JP4235759B2 - 流体制御装置 - Google Patents
流体制御装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4235759B2 JP4235759B2 JP21025497A JP21025497A JP4235759B2 JP 4235759 B2 JP4235759 B2 JP 4235759B2 JP 21025497 A JP21025497 A JP 21025497A JP 21025497 A JP21025497 A JP 21025497A JP 4235759 B2 JP4235759 B2 JP 4235759B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- passage
- fluid
- fluid control
- control device
- valve body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K11/00—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves
- F16K11/10—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with two or more closure members not moving as a unit
- F16K11/20—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with two or more closure members not moving as a unit operated by separate actuating members
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K27/00—Construction of housing; Use of materials therefor
- F16K27/003—Housing formed from a plurality of the same valve elements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/87571—Multiple inlet with single outlet
- Y10T137/87676—With flow control
- Y10T137/87684—Valve in each inlet
Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、例えば半導体製造装置に用いられ、第1の流体を流した後、これを第2の流体に置換する操作を必要とする流体制御装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
流体制御装置は、フィルター、プレッシャーレギュレータ、各種バルブ、マスフローコントローラ、圧力計、圧力センサ等の機器が接続されることにより構成されるものであるが、例えば、圧力計(40)は、図5に示すように、直線状の主通路(41)に対して直角状に連なる分岐路(42)の終端部に設けられることが一般的である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来の流体制御装置では、圧力計により終端部が閉鎖された分岐路は、デッドボリュームと称され、このデッドボリューム部分に流体が溜まった状態で、次の流体が流されるが、このさい、次の流体の純度が所要の値に達するまでの置換時間を短くすることが重要な課題となっている。そのため、デッドボリュームをいかにして減少するかに考慮が払われている。しかしながら、主通路と分岐路との間の位置関係については、従来は全く考慮されていなかった。
【0004】
この発明の目的は、通路同士の位置関係を考慮することにより、流体の置換が短時間で行われる流体制御装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
この発明による流体制御装置は、流体通路の所定箇所に計測機器が設置されており、第1の流体を流した後、これを第2の流体に置換する操作を必要とする流体制御装置において、上流部およびこれに略直角状に連なる下流部よりなる主通路が設けられており、計測機器により終端部が閉鎖された分岐路が、主通路の上流部の終端からその延長線上にのびるように設けられていることを特徴とするものである。
【0006】
流体制御用機器としては、第2通路の終端部を常時閉鎖している圧力計や圧力センサ等の計測機器と、第2通路の終端部を一時的に閉鎖するバルブ等の流路遮断開放機器とがある。
【0007】
この発明の流体制御装置によると、他の流体により置換するさいにデッドボリュームとなる第2通路が、第1通路の上流部の終端からその延長線上にのびるように設けられているという特徴により、デッドボリュームを減少させなくても、流体の置換に要する時間を短縮することができる。
【0008】
【発明の実施の形態】
この発明の実施の形態を、以下図面を参照して説明する。
【0009】
図1は、この発明による流体制御装置の一例を示すもので、マスフローコントローラ(1) の入口側に、2つの開閉弁(2)(3)が上下に対向して設けられている。図示省略したが出口側にも、2つの開閉弁が上下に対向して設けられている。上方の開閉弁(2) と下方の開閉弁(3) とは、その弁本体(4)(5)同士が接続されており、上方の開閉弁(2) のアクチュエータ(6) は、弁本体(4) 上面に取り付けられ、下方の開閉弁(3) のアクチュエータ(7) は、弁本体(5) 下面に取り付けられている。そして、下方の開閉弁(3) の弁本体(5) がマスフローコントローラ(1) の入口側に設けられた通路ブロック(8) に接続されている。上方および下方の弁本体(4)(5)には、それぞれ入口管接続用継手(9)(10) が設けられている。上方の弁本体(4) には、L形の流入路(11)とI形の流出路(12)とが形成されており、流出路(12)は下方に開口している。下方の弁本体(5) には、上方の弁本体(4) のL形の流入路(11)と対称な逆L形の流入路(13)と、この流入路(13)とほぼ対称な逆L形の流出路(14)とが形成されるとともに、この流出路(14)と上方の弁本体(4) の流出路(12)とを連通するバイパス路(15)が形成されている。ここで、下方の弁本体(5) の逆L形の流出路(14)は、マスフローコントローラ(1) に通じる主通路(下流部)(16)と、主通路(16)に略直角状に連なる第1流体用副通路(上流部)(17)とよりなり、主通路(16)は、下方の入口管接続用継手(10)から流入する流体の流出用としてだけでなく、上方の入口管接続用継手(9) から流入する流体の流出用としても使用される。そして、上方の弁本体(4) の流出路(12)と下方の弁本体(5) のバイパス路(15)とを合わせたものが第2流体用副通路(18)となされている。
【0010】
