JP4211932B2 - 動圧軸受の製造方法及び動圧軸受製造装置 - Google Patents

動圧軸受の製造方法及び動圧軸受製造装置 Download PDF

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Description

本発明は、軸受の内面に動圧発生溝を形成する動圧軸受の製造方法及び動圧軸受製造装置に関する。
最近、ハードディスク装置などに用いられるスピンドルモータに動圧軸受が用いられるようになってきた。
この動圧軸受は、軸受の内面にへリングボーン溝を作成して軸が回転するとへリングボーン溝に沿って潤滑油が圧縮されて円周方向に当該圧稀された潤滑油のリングが形成され、軸が軸受から浮上して高速回転可能となる。
上述した動圧軸受を構成するへリングボーン溝を軸受の内面に形成するために、従来、へリングボーン溝に対応した形状を持つ電極を作成して電解加工、放電加工などにより転写してへリングボーン溝を形成していた。
また、焼結材をサイジングする際のスプリングバックを利用して、内面にへリングボーン溝を形成するようにしていた。
上述した電解加工、放電加工により、軸受の内面にへリングボーン溝を電極を転写して作成するのでは、被加工物がマスキングされていないため、および電極が磨耗するため、溝の深さを深くしようとすると、溝幅も大きくなり、そのための最適な電解条件、放電条件を設定することが難しいなどの問題があった。
また、後者のサイジングする際のスプリングバックを利用する方法は、鉄系材料でスプリングパックにより溝を形成することが困難であり、弾性率の比較的に大きい銅系材料に限定され、3〜4μm程度の浅い溝しか形成できず、しかも当該銅系材料では起動・停止時のシャフトとの接触により軸受が傷っくという問題があった。
また、機械加工(切削、転造)によりへリングボーン溝を作成する方法もある。
しかしながら、切削加工の場合には、硬度が高いステンレス等の難切削材への加工が難しいことと、工具の寿命が短くなるという問題点がある。切削精度を高めるためには工具及び作業条件の管理が必要となる。さらに、切削加工によりバリが発生するためバリ取りの後工程が必要であった。
転造加工の場合には、硬度が高いステンレス等への難切削材への加工が難しいという問題点がある。加工精度を高めるためには工具及び作業条件の管理が必要となる。また、転造により作成する溝の山部に塑性変形によるふくらみが発生するため、ふくらみを補正する後処理が必要であった。
特開平9−316666号公報
本発明の課題は、軸受の内面に、へリングボーン溝、スパイラル溝等の動圧発生溝を簡単に形成できるようにすることである。
本発明の動圧軸受の製造方法は、軸受の内面に動圧発生溝を形成する製造方法において、軸受の内面にレジストを形成するステップと、動圧発生溝パターンを形成した、透光性の材料からなり、発光する透光性の材料からなる円柱状のマスクを前記軸受の内部に挿入するステップと、前記マスクを用いて、前記マスクの端部に励起光を入射して前記マスクを発光させて露光を行い、前記マスクの動圧発生溝パターンを前記レジストに転写するステップと、前記レジストを現像するステップと、現像した後に、エッチングにより前記軸受の内面に動圧発生溝を形成するステップとからなる。
この発明によれば、精度良好かつ迅速に軸受の内面に動圧発生溝を形成することができる。
上記の発明において、外周面に第1の動圧発生溝パターンを形成し、鍔部に第2の動圧発生溝パターンを形成した前記マスクを用い、第1の動圧発生溝パターンと第2の動圧発生溝パターンの露光を同時に行う。
このように構成することで、第1の動圧発生溝パターンと第2の動圧発生溝パターンを軸受に同時に転写できるので、露光工程の時間を短縮できる。第1の動圧発生溝は、軸受に挿入される軸の中心軸と平行な面に形成される動圧発生溝であり、第2の動圧発生溝は、中心軸と交差する面と対向する面に形成される動圧発生溝である。
上記の発明において、円筒状または円柱状の外周面にヘリングボーン溝パターンを形成し、鍔部にスパイラル溝パターンを形成した前記マスクを用いて、前記軸受の内面のヘリングボーン溝パターンと側面のスパイラル溝パターンの露光を同時に行う。
このように構成することで、軸受の内面へのヘリングボーン溝パターンと、側面へのスパイラル溝パターンの転写を同時に行うことができるので、露光工程の時間を短縮できる。
上記の発明において、動圧発生溝パターンを形成した円筒状の前記マスクを前記軸受の内面に挿入するステップを、さらに有し、前記円筒状の前記マスクの内側の中空部分に導光部材を挿入し、該導光部材により外部の光源の光を前記マスクの内側に導いて露光を行う。
このように構成することで、マスクの中空部分に光ファイバ等の導光性部材を挿入して露光を行うことができるので、径の小さい軸受にも適用できる。
上記の発明において、前記導光部材として光ファイバを用い、該光ファイバを前記動圧軸受の中空部分に挿入し、外部の光源の光を前記光ファイバで導光して露光を行う。
