JPS6014734A - 撮像管用フオトマスクの製造方法 - Google Patents

撮像管用フオトマスクの製造方法

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Publication number
JPS6014734A
JPS6014734A JP12163483A JP12163483A JPS6014734A JP S6014734 A JPS6014734 A JP S6014734A JP 12163483 A JP12163483 A JP 12163483A JP 12163483 A JP12163483 A JP 12163483A JP S6014734 A JPS6014734 A JP S6014734A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photomask
mask
deflection electrode
cylindrical
electrode pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP12163483A
Other languages
English (en)
Inventor
Kanetoshi Tada
多田 金稔
Katsumi Watanabe
克己 渡辺
Kiyokazu Okawa
大川 清和
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
RINKU KK
Hitachi Denshi KK
Original Assignee
RINKU KK
Hitachi Denshi KK
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Filing date
Publication date
Application filed by RINKU KK, Hitachi Denshi KK filed Critical RINKU KK
Priority to JP12163483A priority Critical patent/JPS6014734A/ja
Publication of JPS6014734A publication Critical patent/JPS6014734A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/46Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
    • H01J29/70Arrangements for deflecting ray or beam
    • H01J29/72Arrangements for deflecting ray or beam along one straight line or along two perpendicular straight lines
    • H01J29/74Deflecting by electric fields only