図2に示す流体制御装置は、図1に示す流体制御装置との比較のために用いられたものであって、下方の開閉弁(21)の弁本体(22)に形成されている流体通路が図1のものと異なっている。すなわち、この弁本体(22)の下面に入口管接続継手(10') が設けられ、同左面にアクチュエータ(7')が設けられている。そして、流出路(23)は、I形とされ、図1のものと同じ寸法とされたマスフローコントローラ(1) に通じる主通路(下流部)(16)と、主通路(16)に略直線状に連なる第1流体用副通路(上流部)(24)とよりなる。この流出路(23)と上方の弁本体(4) の流出路(12)とを連通するバイパス路(15)は、図1のものと同じ寸法とされている。
【0011】
図3は、図1および図2に示した各流体制御装置において、プロセスガスを流し始めてから、このプロセスガスの純度がどのように変化するかを示している。ここで、プロセスガスの純度は、パージガスをN2 として、その減衰を確認することによって測定している。また、デッドボリュームは、0.7ccである。同図より、図1に示した流体制御装置では、N2 は、250秒で1ppb未満にまで低下しているが、図2に示した流体制御装置では、N2 は、250秒で1ppmより多く、500秒でも1ppb以下に達していないことがわかる。
【0012】
すなわち、デッドボリュームとなる第2流体用副通路(18)が同じ寸法であっても、アクチュエータ(6) によって閉鎖された第2流体用副通路(18)が第1流体用副通路(17)と略直線状に連なり、両副通路(18)(17)と主通路(16)とが略直角状に連なっているもの(図1参照)のほうが、第2流体用副通路(18)と第1流体用副通路(24)とが略直角状に連なっているもの(図2参照)より置換特性がよい。
【0013】
上記の結果は、図1に示した流体制御装置に限らず、あらゆる流体制御装置における通路を形成するさいの判定基準として使用できる。
【0014】
図4は、圧力計等の計測機器を設置する場合に最適な通路を示すものであり、主通路(31)が、上流部(32)およびこれに略直角状に連なる下流部(33)よりなり、圧力計(40)により終端部が閉鎖された分岐路(34)が、主通路(31)の上流部(32)の終端からその延長線上にのびるように設けられている。このような構成とすることにより、図5に示した従来のものと比較した場合に、図3のグラフで示されたのと同じ効果が得られ、同じボリュームを有する分岐路(34)(42)を有していても、置換時間を短縮することができる。
【0015】
なお、上記の例では半導体製造用のガスを例として説明したが、半導体製造用以外の用途であっても、また、ガスでなく液体であっても同様の構成により同様の効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明による流体制御装置の一例を示す垂直断面図である。
【図2】比較のための流体制御装置を示す垂直断面図である。
【図3】図1および図2に示した流体制御装置の置換特性を示すグラフである。
【図4】この発明による流体制御装置の他の例を示す配管図である。
【図5】図4の流体制御装置に対応する従来技術を示す配管図である。
【符号の説明】
(6) バルブアクチュエータ(流体制御用機器)
(14) 逆L形流出路(第1通路)
(16) 主通路(第1通路下流部)
(17) 第1流体用副通路(第1通路上流部)
(18) 第2流体用副通路(第2通路)
(31) 主通路(第1通路)
(32) 上流部
(33) 下流部
(34) 分岐路(第2通路)
(40) 圧力計
Claims (1)
- 流体通路の所定箇所に計測機器(40)が設置されており、第1の流体を流した後、これを第2の流体に置換する操作を必要とする流体制御装置において、上流部(32)およびこれに略直角状に連なる下流部(33)よりなる主通路(31)が設けられており、計測機器(40)により終端部が閉鎖された分岐路(34)が、主通路(31)の上流部(32)の終端からその延長線上にのびるように設けられていることを特徴とする流体制御装置。
Priority Applications (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21025497A JP4235759B2 (ja) | 1997-08-05 | 1997-08-05 | 流体制御装置 |
DE1998614758 DE69814758T2 (de) | 1997-08-05 | 1998-07-17 | Regelungsvorrichtung für Fluide |
EP19980113388 EP0896177B1 (en) | 1997-08-05 | 1998-07-17 | Fluid control device |
IL12543798A IL125437A (en) | 1997-08-05 | 1998-07-21 | Fluid control device |
SG9802719A SG88740A1 (en) | 1997-08-05 | 1998-07-28 | Fluid control device |
US09/127,817 US6408879B1 (en) | 1997-08-05 | 1998-08-03 | Fluid control device |
KR1019980031659A KR19990023326A (ko) | 1997-08-05 | 1998-08-04 | 유체 제어 장치 |
CA 2244565 CA2244565A1 (en) | 1997-08-05 | 1998-08-04 | Fluid control device |
TW87112834A TW517140B (en) | 1997-08-05 | 1998-08-04 | Fluid flow control device |
US10/141,884 US20020124894A1 (en) | 1997-08-05 | 2002-05-10 | Fluid control device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21025497A JP4235759B2 (ja) | 1997-08-05 | 1997-08-05 | 流体制御装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1151298A JPH1151298A (ja) | 1999-02-26 |
JP4235759B2 true JP4235759B2 (ja) | 2009-03-11 |
Family
ID=16586346
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21025497A Expired - Fee Related JP4235759B2 (ja) | 1997-08-05 | 1997-08-05 | 流体制御装置 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6408879B1 (ja) |
EP (1) | EP0896177B1 (ja) |
JP (1) | JP4235759B2 (ja) |
KR (1) | KR19990023326A (ja) |
CA (1) | CA2244565A1 (ja) |