上記の発明において、透光性の材料からなる円柱状の前記マスクを前記軸受の内部に挿入し、前記マスクの端部に励起光を入射して円柱状のマスクを発光させて露光する。
このように構成することで、マスク自体を露光源として利用できるので、露光するための構造が簡素になる。
上記の発明において、端部を斜めにカットした光ファイバを前記軸受の内部に挿入し、前記光ファイバを回転させ、かつ軸方向に移動させて露光する。
このように構成することで、光ファイバと外部光源を用いて露光を行うことができるので、軸受内部に挿入する露光のための構造が簡素になる。
軸受の内部及び側面に形成される動圧発生溝は、例えば、ヘリングボーン溝とスパイラル溝である。レジストは、例えば、感光性のレジストである。
軸受の内面および側面にレジストを塗布した後、マスクを軸受の内側に挿入し、挿入したマスクのパターンをレジストに露光して転写した後、レジストを現像し、軸受のエッチング行い、レジストを除去して軸受の内面にへリングボーン溝及び側面にスパイラル溝を形成する。
露光は、例えば、円筒状のマスクの内側の中空部分に光ファイバで導入した光を軸受の内面に塗布したレジストに向けて円周上に回転させつつ軸方向に移動させて露光する。
本発明の動圧軸受製造装置は、軸受の内面にレジストを形成する手段と、動圧発生溝パターンを形成した、透光性の材料からなるマスクを用いて露光を行い、前記マスクの動圧発生溝パターンを前記レジストに転写する手段と、前記レジストを現像する手段と、現像した後に、エッチングにより前記軸受の内面に動圧発生溝を形成する手段とを備える。
本発明によれば、動圧発生溝を迅速かつ高精度で形成できる。
以下、本発明の実施の形態を図面を参照しながら説明する。
図1(a)及び(b)は、本発明に係る動圧軸受の構造を示す図である。図1の(a)は、動庄軸受2の上面を示す。これは、動圧軸受2の上面にスパイラル溝22を設けた様子を示す。
図1(b)は、動圧軸受2の断面図を示す。図1(b)において、マスク1は、円筒状あるいは円柱状で外面にへリングボーン溝21のパターンを形成および側面にスパイラル溝22のパターンを形成したものである。
マスク1の材料としては、ガラス、石英、あるいは透明度の高い樹脂材料、例えば、アクリル、ポリカーボネート、ポリエステル、PET(ポリエチレンテレフタレート)等を使用できる。マスク1として透明シートを使用することもできる。
また、動圧軸受2の材料としては、ステンレス等の鉄系材料、アルミ系材料、黄銅、リン青銅等の銅系材料、PPS(ポリフェニレンサルファイド)、ポリアセタール、ポリアミド系合成樹脂、ポリエチレン等の樹脂材料、セラミック及び上記の材料にメッキ処理を施したもの等を使用できる。
図1に示す円筒状のマスク1の場合には、内部に、図示のように先端にプリズムをつけた光ファイバ4を挿入して図示していない機構により回転させつつ軸方向に移動させ、レーザ光を内部からマスク1の外側に予め形成したへリングボーン溝21のパターン(例えばクロムメッキしてへリングボーン溝21に対応する部分のみを除去したパターン)をレジスト3に露光するものである。この際、スパイラル溝22は、フランジ側(図1(b)の上から下に向けた)にUV光を照射し、動圧軸受2の上側面のスパイラル溝22を同時に形成する。
動圧軸受2は、内面にへリングボーン溝21および上側面にスパイラル溝22を形成する対象の動圧軸受である。
レジスト3は、動圧軸受2の内面および側面に塗布した感光性のレジストである。
光ファイバ4(導光部材に対応する)は、マスク1の内面から光を照射してレジスト3を露光するものであって、例えば、先端に45度のプリズムを設けてマスク1のパターンをレジスト3に露光するためのものである。光ファイバ4の代わりに、内部に棒状の発光体(放電管など)を挿入してマスク1のパターンをレジスト3に露光するようにしてもよい。
次に、図2は、動圧軸受の製造手順を示すフローチャートである。以下、図2のフローチャートを参照して、動圧軸受2にへリングボーン溝21およびスパイラル溝22を形成する手順を詳細に説明する。
図2のステップS1において、レジストをコーティングする。これは、既述した図1の動圧軸受2の内面のへリングボーン溝21を形成する部分および上側面のスパイラル溝22を形成する部分などにレジストを塗布(例えばレジストを溶媒で希釈した溶液を微量たらして余分なものを取り除いてレジスト3を塗布)する。
レジストの形成方法としては、対象物をレジスト溶液に浸けるディップ法、流し掛け(フロー)、回転塗布、スプレーを使用する方法、電着法などがある。
ステップS2において、プレベークする。これは、 ステップS1で塗布したレジスト中の溶液を蒸発させるなどのために所定温度に上昇させる。
次に、ステップS3において、マスク1を取り付ける。これは、ステップS1及びS2において、図1の動圧軸受2の内面および側面にレジスト3が塗布された状態で、円筒状あるいは円柱状のマスク1を、図1に示すように、動圧軸受2の内部に挿入する。