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明は、電磁集束、静電偏向形撮像管外管の偏向電極
形成用フォトマスクの製造方法に関するものである。
(従来技術とその問題点) 電磁集束、静電偏向形撮像管(以下、 MS形撮像管と
呼ぶ)の偏向電極は9次の方法で製造されるのが普通で
ある。1)レーザー加工による。2)フォトエツチング
加工による。
前者は加工機が高額のため、ここではフォトエツチング
加工に関するものを採用した。即ち第1図Aに見る如く
管内壁1に蒸着金属膜形成2その表面にフォトレジスト
3を塗布したのち、所要のフォトマスク4を密着させ露
光する工程で、まづ。
偏向電極パターンの形成しているフォトマスク4を管内
円周1に合わせて丸め挿入し定位置に設置する。
これとは別に紫外線を多量に放射する螢光灯5または円
筒形ブラックライト5の外側を空気導入口6のある透明
樹脂系、またはゴム系の円筒形空気袋7で覆い、その両
端を空気の洩れないよう該螢光灯5に密封したものを図
の如(該管1内に通しセットしたのち、この空気袋7に
空気を送入。
強く脹くらませて該フォトマスク4管内壁1に強制的に
密着させるのであるが、同図B、Cに見る如く該マスク
の合わせめ8または8′が露光に対して完全でないため
、エツチングしたさい、これが欠陥となって顕著に現わ
れ問題となる。
即ち第1図Bに見られる如くフォトマスク4を管1に合
わせて丸めると、その合わせめ8に一直線の間隙が出来
やすく、そのまま露光、エツチングすると偏向電極の一
部が直線状の絶縁空間を形成し、管に仕上げた場合、ビ
ーム偏向に支障をきたすことになり好ましくない。
また、フォトマスク4を同図Cの如(重ね合わせると管
壁1に接するフォトマスク4のシート厚だけの空間8′
が一部一直線状に生じ、これが原因して露光のさい、光
源5がも発する紫外線が必要以外の部分にまで拡散照射
するようになり、フォトレジスト3がそのまま影響を受
けて該フォトマスク40重ね合わせ部分8′のパターン
形状がくずれたまま露光エツチングされるので、これま
た管に仕上げた場合、ビーム偏向に支障をきたし好まし
くない。
(目的) 本発明は前記欠点を除くため、平板形フォトマスクの偏
向電極部分の両端をパターンに沿って鋸歯状に切削し、
治具を使って丸めたさい、該マスクの鋸歯状部分を交互
に組み合わせ、これを例えば70ニ100℃温度で加熱
し、そめ塑成変形を利用して永久に円筒形に成形するこ
とを特徴とし、その目的は、前記マスクを利用して外管
クローム層をエツチングした場合、偏向電極の継ぎ目は
全く分らなくなることにある。
(実施例) 本発明のフォトマスクは、1例としてポジ用マスクによ
り以下説明する。
先づ第2図Aの如く偏向電極パターン部分40両端を鋸
歯状に裁断する。8.9.10.8’ 9’ 10’つ
いで同図Bに見る如く該マスク4を後述する所要外管1
の内径より僅かに小径にして貿・内に挿入できるように
円筒に丸めた場合9例えは第1図Aに見る如く空気袋7
を該マスク4内に挿入し、−気圧以上の空気を送入して
脹くらませ、該マスク4を法線方向に押し上げ外管1内
壁に密着させた時、鋸歯状部分の間隔11.12・・・
・・・は所定の幅になり、該マスク4を押し上げない場
合は、所定の幅より極めて僅か狭い間隔が保たれるよう
に該マスク4上のパターンを設計しておく。
また2円筒マスク軸方向の鋸歯状パターン以外の両側の
接合部分13.14 の所望位置には、鋸歯状パターン
の突き合わせ部分8.9.10.8’ 9’ 10’を
前記所定間隔に合致させうる目安となるよう位置合わせ
マーク15.16を印刷しておく。さらに前記の如く、
該マスクを外管内挿入可能な径に丸めた場合第3図の如
く該円筒マスク4の内径に等しく例えば金属製の円筒治
具17をつくり、(以下、中治具と呼ぶ)この17を母
体として該マスクシートを丸め、さらに中治具17の法
線方向に向って押しつげることのできる該治具17と同
心円の2分割可能な押え治具18(以下、外治具と呼ぶ
)で該マスク4を均一に押え固定させたのち、該マスク
4が加熱により伸縮を起さない範囲の温度例えば70°
〜100°C程度の加熱で該マスク4が再たび元の形に
戻らないよう成形固化させる。此の場合、鋸歯部分の間
隔11.12・・・・・・は、前記の如く所定め幅より
極めて僅かに狭い間隔となることは当然である。
さらに円筒に丸められた該マスク4の光導電面側19の
接合部13内(111には、第2図Cの如く該マスク4
と同一位置に、しかも同一幅の−の字電極模様20を印
刷しである透明樹脂製テープ21を該マスク4の接合部
13をまたぎ、かつ、該マスク4の−の字模様22と前
記テープ21の一〇字模様20とが一致するようにし、
しかも該テープ210両端23.24を接着剤を介して
貼る。同様にして該マスク4の電子銃側25の接合部1
4もこれをまたいで接合部14に沿って該テープ21′
の両端23’ 24’を接着剤を介して貼り合わせる。
以上9本考案の円筒マスク4を第1図Aの如くクローム
被着2.フォトレジスト塗布3されている該外管1内に
挿入、定位置に設置し、空気袋7に1気圧以上の空気を
送太し脹くらませることによって該外管内壁1に該マス
ク4を強制的に密着させ、紫外線5によって露光し現像
エツチングすれば継ぎ目の全←く分らない偏向電極が形
成できる。なお1本考案のフォトマスクは、ネガ用フォ
トマスクでも同様の手法により容易に偏向電極が形成で
きる。
(効果) 本発明によれば(1)フォトマスクを円筒に丸めても、
該マスクの重ね合わせ部分はないことから継ぎ目の分ら
ない偏向電極を形成させることが出来る。(2)円筒フ
ォトマスクΦの内側の鋸歯状部分を除く両側の接触部を
またいで透明テープの両端のみ該マスクに貼り合わせで
あるため、空気袋の膨張で該マスクが押し上げられた場
合、該テープ部分が薄く伸び易くなっているため、該マ
スクは管内壁に完全に密着しやすい。従って精度高い霧
光が可能となる。(3)光導電面に貼られる透明テープ
は、該マスクの−の字電極模様に合わせて−の字を印刷
しであるので、露光のさい継ぎ目は全→く分らなくする
ことができる。(4)該マスクの突き合わせ部分に位置
合わせマークが附しであるため。
そのマークを一致させれば、顕微鏡観測などしなくとも
精度高く鋸歯状部分交互のかみ合わせが可能になる。(
5)テープが該マスクの接合部に貼り合わせであるため
、該マスクの管内挿入時にも、接合部の喰い違いは起さ
ず、従って鋸歯状部分の損傷は生じない。
【図面の簡単な説明】
極パターンフォトマスクの構造図。第3図は9本発明に
よるマスクを所要径の円筒形に治具を使っての成形状態
を示す構造図。 1:外管、2:金属蒸着膜、3:フォトレジスト、4:
フォトマスク、5:紫外線光源、6:空気導入口、7:
空気袋、8.9.10.8’ 9’ 10’はマスク鋸
歯状切削部、11,12 :鋸歯状突き合わせ部の間隙
、13,14 :マスク両端接合部、 15,16 :
マスクの接合部、17:中治具、18:外治具、19:
マスク光導電面側、20:マスク−の字電極パターン、
21:光導電面のマスク接合部に貼るテープ、22:マ
スクの−の字電極パターン、 23.24.23’、 
24’ :テープ両端の貼り合わせ部分。25:マスク
電子銃側。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 透明フォトマスクの両端を偏向電極パターンの仕様に従
    って交互に噛み合わせうる鋸歯状に裁断して、その両端
    を任意の間隔で組み合わせたフォトマスクを円筒形に低
    温加熱成形後、前記鋸歯状部分を除(接合部をまたいで
    マスクの−の字電極模様と同じ−の字を印刷したテープ
    を該マスクの−の字に合わせマスクに貼り合わせたこと
    を特徴とするフォトマスクの製造方法。
JP12163483A 1983-07-06 1983-07-06 撮像管用フオトマスクの製造方法 Pending JPS6014734A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6347219A (ja) * 1986-08-13 1988-02-29 Shibuya Kogyo Co Ltd 物品搬送コンベヤの運転制御装置
US7507039B2 (en) * 2002-02-28 2009-03-24 Fujitsu Limited Dynamic pressure bearing manufacturing method, dynamic pressure bearing and dynamic pressure bearing manufacturing device
WO2016195064A1 (ja) * 2015-06-05 2016-12-08 綜研化学株式会社 構造体及びその製造方法

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US7507039B2 (en) * 2002-02-28 2009-03-24 Fujitsu Limited Dynamic pressure bearing manufacturing method, dynamic pressure bearing and dynamic pressure bearing manufacturing device
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