JP2002240140A - 熱可塑性樹脂容器を製造するための方法と成形型 - Google Patents

熱可塑性樹脂容器を製造するための方法と成形型

Info

Publication number
JP2002240140A
JP2002240140A JP2001361946A JP2001361946A JP2002240140A JP 2002240140 A JP2002240140 A JP 2002240140A JP 2001361946 A JP2001361946 A JP 2001361946A JP 2001361946 A JP2001361946 A JP 2001361946A JP 2002240140 A JP2002240140 A JP 2002240140A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mold
base
dent
distance
region
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001361946A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4197866B2 (ja
Inventor
Tung Teck Hong
テック ホン トン
Hideto Aoki
秀人 青木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Sumicarrier Singapore Pte Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Sumicarrier Singapore Pte Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd, Sumicarrier Singapore Pte Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Publication of JP2002240140A publication Critical patent/JP2002240140A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4197866B2 publication Critical patent/JP4197866B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/67333Trays for chips
    • H01L21/67336Trays for chips characterized by a material, a roughness, a coating or the like
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C51/00Shaping by thermoforming, i.e. shaping sheets or sheet like preforms after heating, e.g. shaping sheets in matched moulds or by deep-drawing; Apparatus therefor
    • B29C51/26Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • B29C51/30Moulds
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C2791/00Shaping characteristics in general
    • B29C2791/004Shaping under special conditions
    • B29C2791/006Using vacuum
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C2791/00Shaping characteristics in general
    • B29C2791/004Shaping under special conditions
    • B29C2791/007Using fluid under pressure
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C51/00Shaping by thermoforming, i.e. shaping sheets or sheet like preforms after heating, e.g. shaping sheets in matched moulds or by deep-drawing; Apparatus therefor
    • B29C51/10Forming by pressure difference, e.g. vacuum
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29LINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
    • B29L2031/00Other particular articles
    • B29L2031/34Electrical apparatus, e.g. sparking plugs or parts thereof
    • B29L2031/3406Components, e.g. resistors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29LINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
    • B29L2031/00Other particular articles
    • B29L2031/712Containers; Packaging elements or accessories, Packages
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/68313Auxiliary support including a cavity for storing a finished device, e.g. IC package, or a partly finished device, e.g. die, during manufacturing or mounting

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Packaging Frangible Articles (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Containers And Plastic Fillers For Packaging (AREA)
  • Packages (AREA)
  • Blow-Moulding Or Thermoforming Of Plastics Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 熱可塑性樹脂容器の底部の平坦度を改善す
る。 【解決手段】 熱可塑性樹脂シートの一部を加熱した
後、熱可塑性樹脂シートの一部を成形型のへこみ内に付
勢することにより、熱可塑性樹脂容器の空洞の側壁と底
部を形成する際に、成形型のへこみの底は、成形型上の
熱可塑性樹脂シートのその他の一部上に形成される容器
基部から離れる深さ方向において突き出る凸形状領域を
備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、特にICチップの
ような電子部品をそれぞれ収容する複数の空洞を備える
熱可塑性樹脂テープ状キャリアーとして使用可能な熱可
塑性樹脂容器を製造するための、方法及び成形型に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来技術においては、部品を収容するた
めの熱可塑性樹脂容器は、熱可塑性樹脂シートの一部を
成形型のへこみ内に空気圧で付勢することにより形成さ
れる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、熱可
塑性樹脂容器の空洞の底の平坦度を改善する、熱可塑性
樹脂容器を製造するための方法及び成形型を提供するこ
とである。
【0004】
【課題を解決するための手段とその作用】本発明によれ
ば、部品を収容する空洞を形成するよう、基部と、平坦
な基部から延びる側壁と、側壁の間で延びる底部であり
基部と底部との間に底部の厚さ方向における距離を有す
る底部とを有する熱可塑性樹脂容器を製造する方法は、
熱可塑性樹脂シートの一部を加熱した後、当該熱可塑性
樹脂シートの一部を成形型のへこみ内に付勢して、底部
と側壁とが前記距離を伴って形成される段階を有し、成
形型のへこみの底は、成形型上の熱可塑性樹脂シートの
その他の一部上に形成される前記基部から離れる深さ方
向において突き出る凸形状領域を備える。
【0005】本発明によれば、基部と、平坦な基部から
延びる側壁と、側壁の間で延びる底部であり基部と底部
との間に底部の厚さ方向における距離を有する底部とを
有する容器を、熱可塑性樹脂シートから製造するための
成形型は、へこみであり、熱可塑性樹脂シートの一部を
加熱した後、当該熱可塑性樹脂シートの一部を受け入れ
て、前記底部と側壁とを前記距離を備えてへこみ内に形
成して部品を収容する容器の空洞を形成するようにされ
たへこみと、前記へこみに隣接して前記へこみを取り囲
む平坦基部領域と、を有し、成形型のへこみの底は、前
記平坦基部領域から離れる深さ方向において突き出る凸
形状領域を備える。
【0006】成形型のへこみの底は、容器の空洞を取り
囲む熱可塑性樹脂シートのその他の一部上に形成される
前記基部から離れる深さ方向において突き出る凸形状領
域を備えるので、熱可塑性樹脂容器が大気温度まで冷却
された後の底部の平坦度は、熱可塑性樹脂シートが容器
を形成するよう変形された後の熱可塑性樹脂シートの熱
応力及び/又は変形にもかかわらず、改善される。
【0007】前記深さ方向におけるへこみの深さが、前
記距離より大きい時、熱可塑性樹脂容器が大気温度まで
冷却された後の底部の平坦度が改善されるよう、底部が
前記深さ方向の反対方向に突き出すことが抑制される。
前記凸形状は、ドーム形、切頭円錐形或いは切頭角錘形
であることが好適である。前記底部の主領域は、前記基
部にほぼ平行に延びても良い。平坦度を改善するために
は、前記平坦な基部から離れる深さ方向における凸形状
の頂部と凸形状の基部との間の深さの差は、0.1−1
mmであることが好適である。熱可塑性樹脂容器は、ボ
ールグリッド列電気部品を収容するようにされても良
い。
【0008】前記距離が、前記距離がへこみの深さと等
しくなった後に、へこみの深さより小さくなるよう減少
される時、及び/又は、前記距離が、前記底部がへこみ
の底に接触した後に、減少される時、平坦度は効果的に
改善される。へこみの底が、前記凸形状領域に隣接して
前記凸形状領域を取り囲む平坦領域を備える、及び/又
は、前記凸形状領域が、その頂部に、平坦領域を備える
時、平坦度は更に改善される。
【0009】
【発明の実施の形態】図1に示されるように、SOP(s
mall outline package)、SSOP(shrink small outli
ne package)、TSOP(thin small outline packag
e)、TSSOP(thin shrink small outline packag
e)、PLCC(plastic leaded chip carrier)、QFP
(quad flat package)、BGA(ball grid allay)等のよ
うな電気部品用キャリアーテープとして使用され、且つ
柔軟性樹脂で作られる容器1は、請求の範囲に記載され
る側壁と底部とを備える空洞(押出し加工された領域)
2と、請求の範囲に記載される基部としてのフランジ3
とを有している。空洞2は、一定の間隔でキャリアーテ
ープの長手方向に沿って整列され、それぞれ電気部品を
収容可能である。テープ状カバー(図示されず)が、フラ
ンジ3に接着され、空洞を覆って、電気部品は空洞から
取り外されることが防止され、更に、テープ送り穴4
が、フランジの少なくての一方の側に長手方向に沿って
配置される。空洞2は、成形型のへこみのそれぞれに熱
可塑性樹脂シートの一部を空気圧的に(真空引き厚いは
加圧空気による圧力差で)付勢することにより形成され
る。
【0010】成形型のへこみが、27mm×27mmの
面積と3mmの深さを有する時、へこみの底は、その中
央に、高さ0.3mmの切頭四角錐凸形窪みを、26m
m×26mmの頂部平坦領域を備えて有し、0.3mm
厚さのポリスチレンシートが、180℃まで加熱された
後、へこみ内に空気圧的に付勢され、空洞が形成され、
Koが空洞の中央におけるフランジ3の上面と空洞の中
央との間の空洞の深さ、Kcが空洞の周囲におけるフラ
ンジ3の上面と空洞の周囲との間の空洞の深さ、Poが
空洞の中央におけるシートの厚さ、Pcが空洞の周囲に
おけるシートの厚さの時、Ko=3.05mm、Kc=
3.10mm、Po=0.28mm、Pc=0.20m
mである。
【0011】そり W=(Kc+Pc)−(Ko+P
o)=−0.03mm なので、そりWは非常に小さい。
【0012】空洞がBGAパッケージを収容し、Zoが
空洞の中央における空洞内に収容されたBGAパッケー
ジの高さと空洞の深さとの差であり、Zcが空洞の周囲
における空洞内に収容されたBGAパッケージの高さと
空洞の深さとの差である時、Zo=0.45mmであ
り、Zcは0.05mm。
【0013】上記のように成形型のへこみに切頭四角錘
凸形状くぼみが含まれないなら、Ko=2.75mm、
Kc=3.10mm、Po=0.28mm、Pc=0.
20mmで、 そり W=(Kc+Pc)−(Ko+Po)=−0.0
3mm Zo=0.15mmであり、Zcは0.5mmである。
【0014】従って、Zoは著しく小さく、BGAパッ
ケージは容易に損傷され得る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の容器(部品キャリアーテープ)を示す
斜視図。
【図2】容器の側面図。
【図3】図1のIII−III面に沿った断面図。
【図4】ボールグリッド列電気部品のような電気部品を
収容する容器を示す断面図。
【図5】(a)は本発明のもう一つの容器(部品キャリ
アーテープ)を示す斜視図。(b)は図5aの容器の側
面図。(c)は図5aのVc−Vc面に沿った断面図。
【図6】(a)は本発明の成形型を示す斜視図。(b)
は図6aのVIb−VIb面に沿った断面図。
【符号の説明】
1 容器 2 空洞 3 フランジ 4 テープ送り穴
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B65D 85/86 B29L 7:00 // B29L 7:00 22:00 22:00 B65D 85/38 K (72)発明者 トン テック ホン シンガポール国、シンガポール、ナンバー 05−118、イーシュン アヴェニュー5、 ブロック 710 (72)発明者 青木 秀人 シンガポール国、シンガポール、グッド ラック ガーデン、ナンバー 09−05、ト ー タック ロード 36 Fターム(参考) 3E050 AA02 AB02 BA14 CC07 DA02 DA03 3E067 AA11 AB41 AC04 BA26A BB14A BC04A EA04 FA01 FC01 3E096 AA05 BA09 CA11 DA04 DB07 DC01 EA02X EA02Y FA30 GA03 GA05 4F202 AA13 AC03 AG01 AG07 AG25 AG27 AG28 AH81 CA17 CB02 CB29 CK11