次に、ステップS4において、露光する。これは、ステップS3で動圧軸受2の内部に取り付けたマスク1のパターンを塗布したレジスト3に露光する。露光は、図1に示すように、先端に45度プリズムをつけた光ファイバ4を円筒状のマスク1の中空部分に挿入し、回転させつつ軸方向に移動させて、マスク1の外周のパターンをレジスト3に露光して転写する。
次に、ステップS5において、マスク1を取り外す。次に、ステップS6において、現像する。これは、図1のレジスト3に露光した状態で、現像(例えば炭酸ナトリウム溶液で現像)してへリングボーン溝21およびスパイラル溝22のパターンを生成する。
次に、ステップS7において、ポストベークする。これは、レジスト3中の溶剤、水分を除去し、動圧軸受2との密着性を高めるために、所定温度に上昇させる。
次にステップS8において、エッチングする。これは、動圧軸受2の内面および上側面にレジスト3で形成されたパターンの部分(レジストがない部分)をエッチング(例えば、塩化第2鉄などでエッチング)して所定深さのパターン(へリングボーン溝21およびスパイラル溝22)を形成する。
エッチングの方法としては、ドライエッチング(気相中)、あるいはウェットエッチング等の化学エッチング、電解エッチング(電解加工)(液相中で通電による電気化学加工)等の方法を使用できる。ドライエッチングとしてはプラズマエッチング、ウェットエッチングの溶液としては、塩化第2鉄、りん酸などを使用できる。電解エッチングの溶液としては、塩化ナトリウム、硝酸ナトリウムなどを使用できる。
次にステップS9において、レジストを除去する。硬化したレジストを剥離液(例えば、水酸化ナトリウム溶液、有機溶剤など)で除去する。
以上によって、動圧軸受2のへリングボーン溝21およびスパイラル溝22を形成する部分などにレジスト3を塗布し、内部に円筒状あるいは円柱状のマスク1を挿入して露光、現像、エッチング、硬化レジストを除去し、へリングボーン溝21およびスパイラル溝22を高精度かつ迅速に形成することが可能となる。
なお、動圧軸受2の内部に挿入する露光用の光源に直接ヘリングボーン溝パターン12等を描画して、マスク1を使用せずに露光を行うようにしても良い。
次に、図3(a)、(b)は、実施の形態のマスク1の形状を示す図である。これは、透明(例えばガラス)な円柱状のマスク1の例を示す。
図3の(a)は、図3の(b)のスパイラル溝パターン11の部分を示し、図3の(b)は側面断面図を示す。
図3の(a)において、スパイラル溝パターン11は、図3の(b)の11の部分(鍔部1aの下面に形成される)のスパイラル溝パターン11を示し、図1の動圧軸受2のスパイラル溝22を転写して形成するためのマスクパターンである。
マスクパターンは、既述したように、クロムを全面にメッキした後、マスクパターンの部分のみを除去して作成する。
図3の(b)において、へリングボーン溝パターン12は、図1の動圧軸受2のへリングボーン溝21を転写して形成するためのマスクパターンである。
以上のように、透明なガラスなどの円柱状の外周にヘリングボーン溝パターン12および側面にスパイラル溝パターン11を予め作成してマスク1を準備する。
次に、図4は、図3の円柱状のマスク(透光部材に対応する)を用いた場合の他の構造図を示す。図4の(a)は、動圧軸受2のスパイラル溝22の様子を示す。これは、図4の(b)の22の部分を分かり易く表示したものである。
図4の(b)は、動圧軸受2の側面断面図を示す。ここでは、既述した図3の円柱状のマスク1を動圧軸受2の内部に挿入しているため、露光は。上方から励起光(例えば、UV光)を照射して当該円柱状の透明なマスク1がルミネッセンスで全体が光り、当該光った円柱状のマスク1の外周のマスクパターンが一度に動圧軸受2の内面の塗布したレジスト3にへリングボーン溝パターン12が露光されると共に、上側面に塗布したレジスト3にスパイラル溝パターン11が露光される。
以上のように、透明でルミネッセンスなど励起光を照射すると光る円柱状のマスク1を、動圧軸受2の内側に挿入して励起光を当該円柱状のマスク1に入射することで、一度にへリングボーン溝21およびスパイラル溝22に対応するパターンをレジスト3に露光することが可能となる。
図5は、本発明に係る動圧軸受2が使用されるスピンドルモータの構造を示す。
図中の動圧軸受2が既述した動圧軸受2であり、回転軸5を内部に挿入して回転させる構造となっている。また、へリングボーン溝21およびスパイラル溝22は図示の位置にそれぞれ設けられている。
図6は、マスク1を作成する工程の手順を示すフローチャートである。図6のステップS11において、透明なガラス、石英の円筒・円柱部材にクロム蒸着(スバッタリング)し、次のステップS12において、レジストコーティングする。さらに、ステップ13において、プレベークする。
次に、ステップS14において、フィルムマスクを円筒、円柱部材に巻き付け、ステップS15において露光し、ステップS16においてフィルムマスク取り外し、ステップS17において、現像する。