DE (1) | DE69814758T2 (ja) |
IL (1) | IL125437A (ja) |
SG (1) | SG88740A1 (ja) |
TW (1) | TW517140B (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7334605B2 (en) * | 2002-08-27 | 2008-02-26 | Celerity, Inc. | Modular substrate gas panel having manifold connections in a common plane |
US20080302426A1 (en) * | 2007-06-06 | 2008-12-11 | Greg Patrick Mulligan | System and method of securing removable components for distribution of fluids |
US7784496B2 (en) * | 2007-06-11 | 2010-08-31 | Lam Research Corporation | Triple valve inlet assembly |
US8307854B1 (en) | 2009-05-14 | 2012-11-13 | Vistadeltek, Inc. | Fluid delivery substrates for building removable standard fluid delivery sticks |
CN102804335B (zh) * | 2009-06-10 | 2015-10-21 | 威斯塔德尔特有限责任公司 | 极限流速和/或高温流体递送基体 |
US8505577B2 (en) * | 2010-11-30 | 2013-08-13 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Pnumatically actuated bi-propellant valve (PABV) system for a throttling vortex engine |
WO2012151292A2 (en) | 2011-05-02 | 2012-11-08 | Advantage Group International Inc. | Manifold system for gas and fluid delivery |
WO2016114266A1 (ja) * | 2015-01-16 | 2016-07-21 | 株式会社キッツエスシーティー | ブロック弁と原料容器用ブロック弁 |
US10654216B2 (en) * | 2016-03-30 | 2020-05-19 | Canon Kabushiki Kaisha | System and methods for nanoimprint lithography |
WO2020066732A1 (ja) | 2018-09-25 | 2020-04-02 | 株式会社フジキン | 濃度測定装置 |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US462966A (en) * | 1891-11-10 | Automatic governor for air-brakes | ||
US643117A (en) * | 1899-05-03 | 1900-02-13 | Vivian Phillips | Safety and alarm attachment for tanks. |
US1525393A (en) * | 1922-09-19 | 1925-02-03 | John A Jernatowski | Faucet |
US3797524A (en) | 1972-06-15 | 1974-03-19 | Reedmer Plastics Inc | Fluid metering device |
DE2648751C2 (de) * | 1976-10-27 | 1986-04-30 | Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V., 3400 Göttingen | Vorrichtung für die Zuführung flüssiger oder gasförmiger Substanzen zu einem Verarbeitungsgefäß |
US4558845A (en) | 1982-09-22 | 1985-12-17 | Hunkapiller Michael W | Zero dead volume valve |
DE3622527C1 (de) | 1986-07-04 | 1987-05-07 | Draegerwerk Ag | Ventil fuer Gasbehaelter |
JPS6362976A (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-19 | Daiwa Handotai Sochi Kk | 半導体プロセス用一方掃気形バルブ装置 |
US4741354A (en) | 1987-04-06 | 1988-05-03 | Spire Corporation | Radial gas manifold |
US4738693A (en) | 1987-04-27 | 1988-04-19 | Advanced Technology Materials, Inc. | Valve block and container for semiconductor source reagent dispensing and/or purification |
DE3811041A1 (de) * | 1988-03-31 | 1989-10-19 | Merck Patent Gmbh | Entnahmeventilkopf fuer behaelter |
JPH03168494A (ja) * | 1989-11-14 | 1991-07-22 | Cryolab Inc | T字管 |
US5137047A (en) | 1990-08-24 | 1992-08-11 | Mark George | Delivery of reactive gas from gas pad to process tool |
US5476118A (en) | 1991-02-22 | 1995-12-19 | Asahi Yukizai Kogyo Co., Ltd. | Non-stagnant piping system |
US5183072A (en) * | 1991-10-21 | 1993-02-02 | Matheson Gas Products, Inc. | Automatic switchover valve |
US5368062A (en) | 1992-01-29 | 1994-11-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Gas supplying system and gas supplying apparatus |
