクトロルミネッセンス装置やカラーフィルタ基板等があり、これら有機エレクトロルミネッセンス装置の有機機能層(発光層、電荷輸送層等)や画素電極のパターン、又はカラーフィルタ基板のカラーフィルタパターンの形成工程等に、本発明の膜パターンの形成方法を好適に適用することができる。
本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置は、隔壁によって区画された有機エレクトロルミネッセンス素子と、前記有機エレクトロルミネッセンス素子が設けられた有効領域と、前記有効領域の周囲の非有効領域に設けられた液体受容部とを有し、前記非有効領域における前記液体受容部のサイズが、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど大きいことを特徴とする。
この構成によれば、有効領域の液体受容部に有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層等を液体プロセスで形成する場合に、非有効領域の液体受容部にダミーの溶媒を塗布しておけば、該発光層等において膜厚むらが発生することを防止ないし抑制することができる。つまり、非有効領域の液体受容部にダミーの溶媒を塗布しておくことで、有効領域において蒸発する溶媒分子の分圧が該有効領域の中央部と周辺部とで略同一となり、その結果、有効領域全体で発光層等の膜厚を均一化することができるようになるのである。
特に、本発明では、前記液体受容部のサイズを前記有効領域の中心部から遠い領域ほど大きくしているので、有効領域全体で蒸発した溶媒蒸気の分圧を均一化することができ、発光層等の膜厚むらや膜の偏りなどがない高性能且つ信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンス装置を提供することができる。
この構成によれば、有効領域の液体受容部に有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層等を液体プロセスで形成する場合に、非有効領域の液体受容部にダミーの溶媒を塗布しておけば、該発光層等において膜厚むらが発生することを防止ないし抑制することができる。つまり、非有効領域の液体受容部にダミーの溶媒を塗布しておくことで、有効領域において蒸発する溶媒分子の分圧が該有効領域の中央部と周辺部とで略同一となり、その結果、有効領域全体で発光層等の膜厚を均一化することができるようになるのである。
特に、本発明では、前記液体受容部のサイズを前記有効領域の中心部から遠い領域ほど大きくしているので、有効領域全体で蒸発した溶媒蒸気の分圧を均一化することができ、発光層等の膜厚むらや膜の偏りなどがない高性能且つ信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンス装置を提供することができる。
[第1の実施の形態]
図1は、本発明の膜パターンの形成方法を示す概念図である。
本発明の膜パターンの形成方法は、基体P上に機能性材料を含む機能液を配置し、前記機能液を乾燥することにより、前記基体P上に前記機能性材料からなる膜パターンを形成するものである。膜パターンが形成される領域のうち、膜本来の機能が有効に発揮される一群の膜パターンによって構成される領域を有効領域TEといい、膜パターンは形成されるが、膜本来の機能を発揮しない一群の膜パターンによって構成される領域を非有効領域TDという。ただし、非有効領域TDには必ずしも膜パターンが形成される必要はなく、機能性材料を含まない溶媒のみを配置する領域、又は溶媒のみを配置する領域とダミーの膜パターンを形成する領域との双方を含む領域を非有効領域という場合もある。本発明では、これらを総称して非有効領域という。
図1は、本発明の膜パターンの形成方法を示す概念図である。
本発明の膜パターンの形成方法は、基体P上に機能性材料を含む機能液を配置し、前記機能液を乾燥することにより、前記基体P上に前記機能性材料からなる膜パターンを形成するものである。膜パターンが形成される領域のうち、膜本来の機能が有効に発揮される一群の膜パターンによって構成される領域を有効領域TEといい、膜パターンは形成されるが、膜本来の機能を発揮しない一群の膜パターンによって構成される領域を非有効領域TDという。ただし、非有効領域TDには必ずしも膜パターンが形成される必要はなく、機能性材料を含まない溶媒のみを配置する領域、又は溶媒のみを配置する領域とダミーの膜パターンを形成する領域との双方を含む領域を非有効領域という場合もある。本発明では、これらを総称して非有効領域という。
例えば、有機EL表示装置等の表示装置においては、有効領域TEとは、表示に用いられる一群の画素によって構成される1つのまとまった領域をいい、液晶表示装置等に使用されるカラーフィルタ基板においては、有効領域TEとは、表示に用いられる一群のカラーフィルタによって構成される1つのまとまった領域をいう。また、複数の電極や配線が形成される基板にあっては、当該複数の電極や当該複数の配線によって構成される1つのまとまった領域をいう。本発明の膜パターンの形成方法は、このような有効領域TEに前記機能液を選択的に配置することにより、所望の形状及び機能を有する一群の膜パターンを形成するものである。
図1では、有効領域TEを例えば複数の表示用の画素(有効画素)PEからなる有効光学領域とし、この有効光学領域TEの複数の有効画素PEに対して、それぞれ機能性材料を含む機能液を液滴吐出法により選択的に吐出する例を示している。
図1において、符号IJは液滴吐出装置、符号20は当該液滴吐出装置に備えられる液滴吐出ヘッド、符号81は当該液滴吐出ヘッドに設けられたノズルをそれぞれ示している。図1では、ノズル81の配列方向Jは有効画素PEの配列方向Xに対して傾いた状態とされているが、配列方向Jにおけるノズル81の配列ピッチ(隣接するノズル81の中心の間隔)がX方向における有効画素PEの配列ピッチ(隣接する有効画素PEの中心の間隔)と同じであれば、配列方向Jは有効画素PEの配列方向Xと一致した方向に設定される。液滴吐出ヘッド20は、有効光学領域TEと平行な面内において角度θを回転可能に構成されており、ノズル81のX方向における配列ピッチ(すなわち、ノズル81をX軸に投影したときのノズル81の配列ピッチ)と有効画素PEのX方向における配列ピッチとが一致するように、ノズル81の配列方向Jが制御される。そして、このような配列方向Jを規定した状態で、液滴吐出ヘッド20と基体PとをX方向又はY方向に相対移動できるように構成されている。
なお、本実施形態に係る液滴吐出装置IJに備えられた液滴吐出ヘッド20は、圧電体素子に体積変化を生じさせて液滴を吐出させる構成であるが、発熱体により液体材料に熱を加えその膨張によって液滴を吐出させるような構成であってもよい。
図2は、有効光学領域TEを含む基体Pの平面構成を示す模式図であり、図2(a)は有効光学領域TEの周辺部の構成を示す模式図、図2(b)はその周辺部のうち有効光学領域TEの角部の領域Kを拡大して示す模式図である。
図2に示すように、本発明の膜パターンの形成方法では、有効光学領域(有効領域)TEの周囲に、非有効領域であるダミー領域TDを形成し、このダミー領域TDにダミーの液体材料を吐出することにより、有効光学領域TEの周囲にも有効光学領域TEと同じ溶媒雰囲気を形成する。ダミーの液体材料としては、通常は有効光学領域TEに吐出するのと同じ機能液を吐出するが、溶媒のみを吐出することも可能である。この場合の溶媒としては、該機能液に含まれる溶媒や、該機能液に含まれる溶媒に近い沸点を有する他の溶媒を用いることができる。
ダミー領域TDは、有効光学領域TEの周囲を囲むように設けられている。ダミー領域TDには、液体材料を配置するための複数の領域PDが設けられている。これらの領域PDは、有効光学領域TEに形成される有効画素PEに対して、ダミー画素と呼ばれる場合がある。ダミー画素PDは、表示に寄与しない画素であり、通常は画素電極やスイッチング素子は形成されないが、専ら検査を行なうために画素電極やスイッチング素子を形成し、有効画素PEに準じた機能を持たせる場合もある。
液滴吐出法においては、吐出された液滴を精度良く所定の画素に配置するために、画素と画素との間に、画素を仕切るための隔壁(バンク)を形成する場合がある。この場合には、隔壁によって区画された個々の領域が、液体材料を配置するための領域PD、すなわち液体受容部であり、これら複数の液体受容部のうち、有効光学領域TEに配置された液体受容部が有効画素PEとなり、ダミー領域TDに配置された液体受容部がダミー画素PDとなる。
また、隔壁を形成せずに、基体Pを表面処理するのみで、液体材料の配置される領域と配置されない領域とを区画する場合もある。すなわち、基体Pの特定の領域に機能液に対して親和性(親液性)が低くなるような処理(撥液処理)を施し、有効画素PE及びダミー画素PDとなる領域を機能液に対して相対的に親和性の高い領域(親液領域)とする場合がある。この場合には、親液領域として形成された個々の領域が液体受容部となる。さらに、配置精度が要求されない場合には、上述のような表面処理を行なわずに、そのまま基体P上に液体材料を吐出する場合もあり、この場合には、液体材料の塗膜が形成される個々の領域が液体受容部となる。
本実施形態では、隔壁Bを形成することによって、有効画素PE及びダミー画素PDを区画するものとする。この場合、隔壁Bによって膜パターンの形状が規定されることから、例えば隣接する隔壁B、B間の幅を狭くするなど、隔壁Bを適切に形成することにより、膜パターンの微細化や細線化が図られる。特に、隔壁Bの表面に撥液処理を施した場合には、隔壁Bの開口部にのみ確実に液滴を配置することが可能になる。