ステップS18において、ポストベークする。その後、ステップS19において、エッチングし、ステップS20において、レジストを除去する。これによりマスクが完成する。
尚、フィルムマスクを使用することなく、露光装置で直接に描画(円筒、円柱を回転させながら露光して描画)してもよい(図6,ステップ21)。
また、スパイラル溝パターン11用のマスクは、同様に、リング状のフィルムを円筒、円柱のつばの部分に取り付けて露光し作成する。
以上の手順によって、マスク1を作成することができる。
次に、図7〜図11は、露光部の構造の一例を示す図である。
図7は、光ファイバ31の外周部のクラッド31aを除去し、光ファイバ31の側面から光が放射されるようにした例を示している。この場合、外部の光源のUV光等を光ファイバ31によりマスク1の内部に導き、光ファイバ31の側面からマスク1に光を放射することができるので、光ファイバ31を回転及び上下に移動させずに露光を行うことができる。
図8は、光ファイバ31の軸方向の光漏れを防止するために、光ファイバ31を円筒状のガラス32等により覆い、ガラス32の軸と直交する上下面を光を反射する材料でマスキングしたものである。この場合、光ファイバ31から照射され、ガラス32の上下面で反射された光がマスク1の方向(図8の水平方向)に集められるので、外部の光源の光をより効率良く露光に利用できる。
図9は、マスク1の内部に、反射面を約45度傾けたミラー33を配置した例を示している。この場合、外部の光源の光をミラー33で反射させマスク1の内周全面に照射するために、ミラー33を360度回転させ、上下に移動させる必要がある。
図10は、光ファイバ31から放射される光を、球状の拡散部材34で拡散させる場合の例を示している。この場合、拡散部材34により光が拡散されてマスク1に放射され、同時に拡散部材34から放射された光が上下の反射板35で反射されてマスク1に入射するので、光ファイバ31を回転、あるいは上下に移動させる必要はない。なお、拡散部材34の形状は、球状でなく平板状でもよい。
図11は、マスク1及び動圧軸受2の上下面の近傍に光を乱反射させる反射板36を設けた例を示している。この場合、上部の光源から入射した光は、下側の反射板36で乱反射されてマスク1に入射すると共に、下部の反射板36で乱反射された光が上側の反射板36で乱反射されてマスク1に入射する。このように反射板36を用いることで、光ファイバなどの導光部材を用いずに簡単な構造で露光を行うことができる。
次に、図12〜図14は、マスクの形状を示す図である。
図12(a)、(b)は、円筒状の形状で、鍔なしのマスク41と、鍔有りのマスク42の断面図である。
円筒形状の鍔なしのマスク41の外周面には、ヘリングボーン溝を形成するためのヘリングボーン溝パターン12が形成される。
円筒形状の鍔有りのマスク42の外周面には、同様にヘリングボーン溝パターン12が形成され、鍔部42aの下面にスパイラル溝パターン11が形成される。
マスク41は、動圧軸受2にヘリングボーン溝21のみを形成する場合に用い、マスク42は、ヘリングボーン溝21とスパイラル溝22を同時に形成する場合に用いる。
次に、図13(a)、(b)は、円柱状の形状で、鍔なしと、鍔有りのマスク43,44の側面図である。
円柱状の形状の鍔なしのマスク43の外周面には、ヘリングボーン溝パターン12が形成される。
鍔有りの円柱状のマスク44の外周面には、同様にヘリングボーン溝パターン12が形成され、鍔部44aの下面にスパイラル溝パターン11が形成される。
図14は、傾斜面を有する動圧軸受の製造に用いられるマスクと動圧軸受46を示す図である。
図14に示すように、マスク45は、動圧軸受46の形状に合わせて上部から下部に向かって径が細くなっており、上部と下部を結ぶ面は円錐状に傾斜した面を形成している。そして、この傾斜した面にヘリングボーン溝パターン11が形成され、下部の円筒部分にもヘリングボーン溝パターン12が形成されている。そして、そのマスク45を動圧軸受46の内部に挿入して、円筒状の内面及び円錐状の内面にヘリングボーン溝21を形成する。なお、図14のマスク45は中空構造であるが、図12(b)または図13(b)に示すように中実構造でもよい。
図15は、上述したマスクを用いて作成される動圧軸受47の断面図である。図15の動圧軸受47には、2段のへリングボーン溝21が形成され、スパイラル溝22は形成されていない。
次に、図16〜図19は、マスクの製造工程の説明図である。
図16及び図17は、フィルムマスク51をレジスト3を形成したマスク1に巻き付け、フォトリソグラフによりマスクを製造する場合の説明図である。
ガラス等の透明な材料からなる円筒状のマスク1の外周にレジスト3を形成し、そのレジスト3の表面にヘリングボーン溝パターン12が印刷されたフィルムマスク51を巻き付ける。