EP0619450A1 (en) * | 1993-04-09 | 1994-10-12 | The Boc Group, Inc. | Zero Dead-Leg Gas Cabinet |
JP3387630B2 (ja) * | 1994-06-16 | 2003-03-17 | 株式会社フジキン | ブロック弁 |
JP3546275B2 (ja) * | 1995-06-30 | 2004-07-21 | 忠弘 大見 | 流体制御装置 |
JP3726168B2 (ja) * | 1996-05-10 | 2005-12-14 | 忠弘 大見 | 流体制御装置 |
JP3650859B2 (ja) * | 1996-06-25 | 2005-05-25 | 忠弘 大見 | 遮断開放器およびこれを備えた流体制御装置 |
JP4156672B2 (ja) * | 1996-07-16 | 2008-09-24 | コントロールズ コーポレイション オブ アメリカ | 高純度、高腐食性ガス施設用ガス流制御装置 |
-
1997
- 1997-08-05 JP JP21025497A patent/JP4235759B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-07-17 DE DE1998614758 patent/DE69814758T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1998-07-17 EP EP19980113388 patent/EP0896177B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-07-21 IL IL12543798A patent/IL125437A/xx not_active IP Right Cessation
- 1998-07-28 SG SG9802719A patent/SG88740A1/en unknown
- 1998-08-03 US US09/127,817 patent/US6408879B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-08-04 TW TW87112834A patent/TW517140B/zh not_active IP Right Cessation
- 1998-08-04 CA CA 2244565 patent/CA2244565A1/en not_active Abandoned
- 1998-08-04 KR KR1019980031659A patent/KR19990023326A/ko not_active Application Discontinuation
-
2002
- 2002-05-10 US US10/141,884 patent/US20020124894A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6408879B1 (en) | 2002-06-25 |
SG88740A1 (en) | 2002-05-21 |
KR19990023326A (ko) | 1999-03-25 |
IL125437A (en) | 2000-10-31 |
US20020124894A1 (en) | 2002-09-12 |
TW517140B (en) | 2003-01-11 |
JPH1151298A (ja) | 1999-02-26 |
DE69814758D1 (de) | 2003-06-26 |
EP0896177B1 (en) | 2003-05-21 |
EP0896177A1 (en) | 1999-02-10 |
IL125437A0 (en) | 1999-03-12 |
DE69814758T2 (de) | 2004-04-22 |
CA2244565A1 (en) | 1999-02-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3726168B2 (ja) | 流体制御装置 | |
JP4235759B2 (ja) | 流体制御装置 | |
JP2814378B2 (ja) | マスフローコントローラ | |
KR102208101B1 (ko) | 유체 제어 장치 | |
US8104516B2 (en) | Gas supply unit and gas supply system | |
KR20020000867A (ko) | 실시간 유동 측정 및 수정용 광범위 가스 유동 시스템 | |
JPH11118054A (ja) | 流体制御装置 | |
JP2568365B2 (ja) | ガス供給装置 | |
JP3616875B2 (ja) | 流体制御装置用継手部材およびその製造方法 | |
JP3360133B2 (ja) | 流体制御装置用継手部材およびその製造方法 | |
JP3818547B2 (ja) | 質量流量制御装置 | |
JP4435999B2 (ja) | マスフローコントローラを用いた流体供給機構および取替基板ならびにアタプタ | |
JP2875958B2 (ja) | 開閉弁取付構造 | |
JP2865644B2 (ja) | マスフローコントローラ取付構造 | |
JPH0449687Y2 (ja) | ||
JP2794366B2 (ja) | 流量計 | |
JP2742399B2 (ja) | フィルタ機能付逆止弁 | |
JP7372664B2 (ja) | 継手ブロックアセンブリおよび流体制御装置 | |
KR100813141B1 (ko) | 질량 유량계의 유량제어밸브 노즐 고정 구조 | |
JP3038251B2 (ja) | 計量ユニット | |
JP3520855B2 (ja) | 液化ガス計測装置 | |
JPH11159649A (ja) | 円筒状開閉弁取付構造 | |
JP2589313Y2 (ja) | マスフローコントローラ | |
JP5202465B2 (ja) | 流量制御装置 | |
JPH0678690U (ja) | 配管ブロック |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040805 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080527 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080728 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081104 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081201 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111226 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121226 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |