JP4197866B2 - 熱可塑性樹脂容器を製造するための方法と成形型 - Google Patents

熱可塑性樹脂容器を製造するための方法と成形型 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、特にICチップのような電子部品をそれぞれ収容する複数の空洞を備える熱可塑性樹脂テープ状キャリアーとして使用可能な熱可塑性樹脂容器を製造するための、方法及び成形型に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来技術においては、部品を収容するための熱可塑性樹脂容器は、熱可塑性樹脂シートの一部を成形型のへこみ内に空気圧で付勢することにより形成される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、熱可塑性樹脂容器の空洞の底の平坦度を改善する、熱可塑性樹脂容器を製造するための方法及び成形型を提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段とその作用】
本発明によれば、部品を収容する空洞を形成するよう、基部と、平坦な基部から延びる側壁と、側壁の間で延びる底部であり基部と底部との間に底部の厚さ方向における距離(容器深さ)を有する底部とを有する熱可塑性樹脂容器を製造する方法は、熱可塑性樹脂シートの一部を加熱した後、当該熱可塑性樹脂シートの一部を成形型のへこみ内に付勢して、底部と側壁とが前記距離を伴って形成される段階を有し、成形型のへこみの底は、成形型上の熱可塑性樹脂シートのその他の一部上に形成される前記基部から離れる深さ方向において突き出る凸形状領域を備える。
【0005】
本発明によれば、基部と、平坦な基部から延びる側壁と、側壁の間で延びる底部であり基部と底部との間に底部の厚さ方向における距離を有する底部とを有する容器を、熱可塑性樹脂シートから製造するための成形型は、へこみであり、熱可塑性樹脂シートの一部を加熱した後、当該熱可塑性樹脂シートの一部を受け入れて、前記底部と側壁とを前記距離を備えてへこみ内に形成して部品を収容する容器の空洞を形成するようにされたへこみと、前記へこみに隣接して前記へこみを取り囲む平坦基部領域と、を有し、成形型のへこみの底は、前記平坦基部領域から離れる深さ方向において突き出る凸形状領域を備える。
【0006】
成形型のへこみの底は、容器の空洞を取り囲む熱可塑性樹脂シートのその他の一部上に形成される前記基部から離れる深さ方向において突き出る凸形状領域を備えるので、熱可塑性樹脂容器が大気温度まで冷却された後の底部の平坦度は、熱可塑性樹脂シートが容器を形成するよう変形された後の熱可塑性樹脂シートの熱応力及び/又は変形にもかかわらず、改善される。
【0007】
前記深さ方向におけるへこみの深さ(へこみ深さ)が、前記距離より大きい時、熱可塑性樹脂容器が大気温度まで冷却された後の底部の平坦度が改善されるよう、底部が前記深さ方向の反対方向に突き出すことが抑制される。前記凸形状は、ドーム形、切頭円錐形或いは切頭角錘形であることが好適である。前記底部の主領域は、前記基部にほぼ平行に延びても良い。平坦度を改善するためには、前記平坦な基部から離れる深さ方向における凸形状の頂部と凸形状の基部との間の深さの差は、0.1−1mmであることが好適である。熱可塑性樹脂容器は、ボールグリッド列電気部品を収容するようにされても良い。
【0008】
前記距離が、前記距離がへこみの深さと等しくなった後に、へこみの深さより小さくなるよう減少される時、及び/又は、前記距離が、前記底部がへこみの底に接触した後に、減少される時、平坦度は効果的に改善される。へこみの底が、前記凸形状領域に隣接して前記凸形状領域を取り囲む平坦領域を備える、及び/又は、前記凸形状領域が、その頂部に、平坦領域を備える時、平坦度は更に改善される。
【0009】
【発明の実施の形態】
図1に示されるように、SOP(small outline package)、SSOP(shrink small outline package)、TSOP(thin small outline package)、TSSOP(thin shrink small outline package)、PLCC(plastic leaded chip carrier)、QFP(quad flat package)、BGA(ball grid allay)等のような電気部品用キャリアーテープとして使用され、且つ柔軟性樹脂で作られる容器1は、請求の範囲に記載される側壁と底部とを備える空洞(押出し加工された領域)2と、請求の範囲に記載される基部としてのフランジ3とを有している。空洞2は、一定の間隔でキャリアーテープの長手方向に沿って整列され、それぞれ電気部品を収容可能である。テープ状カバー(図示されず)が、フランジ3に接着され、空洞を覆って、電気部品は空洞から取り外されることが防止され、更に、テープ送り穴4が、フランジの少なくても一方の側に長手方向に沿って配置される。空洞2は、成形型のへこみのそれぞれに熱可塑性樹脂シートの一部を空気圧的に(真空引き厚いは加圧空気による圧力差で)付勢することにより形成される。
【0010】
成形型のへこみが、27mm×27mmの面積と3mmの深さを有する時、へこみの底は、その中央に、高さ0.3mmの切頭四角錐凸形窪みを、26mm×26mmの頂部平坦領域を備えて有し、0.3mm厚さのポリスチレンシートが、180℃まで加熱された後、へこみ内に空気圧的に付勢され、空洞が形成され、Koが空洞の中央におけるフランジ3の上面と空洞の中央との間の空洞の深さ、Kcが空洞の周囲におけるフランジ3の上面と空洞の周囲との間の空洞の深さ、Poが空洞の中央におけるシートの厚さ、Pcが空洞の周囲におけるシートの厚さの時、Ko=3.05mm、Kc=3.10mm、Po=0.28mm、Pc=0.20mmである。
【0011】
そり W=(Kc+Pc)−(Ko+Po)=−0.03mm
なので、そりWは非常に小さい。
【0012】
空洞がBGAパッケージを収容し、Zoが空洞の中央における空洞内に収容されたBGAパッケージの高さと空洞の深さとの差であり、Zcが空洞の周囲における空洞内に収容されたBGAパッケージの高さと空洞の深さとの差である時、Zo=0.45mmであり、Zcは0.05mm。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の容器(部品キャリアーテープ)を示す斜視図。
【図2】 容器の側面図。
【図3】 図1のIII−III面に沿った断面図。
【図4】 ボールグリッド列電気部品のような電気部品を収容する容器を示す断面図。
【図5】 (a)は本発明のもう一つの容器(部品キャリアーテープ)を示す斜視図。
(b)は図5aの容器の側面図。
(c)は図5aのVc−Vc面に沿った断面図。
【図6】 (a)は本発明の成形型を示す斜視図。
(b)は図6aのVIb−VIb面に沿った断面図。
【符号の説明】
1 容器
2 空洞
3 フランジ
4 テープ送り穴

Claims (8)

  1. 基部(3)と、基部(3)から延びる側壁(6)と、側壁(6)の間で延びる底部(5)と、を有し、基部(3)と底部(5)との間に底部(5)の厚さ方向における容器深さを形成する、熱可塑性樹脂容器を製造する方法であり、
    熱可塑性樹脂シートの一部を加熱した後、当該熱可塑性樹脂シートの一部を、側壁(6)と底部(5)とに対応する成形型(10)のへこみ(11)内に付勢する段階を有し、
    底部(5)に対応する成形型(10)のへこみ(11)の底(11a)は、基部(3)から底部(5)に向かう深さ方向において突き出る凸形状領域(11a’)を備え、
    前記深さ方向におけるへこみ(11)のへこみ深さは、前記容器深さより大きく、
    前記凸形状領域(11a’)は、切頭円錐形或いは切頭角錘形であり、
    前記基部(3)から離れる深さ方向における凸形状領域(11a’)の頂部(11a’t)と凸形状領域(11a’)の基部(11a’ b との間の深さの差は、0.1−1mmであることにより、
    底部(5)は、前記深さ方向の反対方向に突出することが抑制されて、熱可塑性樹脂容器が大気温度まで冷却された後の底部(5)の平坦度が改善される、方法。
  2. 前記底部(5)の凸形状領域(11a’)を取り囲む領域(11a”)は、前記基部(3)に平行に延びる、請求項1に記載の方法。
  3. 熱可塑性樹脂容器は、ボールグリッド列電気部品を収容するようにされた、請求項1に記載の方法。
  4. へこみ(11)の底(11a)は、前記凸形状領域(11a’)に隣接して前記凸形状領域(11a’)を取り囲む環状平坦領域(11a”)を備える、請求項1に記載の方法。
  5. 基部(3)と、基部(3)から延びる側壁(6)と、側壁(6)の間で延びる底部(5)と、を有し、基部(3)と底部(5)との間に底部(5)の厚さ方向における容器深さを形成する容器を、熱可塑性樹脂シートから製造するための成形型(10)にして、
    へこみ(11)であり、熱可塑性樹脂シートの一部を加熱した後、当該熱可塑性樹脂シートの一部を収容して、前記底部(5)と側壁(6)とを前記容器深さを備えてへこみ(11)内に形成するようにされたへこみ(11)と、
    前記へこみ(11)に隣接して前記へこみ(11)を取り囲む平坦基部領域(12)と、を有し、
    成形型のへこみ(11)の底(11a)は、前記平坦基部領域(12)から離れる深さ方向において突き出る凸形状領域(11a’)を備え、
    前記深さ方向におけるへこみ(11)のへこみ深さは、前記容器深さより大きく、
    前記凸形状領域(11a’)は、切頭円錐形或いは切頭角錘形であり、
    前記平坦基部領域(12)から離れる深さ方向における凸形状領域(11a’)の頂部(11a’t)と凸形状領域(11a’)の基部(11a’b)との間の深さの差は、0.1−1mmであることにより、
    底部(5)は、前記深さ方向の反対方向に突出することが抑制されて、熱可塑性樹脂容器が大気温度まで冷却された後の底部(5)の平坦度が改善される、成形型。
  6. 前記底部(5)の凸形状領域(11a’)を取り囲む領域(11a”)は、前記基部(3)に平行に延びる、請求項5に記載の成形型。
  7. 熱可塑性樹脂容器は、ボールグリッド列電気部品を収容するようにされた、請求項5に記載の成形型。
  8. へこみ(11)の底(11a)は、前記凸形状領域(11a’)に隣接して前記凸形状領域(11a’)を取り囲む環状平坦領域(11a”)を備える、請求項5に記載の成形型。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6914771B2 (en) * 2002-05-29 2005-07-05 Hirokazu Ono Tray for electronic components
US7643274B2 (en) * 2006-04-21 2010-01-05 Tech Shell Inc. Protective cover for laptop computer
ITMC20080214A1 (it) * 2008-12-03 2010-06-04 Futura Stampi Srl Sistema di fabbricazione di plafoniere stampate in poliestere.
CN102059792A (zh) * 2010-08-27 2011-05-18 昆山裕达塑胶包装有限公司 具有微型真空眼的吸塑模具以及使用该模具的吸塑装置
CN104576465A (zh) * 2013-10-17 2015-04-29 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 芯片盛放装置
KR102222115B1 (ko) * 2014-08-26 2021-03-03 삼성에스디아이 주식회사 금형 장치 및 이에 의해 제조되는 배터리용 트레이

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5234104A (en) 1991-02-04 1993-08-10 Illinois Tool Works Inc. Carrier tape system
JP2933130B2 (ja) 1996-10-18 1999-08-09 信越ポリマー株式会社 キャリアテープおよびキャリアテープ成形用金型装置
JP3360551B2 (ja) 1996-11-08 2002-12-24 ソニー株式会社 角形チップ部品の搬送容器
JP3181843B2 (ja) 1996-11-18 2001-07-03 信越ポリマー株式会社 電子部品収納容器の製造方法
US5979660A (en) * 1997-06-05 1999-11-09 Advanced Micro Devices, Inc. Tube for flash miniature card
DE69827927T2 (de) * 1997-09-10 2006-03-02 Yayoi Corp. Verpackung für bandförmige Artikel, Verpackungsvorrichtung für Artikel und Verschlüsse

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