次に、図17に示すように、マスク1の外側に、ガラスなどの透明な材料からなる中空の円筒状のガイド52を挿入し、フィルムマスク51が剥がれないように固定する。その後、通常のフォトリソグラフ工程により、フィルムマスク51に光を照射してヘリングボーン溝パターン12をレジスト3に転写し、現像してマスク1の外周にヘリングボーン溝パターン12を形成する。これにより、円筒状のマスク1が作成できる。
図18は、マスク1の製造に用いるフィルムマスク53の端面を、ヘリングボーン溝パターン12に沿ってカットした例を示している。このように、フィルムマスク53の端面をヘリングボーン溝パターン12に沿っでカットしておくことで、フィルムマスク53をマスク1に巻き付けたときに、フィルムマスク53の合わせ目がぴったりと合わさり、フィルムマスク53が剥がれにくなる。
次に、図19は、円筒状の親のマスク54の内側にマスク1を挿入してヘリングボーン溝パターン12を形成する場合の説明図である。
親のマスク53は、ガラス等の透明な材料からなり、円筒状の形状をしており、外周面にヘリングボーン溝パターン12が形成されている。
マスク1を製造する場合には、最初に、電着等によりマスク1の外周にレジスト(図示せず)を形成し、レジストを形成したマスタ1を親のマスク53の中空部分に挿入する。次に、親のマスク53の外周面にUV光を照射してヘリングボーン溝パターン12をマスク1に転写、現像し、マスク1の外周にヘリングボーン溝パターン12を形成する。これにより、親のマスク53と同じへリングボーン溝パターン12をマスク1の外周面に形成できる。
次に、図20は、板状の親のマスク55を用いてマスク1を作成する場合の説明図である。
親のマスク55は、透明なガラス等の材料かなり、板状の形状で表面にヘリングボーン溝パターン12が形成されたフィルム等が貼られている。親のマスク55の上部にスリット56aを有する板56が設けられており、板56の上方の光源から光が照射される。板56は、光を透過しない材料で構成されており、スリット56を通過した光のみが親のマスク55に入射する。
スリット56aを通過した光は、スリット56aの真下にある親のマスク55のヘリングボーン溝パターン12に照射され、その下側のレジスト3が感光される。親のマスク55を円筒状のマスク1の上に載せた状態で、親のマスク55を図20の左方向に移動させると、それにつれてマスク1が反時計方向に回転し、そのときスリット56aの真下にあるヘリングボーン溝パターン12がマスク1に連続的に転写される。このようにして、親のマスク55に形成されているヘリングボーン溝パターン12と同一のパターンがマスク1に転写され、動圧軸受2の製造に必要なマスク1が作成される。
次に、図21は、動圧軸受2に電着によりレジストを形成する場合に、動圧軸受2の側面に電極をセットするためのクランプ用の平坦部2aを形成した例を示している。平坦部2aは、図21に示す動圧軸受2の裏側にも設けられており、2箇所の平坦部2aを金属性の電極でクランプして電圧を印加してレジストを形成する。
このように、動圧軸受2の軸受としての機能に影響しない部分に電極を取り付けるための部分を設けることで、電着レジスト工程の作業性が向上する。
次に、図22〜図27は、エッチング工程の説明図である。
図22は、フォトリソグラフにより被加工物(動圧軸受2)を塩化第2鉄等のエッチング溶液中で回転及び上下に揺動させて所定の深さのヘリングボーン溝21及び/又はスパイラル溝22を形成する例を示している。
動圧軸受2をエッチング溶液中で回転及び上下に揺動させるための具体的な方法としては、例えば、図23に示すように、動圧軸受2の機能に影響しない外周等に溝2bを形成し、その溝2bを回転・揺動駆動装置(図示せず)に連結されたフック61に引っかけ、そのフック61を回転・揺動駆動装置により回転及び上下に揺動させる。あるいは、エッチング溶液が入っている槽全体を揺動させ、またはエッチング溶液を超音波振動等により振動させる。
このように、動圧軸受2をエッチング溶液中で回転及び揺動させることで、動圧軸受2の内面に常に新しいエッチング溶液が供給されるので均一にエッチングが行われる。それにより、エッチングにより形成されるヘリングボーン溝21の寸法精度を高めることができる。
図24及び25は、被加工物(動圧軸受2)の内周面を耐酸化性のブラシ62あるいはスポンジ等の擦過部材でこすりながらエッチングする例を示している。
動圧軸受2をブラシ62、あるいはスポンジ63でこすりながらエッチングするための具体的な方法としては、例えば、図26に示すように、動圧軸受2をある程度の重量のある治具64に固定してエッチング溶液中に入れ、回転・駆動装置(図示せず)に連結されたブラシ62を動圧軸受2の内周面に挿入し、ブラシ62を回転及び上限に揺動させることで、へリングボーン溝21を形成したい動圧軸受2の内周面をこする。治具64の脚部には、穴が設けられており、ブラシ62により動圧軸受2の内部から押し出されたエッチング溶液が治具64の外部に排出されて循環するようになっている。