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基部と、基部から延びる側壁と、側壁の
    間で延びる底部であり基部と底部との間に底部の厚さ方
    向における距離を有する底部とを有する熱可塑性樹脂容
    器を製造する方法であり、 熱可塑性樹脂シートの一部を加熱した後、当該熱可塑性
    樹脂シートの一部を成形型のへこみ内に付勢する段階を
    有し、 成形型のへこみの底は、成形型上の熱可塑性樹脂シート
    のその他の一部上に形成される前記基部から離れる深さ
    方向において突き出る凸形状領域を備える、方法。
  2. 【請求項2】 前記深さ方向におけるへこみの深さは、
    前記距離より大きい、請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 前記凸形状は、切頭円錐形或いは切頭角
    錘形である、請求項1に記載の方法。
  4. 【請求項4】 前記底部の主領域は、前記基部にほぼ平
    行に延びる、請求項1に記載の方法。
  5. 【請求項5】 前記基部から離れる深さ方向における凸
    形状の頂部と凸形状の基部との間の深さの差は、0.1
    −1mmである、請求項1に記載の方法。
  6. 【請求項6】 熱可塑性樹脂容器は、ボールグリッド列
    電気部品を収容するようにされた、請求項1に記載の方
    法。
  7. 【請求項7】 前記距離は、前記距離がへこみの深さと
    等しくなった後に、へこみの深さより小さくなるよう減
    少される、請求項1に記載の方法。
  8. 【請求項8】 前記距離は、前記底部がへこみの底に接
    触した後に、減少される、請求項1に記載の方法。
  9. 【請求項9】 へこみの底は、前記凸形状領域に隣接し
    て前記凸形状領域を取り囲む環状平坦領域を備える、請
    求項1に記載の方法。
  10. 【請求項10】 前記凸形状領域は、その頂部に、平坦
    領域を備える、請求項1に記載の方法。
  11. 【請求項11】 基部と、基部から延びる側壁と、側壁
    の間で延びる底部であり基部と底部との間に底部の厚さ
    方向における距離を有する底部とを有する容器を、熱可
    塑性樹脂シートから製造するための成形型にして、 へこみであり、熱可塑性樹脂シートの一部を加熱した
    後、当該熱可塑性樹脂シートの一部を収容して、前記底
    部と側壁とを前記距離を備えてへこみ内に形成するよう
    にされたへこみと、 前記へこみに隣接して前記へこみを取り囲む平坦基部領
    域と、を有し、 成形型のへこみの底は、前記平坦基部領域から離れる深
    さ方向において突き出る凸形状領域を備える、成形型。
  12. 【請求項12】 前記深さ方向におけるへこみの深さ
    は、前記距離より大きい、請求項11に記載の成形型。
  13. 【請求項13】 前記凸形状は、切頭円錐形或いは切頭
    角錘形である、請求項11に記載の成形型。
  14. 【請求項14】 前記底部の主領域は、前記基部にほぼ
    平行に延びる、請求項11に記載の成形型。
  15. 【請求項15】 前記平坦基部領域から離れる深さ方向
    における凸形状の頂部と凸形状の基部との間の深さの差
    は、0.1−1mmである、請求項11に記載の成形
    型。
  16. 【請求項16】 熱可塑性樹脂容器は、ボールグリッド
    列電気部品を収容するようにされた、請求項11に記載
    の成形型。
  17. 【請求項17】 成形型は、前記距離が、前記距離がへ
    こみの深さと等しくなった後に、へこみの深さより小さ
    くなるよう減少されることを許容する、請求項11に記
    載の成形型。
  18. 【請求項18】 成形型は、前記距離が、前記底部がへ
    こみの底に接触した後に、減少されることを許容する、
    請求項11に記載の成形型。
  19. 【請求項19】 へこみの底は、前記凸形状領域に隣接
    して前記凸形状領域を取り囲む環状平坦領域を備える、
    請求項11に記載の成形型。
  20. 【請求項20】 前記凸形状領域は、その頂部に、平坦
    領域を備える、請求項11に記載の成形型。
JP2001361946A 2000-12-07 2001-11-28 熱可塑性樹脂容器を製造するための方法と成形型 Expired - Fee Related JP4197866B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SG200007203-3A SG143929A1 (en) 2000-12-07 2000-12-07 Method and mold for producing thermoplastic resin container
SG200007203-3 2000-12-07