図2(b)に示すように、本発明においては、ダミー画素PDのサイズ(すなわち、隔壁Bの開口部の面積)が、有効光学領域TEの中心部Cから遠い領域ほど大きくなるように構成されている。例えば、ダミー画素PDのサイズは、中心部Cからの距離に応じて3段階に分かれており、中心部Cから最も近い有効光学領域TEの縁辺中央部の領域T1では最もサイズが小さく、中心部Cから最も遠い有効光学領域TEの角部の領域T3では最もサイズが大きくなっており、さらに、それらの中間の領域T2では、それらの中間のサイズとなっている。最もサイズが小さい領域T1におけるダミー画素PDのサイズは、有効光学領域TEにおける有効画素PEのサイズと同じである。なお、各領域T1〜T3におけるダミー画素PDのX方向及びY方向の配列ピッチ(隣り合うダミー画素PDの中心の間隔)は、有効光学領域TEにおける有効画素PEのX方向及びY方向の配列ピッチ(隣り合うダミー画素PEの中心の間隔)と同じである。
基体Pに吐出された機能液の乾燥は同心円状に有効光学領域TEの周辺から進行するため、矩形に設けられた有効光学領域TEの角部T3又はその近傍T2では、それ以外の部分よりも溶媒の乾燥が速くなる場合がある。このため、従来のように単にダミー領域を設けるのみでは膜厚むらの発生を十分に回避できない場合があったが、本発明では、ダミー画素PDのサイズを有効光学領域TEの中心部Cから遠い領域ほど大きくしているので、乾燥が速く進む有効光学領域TEの角部においても溶媒蒸気の分圧が急激に低下することがなく、有効光学領域全体で蒸発した溶媒の分圧を均一化することが可能である。すなわち、溶媒蒸気の分圧は、吐出された溶媒の表面積に依存し、表面積が大きいほど蒸発する溶媒の分圧は大きくなるが、本発明では、溶媒の表面積をダミー画素PDのサイズによって調節し、これにより有効光学領域TE内で溶媒蒸気の分圧に偏りが生じないようにしているので、有効光学領域全体で乾燥速度が均一になり、膜厚むらや膜の偏りなどがない高品質な膜を形成することができる。
ダミー領域TDに占める領域T1〜T3の割合や、領域T1〜T3におけるダミー画素PDのサイズは、これらの領域T1〜T3における機能液の乾燥速度に基づいて定められる。例えば、有効光学領域TEの中心部、有効光学領域TEの縁辺中央部及び有効光学領域TEの角部において乾燥時間を測定しておき、それらの部分における乾燥時間の差が十分に小さくなるように、各領域T1〜T3のダミー画素PDのサイズに分布を持たせるようにする。この場合、乾燥時間は、使用する溶媒や機能液の粘度等によって変わるので、ダミー画素PDのサイズ及び分布を定める場合には、これらの要素も十分に考慮するものとする。
次に、図3を用いて、本発明の膜パターンの形成方法を説明する。
まず、図3(a)に示すように、基体Pの有効光学領域TE及びダミー領域TD(T1,T2,T3)に隔壁Bを形成する。
基体Pとしては、ガラス、石英ガラス、Siウエハ、プラスチックフィルム、金属板など各種のものが挙げられる。さらに、これら各種の素材基板の表面に半導体膜、金属膜、誘電体膜、有機膜などが下地層として形成されたものも含む。
まず、図3(a)に示すように、基体Pの有効光学領域TE及びダミー領域TD(T1,T2,T3)に隔壁Bを形成する。
基体Pとしては、ガラス、石英ガラス、Siウエハ、プラスチックフィルム、金属板など各種のものが挙げられる。さらに、これら各種の素材基板の表面に半導体膜、金属膜、誘電体膜、有機膜などが下地層として形成されたものも含む。
隔壁Bの形成は、フォトリソグラフィ法や印刷法等、任意の方法で行うことができる。例えば、スピンコート法等により基体P全体に隔壁の材料を形成し、これをフォトリソグラフィ技術によりパターニングすることにより、単層の隔壁を形成することができる。また、図3(a)に示すように、下層B1が無機物層、上層B2が有機物層とされた2層以上で隔壁Bを形成してもよい。この場合、ダミー画素PDでは、下層B1のパターニングを行なってもよいし、図3(a)に示すように下層B1のパターニングを行なわない構成としてもよい。パターニングを行なわない場合は、上層B2によって区画された領域がダミー画素PDとなる。なお、隔壁Bの材料は、耐熱性、撥液性、溶剤耐性、下地基板との密着性に優れたものであれば、特に限定されない。
隔壁Bには、必要に応じて、撥液処理や親液処理が施される。
親液処理としては、酸素を処理ガスとしたプラズマ処理(O2プラズマ処理等)や、酸素雰囲気中での紫外線照射処理等を用いることができる。
撥液処理としては、CF4、SF6、CHF3等のフッ素成分を有するガス(フッ素含有ガス)を用いたプラズマ処理を用いることができる。撥液処理に代えて、隔壁Bの素材自体(例えば有機物層B2の形成材料)に予めフッ素基等の撥液成分を充填しておいてもよい。隔壁Bの表面を撥液化することにより、隔壁Bの開口部にのみ膜を形成し、隔壁Bの上面に不要な膜が形成されるのを防ぐことができる。
親液処理としては、酸素を処理ガスとしたプラズマ処理(O2プラズマ処理等)や、酸素雰囲気中での紫外線照射処理等を用いることができる。
撥液処理としては、CF4、SF6、CHF3等のフッ素成分を有するガス(フッ素含有ガス)を用いたプラズマ処理を用いることができる。撥液処理に代えて、隔壁Bの素材自体(例えば有機物層B2の形成材料)に予めフッ素基等の撥液成分を充填しておいてもよい。隔壁Bの表面を撥液化することにより、隔壁Bの開口部にのみ膜を形成し、隔壁Bの上面に不要な膜が形成されるのを防ぐことができる。
隔壁Bにより形成される開口部は、有効画素PE及びダミー画素PDのパターンに対応している。ダミー画素PDに対応する開口部は、有効光学領域TEの中心部から遠い領域ほど大きいサイズで形成する。特に、有効光学領域TEの角部の領域T3(図2参照)において最もサイズが大きくなるようにする。図2では、ダミー画素PDのサイズを3段階で変化させたが、2段階又は4段階以上で変化させることも可能である。
隔壁Bを形成したら、図3(b)に示すように、隔壁Bによって区画された領域PE,PDに機能液Lを吐出する。機能液Lは、膜パターンFを構成する材料を溶媒に溶解ないし分散させてなる液体材料である。
膜パターンFを構成する材料としては、電気的機能や光学的機能等の種々の機能を持った材料(機能性材料)を用いることができる。例えば、有機EL素子の発光層を形成する場合には、機能性材料として蛍光あるいはリン光を有する材料を用いればよく、カラーフィルタを形成する場合には、顔料等の微粒子着色材料を用いればよい。また、液晶装置等の透明画素電極を形成する場合には、インジウム錫酸化物(ITO)等の微粒子導電材料を用いればよい。
溶媒としては、上記の機能性材料を溶解ないし分散できるもので、凝集を起こさないものであれば特に限定されない。例えば、水、アルコール類、炭化水素系化合物、エーテル系化合物が好適である。
機能液Lの吐出には、前述した液滴吐出装置IJを用いる。
ダミー画素PDに吐出する液滴の量は、ダミー画素PDのサイズに応じて変えてもよいし、ダミー画素PDのサイズに関係なく一定としてもよい。ダミー画素PDに配置された液滴は流動によってダミー画素PDのサイズに濡れ広がるため、配置される液滴の量が同じでも、表面積(すなわち溶媒蒸気の分圧)としてはダミー画素PDのサイズに応じたものが得られるからである。ただし、濡れ広がった液滴は乾燥速度も速いため、乾燥期間中に十分な持続時間を確保したい場合には、ダミー画素PDのサイズに応じて、配置する液滴の量も変えることが好ましい。液滴の配置量は、例えば液滴のショット数を変えることによって調節することができる。
ダミー画素PDに吐出する液滴の量は、ダミー画素PDのサイズに応じて変えてもよいし、ダミー画素PDのサイズに関係なく一定としてもよい。ダミー画素PDに配置された液滴は流動によってダミー画素PDのサイズに濡れ広がるため、配置される液滴の量が同じでも、表面積(すなわち溶媒蒸気の分圧)としてはダミー画素PDのサイズに応じたものが得られるからである。ただし、濡れ広がった液滴は乾燥速度も速いため、乾燥期間中に十分な持続時間を確保したい場合には、ダミー画素PDのサイズに応じて、配置する液滴の量も変えることが好ましい。液滴の配置量は、例えば液滴のショット数を変えることによって調節することができる。
本発明の膜パターンの形成方法では、ダミー画素PDのサイズが場所によって異なるように形成されているが、図2のようにダミー画素PDの配列ピッチが有効画素PEの配列ピッチと同じであれば、液滴吐出ヘッド20からの液滴の吐出は、有効光学領域TEとダミー領域TDの双方において、ノズル81の配列方向J(図1の角度θ)を固定した状態で行なうことができる。
機能液Lを吐出したら、図3(c)に示すように、機能液Lの溶媒を乾燥により除去し、有効画素PEに前記機能性材料からなる膜パターンFを形成する。
前述のように、本発明では、有効光学領域TEの周囲にダミーの液体材料を吐出しているので、機能液Lを乾燥するときに、有効光学領域TEにおける蒸発した溶媒の分圧が、ダミー領域TDにおける蒸発した溶媒の分圧に比して過剰に大きくなることはない。特に、ダミー領域TDに配置される単位面積当たりの機能液Lの量(特に表面積)が、有効光学領域TEの中心部Cから遠い領域ほど大きくなっているので、有効光学領域TEにおいて蒸発する溶媒の分圧が該有効光学領域TEの中央部と周辺部とで略同一となり、その結果、有効光学領域全体で膜パターンFの膜厚が均一化されるようになる。
[変形例]
次に、本実施形態の膜パターンの形成方法の変形例について説明する。
図4は、本変形例におけるダミー画素PDの平面構成を示す模式図である。この図は、第1実施形態における図2(b)に相当するものである。
次に、本実施形態の膜パターンの形成方法の変形例について説明する。
図4は、本変形例におけるダミー画素PDの平面構成を示す模式図である。この図は、第1実施形態における図2(b)に相当するものである。