このように、被加工物である動圧軸受2のエッチング面を擦過部材でこすることで、エッチング面の表面がきれいに保たれると共に、エッチング溶液が攪拌されて新しいエッチング液が動圧軸受2の内面に供給されるので、均一な条件でエッチングを行うことができる。これにより、エッチングにより形成されるヘリングボーン溝21の寸法精度を高めることができる。
図27は、図26と逆に、エッチング溶液中にスポンジ63等の擦過部材を固定し、動圧軸受2の外周を、回転・揺動駆動装置に連結されたフック61でつかみ、動圧軸受2を回転及び上下に揺動させる例を示している。
この場合も、上述した例と同様の効果を得ることができる。
次に、図28〜図31は、動圧軸受2の製造工程で使用される治具の一例を示す図である。
図28及び図29は露光工程で使用される治具の一例を示す図であり、この例は、被加工物である動圧軸受2を二次元的に配置して同時に複数の動圧軸受2の露光を行えるようにしたものである。
図28に示すように、治具71には、複数の動圧軸受2を固定するための複数の穴73が設けられている。治具73には、治具71の穴72に対応した位置に、スパイラル溝22のパターンが形成されている。この治具73は、複数の動圧軸受2の下面にスパイラル溝22を形成するためのマスクとして機能する。
治具71及び73を用いて露光する場合には、治具73の上に治具71を置き、治具71の穴72にそれぞれ動圧軸受2を挿入する。次に、それぞれの動圧軸受2の内部に、ヘリングボーン溝21のパターンが形成されたマスク1を挿入し、そのマスク1の内部に光ファイバ4を挿入する。そして、外部の光源の光を光ファイバ4によりマスク1に照射し、ヘリングボーン溝パターン12を動圧軸受2の内周面のレジストに転写する。同時に、治具73の下部にある光源から光を照射して、治具73に形成されているスパイラル溝パターン11を動圧軸受2の下面に転写する。
治具71及び73を用いることで、複数個の動圧軸受2を同時に露光することができる。しかも、ヘリングボーン溝パターン12とスパイラル溝パターン11を1回の露光で同時に転写することができる。
次に、図29は、マスク1が治具74に固定されている構造の例を示している。図29に示すように、治具74には、ヘリングボーン溝パターン12及びスパイラル溝パターン11が形成されたマスク1が複数個取り付けられている。治具74の上面の動圧軸受2の下面と対向する位置にスパイラル溝パターン11が形成されている。さらに、マスク1の中空部に挿入される光ファイバ4と接触しないように貫通穴が設けられている。治具75には、複数の光ファイバ4が回転可能に取り付けられている。
治具74及び75を用いて露光する場合には、複数個の動圧軸受2をマスク1にそれぞれ挿入する。次に、治具75に取り付けられた光ファイバ4をそれぞれの動圧軸受2に挿入する。そして、光ファイバ4に外部の光源の光を入射させ、光ファイバ4を図示しない駆動装置により回転させ、治具75を上下に移動させて露光用の光をマスク1の内面に照射する。同時に治具74の下部から露光用の光を照射して動圧軸受2の下面にスパイラル溝パターン11を転写する。これにより、動圧軸受2の内面及び側面にヘリングボーン溝パターン12とスパイラル溝パターン11が転写される。
図28及び図29の治具を用いることで複数の被加工物にヘリングボーン溝パターン12とスパイラル溝パターンを同時に転写できるので、露光工程の作業時間を短縮できる。
次に、図30及び図31は、現像及びエッチング工程において、複数個の被加工物を同時に処理するための治具の一例を示す図である。
図30に示すように、治具76は、動圧軸受2の外径よりわずかに大きい内径を有する筒状の形状を有し、複数個の動圧軸受2を収納できる容積を有している。現像あるいはエッチングを行う場合には、動圧軸受2を軸方向に順に積み重ねて治具76に収納し、治具76を現像溶液またはエッチング溶液に浸けることで、複数個の動圧軸受2の現像及びエッチングを同時に行うことができる。
図31は、ヘリングボーン溝21と同時に動圧軸受2の側面にスパイラル溝22を形成する場合に用いる治具77の構造を示している。
治具77の側面には穴77aが設けられている。この穴77aは、動圧軸受2を軸方向に順に積み重ねて治具77に収納したときに、動圧軸受2の上下面にエッチング溶液が回るように空けられている。
図31に示すように、動圧軸受2は、スパイラル溝22が形成される面が互いに対向するように治具77に収納される。治具77をエッチング溶液に浸したときに、エッチング溶液が穴77aから動圧軸受2の上下面に回り込み、内面のヘリングボーン溝21と上又は下側面のスパイラル溝22が同時に形成される。
このように、治具76及び77を用いることで、複数個の動圧軸受2を同時に現像またはエッチングすることができる。
上述した実施の形態は、へリングボーン溝21とスパイラル溝22を形成する場合について説明したが、動圧発生溝は上記の溝に限定されない。
本発明によれば、軸受の内部にレジスタを形成し、露光、現像、エッチングを行うことで動圧発生溝、例えば、へリングボーン溝、スパイラル溝を迅速かつ高精度で形成できる。また、動圧発生溝を転写及びエッチングにより形成しているので溝のパターンの設計の自由度が高くなる。さらに、外周面と側面に動圧発生溝を作成するためのパターンを形成したマスクを用いて露光を行うことで、軸受の内面と側面に同時に動圧発生溝を形成することができる。
実施の形態の動圧軸受の構造を示す図である。 実施の形態の動圧軸受の製造手順を示すフローチャートである。 円柱状のマスクの構造を示す図である。 円柱状のマスクを用いた場合の構造を示す図である。 スピンドルモータの構造を示す図である。 実施の形態のマスクの製造手順を示すフローチャートである。 光ファイバの構造を示す図である。 露光部の構造を示す図である。 露光部の構造を示す図である。 露光部の構造を示す図である。 露光部の構造を示す図である。 (a)、(b)は、マスクの形状を示す図である。 (a)、(b)は、マスクの他の形状を示す図である。 マスクの他の形状を示す図である。 動圧軸受の構造を示す図である。 マスクの製造方法の説明図である。 マスクの製造方法の説明図である。 マスクの製造方法の説明図である。 マスクの製造方法の説明図である。 マスクの製造方法の説明図である。 動圧軸受のクランプ部の構造を示す図である。 エッチング工程の説明図である。 エッチング工程の説明図である。 エッチング工程の説明図である。 エッチング工程の説明図である。 エッチング工程の説明図である。 エッチング工程の説明図である。 露光工程の治具を示す図である。 露光工程の治具を示す図である。 現像及びエッチング工程の治具を示す図である。 現像及びエッチング工程の治具を示す図である。

Claims (4)

  1. 軸受の内面に動圧発生溝を形成する製造方法において、
    軸受の内面にレジストを形成するステップと、
    動圧発生溝パターンを形成した、透光性の材料からなり、発光する透光性の材料からなる円柱状のマスクを前記軸受の内部に挿入するステップと、
    前記マスクを用いて、前記マスクの端部に励起光を入射して前記マスクを発光させて露光を行い、前記マスクの動圧発生溝パターンを前記レジストに転写するステップと、
    前記レジストを現像するステップと、
    現像した後に、エッチングにより前記軸受の内面に動圧発生溝を形成するステップとからなる動圧軸受の製造方法。
  2. 請求項1記載の動圧軸受の製造方法において、
    外周面に第1の動圧発生溝パターンを形成し、鍔部に第2の動圧発生溝パターンを形成した前記マスクを用い、第1の動圧発生溝パターンと第2の動圧発生溝パターンの露光を同時に行う。
  3. 請求項1記載の動圧軸受の製造方法において、
    円筒状または円柱状の外周面にヘリングボーン溝パターンを形成し、鍔部にスパイラル溝パターンを形成した前記マスクを用いて、前記軸受の内面のヘリングボーン溝パターンと側面のスパイラル溝パターンの露光を同時に行う。
  4. 軸受の内面にレジストを形成する手段と、
    動圧発生溝パターンを形成した、透光性の材料からなり、発光する透光性の材料からなる円柱状のマスクを前記軸受の内部に挿入する手段と
    前記マスクを用いて、前記マスクの端部に励起光を入射して前記マスクを発光させて露光を行い、前記マスクの動圧発生溝パターンを前記レジストに転写する手段と、
    前記レジストを現像する手段と、
    現像した後に、エッチングにより前記軸受の内面に動圧発生溝を形成する手段とを備える動圧軸受製造装置。
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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005101985A2 (ja) * 2004-04-20 2005-11-03 Ntn Corporation 動圧発生部の成形方法および動圧軸受装置
JP4714440B2 (ja) * 2004-08-11 2011-06-29 富士通株式会社 フォトマスク製造方法
WO2006067996A1 (ja) * 2004-12-21 2006-06-29 Ntn Corporation 動圧発生部の成形方法
TWI257979B (en) * 2005-08-19 2006-07-11 Delta Electronics Inc Dynamic bearing manufacturing method
JP2007247890A (ja) * 2006-02-16 2007-09-27 Ntn Corp 軸受ユニット
US20070283563A1 (en) * 2006-04-18 2007-12-13 Delta Electronics, Inc. Method for manufacturing bearing assembly
FR2916499B1 (fr) * 2007-05-24 2009-12-25 Flender Graffenstaden Coussinet a coquille mince refroidie.
