JP4189290B2 - グロー放電分析方法およびこれに用いるグロー放電分析装置 - Google Patents

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Description

この発明は、グロー放電分析方法に関するものである。
特開平11−326216号公報
グロー放電管の陽極の筒部と対向して試料を配置し、アルゴンガス流の減圧下で高周波電源からの高周波電圧を試料に印加してグロー放電を発光させるグロー放電分析装置では、試料表面が放電発光部シール用のOリングに当接した状態で、放電発光部が陽極の筒部と試料との間に形成されており、この放電発光部に試料表面のスパッタ予定の面(スパッタリング面)を臨ませながら、アルゴンイオンをその面に衝突させることにより試料表面がスパッタリングされ、スパッタされた粒子(原子、分子、イオン)はプラズマ中で励起され、基底状態に戻る際に元素固有の発光が行われ、この発光はグロー放電管に連接された分光器方向に導出され、試料の深さ方向の元素分析が行われる。そして、放電発光部がOリング径よりも小さく、シールされない程度の大きさの小片試料の分析を可能にするために、小片試料表面のスパッタリング面を露出させた状態で小片試料の残りの部分を導電製の樹脂で覆って樹脂体を形成し、スパッタリング面と面一に形成された樹脂面をOリングを介して試料保持部材に押しつけながら、前記スパッタリング面を放電発光部に臨ませるように構成したものが提案されている(前記特許文献1参照)。
しかし、高周波電圧の小片試料への印加により、小片試料を覆う樹脂は加熱され易く、加熱後は樹脂が冷めて固まるため、小片試料に熱履歴が残り、小片試料本来の組成から変化するおそれがある。また、小片試料は、これを覆う樹脂によって保持されているが、樹脂は前記加熱により溶けたり、炭化したりしてもろくなり、前記保持部材に対する押圧によって小片試料を保持できなくなるおそれがあるとともに、スパッタリング面を放電発光部に臨ませるのが難しく、また、前記保持部材および樹脂面間のOリングによるシールが悪くなってリークが発生し放電発光部の真空度が悪くなる。
この発明は、上述の事柄に留意してなされたもので、その目的は、放電発光部がシールされない程度の大きさの小片試料であっても加熱により溶けたり、炭化したり、組成変化したりすることのない状態で分析することが可能なグロー放電分析方法を提供することである。
上記目的を達成するために、この発明のグロー放電分析方法は、電圧印加電極を兼ねた試料押圧部材によって絶縁性の試料保持部材に形成の貫通孔の開放端及び該貫通孔内に挿通されたグロー放電管の陽極円筒部の大気開放側を封止するように、Oリングを介して試料を前記試料保持部材に押圧することにより、この試料のスパッタ予定の面を前記グロー放電管の陽極円筒部と試料との間の隙間に形成される放電発光部に臨ませて、この放電発光部において発生するグロー放電による放電発光を分析するグロー放電分析方法であって、前記放電発光部がシールされない程度の大きさの小片試料を、そのスパッタ予定面が露出される状態で、偏平円柱状の金属塊の一方面の中央部に埋設して前記Oリングの径よりも大きい外径の測定部材を形成するにあたり、ディスク状台座の小片試料載置面と測定部材の外径に相当する内径を有し、かつ、測定部材の高さよりも高い筒状枠体の内周面とで形成される筒状空間の中央の前記載置面上に小片試料を載置した状態で、前記筒状空間内にIn,Pb,Sn等の軟らかい金属の多数の粒を該空間を満たすまで充填し、かつ、この充填状態で前記筒状空間内の多数の金属粒を粒間に隙間が無くなるまで加圧することにより、前記小片試料が金属塊の一方面の中央部にそのスパッタ予定面と金属塊の一方面とが面一になるように該金属塊によって包み埋設されてなる測定部材を形成し、この測定部材に含まれる前記小片試料の前記スパッタ予定の面を前記放電発光部に臨ませて所定の分析を行なうことを特徴としている(請求項1)。
この発明のグロー放電分析方法では、試料のスパッタ予定の面を露出させた状態で、試料をIn,Pb等の軟らかい金属の多数の粒を加圧してなる金属塊中に埋設することによって、前記スパッタ予定の面を試料と陽極との間に形成される放電発光部に臨ませることができる。例えば、前記放電発光部がシールされない程度の大きさの小片試料のスパッタ予定の面に連なる金属面をOリングを介して保持部材に押しつけながら、小片試料のスパッタ予定の面を前記放電発光部に臨ませることができ、それによって、小片試料の分析が可能となる。また、従来のように導電性の樹脂ではなく、小片試料を、導電性に優れた金属で包むので、小片試料に熱がかかり難くなり、小片試料の組成変化のおそれがなくなる。更に、小片試料を包埋する前記金属は、加熱により溶けたり、炭化したりしてもろくなるおそれはないので、例えば、前記保持部材に対する押圧によって小片試料を保持できて、常時小片試料のスパッタ予定の面を前記放電発光部に臨ませることができ、また、前記保持部材および樹脂面間のOリングによるシールを良好にできる。すなわち、分析可能な減圧状態(真空度)まで前記放電発光部をシールすることができる。
以下、この発明の実施形態を、図を参照しながら説明する。なお、それによってこの発明は限定されるものではない。
図1〜図3は、この発明の一実施形態を示す。
図1、図2において、グロー放電分析装置では、グロー放電管1の陽極2と対向して試料3が配置されており、低圧下において試料表面に不活性ガスIGが供給され、試料3と陽極2との間の放電発光部4において発生するグロー放電による放電発光が分析される。試料3は、大気開放された陽極円筒部5側を封止するように設けられる。すなわち、この実施形態では、電圧印加電極を兼ねた試料押圧部材6によって、絶縁性の試料保持部材7に形成された貫通孔8の開放端を封止するように、Oリング9を介して試料3を前記保持部材7に押圧することで試料3のスパッタ予定の面を前記放電発光部4に臨ませることができる。前記放電発光部4は、陽極円筒部5と試料3との間の隙間に形成されている。前記押圧部材6は、図示していない高周波電源に接続されている。10は、金属材料よりなるランプボディ11に形成される不活性ガスIGの導入路で、ランプボディ11に形成される貫通孔12に連通している。不活性ガスIGとしては例えばアルゴンガスが用いられ、貫通孔12、陽極2の中央に設けた孔5aおよび陽極円筒部5内を介して前記放電発光部4を満たすように構成されている。そして、前記保持部材7および試料3間をOリングによりシールする形で試料3のスパッタ予定の面を前記放電発光部4に臨ませ、排気系統を動作させてランプボディ2内の空間を真空引きする。13,14は、ランプボディ11に形成される真空排気流路である。その後、不活性ガス導入路15から例えばアルゴンガスをランプボディ11内の空間に満たし、アルゴンガス流の減圧下で高周波電源からの13MHz程度の高周波電圧を押圧部材6を介して試料3に印加する。これにより、陽極2と試料3との間に予備放電が生じ、これに基づいてアルゴンイオンが生成し、このアルゴンイオンが高電界で加速され、試料3の表面(スパッタ予定の面)に衝突して、所定のスパッタリングが行われ、スパッタされた粒子(原子、分子、イオンはプラズマ中で励起され、基底状態に戻る際に元素固有の発光が放電発光部4において行われ、この発光は符号Lで示す光として、グロー放電管1に連接された分光器16方向に導出され、試料3の深さ方向の元素分析が行われる。
なお、放電発光部4において発光した光Lは、光学レンズ17によって入射スリット18で焦点を結ぶ。入射スリット18を通った光は回折格子19によって、波長に応じた回折を行い、元素特有のスペクトルに分けられたスペクトル光は出射スリット20、光電子増倍管(フォトマル)21を経て電気的に計測される。
図3は、放電発光部がシールされない程度の大きさの小片試料3に対してこの発明のグロー放電分析方法を適用し、それによって形成される測定部材22を示している。
この測定部材22は、例えばIn(インジウム)等の軟らかい金属よりなる偏平な円柱状の金属塊23と、この金属塊23中に含まれた、放電発光部4がシールされない程度の大きさの小片試料24とよりなる。この小片試料24は、小片試料24におけるスパッタ予定の面(試料面)Mを露出させた状態で、金属塊23の一方面Nの中央部に包まれている。なお、前記金属塊23の一方面Nとスパッタ予定の面(試料面)Mができるだけ面一になるよう形成するのが好ましい。一方、前記金属塊23の外径Rは、前記Oリング9の径よりも大に設定されている。そのため、Oリング9を介して金属塊23の一方面Nを前記保持部材7に押しつけながら、小片試料24のスパッタ予定の面(試料面)Mを放電発光部4に臨ませることができるとともに、分析可能な減圧状態まで放電発光部4をシールすることができる。
而して、前記測定部材22を得るために、測定部材22の外径Rに相当する内径を有し、測定部材22の高さよりも高い偏平な筒状枠体30と、この筒状枠体30が載置されるディスク状の台座31と、油圧機等の押圧機32と、例えばInの多数の粒33とが用いられる。Inは、軟らかい金属であるので、0.5〜3mm径の粒に成形できる。筒状枠体30と台座31は、真鍮等の金属で成形されている。
すなわち、図3(A)に示すように、下から順に台座31、筒状枠体30および押圧機32を配置し、台座31の上面中央に小片試料24が横置き状態で載置されるとともに、小片試料24を筒状枠体30の中央位置に収容するように上方から筒状枠体30を台座31の小片試料載置面L上に載置する。台座31の上方には押圧機32が位置している。続いて、図3(B)に示すように、筒状枠体30の内周面Kと台座31の前記載置面Lとで形成される高さJで径がNの筒状空間Sに、筒状枠体30の中央に小片試料24が横置きに位置する状態で、多数のInよりなる粒33をトレイ34から、筒状空間Sを満たす程度にまで充填する。図3(C)は、Inよりなる粒33が筒状空間Sに充填された状態を示す。続いて、図3(D)に示すように、粒33,33間に形成されている隙間が無くなるまで、押圧機32のビストン32aにより上方から筒状空間S内の多数のInよりなる粒33に圧力を加える。これにより、Inの金属塊23の一方面Nの中央部に小片試料24が包まれてなる測定部材22を得ることができる。続いて、筒状枠体30と台座31を取り外すと、測定部材22は筒状枠体30に固定されている。図3(E)は、筒状枠体30から取り出された測定部材22を示す。
なお、スパッタ予定の面(試料面)Mと金属塊23の一方面N間に形成される段差は、台座31の前記小片試料載置面Lの平滑度を予め考慮しておけば、分析に支障のないレベルまで小さくでき、面M,N同士をフラットにできる。
次に、この発明のグロー放電分析装置の特徴的構成について説明する。
図2において、40は、光電子増倍管(フォトマル)21からの出力信号を入力して試料3の深さ方向の元素分析の演算を行う演算部を有するコントローラである。41は、コントローラ40の演算結果に基づいて測定部材22の深さ方向の元素分析結果のデータ(図4参照)を表示する表示部である。測定部材22の小片試料3は例えば鉄鋼試料である。図4において、鉄元素(Fe)とともに酸素元素(O)が小片試料3の表面に出現するのは小片試料3が錆を有するからである。また、42は、プリンタ部である。更に、コントローラ40はこの発明では、測定部材22の金属塊23を構成する元素(In)の分析データを表示部41上で削除および/または着色するよう、あるいは、金属塊23を構成する元素(In)および小片試料24の元素(Fe,O等)分析データを表示部上で元素ごとに色を変えて表示するよう制御信号Aを出力する制御部を有している。
なお、この発明では、In以外に、Pb,Sn等の軟らかい金属を用いることもできる。
この発明の一実施形態で用いたグロー放電管を示す要部構成説明図である。 上記実施形態で用いた分光器を示す構成説明図である。 上記実施形態における測定部材の成形工程を、順を追って示す構成説明図である。 上記実施形態によって得られた測定部材の深さ方向の元素分析結果を示す図である。
符号の説明
1 グロー放電管
2 陽極
4 放電発光部
22 測定部材
23 金属塊
24 小片試料
30 筒状枠体
31 ディスク状の台座
33 金属の粒
M スパッタ予定の面
IG 不活性ガス
S 筒状空間

Claims (1)

  1. 電圧印加電極を兼ねた試料押圧部材によって絶縁性の試料保持部材に形成の貫通孔の開放端及び該貫通孔内に挿通されたグロー放電管の陽極円筒部の大気開放側を封止するように、Oリングを介して試料を前記試料保持部材に押圧することにより、この試料のスパッタ予定の面を前記グロー放電管の陽極円筒部と試料との間の隙間に形成される放電発光部に臨ませて、この放電発光部において発生するグロー放電による放電発光を分析するグロー放電分析方法であって、前記放電発光部がシールされない程度の大きさの小片試料を、そのスパッタ予定面が露出される状態で、偏平円柱状の金属塊の一方面の中央部に埋設して前記Oリングの径よりも大きい外径の測定部材を形成するにあたり、ディスク状台座の小片試料載置面と測定部材の外径に相当する内径を有し、かつ、測定部材の高さよりも高い筒状枠体の内周面とで形成される筒状空間の中央の前記載置面上に小片試料を載置した状態で、前記筒状空間内にIn,Pb,Sn等の軟らかい金属の多数の粒を該空間を満たすまで充填し、かつ、この充填状態で前記筒状空間内の多数の金属粒を粒間に隙間が無くなるまで加圧することにより、前記小片試料が金属塊の一方面の中央部にそのスパッタ予定面と金属塊の一方面とが面一になるように該金属塊によって包み埋設されてなる測定部材を形成し、この測定部材に含まれる前記小片試料の前記スパッタ予定の面を前記放電発光部に臨ませて所定の分析を行なうことを特徴とするグロー放電分析方法。
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