本変形例においては、各領域T1〜T3におけるダミー画素は、有効光学領域の外周に沿って延びる帯状の液体受容部として構成されている。ダミー画素PDのサイズは、有効光学領域TEの中心部から遠い領域ほど大きくなっている。例えば、ダミー画素PDのサイズは、中心部からの距離に応じて3段階に分かれており、中心部から最も近い有効光学領域TEの縁辺中央部の領域T1では最もサイズが小さく、中心部から最も遠い有効光学領域TEの角部の領域T3では最もサイズが大きくなっており、さらに、それらの中間の領域T2では、それらの中間のサイズとなっている。ダミー画素PDのサイズは、帯状に形成された当該帯の長さ、幅によって調節することができる。
この構成によれば、第1実施形態のように有効画素PEと同様の形状(ドット状の形状)のダミー画素PDを配設した場合に比して、機能液又は溶媒の受容量を増大させることができる。その結果、ダミー画素PDの幅を第1実施形態のものに比べて小さくすることができ、例えば第1実施形態の場合には数十列分以上のダミー画素PDが必要であったのに対し、本変形例では数列分程度の幅で済むようになる。したがって、有効光学領域TEの面積を第1実施形態よりも大きくとることが可能となり、有機EL表示装置等の表示デバイスにあっては、狭額縁化による表示面積の大型化を図ることができる。
[第2の実施の形態]
次に、本発明のデバイスの製造方法の一実施の形態として、本発明の膜パターンの形成方法を有機EL装置の製造方法に適用した例について説明する。この有機EL装置は、有機EL素子を画素として基体上に配列してなる有機EL装置であり、例えば電子機器等の表示手段として好適に用いることができるものである。
次に、本発明のデバイスの製造方法の一実施の形態として、本発明の膜パターンの形成方法を有機EL装置の製造方法に適用した例について説明する。この有機EL装置は、有機EL素子を画素として基体上に配列してなる有機EL装置であり、例えば電子機器等の表示手段として好適に用いることができるものである。
図5は、有機EL装置70の回路構成図、図6は、同有機EL装置70の平面模式図である。また図7は、同有機EL装置70に備えられた各画素PEの平面構造を示す図であって、(a)は画素PEのうち、主にTFT等の画素駆動部分を示す図、(b)は画素間を区画するバンク(隔壁)B等を示す図である。また図8は、図7(a)のA−A線に沿う断面構成を示す図である。
図5に示すように、有機EL装置70は、ガラス等からなる基体上に、複数の走査線(配線、電力導通部)131と、これら走査線131に対して交差する方向に延びる複数の信号線(配線、電力導通部)132と、これら信号線132に並列に延びる複数の共通給電線(配線、電力導通部)133とがそれぞれ配線されたもので、走査線131及び信号線132の各交点毎に、画素PEが設けられて構成されたものである。
信号線132に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、及びアナログスイッチ等を備えるデータ側駆動回路72が設けられている。一方、走査線131に対しては、シフトレジスタ及びレベルシフタ等を備える走査側駆動回路73が設けられている。また、画素PEの各々には、走査線131を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用TFT(薄膜トランジスタ)142と、このスイッチング用TFT(薄膜トランジスタ)142を介して信号線132から供給される画像信号(電力)を保持する保持容量capと、保持容量capによって保持された画像信号がゲート電極に供給される駆動用TFT143と、この駆動用TFT143を介して共通給電線133に電気的に接続したときに共通給電線133から駆動電流が流れ込む画素電極141と、この画素電極141と共通電極154との間に挟み込まれる発光部140と、が設けられている。そして、前記画素電極(第1電極)141と共通電極(第2電極)154と、有機機能層からなる発光部140とによって構成される素子が、有機EL素子である。
このような構成のもとに、走査線131が駆動されてスイッチング用TFT142がオンとなると、そのときの信号線132の電位が保持容量capに保持され、該保持容量capの状態に応じて、駆動用TFT143のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用TFT143のチャネルを介して共通給電線133から画素電極141に電流が流れ、さらに発光部140を通じて共通電極154に電流が流れることにより、発光部140は、これを流れる電流量に応じて発光するようになる。
次に、平面構造を見ると、図6に示すように、本実施形態の有機EL装置70は、基体Pの中央部に、マトリックス状に配置された有機EL素子200を具備している。
基体Pは、例えばガラス等の透明基板であり、基体Pの中央に位置し、有機EL素子200が機能する有効光学領域(有効領域)TEと、基体Pの周縁に位置して有効光学領域TEの外周に配置され、有機EL素子200が機能しないダミー領域(非有効領域)TDとに区画されている。有効光学領域TEは、マトリックス状に配置された有機EL素子200によって形成される領域であり、有効表示領域とも言う。また、ダミー領域TDは、有効光学領域TEに隣接して形成され、表示に寄与しない領域として構成されている。有効光学領域TE及びダミー領域TDには、有効画素及びダミー画素を区画するバンクB(図7参照)が形成されており、バンクBによって区画される領域が、機能液を配置するための液体受容部を構成し、この液体受容部に機能液を配置することにより、後述の有機EL素子の有機機能層が形成される。すなわち、バンクBによって区画された領域が画素であり、有効光学領域TEには、個々の画素に有機EL素子200が形成されている。
共通電極154(図5及び図8参照)は、その一端が基体P上に形成された図示略の陰極用配線に接続されており、図6に示すように、この配線の一端部154aがフレキシブル基板75上の配線77に接続されている。なお、この配線77は、フレキシブル基板75上に備えられた駆動IC76(駆動回路)に接続されている。
また、図6に示すように、基体Pのダミー領域TDには、前述の共通給電線133(133R、133G、133B)が配線されている。さらに、図6において、有効光学領域TEの図示両横側には、前述の走査側駆動回路73、73が配置されている。この走査側駆動回路73、73はダミー領域TDの下側の回路素子部に設けられている。さらに回路素子部には、走査側駆動回路73、73に接続される駆動回路用制御信号配線73aと駆動回路用電源配線73bとが設けられている。また、図6において、有効光学領域TEの図示上側には検査回路74が配置されている。この検査回路74により、製造途中や出荷時の表示装置の品質、欠陥の検査を行うことができる。
次に、図7(a)に示す画素PEの平面構造をみると、画素PEは、平面視略矩形状の画素電極141の四辺が、信号線132、共通給電線133、走査線131及び図示しない他の画素電極用の走査線によって囲まれた配置となっている。また図8に示す画素PEの断面構造をみると、基体P上に、駆動用TFT143が設けられており、駆動用TFT143を覆って形成された複数の絶縁膜を介した基体P上に、有機EL素子200が形成されている。有機EL素子200は、基体P上に立設されたバンクBに囲まれる領域内に設けられた有機機能層140を主体として構成され、この有機機能層140を、画素電極141と共通電極154との間に挟持した構成を備える。
ここで、図7(b)に示す平面構造をみると、バンクBは、画素電極141の形成領域に対応した平面視略矩形状の開口部149b,151を有しており、この開口部149b,151に先の有機機能層140が形成されるようになっている。
図8に示すように、駆動用TFT143は、半導体膜210に形成されたソース領域143a、ドレイン領域143b、及びチャネル領域143cと、半導体層表面に形成されたゲート絶縁膜220を介してチャネル領域143cに対向するゲート電極143Aとを主体として構成されている。半導体膜210及びゲート絶縁膜220を覆う第1層間絶縁膜230が形成されており、この第1層間絶縁膜230を貫通して半導体膜210に達するコンタクトホール232,234内に、それぞれドレイン電極236、ソース電極238が埋設され、各々の電極はドレイン領域143b、ソース領域143aに導電接続されている。第1層間絶縁膜230には、第2層間絶縁膜240が形成されており、この第2層間絶縁膜240に貫設されたコンタクトホールに画素電極141の一部が埋設されている。そして画素電極141とドレイン電極236とが導電接続されることで、駆動用TFT143と画素電極141(有機EL素子200)とが電気的に接続されている。画素電極141の周縁部に一部乗り上げるようにして無機絶縁材料からなる無機バンク(第1隔壁層)149が形成されている。無機バンク149上には、有機材料からなる有機バンク(第2隔壁層)150が積層され、これら無機バンク149及び有機バンク150によって、有機EL装置71における隔壁部材が形成されている。
上記有機EL素子200は、画素電極141上に、電荷輸送層としての正孔注入層140Aと、発光層140Bとを積層し、この発光層140Bと有機バンク150とを覆う共通電極154を形成することにより構成されている。正孔注入層140Aは、画素電極141を覆って形成されており、その周端部は、有機バンク150の下層側に設けられた無機バンク149のうち、有機バンク150から画素電極141中央側に突出して配置された部分も覆って形成されている。
基体Pとしては、いわゆるボトムエミッション型の有機EL装置の場合、基体P側から光を取り出す構成であるので、ガラス等の透明基板が用いられる。一方、いわゆるトップエミッション型の有機EL装置の場合には、有機EL素子200が配設された側から光を取り出す構成であるので、ガラス等の透明基板のほか、不透明基板も用いることができる。不透明基板としては、例えばアルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、また熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂、さらにはそのフィルム(プラスチックフィルム)などが挙げられる。
画素電極141は、基体Pを介して光を取り出すボトムエミッション型の場合には、ITO(インジウム錫酸化物)等の透光性導電材料により形成されるが、トップエミッション型の場合には透光性である必要はなく、金属材料等の適宜な導電材料によって形成できる。
共通電極154は、発光層140BとバンクBの上面、さらにはバンクBの側面部を形成する壁面を覆った状態で基体P上に形成される。この共通電極154を形成するための材料としては、トップエミッション型の場合、透明導電材料が用いられる。透明導電材料としてはITOが好適であるが、他の透光性導電材料であっても構わない。ボトムエミッション型の場合には、透明導電材料のほか、アルミニウム等の不透明若しくは光反射性を有する導電材料を用いることができる。
共通電極154の上層側には、陰極保護層を形成してもよい。係る陰極保護層を設けることで、製造プロセス時に共通電極154が腐食されるのを防止する効果が得られ、無機化合物、例えば、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン窒酸化物等のシリコン化合物により形成できる。共通電極154を無機化合物からなる陰極保護層で覆うことにより、無機酸化物からなる共通電極154への酸素等の侵入を良好に防止することができる。なお、このような陰極保護層は、共通電極154の平面領域の外側の基体上まで、10nmから300nm程度の厚みに形成される。
[有機EL装置の製造方法]
次に、有機EL装置70の製造方法について図面を参照しながら説明する。本実施形態では、図5から図8に示した構成を備えた有機EL装置を液体プロセスである液滴吐出法を用いて製造する例について説明する。
なお、以下に示す手順や液体材料の材料構成は一例であってこれに限定されるものではない。また、液滴吐出装置については前述のものを用いることができる。
次に、有機EL装置70の製造方法について図面を参照しながら説明する。本実施形態では、図5から図8に示した構成を備えた有機EL装置を液体プロセスである液滴吐出法を用いて製造する例について説明する。
なお、以下に示す手順や液体材料の材料構成は一例であってこれに限定されるものではない。また、液滴吐出装置については前述のものを用いることができる。
以下、上記有機EL装置70に備えられる有機EL素子200の製造方法について図9及び図10を参照しながら説明する。図9及び図10には、有効光学領域TEとダミー領域TDの境界部分が図示されている。
まず、図9(a)に示すように、基体P上に画素電極141、該画素電極141を駆動するための駆動用TFT143等を形成する。これらは公知の方法により形成することができる。図9(a)では、有効光学領域TEのみに画素電極141を形成しているが、ダミー領域TDに対しても同様の画素電極を形成することができる。この場合、ダミー領域TDに形成される画素(ダミー画素)は、検査用の素子として用いることが可能である。
次に、画素電極141の周縁部と一部平面的に重なるように、酸化シリコン等の無機絶縁材料からなる無機バンク149を形成する。具体的には、画素電極141及び平坦化絶縁膜240を覆うように酸化シリコン膜を形成した後、公知のフォトリソグラフィ技術を用いて酸化シリコン膜をパターニングし、画素電極141の表面を部分的に開口させることで形成できる。図9(a)では、無機バンク149のパターニングを有効光学領域TEのみで行なっているが、ダミー領域TDに対しても同様のパターニングを行なうことができる。
次に、図9(b)に示すように、無機バンク149上に、アクリル、ポリイミド等の有機絶縁材料からなる有機バンク150を形成する。
有機バンク150は、無機バンク149と共に、有機EL素子200を区画するバンク(隔壁)Bを形成するものである。すなわち、有効光学領域TEにあっては、無機バンク149及び有機バンク150によって区画された各々の領域が本発明の液体受容部であり、これらの液体受容部がそれぞれ有効画素PEとなる。一方、ダミー領域TDにあっては、無機バンク149がパターニングされていないため、有機バンク150によって区画された各々の領域が本発明の液体受容部であり、これらの液体受容部がそれぞれダミー画素PDとなる。
ダミー画素PDのサイズ(すなわち、バンクBの開口部151の面積)は、有効光学領域TEの中心部Cからの距離に応じて異なっており、中心部Cに最も近い領域ではダミー画素PDのサイズは最も小さく、中心部Cから遠くなるに従ってダミー画素PDのサイズは大きくなっている。すなわち、単位面積当たりに配置されるダミーの機能液(特に溶媒)の表面積が、有効光学領域TEの中心部から遠い領域ほど大きくなるように構成されており、これにより、有効光学領域全体で機能液の乾燥が均一に進行するものとされている。
ダミー画素PDのサイズは、有効光学領域TEの縁辺中央部から角部に向けて複数段階で変化しているものとされる。すなわち、有効光学領域TEの縁辺に沿ってダミー画素PDのサイズが異なる複数の領域T1,T2,T3が設けられており、それぞれの領域においてはダミー画素PDのサイズは一定であり、このように構成された前記複数の領域T1,T2,T3が、ダミー画素PDのサイズが大きいものほど有効光学領域TEの中心部から遠い領域に配置されたものとなっている。各領域T1,T2,T3におけるダミー画素PDのサイズや、各領域T1,T2,T3がダミー領域TD内に占める割合は、有効光学領域内で機能液の乾燥速度が一定となる条件の範囲内で適切に定められる。
有機バンク150の高さは、例えば1μm〜2μm程度に設定され、基体P上で有機EL素子200の仕切部材として機能する。このような構成のもと、有機EL素子200の正孔注入層や発光層の形成場所、すなわちこれらの形成材料の塗布位置とその周囲の有機バンク150との間に十分な高さの段差からなる開口部151が形成される。有機バンク150の開口部151と無機バンク149の開口部149bとは互いに連通しており、画素電極141はこれらの開口部内において露出した状態となっている。
有機バンク150の開口部151のX方向及びY方向における間隔(配列ピッチ)は、有効画素PEとダミー画素PDとで同じ間隔とされる。すなわち、有効画素PEとダミー画素PDは同じ配置密度で形成されるが、ダミー画素の配置密度は領域T1,T2,T3によって異ならせてもよい。
有機バンク150を形成するに際しては、有機バンク150の開口部151の壁面を、無機バンク149の開口部149bから若干外側へ後退させて形成するのがよい。このように有機バンク150の開口部151内に無機バンク149を一部露出させておくことで、有機バンク150内での液体材料の濡れ広がりを良好なものとすることができる。
有機バンク150を形成したら、有機バンク150及び画素電極141を含む基体上の領域に対して撥液処理を施す。有機バンク150は、有機EL素子200を区画する仕切部材として機能するので、液滴吐出ヘッド20から吐出される機能液に対して非親和性(撥液性)を示すものであることが好ましい。撥液処理としては、第1実施形態で説明したものを用いることができ、このような撥液処理により、有機バンク150に選択的に非親和性を発現させることができる。
このような撥液処理では、基体Pの一面側全体に処理を施したとしても、ITO膜や金属膜からなる無機材料の画素電極141の表面は有機材料からなる有機バンク150の表面よりも撥液化されにくく、有機バンク150の表面のみが選択的に撥液化され、有機バンク150に囲まれる領域内に機能液に対する親和性の異なる複数の領域が形成される。
なお、撥液処理に先立って、無機バンク149及び画素電極141の表面に親液処理を施しても良い。親液処理としては、第1実施形態で説明したものを用いることができる。親液処理としてO2プラズマ処理を行なった場合には、画素電極141であるITO上の洗浄,仕事関数の調整も兼ねることができる。なお、親液処理の後に撥液処理を行なった場合には、画素電極141や無機バンク149の表面も撥液処理の影響を多少受けるが、有機バンク150に比べてこれらの影響は小さく、濡れ性に影響を与える事は少ない。
基体P上にバンクBを形成したら、図9(c)に示すように、液滴吐出ヘッドにより、正孔注入層140Aを形成するための機能液L1をバンクBによって区画された塗布位置(ダミー領域TDにあっては、有機バンク150に囲まれた領域)に選択的に塗布する。機能液L1は、正孔注入層形成材料を溶媒に溶解ないし分散させたものである。
正孔注入層形成材料としては、ポリマー前駆体がポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフェニレンビニレン、1,1−ビス−(4−N,N−ジトリルアミノフェニル)シクロヘキサン、トリス(8−ヒドロキシキノリノール)アルミニウム、ポリスチレンスルフォン酸、ポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルフォン酸との混合物(PEDOT/PSS)等を例示することができる。また、溶媒としては、イソプロピルアルコール、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−イミダゾリノン等の極性溶媒を例示することができる。
ダミー画素PDに吐出する液滴の量は、ダミー画素PDのサイズに応じて変えてもよいし、ダミー画素PDのサイズに関係なく一定としてもよい。液滴の乾燥速度は、吐出された液滴の表面積に依存するため、各ダミー画素PDにおいて乾燥期間中に十分な持続時間を確保したい場合には、ダミー画素PDのサイズに応じて、配置する液滴の量も変えることが好ましい。
機能液L1が液滴吐出ヘッドより基体P上に吐出されると、機能液L1は流動性によって水平方向に広がろうとするが、塗布された位置を囲んでバンクBが形成されているので、機能液L1はバンクBを越えてその外側に広がらない。また、画素電極141や無機バンク149の表面は良好な親液性を保った状態であるので、吐出された機能液L1は画素電極等の表面全体に塗れ広がり、均一な塗膜を形成する。
基体P上に機能液L1を配置したら、図9(c)に示すように、加熱あるいは光照射により機能液L1の溶媒を蒸発させて画素電極141上に固形の正孔注入層140A(膜パターン)を形成する。または、大気環境下又は窒素ガス雰囲気下において所定温度及び時間で焼成するようにしてもよい。あるいは大気圧より低い圧力環境下(減圧環境下)に配置することで溶媒を除去するようにしてもよい。
この際、単位面積当たりに吐出されるダミーの機能液L1の表面積の大きさが、有効光学領域TEの中心部から遠い領域ほど大きくなっているので、乾燥が速く進む有効光学領域TEの角部においても溶媒蒸気の分圧が急激に低下することがなく、有効光学領域全体で乾燥速度が均一になる。このため、得られる正孔注入層140Aも膜厚、膜質が均一であり、その表面の平坦性にも優れたものとなる。
続いて、図10(a)に示すように、液滴吐出ヘッドより、発光層140Bを形成するための機能液L2をバンクB内の正孔注入層140A上に選択的に塗布する。機能液L2は、発光層形成材料を溶媒に溶解ないし分散させたものである。
発光層形成材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の高分子発光材料である、ポリフルオレン誘導体(PF)、ポリパラフェニレンビニレン誘導体(PPV)、ポリフェニレン誘導体(PP)、ポリパラフェニレン誘導体(PPP)、ポリビニルカルバゾール(PVK)、ポリチオフェン誘導体、ポリジアルキルフルオレン(PDAF)、ポリフルオレンベンゾチアジアゾール(PFBT)、ポリアルキルチオフェン(PAT)や、ポリメチルフェニルシラン(PMPS)等のポリシラン系などを好適に用いることができる。また、これらの発光材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、9,10−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン6、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。
前記発光層形成材料については、非極性溶媒に溶解ないし分散させて液体材料とし、この液体材料を液滴吐出ヘッドから吐出するのが好ましい。非極性溶媒は、前記発光材料等を容易に溶解または均一に分散させることができるため、液滴吐出ヘッドのノズル孔での発光層形成材料中の固型分が付着したり目詰りを起こしたりするのを防止することができる。
このような溶媒として具体的には、キシレン、シクロヘキシルベンゼン、2,3−ジヒドロベンゾフラン等が挙げられ、これらの溶媒を2種以上適宜混合したものであってもよい。
発光層140Bの形成は、赤色の発色光を発光する発光層形成材料を含む機能液、緑色の発色光を発光する発光層形成材料を含む機能液、青色の発色光を発光する発光層形成材料を含む機能液を、それぞれ対応する有効画素PEに吐出することによって行う。
図10(a)では、赤色有効画素に機能液L2を吐出する工程が示されている。この工程では、正孔注入層140Aを形成したのと同じように、ダミー画素PDにも同様の機能液L2を吐出する。なお、図10(a)では、機能液L2を全てのダミー画素PDに吐出しているが、一部のダミー画素PDのみに吐出するものとしてもよい。
機能液L2を吐出したら、機能液L2中の溶媒を蒸発させる。この工程により、図10(b)に示すように、赤色有効画素PEの正孔注入層140A上に固形の赤色の発光層140B(膜パターン)が形成され、これにより正孔注入層140Aと発光層140Bとからなる有機機能層140が得られる。
この際、ダミー領域TDに配置する機能液の量(すなわち表面積)が有効光学領域TEの中心部からの距離に応じて適切に制御されているので、有効光学領域TE全体で乾燥速度が均一になり、膜厚及び膜質が均一なものとなる。しかも、機能液L2が配置される正孔注入層140Aの表面が良好に平坦化されているので、その上に形成される発光層140Bも良好な平坦性を持って形成され、より均一かつ良好な発光特性、信頼性を備えた発光層となる。
全ての有効画素PEに発光層140Bを形成したら、図10図10図10(c)に示すように、基体Pの表面全体にITO或いはマグネシウム・アルミニウム合金等からなる共通電極154を形成し、さらに必要に応じて、共通電極154の表面に保護膜155を形成する。これにより、有機EL素子200が完成する。
なお、ダミー画素PDには、赤色、緑色及び青色の3つの発光層形成材料が形成されることになるが、図10(c)では、これらを纏めて符号140Dで示している。
なお、ダミー画素PDには、赤色、緑色及び青色の3つの発光層形成材料が形成されることになるが、図10(c)では、これらを纏めて符号140Dで示している。
本実施形態の有機EL装置の製造方法では、ダミー領域TDに保持される単位面積当たりの機能液の量(特に表面積の大きさ)を、有効光学領域TEの中心部から遠い領域ほど大きくしているので、機能液の乾燥工程においてダミー領域TDにおける溶媒の蒸発速度を有効光学領域TEにおける溶媒の蒸発速度に近づけることができ、その結果、有効光学領域TEの外周部と中央部とにおいて均一な膜厚の正孔注入層又は発光層を形成できるようになる。本実施形態では、このような構成をダミー画素PDのサイズを調節することによって実現しており、これにより、容易に素子特性(表示特性)にむらの少ない信頼性に優れた有機EL装置を提供することができる。
[第3の実施の形態]
次に、本発明のデバイスの製造方法の一実施の形態として、本発明の膜パターンの形成方法をカラーフィルタ基板の製造方法に適用した例について説明する。このカラーフィルタ基板は、例えば液晶表示パネルの色表示手段として好適に適用可能なものである。
次に、本発明のデバイスの製造方法の一実施の形態として、本発明の膜パターンの形成方法をカラーフィルタ基板の製造方法に適用した例について説明する。このカラーフィルタ基板は、例えば液晶表示パネルの色表示手段として好適に適用可能なものである。
図11は、本実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法を示す概念図である。
このカラーフィルタ基板の製造方法では、ガラスやプラスチック等からなる基体P上に、前述の液滴吐出ヘッド20を用いて複数のカラーフィルタF(FR,FG,FB)を形成する。生産性を向上させる観点から、基体Pとしてはガラスやプラスチック等からなる大面積の基板(大型基板)を用い、この大型基板P上に形成された複数のパネル領域TEの内部に、ドット状に配列した複数のカラーフィルタFを形成する。
このカラーフィルタ基板の製造方法では、ガラスやプラスチック等からなる基体P上に、前述の液滴吐出ヘッド20を用いて複数のカラーフィルタF(FR,FG,FB)を形成する。生産性を向上させる観点から、基体Pとしてはガラスやプラスチック等からなる大面積の基板(大型基板)を用い、この大型基板P上に形成された複数のパネル領域TEの内部に、ドット状に配列した複数のカラーフィルタFを形成する。
パネル領域TEは、表示用のカラーフィルタFが形成される領域であり、本発明の有効領域に相当するものである。大型基板Pにおいてパネル領域TEの外側の領域は、表示に寄与しないダミー領域(非有効領域)TDである。パネル領域TE及びダミー領域TDにはバンク(隔壁)Bが形成されており、バンクBによって区画される各々の領域が本発明の液体受容部であり、これらの液体受容部のうち、パネル領域TEに配置された液体受容部が有効画素PEとなり、ダミー領域TDに配置された液体受容部がダミー画素PDとなる。カラーフィルタFは、有効画素PEである液体受容部に、顔料等の微粒子着色材料を含む機能液を配置することにより形成される。
各パネル領域TEは、後で大型基板Pを切断することにより、表示パネルに適合するカラーフィルタ基板として用いることができる。パネル領域TEには、赤色着色材料を含む赤色カラーフィルタFR、緑色着色材料を含む緑色カラーフィルタFG、及び青色着色材料を含む青色カラーフィルタFBが設けられており、これらのカラーフィルタFR,FG,FBは、例えば、図11(b)に示すように、液滴吐出ヘッド20を矢印A1及び矢印A2で示す方向に複数回主走査させながら、それらの主走査の間に、赤色着色材料を含む機能液、緑色着色材料を含む機能液、及び青色着色材料を含む機能液をそれぞれ複数のノズル81から所定の有効画素PEに選択的に吐出することにより形成される。
ここで、カラーフィルタ基板は、赤、緑、青の各色のカラーフィルタをストライプ配列、デルタ配列又はモザイク配列等の形態で配列することによって製造される。すなわち、図11(b)に示す液滴吐出ヘッド20によるカラーフィルタFの形成は、赤、緑、青のうちの1色だけを吐出する液滴吐出ヘッド20を赤、緑、青の3色に対応して予め3種類用意しておき、これらの液滴吐出ヘッド20を前記3色に対応して順繰りに用いて、1枚の大型基板P上に赤、緑、青の3色の配列を形成することによって行なわれる。
図12に具体的な製造工程を示す。
図12には、パネル領域TEとダミー領域TDの境界部分が図示されている。パネル領域TEには、赤色カラーフィルタFRが形成される赤色有効画素、緑色カラーフィルタFGが形成される緑色有効画素、及び青色カラーフィルタFBが形成される青色有効画素の3つの有効画素PEが示されている。
図12には、パネル領域TEとダミー領域TDの境界部分が図示されている。パネル領域TEには、赤色カラーフィルタFRが形成される赤色有効画素、緑色カラーフィルタFGが形成される緑色有効画素、及び青色カラーフィルタFBが形成される青色有効画素の3つの有効画素PEが示されている。
まず、図12(a)に示すように、大型基板Pの一方の面にバンクBを形成する。
バンクBは、カラーフィルタFが形成される領域を仕切る仕切り部材として機能するものである。バンクBは、パネル領域TE、及び該パネル領域TEの周辺の領域(非有効領域)に形成される。パネル領域TEに形成されるバンクBは、表示パネルの画素パターンに対応する開口部を有している。本発明のカラーフィルタ基板の製造方法では、バンクBによって区画された領域に着色材料を含む機能液が配置され、この機能液が乾燥することにより、大型基板P上にカラーフィルタ(膜パターン)Fが形成される。この場合、バンクBによってカラーフィルタFの形状が規定されることから、例えば隣接するバンクBの幅を狭くするなど、バンクBを適切に形成することにより、カラーフィルタFの微細化が図られる。
バンクBは、カラーフィルタFが形成される領域を仕切る仕切り部材として機能するものである。バンクBは、パネル領域TE、及び該パネル領域TEの周辺の領域(非有効領域)に形成される。パネル領域TEに形成されるバンクBは、表示パネルの画素パターンに対応する開口部を有している。本発明のカラーフィルタ基板の製造方法では、バンクBによって区画された領域に着色材料を含む機能液が配置され、この機能液が乾燥することにより、大型基板P上にカラーフィルタ(膜パターン)Fが形成される。この場合、バンクBによってカラーフィルタFの形状が規定されることから、例えば隣接するバンクBの幅を狭くするなど、バンクBを適切に形成することにより、カラーフィルタFの微細化が図られる。
バンクBの形成方法は、第2実施形態の有機バンク150の形成方法と同じである。すなわち、大型基板P上にアクリル、ポリイミド等の有機絶縁材料を形成し、これをフォトリソグラフィ技術によりパターニングすることにより、所望の形状のバンクBを形成する。有機絶縁材料として透光性のない材料(例えば黒色樹脂)を用いた場合には、バンクBをブラックマトリクスとして機能させることができる。バンクBの表面には、必要に応じて撥液処理を施すことができる。
図11に示したように、ダミー画素PDのサイズ(バンクBの開口部のサイズ)は、パネル領域TEの中心部Cからの距離R1,R2に応じて異なっており、中心部Cに最も近い領域T1ではダミー画素PDのサイズは最も小さく、中心部Cから離れるに従ってダミー画素PDのサイズは大きくなっている。すなわち、ダミー領域TDに保持される単位面積当たりの機能液の量(特に表面積の大きさ)は、パネル領域TEの中心部Cから遠い領域ほど大きくなるように構成されており、これにより、パネル領域全体で機能液の乾燥が均一に進行するものとされている。
ダミー画素PDのサイズは、パネル領域TEの縁辺中央部から角部に向けて複数段階で変化しているものとされる。すなわち、パネル領域TEの縁辺に沿ってダミー画素PDのサイズが異なる複数の領域T1,T2,T3が設けられており、それぞれの領域においてはダミー画素PDのサイズは一定であり、このように構成された前記複数の領域T1,T2,T3が、ダミー画素PDのサイズが大きいものほどパネル領域TEの中心部から遠い領域に配置されたものとなっている。各領域T1,T2,T3におけるダミー画素PDのサイズや、各領域T1,T2,T3がダミー領域TD内に占める割合は、パネル領域内で機能液の乾燥速度が一定となる条件の範囲内で適切に定められる。
なお、図12では、バンクBを有機物層からなる単層構造としたが、第1実施形態のバンクBのように無機物層と有機物層の2層構造とすることも可能である。
バンクBを形成したら、図12(b)に示すように、液滴吐出ヘッドにより、着色材料を含む機能液LをバンクBに区画された領域に選択的に吐出する。機能液Lは、顔料等の着色材料を溶媒に溶解ないし分散させたものである。
機能液の吐出は、赤色着色材料を含む機能液、緑色着色材料を含む機能液、青色着色材料を含む機能液を、それぞれ対応する有効画素PEに吐出することにより行なう。
図12(b)では、赤色有効画素に機能液Lを吐出する工程が示されている。この工程では、ダミー画素PDにも同様の機能液Lを吐出する。なお、図12(b)では、機能液Lを全てのダミー画素PDに吐出しているが、一部のダミー画素PDのみに吐出するものとしてもよい。
機能液Lを吐出したら、機能液L中の溶媒を蒸発させる。この工程により、図12(c)に示すように、赤色有効画素PEに固形の赤色のカラーフィルタFRが形成される。この際、ダミー領域TDに配置する機能液の量(すなわち表面積)がパネル領域TEの中心部Cからの距離に応じて適切に制御されているので、パネル領域TE全体で乾燥速度が均一になり、膜厚及び膜質が均一なものとなる。
赤色有効画素に赤色カラーフィルタFRを形成したら、同様の手順で、緑色有効画素に緑色カラーフィルタFGを形成し、さらに青色有効画素に青色カラーフィルタFBを形成する。図12(d)は、各色の有効画素PEにカラーフィルタを形成した状態を示している。なお、ダミー画素PDには、赤色、緑色及び青色の3つの着色材料が形成されることになるが、図12(d)では、これらを纏めて符号FDで示している。
全ての有効画素PEにカラーフィルタFが形成されたら、必要に応じてカラーフィルタFの表面に保護膜FPを形成する。
その後、大型基板Pをパネル領域TE,TEの間に設けたスクライブラインに沿って切断し、個々のカラーフィルタ基板を得る。これにより、カラーフィルタ基板が完成する。
その後、大型基板Pをパネル領域TE,TEの間に設けたスクライブラインに沿って切断し、個々のカラーフィルタ基板を得る。これにより、カラーフィルタ基板が完成する。
本実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法では、ダミー領域TDに保持される単位面積当たりの機能液の量(表面積の大きさ)をパネル領域TEの中心部から遠い領域ほど大きくしているので、パネル領域TEの外周部と中央部において乾燥速度にばらつきが生じることがなく、パネル領域全体にわたって均一な膜厚のカラーフィルタFを形成することができる。このため、色むらが少なく、表示特性に優れたカラーフィルタ基板を提供することが可能である。また、カラーフィルタFを平坦に形成することができるので、この上に電極を形成する場合には、断線等が生じにくい、信頼性に優れたカラーフィルタ基板となる。
[実施例]
次に、本発明の膜パターンの形成方法の実施例について説明する。
図13は、サンプル基板Pに形成した有効画素PE及びダミー画素PDの配置を示す平面模式図である。図13(a)は、ダミー画素PDのサイズを有効領域TEの縁辺中央部から角部に向けて3段階で変化させた場合の模式図(サンプル1)、図13(b)は、ダミー画素PDのサイズを有効領域TEの縁辺中央部と角部の2段階で変化させた場合の模式図(サンプル2)、図13(c)は、ダミー画素PDのサイズを有効画素PEと同じサイズで形成した場合の模式図(サンプル3)である。いずれのサンプルにおいても、有効画素の配列ピッチとダミー画素の配列ピッチは、同じものとされている。
次に、本発明の膜パターンの形成方法の実施例について説明する。
図13は、サンプル基板Pに形成した有効画素PE及びダミー画素PDの配置を示す平面模式図である。図13(a)は、ダミー画素PDのサイズを有効領域TEの縁辺中央部から角部に向けて3段階で変化させた場合の模式図(サンプル1)、図13(b)は、ダミー画素PDのサイズを有効領域TEの縁辺中央部と角部の2段階で変化させた場合の模式図(サンプル2)、図13(c)は、ダミー画素PDのサイズを有効画素PEと同じサイズで形成した場合の模式図(サンプル3)である。いずれのサンプルにおいても、有効画素の配列ピッチとダミー画素の配列ピッチは、同じものとされている。
サンプル1〜サンプル3のいずれについても、有効領域TEはX方向にライン状に形成されており、有効領域TEのY方向とX方向のアスペクト比(Y方向:X方向)は1:600である。有効画素PEは直径50μmの円形の画素であり、そのX方向及びY方向の配列ピッチはいずれも100μmである。ダミー画素PDの配置密度(X方向及びY方向における配列ピッチ)は有効画素PEと同じである。
ダミー領域TDは、有効領域TEの上下にそれぞれ6列分、有効領域TEの左右にそれぞれ20列分の幅を有して形成されている。
サンプル1では、ダミー画素PDのサイズは、有効領域TEの縁辺中央部から角部に向けて3段階で変化している。有効領域TEの中心部Cに近い領域T1では、有効画素PEと同じサイズとなっており、有効領域TEの中心部Cから最も遠い領域T3では、有効画素PEの4倍のサイズとなっている。また、領域T1と領域T3の中間の領域T2では、有効画素PEの2.5倍のサイズとなっている。
サンプル2では、ダミー画素PDのサイズは、有効領域TEの縁辺中央部から角部に向けて2段階で変化している。有効領域TEの中心部Cに近い領域T1では、有効画素PEと同じサイズとなっており、それ以外の領域T2では、有効画素PEの2.5倍のサイズとなっている。
サンプル3では、ダミー画素PDのサイズは有効画素PEと同じサイズとされている。この構成は、全てのダミー画素PDを有効画素PEと同じピッチ、同じパターンで形成したものであり、従来用いられてきた構成と同じである。
本実施例では、これらのサンプル1〜3の有効画素PE及びダミー画素PDに機能液を吐出し、これを乾燥することによって、有効領域内に膜パターンを形成する。使用する機能液は、PEDOT/PSSを水(蒸気圧:2338Pa、20℃)及びジエチレングリコール(蒸気圧:1.3Pa、20℃)の混合溶媒に溶解させたものである。機能液の乾燥は、減圧槽内で圧力を管理した状態で行なう。減圧による乾燥を行う場合の圧力減圧速度の制御の一例を、図14に示す。本実施例では、大気圧から30秒程度の時間をかけて2000Pa程度まで減圧し、その圧力の近傍で500秒程度保持し、さらに低い圧力まで減圧を行っている。この様な減圧の速度の管理を行うことで、溶媒の突沸による欠陥の発生を防ぎ、より膜厚の均一性を高めることができる。
前述したサンプル1及びサンプル2におけるダミー画素PDのサイズ及び分布は、有効領域TEの中央部と角部における機能液の乾燥時間の差が十分に小さくなるような条件として規定されたものである。例えば、サンプル1では、有効領域TEの角部と中央部の乾燥時間の差は0秒であり、サンプル2では、その乾燥時間の差は3秒である。サンプル3については、ダミー画素PDのサイズを調節していないので、乾燥時間の差は37秒であった。
図15は、有効領域TE内での膜厚の不均一性を示す図であり、図15(a)、図15(b)、図15(c)は、それぞれサンプル1、サンプル2、サンプル3に対応している。図15(a)〜図15(c)の横軸は、有効領域TEの中心部Cからの距離を示しており、縦軸は、1有効画素内での膜厚の不均一性を示している。膜厚の不均一性は、1有効画素内で最も膜厚が大きい部分と最も膜厚が薄い部分との膜厚差によって測定している。なお、縦軸の単位はオングストローム(Å)である。
図15に示すように、サンプル3においては、有効領域TEの長軸側の端部において大きな膜厚の不均一性が生じており、単にダミー領域TDを設けるのみでは、十分に膜厚むらを解消できないことがわかる。一方、サンプル2では、このような端部における膜厚の不均一性は小さくなっており、ダミーの機能液の吐出面積を有効領域TEの中央部と端部で変えることが、有効領域TE内での膜厚均一性を改善する上で効果的であることがわかる。特に、サンプル3においては有効領域TE内での膜厚不均一性は殆ど生じておらず、ダミーの機能液の吐出面積が3段階以上で調節されれば、概ね均一な膜厚のパターンが形成できることがわかる。
[電子機器]
次に、本発明の電子機器の具体例について説明する。
図16は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図16において、符号600は携帯電話本体を示し、符号601は上記実施形態の有機EL装置又はカラーフィルタ基板を備えた表示部を示している。
図16に示す電子機器は、上述した本発明の膜パターンの形成方法により形成された膜パターンを備えたものであるので、高い表示品質や高い性能が得られるものとなる。
なお、本発明の有機EL装置、カラーフィルタ基板等のデバイスは、前述した携帯電話機に限らず、種々の電子機器に搭載することができる。この電子機器としては例えば、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等がある。
次に、本発明の電子機器の具体例について説明する。
図16は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図16において、符号600は携帯電話本体を示し、符号601は上記実施形態の有機EL装置又はカラーフィルタ基板を備えた表示部を示している。
図16に示す電子機器は、上述した本発明の膜パターンの形成方法により形成された膜パターンを備えたものであるので、高い表示品質や高い性能が得られるものとなる。
なお、本発明の有機EL装置、カラーフィルタ基板等のデバイスは、前述した携帯電話機に限らず、種々の電子機器に搭載することができる。この電子機器としては例えば、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等がある。
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
また、上記実施形態では、本発明の膜パターンの形成方法を有機EL装置の製造方法やカラーフィルタ基板の製造方法に適用した例を示したが、本発明はこれに限らず、所定の領域内に複数の膜パターンを備えるデバイスの製造方法に適用することができる。上述の有機EL装置の例では、正孔注入層140Aや発光層140Bだけでなく、画素電極141のパターニングに本発明を適用することも可能である。また、データ線132、走査線131又は電源線133を含む各種の配線の形成や、フレキシブル基板75と基体Pとを接続する複数の端子電極の形成にも、本発明の膜パターンの形成方法を適用することができる。
70…有機エレクトロルミネッセンス装置、140A…正孔注入層(膜パターン)、140B…発光層(膜パターン)、200…有機エレクトロルミネッセンス素子、B…隔壁、F…膜パターン、L,L1,L2…機能液、P…基体、PE…有効画素(液体受容部)、PD…ダミー画素(液体受容部)、TE…有効領域、TD…非有効領域
Claims (10)
- 機能性材料を溶媒に溶解ないし分散させてなる機能液を基体上に配置し、前記機能液から溶媒を除去することにより、前記機能性材料からなる膜パターンを形成する方法であって、
前記膜パターンが形成される前記基体の有効領域、及び前記有効領域の周囲の非有効領域に、液体受容部を形成する工程と、
前記有効領域に形成された前記液体受容部に前記機能液を配置する工程と、
前記非有効領域に形成された前記液体受容部に前記機能液又は溶媒を配置する工程とを有し、
前記非有効領域における前記液体受容部のサイズを、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど大きくすることを特徴とする、膜パターンの形成方法。 - 前記非有効領域における前記液体受容部のサイズを、前記有効領域の中心部からの距離に応じて3段階以上で変化させることを特徴とする、請求項1記載の膜パターンの形成方法。
- 前記非有効領域における前記液体受容部のサイズを、矩形に設けられた前記有効領域の角部において最も大きくすることを特徴とする、請求項1又は2記載の膜パターンの形成方法。
- 前記液体受容部を、隔壁によって区画された領域として形成することを特徴とする、請求項1〜3のいずれかの項に記載の膜パターンの形成方法。
- 前記有効領域における前記液体受容部の間隔と前記非有効領域における前記液体受容部の間隔とを概ね同じ間隔で形成することを特徴とする、請求項1〜4のいずれかの項に記載の膜パターンの形成方法。
- 前記非有効領域における前記液体受容部を、前記有効領域の外周に沿って少なくとも2列以上形成することを特徴とする、請求項1〜5のいずれかの項に記載の膜パターンの形成方法。
- 前記機能液又は前記溶媒の配置を液滴吐出法により行なうことを特徴とする、請求項1〜6のいずれかの項に記載の膜パターンの形成方法。
- 機能性材料を溶媒に溶解ないし分散させてなる機能液を基体上に配置し、前記機能液を乾燥することにより、前記機能性材料からなる膜パターンを形成する方法であって、
前記膜パターンが形成される前記基体の有効領域に前記機能液を配置する工程と、
前記有効領域の周囲の非有効領域に前記機能液又は前記溶媒を配置する工程とを有し、
前記非有効領域に配置する単位面積当たりの前記溶媒の表面積を、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど大きくすることを特徴とする、膜パターンの形成方法。 - 膜パターンを有するデバイスの製造方法であって、
前記膜パターンの形成工程が、請求項1〜8のいずれかの項に記載の膜パターンの形成方法により行なわれることを特徴とする、デバイスの製造方法。 - 隔壁によって区画された有機エレクトロルミネッセンス素子と、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子が設けられた有効領域と、
前記有効領域の周囲の非有効領域に設けられた液体受容部とを有し、
前記非有効領域における前記液体受容部のサイズが、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど大きいことを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005264865A JP2007080603A (ja) | 2005-09-13 | 2005-09-13 | 膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005264865A JP2007080603A (ja) | 2005-09-13 | 2005-09-13 | 膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007080603A true JP2007080603A (ja) | 2007-03-29 |
Family
ID=37940689
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005264865A Withdrawn JP2007080603A (ja) | 2005-09-13 | 2005-09-13 | 膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007080603A (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008264608A (ja) * | 2007-04-16 | 2008-11-06 | Shibaura Mechatronics Corp | 液滴塗布装置及び液滴塗布方法 |
JP2009020493A (ja) * | 2007-06-13 | 2009-01-29 | Canon Inc | 有機発光パネル |
JP2009070720A (ja) * | 2007-09-14 | 2009-04-02 | Seiko Epson Corp | 有機el装置および電子機器 |
JP2009129606A (ja) * | 2007-11-21 | 2009-06-11 | Seiko Epson Corp | 成膜方法 |
JP2010039331A (ja) * | 2008-08-07 | 2010-02-18 | Seiko Epson Corp | 膜形成部材の製造方法 |
JP2010210740A (ja) * | 2009-03-09 | 2010-09-24 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出方法及びカラーフィルターの製造方法 |
EP2391187A1 (en) * | 2009-06-04 | 2011-11-30 | Panasonic Corporation | Organic el display panel and method for manufacturing same |
WO2013069570A1 (ja) * | 2011-11-09 | 2013-05-16 | 昭和電工株式会社 | 発光装置及び発光装置の製造方法 |
CN103676325A (zh) * | 2012-09-21 | 2014-03-26 | 株式会社东芝 | 用于形成膜的方法 |
JP2015049948A (ja) * | 2013-08-29 | 2015-03-16 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 有機el表示装置 |
WO2015182098A1 (ja) * | 2014-05-27 | 2015-12-03 | 株式会社Joled | 基板、および、パネルの製造方法 |
-
2005
- 2005-09-13 JP JP2005264865A patent/JP2007080603A/ja not_active Withdrawn
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008264608A (ja) * | 2007-04-16 | 2008-11-06 | Shibaura Mechatronics Corp | 液滴塗布装置及び液滴塗布方法 |
JP2009020493A (ja) * | 2007-06-13 | 2009-01-29 | Canon Inc | 有機発光パネル |
JP2009070720A (ja) * | 2007-09-14 | 2009-04-02 | Seiko Epson Corp | 有機el装置および電子機器 |
JP2009129606A (ja) * | 2007-11-21 | 2009-06-11 | Seiko Epson Corp | 成膜方法 |
JP2010039331A (ja) * | 2008-08-07 | 2010-02-18 | Seiko Epson Corp | 膜形成部材の製造方法 |
JP2010210740A (ja) * | 2009-03-09 | 2010-09-24 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出方法及びカラーフィルターの製造方法 |
EP2391187A1 (en) * | 2009-06-04 | 2011-11-30 | Panasonic Corporation | Organic el display panel and method for manufacturing same |
EP2391187A4 (en) * | 2009-06-04 | 2012-07-04 | Panasonic Corp | ORGANIC EL DISPLAY BOARD AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF |
WO2013069570A1 (ja) * | 2011-11-09 | 2013-05-16 | 昭和電工株式会社 | 発光装置及び発光装置の製造方法 |
US9099598B2 (en) | 2011-11-09 | 2015-08-04 | Showa Denko K.K. | Light-emitting device and method for manufacturing light-emitting device |
CN103676325A (zh) * | 2012-09-21 | 2014-03-26 | 株式会社东芝 | 用于形成膜的方法 |
KR101496031B1 (ko) * | 2012-09-21 | 2015-02-25 | 가부시끼가이샤 도시바 | 필름 형성 방법 |
JP2015049948A (ja) * | 2013-08-29 | 2015-03-16 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 有機el表示装置 |
WO2015182098A1 (ja) * | 2014-05-27 | 2015-12-03 | 株式会社Joled | 基板、および、パネルの製造方法 |
JPWO2015182098A1 (ja) * | 2014-05-27 | 2017-04-20 | 株式会社Joled | 基板、および、パネルの製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7897211B2 (en) | Method for forming film pattern and method for manufacturing an organic EL device, a color filter substrate and a liquid crystal display device | |
JP5338266B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス装置および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法 | |
KR100691702B1 (ko) | 유기 일렉트로루미네선스 장치, 그 제조 방법 및 전자 기기 | |
US7244158B2 (en) | Method of manufacturing color filter substrate, method of manufacturing electro-optical device, electro-optical device, and electronic apparatus | |
JP2007080603A (ja) | 膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置 | |
US8029850B2 (en) | Method of manufacturing organic electroluminescent device and method of manufacturing device | |
JP4918752B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置、電子機器 | |
JP4682651B2 (ja) | エレクトロルミネッセンス装置、電子機器 | |
JP4715226B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、電子機器 | |
JP4497156B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス装置及び電子機器 | |
JP4432358B2 (ja) | 電気光学装置の製造方法 | |
JP5076295B2 (ja) | 膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置 | |
JP2005276479A (ja) | 電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器 | |
JP2009259457A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子とその製造方法、及び電子機器 | |
JP5082217B2 (ja) | 膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法 | |
JP2009259570A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス装置及び電子機器 | |
JP2007115563A (ja) | 電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器 | |
JP2009211904A (ja) | 電気光学装置および電子機器 | |
JP2009048830A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、エレクトロルミネッセンス装置、および電子機器 | |
JP2007035484A (ja) | 膜パターンの形成方法及びデバイスの製造方法 | |
JP2016195028A (ja) | 隔壁構造体、隔壁構造体の製造方法、電気光学装置、及び電子デバイス | |
JP2005294204A (ja) | 電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器 | |
JP2007080765A (ja) | 膜パターンの形成方法、デバイス及び電子機器 | |
JP2005353528A (ja) | 電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器 | |
JP2013004188A (ja) | 有機el装置、及び電子機器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20070404 |
|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20081202 |