KR100965324B1 (ko) * 2008-07-11 2010-06-22 삼성전기주식회사 유체동압베어링의 제조방법
US8408797B2 (en) * 2011-09-07 2013-04-02 Alphana Technology Co., Ltd. Method of manufacturing bearing device component coated with photoluminescence material, bearing device component and processing device with an indicator displaying information for a signal including information in accordance with light emission of a photoluminescence material applied on bearing device
JP6269660B2 (ja) * 2013-04-30 2018-01-31 株式会社ニコン 基板処理装置、デバイス製造方法及び円筒マスク
JP2015021185A (ja) * 2013-07-16 2015-02-02 和百エンジニアリング株式会社 曲面状の内周面上に微細形状の凹部を形成する装置及びその方法
US10481496B2 (en) * 2017-06-28 2019-11-19 International Business Machines Corporation Forming conductive vias using a light guide
US10834828B2 (en) * 2018-01-26 2020-11-10 International Business Machines Corporation Creating inductors, resistors, capacitors and other structures in printed circuit board vias with light pipe technology
US10834830B2 (en) 2019-02-13 2020-11-10 International Business Machines Corporation Creating in-via routing with a light pipe
CN114147377B (zh) * 2022-02-07 2022-06-07 西安航天精密机电研究所 一种用于加工陀螺电机凸半球的掩模及其加工方法

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5386650A (en) 1977-01-07 1978-07-31 Citizen Watch Co Ltd Photooetching method of both surface
JPS53115630A (en) 1977-03-18 1978-10-09 Koyo Seiko Co Mask for working groove of spherical thrust bearing with spiral groove and its preparation
JPS5416451A (en) 1977-07-08 1979-02-07 Mitsubishi Chem Ind Ltd 3,5-dichloro-4-fluoropheyl isocyanate and its preparation
JPS5641639A (en) * 1979-09-12 1981-04-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd Exposure mask and exposure method
JPS5754274A (ja) * 1980-09-18 1982-03-31 Nippon Seiko Kk Mizotsukidoatsugatajikukenokakohoho
JPS5770276A (en) 1980-10-17 1982-04-30 Nippon Seiko Kk Preparation of dynanic pressure generating groove by mask etching
JPS5799643A (en) * 1980-12-12 1982-06-21 Fujitsu Ltd Seethrough mask
JPS6014734A (ja) * 1983-07-06 1985-01-25 Hitachi Denshi Ltd 撮像管用フオトマスクの製造方法
JPS6112882A (ja) * 1984-06-28 1986-01-21 Toshiba Corp 溝加工方法
US4877818A (en) * 1984-09-26 1989-10-31 Rohm And Haas Company Electrophoretically depositable photosensitive polymer composition
JPS61130490A (ja) * 1984-11-29 1986-06-18 Canon Inc 動圧発生溝の成形方法
JPH0811834B2 (ja) * 1986-10-20 1996-02-07 光洋精工株式会社 動圧軸受の溝加工装置
JPH05191015A (ja) * 1992-01-17 1993-07-30 Hitachi Chem Co Ltd プリント配線板の製造方法及びその製造方法に使用する治具
JPH05249649A (ja) * 1992-03-03 1993-09-28 Fujitsu Ltd フォトマスクおよびその製造方法
US6702408B1 (en) * 1994-07-22 2004-03-09 Seagate Technology Llc Single plate hydrodynamic bearing cartridge
JPH095729A (ja) * 1995-06-14 1997-01-10 Optrex Corp 液晶表示素子の製造方法
KR100232677B1 (ko) * 1996-04-09 1999-12-01 구본준 박막 트랜지스터의 제조방법 및 그 방법에 의해 제조되는 박막 트랜지스터의 구조
JP3361695B2 (ja) * 1996-05-31 2003-01-07 セイコーインスツルメンツ株式会社 円筒状フォトマスクを用いた動圧発生溝の形成方法
JPH09326475A (ja) * 1996-06-04 1997-12-16 Sony Corp 不揮発性記憶装置の製造方法及び露光マスク
US6218219B1 (en) * 1997-09-29 2001-04-17 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and fabrication method thereof
US6427330B1 (en) * 1997-10-07 2002-08-06 Sankyo Seiki Mfg. Co., Ltd. Method for forming a lubricant coating on a hydrodynamic bearing apparatus by electrode positioning
DE69834805T8 (de) * 1997-12-24 2008-04-10 GUNZE LIMITED, Ayabe-shi Durchsichtiges element zur abschirmung gegen die elektromagnetischen wellen sowie dessen herstellungsverfahren
JPH11190329A (ja) * 1997-12-25 1999-07-13 Copal Electron Co Ltd 周回流型の動圧軸受
JP4246298B2 (ja) * 1998-09-30 2009-04-02 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション 液晶ディスプレイパネルの製造方法
JP2000117375A (ja) * 1998-10-19 2000-04-25 Seiko Instruments Inc 中空円柱部材の溝加工方法
JP2000350408A (ja) * 1999-03-29 2000-12-15 Nippon Densan Corp 記録ディスク駆動用モータ
US6104042A (en) * 1999-06-10 2000-08-15 Chi Mei Optoelectronics Corp. Thin film transistor with a multi-metal structure a method of manufacturing the same
JP3813771B2 (ja) * 1999-09-13 2006-08-23 株式会社ジェイテクト 動圧軸受エレメントの製造方法
JP2001100427A (ja) 1999-09-29 2001-04-13 Seiko Instruments Inc 曲面の露光方法及び露光装置
JP2001326999A (ja) * 2000-05-18 2001-11-22 Olympus Optical Co Ltd 圧電構造体の加工方法および複合圧電体の製造方法
US20030049925A1 (en) * 2001-09-10 2003-03-13 Layman Paul Arthur High-density inter-die interconnect structure
CN1190605C (zh) * 2002-11-01 2005-02-23 财团法人工业技术研究院 应用于制造流体轴承的蚀刻方法

Also Published As

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