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002240140A true JP2002240140A (ja) 2002-08-28
JP4197866B2 JP4197866B2 (ja) 2008-12-17

Family

ID=20430701

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001361946A Expired - Fee Related JP4197866B2 (ja) 2000-12-07 2001-11-28 熱可塑性樹脂容器を製造するための方法と成形型

Country Status (9)

Country Link
US (1) US6835344B2 (ja)
EP (1) EP1213126B1 (ja)
JP (1) JP4197866B2 (ja)
KR (1) KR100772273B1 (ja)
CN (1) CN1278842C (ja)
DE (1) DE60137901D1 (ja)
MY (1) MY138943A (ja)
SG (1) SG143929A1 (ja)
TW (1) TW537961B (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6914771B2 (en) * 2002-05-29 2005-07-05 Hirokazu Ono Tray for electronic components
US7643274B2 (en) * 2006-04-21 2010-01-05 Tech Shell Inc. Protective cover for laptop computer
ITMC20080214A1 (it) * 2008-12-03 2010-06-04 Futura Stampi Srl Sistema di fabbricazione di plafoniere stampate in poliestere.
CN102059792A (zh) * 2010-08-27 2011-05-18 昆山裕达塑胶包装有限公司 具有微型真空眼的吸塑模具以及使用该模具的吸塑装置
CN104576465A (zh) * 2013-10-17 2015-04-29 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 芯片盛放装置
KR102222115B1 (ko) * 2014-08-26 2021-03-03 삼성에스디아이 주식회사 금형 장치 및 이에 의해 제조되는 배터리용 트레이

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5234104A (en) 1991-02-04 1993-08-10 Illinois Tool Works Inc. Carrier tape system
JP2933130B2 (ja) 1996-10-18 1999-08-09 信越ポリマー株式会社 キャリアテープおよびキャリアテープ成形用金型装置
JP3360551B2 (ja) 1996-11-08 2002-12-24 ソニー株式会社 角形チップ部品の搬送容器
JP3181843B2 (ja) 1996-11-18 2001-07-03 信越ポリマー株式会社 電子部品収納容器の製造方法
US5979660A (en) * 1997-06-05 1999-11-09 Advanced Micro Devices, Inc. Tube for flash miniature card
DE69827927T2 (de) * 1997-09-10 2006-03-02 Yayoi Corp. Verpackung für bandförmige Artikel, Verpackungsvorrichtung für Artikel und Verschlüsse

Also Published As

Publication number Publication date
JP4197866B2 (ja) 2008-12-17
MY138943A (en) 2009-08-28
CN1357443A (zh) 2002-07-10
US20020074695A1 (en) 2002-06-20
KR100772273B1 (ko) 2007-11-01
CN1278842C (zh) 2006-10-11
KR20020045546A (ko) 2002-06-19
SG143929A1 (en) 2008-07-29
EP1213126A3 (en) 2004-02-18
US6835344B2 (en) 2004-12-28
EP1213126A2 (en) 2002-06-12
EP1213126B1 (en) 2009-03-11
TW537961B (en) 2003-06-21
DE60137901D1 (de) 2009-04-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6624058B1 (en) Semiconductor device and method for producing the same
US20040126933A1 (en) Semiconductor assembly encapsulation mold
CN101300674A (zh) 用于半导体裸片的气腔封装以及形成气腔封装的方法
US7604469B2 (en) Degating device
JP2002240140A (ja) 熱可塑性樹脂容器を製造するための方法と成形型
US6021563A (en) Marking Bad printed circuit boards for semiconductor packages
US6688472B2 (en) Container for electric device
US5036381A (en) Multiple electronic devices within a single carrier structure
KR100304680B1 (ko) 반도체장치및그제조방법
KR100251863B1 (ko) 반도체패키지 제조용 쓰루게이트금형의 구조 및 이를 이용한 반도체패키지의 제조 방법
JPH10258445A (ja) 半導体装置の樹脂封止用金型
US20210391226A1 (en) Semiconductor device packages having cap with integrated electrical leads
JP6751652B2 (ja) 電子部品用キャリアテープの製造方法
KR200284111Y1 (ko) 서브스트레이트 및 이를 이용한 반도체팩키지 성형용 금형
JPH01244652A (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP2000158488A (ja) 金型クリーニング用のダミー・リードフレーム
KR980007939A (ko) 방열판이 부착된 bga패키지의 몰딩방법
JPH01268036A (ja) モールド金型
JP2000327025A (ja) キャリアテープ
KR20030088883A (ko) 서브스트레이트 및 이를 이용한 반도체팩키지 성형용 금형
CN116364562A (zh) 芯片封装方法及封装结构
KR20090085254A (ko) 반도체 패키지 몰딩시 금선의 오버랩 방지를 위한인쇄회로기판
JPH0237756A (ja) 放熱板付半導体装置
JPH04219959A (ja) 樹脂封止形半導体装置及びその製造方法
JPH11301774A (ja) キャリアテープ

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040824

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070611

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070703

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070928

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080401

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080528

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080926

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080930

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111010

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121010

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131010

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees