JP4171457B2 - 基板処理システム - Google Patents

Description

本発明は、薬液工程や洗浄工程、乾燥工程などのように流体を利用した基板処理工程などに用いる基板処理システムに関し、より詳しくは、基板処理のための環境を維持することは勿論のこと、簡単な流体供給構造で流体を供給することによって、流体供給効率を大幅に向上させることができる基板処理システムに関する。

一般に、平板状パネルディスプレイなどの基板は、所定の基板処理領域を有する基板処理システムの基板処理工程、例えば薬液工程や洗浄工程、乾燥工程などで、これらの工程に応じた流体が噴射されることによって、その表面の処理が行われる。

図９を参照して、典型的な従来の基板処理システムを説明する。従来の基板処理システムは、基板処理のための空間を提供するバス１００、バス１００の基板処理領域Ａ１に対応して基板Ｐを移送する基板移送装置１１０、バス１００の内部で流体を噴射することによって、基板移送区間に沿って移動する基板Ｐの表面の処理を行う流体噴射手段１２０を含んでいる。

バス１００は、基板処理に限定された空間を提供するためのものであって、例えば、図９に示すように、ボックス形状で製作されている。バス１００の内部には、図面のような姿勢で基板移送装置１１０及び流体噴射手段１２０が各々設置されている。

基板移送装置１１０は、基板Ｐを支持するとともに一方向に移動させるためにコンベヤーのような構造で製作されている。従来の基板処理システムでは、基板移送装置１１０は、基板処理領域Ａ１に位置する複数の基板移送用軸１３０、基板移送用軸１３０が基板Ｐを移送できるように基板移送用軸１３０を支持するフレーム１４０、基板移送用軸１３０に基板Ｐを移送するための回転動力を発生及び伝達する駆動装置１５０を含むように構成されている。

上記のように構成される基板移送装置１１０は、基板移送用軸１３０が基板処理領域Ａ１に対応する基板移送区間を有するように、バス１００の内部に設置されている。

フレーム１４０は、バス１００の内部で、図９に示すような姿勢で基板移送用軸１３０を回転可能に支持している。つまり、各基板移送用軸１３０は、基板Ｐを所望の方向に移送するために、フレーム１４０の上面に固定されているベアリングブロック１６０に、その両端部が回転可能に支持されている。

駆動装置１５０の駆動源１７０には、回転動力を発生させる電動モータを用いることができる。駆動装置１５０は、基板移送用軸１３０の一端部の領域に対応して位置するとともに、例えばウォームギヤなどで構成される動力伝達手段１８０によって、基板移送用軸１３０と連結されている。それにより、基板移送用軸１３０に基板Ｐを移送するための動力を伝達している。この時、駆動源１７０は、図９に示すようにバス１００の内部に設置されてもよいし、バス１００の外部から動力伝達ができるように、バス１００の外部に設置されてもよい。

流体噴射手段１２０は、バス１００の内部の基板処理領域Ａ１で、基板Ｐの移送区間に対応して、流体を利用して基板Ｐの表面処理ができるように設置されている。流体噴射手段１２０には、図９に示すように、流体供給ライン１９０が、バス１００の側壁を貫通し、基板処理領域Ａ１を経由して、連結されている。流体供給ライン１９０には、一連の基板Ｐの表面処理のための薬液や洗浄液、圧縮空気などの流体が供給される。流体供給ライン１９０に供給された流体は、流体噴射手段１２０から基板Ｐに噴射される。これにより、基板Ｐの表面が処理される。

バス１００には、基板Ｐの処理時に用いられる薬液や洗浄液などの処理液を含んだ蒸気をバス１００の外部に直接排出するために、図９に示すように、基板移送用軸１３０の上方、つまり基板処理領域Ａ１に、排気口２００が設けられている。

排気口２００を通じて前記流体の蒸気を除去することによって、流体供給ライン１９０がバス１００を貫通している貫通部分から前記流体の蒸気が漏れることによる基板処理領域Ａ１の密閉環境の低下や、バス１００の外部の周辺設備等の腐食及び作業環境の低下を防止することができる。さらに、駆動領域Ａ２側に流体の蒸気が流入するのを妨げて、駆動及び動力伝達系統の各種装置が腐食されるのを防止することができる。

特開平９−９７８２５号公報

しかしながら、このような従来の基板処理システムは、基板移送装置及び流体噴射手段が互いに独立した装置で構成されるとともに、単一の機能だけを果たす。そのため、装置間の互換性を期待するのが難しい。加えて、装置のモジュール化が不可能であるため、システム製作及び維持補修などに過剰な費用がかかるという問題点がある。

さらに、独立した構造の基板移送装置及び流体噴射手段を基板処理領域に設置するには、大きな空間を必要とするので、構造が複雑になるだけでなく、システムの小型化にも限界がある。

また、バス内部の基板処理領域と駆動領域とが分離されていないので、駆動装置の部品間の物理的摩擦や接触などにより発生する異物質や流体の蒸気が、吸引作用によって排気口から排出される時に、駆動領域から基板処理領域に誘導される。これにより、基板の処理環境が低下する。

本発明は、前記のような問題点を解決するために提案されたものであって、基板処理のためのクリーンな環境を維持でき、基板処理領域内での装置の占有空間を大幅に減少させ、かつ基板移送及び流体の供給効率を大幅に向上させる基板処理システムを提供することを目的とする。

前記目的を実現するために、本発明の基板処理システムは、基板処理のための領域及び駆動のための領域が提供される空間部を内部に有するバスと、前記駆動のための領域内に位置し、基板を移送するための回転動力を発生させる駆動装置と、前記基板処理のための領域内に位置し、前記駆動装置からの回転動力によって基板を移送する基板移送用軸と、前記バスの内部に位置し、前記基板移送用軸を、基板を移送するための姿勢に回転可能に支持するとともに、基板処理のための流体が供給される流体通路手段が内部領域を貫通するように設置された支持ブロックと、前記支持ブロックに連結され、前記支持ブロックと協働して前記基板処理のための領域と駆動のための領域とを物理的に分離するとともに遮断環境を維持するように設置されたカバー部材と、前記基板処理のための領域内で基板の移送区間に対応して位置し、且つ前記流体通路手段との間で流体が連通するように前記支持ブロックに連結され、前記流体通路手段を通じて供給された流体を基板に対応して洗浄、乾燥又は薬液処理が可能なように噴射する流体噴射手段と、前記基板処理のための領域又は駆動のための領域に存在する流体の蒸気又は浮游異物質を、吸引作用により前記バスの外部に排出する吸引装置と、を有する。

本発明による基板処理システムでは、基板処理のための流体の供給を、基板処理領域を占有したり経由したりせず、非基板処理領域、例えば基板移送用軸を支持する支持ブロックの内部に設けられたマニホールドなどの流体通路手段を通じて行う。したがって、流体の供給構造が簡単であり、流体の供給経路を大幅に短縮でき、システムの小型化は勿論、流体の供給効率も向上させることができる。

また、本発明による基板処理システムでは、バスの内部において、基板処理のための流体の供給及び噴射、基板の移送などを単一の装置によって行う。したがって、設備の能率は勿論、部品の単純化及び互換性、共有性なども向上させることができ、システム製作及び維持補修などにかかる時間及び費用などを大幅に節減することができる。

また、本発明による基板処理システムでは、基板を処理するバスの内部空間は、外部との密閉環境が維持されているとともに、この空間の基板処理のための領域及び基板移送のための駆動領域が物理的に遮断された環境に維持されている。これにより、これら領域に存在する流体の蒸気や浮游異物質などが相手側領域に流入するのを防止するだけでなく、環境維持手段の吸引作用によって容易に除去することができる。また、基板処理のための環境維持が容易になるのは勿論、良質の基板処理品質を得ることができるとともに、腐食などによりシステムの耐久性が低下するのを根本的に防止することができる。

以下、添付した図面を参照して、本発明の好ましい実施例をより詳細に説明する。

《実施例》
図１乃至図３に示しているように、本発明の実施例の基板処理システムは、基板処理のための領域Ａ１及び駆動のための領域Ａ２が提供される空間部を有するバス２；このバス２の内部で基板処理領域Ａ１に位置し、回転動力によって基板を移送するための基板移送用軸４；基板移送用軸４を基板移送のための姿勢に支持するとともに、基板処理のための流体が供給される流体通路手段を有する支持ブロック６；バス２の基板処理のための領域Ａ１で基板移送区間に対応して位置し、前記流体通路手段を通じて流体の供給を受けて基板Ｐに流体を噴射し、基板Ｐを処理する流体噴射手段８；バス２内部で駆動領域Ａ２に位置し、基板移送用軸４に基板Ｐを移送するための動力を発生及び伝達する駆動装置１０を含んでいる。

本実施例では、一連の基板表面処理工程の中の洗浄工程に用いられる処理システムの構造の一例を図面に示している。

バス２は、基板Ｐ処理のための空間部、つまり基板処理のための領域Ａ１及び駆動のための領域Ａ２を限定するとともに、その内部の密閉環境が維持されるように、図１に示すようなボックス形状で製作することができる。バス２は、図面には示さなかったが、クリーンルームなどの作業場において、例えば薬液工程や乾燥工程などの一連の基板処理工程と連係して、基板Ｐの表面を円滑に洗浄処理できるように設置されている。

バス２の底面は、図面には示さなかったが、後に詳述する流体噴射手段８から基板Ｐの洗浄のために噴射された流体を排出できるように構成されている。
基板移送用軸４は、後に詳述する駆動装置１０から回転動力を受けて基板Ｐを一定の区間移動させることができるように、バス２の内部に、図１に示すような姿勢で設置されている。さらに、基板移送用軸４は、図４に示すように、基板処理領域Ａ１に対応する所定の基板Ｐの移送区間を有するように、後に詳述する支持ブロック６に複数本が離隔されて設置されている。

基板移送用軸４の材質には、耐久性及び耐化学性などが優れた金属または合成樹脂を用いることができる。各基板移送用軸４は、図１に示すように、基板Ｐの下面側を物理的に支持するとともに、基板Ｐを回転によって円滑に移動させることができるように、図面のように複数の環形状のガイド具１２が備えられた通常の構造からなる。

支持ブロック６は、図１に示すように２つ１組で構成され、バス２の内部で、基板移送用軸４の両端部に対応して位置し、基板移送用軸４を基板Ｐの移送のための姿勢に支持する構造である。この時、基板移送用軸４は、支持ブロック６に設置されたベアリングＢまたはブッシュなどに嵌合されて回転可能に固定されている。

支持ブロック６はそれぞれ、所定の厚さを有するとともに、バス２の内部で、基板Ｐの移送区間に対応する長さを有し、単一形状で製作されている。支持ブロック６は、バス２の内部で基板処理領域Ａ１及び基板移送用軸４を駆動するための領域Ａ２を、図１に示すように分割かつ遮断する姿勢で、バス２の底面に堅固に固定されている。

支持ブロック６によって、図１に示すように、基板処理領域Ａ１を隔てて形成される２つの駆動領域Ａ２は、基板処理領域Ａ１との密閉環境が維持されるように構成されている。本実施例では、図１及び図５に示すように、２つの支持ブロック６と、２つの支持ブロック６に対応するバス２の側壁とを各々連結するカバー１４を設置している。このカバー１４によって、バス２の内部で基板移送用軸４の両端部の領域に形成される駆動領域Ａ２と基板処理領域Ａ１とが、遮断された環境を維持できるようにしている。

支持ブロック６は、後に詳述する流体噴射手段８に流体を供給するための流体通路手段を備える。本実施例では、図２に示すように、流体が供給される通路Ｈが形成されたマニホールド１６を、一方の支持ブロック６の上部から下部を貫通するように設置している。

マニホールド１６の上部には、支持ブロック６に固定するためのマウンティング部１８が図面のような形状に形成されている。マニホールド１６の内部の流体通路Ｈは、後に詳述する流体噴射手段８に十分に流体を供給することができるような大きさに形成されている。

マニホールド１６を支持ブロック６に設置する時には、図２に示すように、支持ブロック６に形成された固定溝２０及び貫通ホール２２に、図３に示すように、マニホールド１６を嵌合する。この時、マニホールド１６の上部のマウンティング部１８は、ボルトのような締結部材で堅固に固定する。マニホールド１６の下部は、ナットのような締結部材で螺着する。このようにして、マニホールド１６が支持ブロック６に、図４に示すような姿勢で設置される。

支持ブロック６に固定されたマニホールド１６の下部には、図４に示すように流体供給ライン２４が連結されている。流体供給ライン２４は、図面には示さなかったが、バス２の外部の流体保存部と連結されて、流体が供給されるように構成されている。

マニホールド１６は、支持ブロック６によって基板の移送区間に対応して離隔されて設置されている複数の流体噴射手段８に、流体を円滑に供給できるように設置されている。本実施例では、図４に示すように、一つの流体噴射手段８に一つのマニホールド１６を各々連結することで、流体の供給を可能にしている。

尚、マニホールド１６は、図４に示すように、支持ブロック６に固定される基板移送用軸４を支持するための領域と重ならないように設置されなければならない。
支持ブロック６及びマニホールド１６の材質としては、耐久性及び耐化学性などが優れた金属や合成樹脂を用いることができる。

一方、流体噴射手段８は、支持ブロック６の流体通路手段、つまりマニホールド１６から基板Ｐの洗浄のための流体、つまり洗浄液の供給を受けて、所定の処理区間に沿って移動する基板Ｐの表面を洗浄するためのものである。本実施例では、図１に示すように、２つの支持ブロック６に対応する２つの固定ブロック２６の間に、流体を供給するための供給管２８を設置している。また、供給管２８には、洗浄液を噴射するためのノズル３０を備えている。また、固定ブロック２６を、マニホールド１６に対応して、流体噴射手段８に流体の供給が可能な姿勢で、支持ブロック６の上部に固定しているが、本発明はこれに限定されない。

固定ブロック２６が支持ブロック６に設置される時には、図４に示すように、一方の支持ブロック６に設置されたマニホールド１６との接合部に、密閉環境が維持できるようにゴム環やパッドなどのようなシール部材３２が設置されてもよい。

前記では、流体噴射手段８が、バス２の内部で、基板移送用軸４によって所定の移送区間に沿って移動する基板Ｐの上面に対応する姿勢で設置されて、基板Ｐの上面を洗浄することを一例に挙げて説明及び図示したが、本発明はこれに限定されるものではない。

例えば、図示していないが、基板Ｐの上面は勿論、下面の洗浄も可能になるように、複数の流体噴射手段８を、基板Ｐを隔てて基板Ｐの上部側及び下部側に対応して互いに対向するように、支持ブロック６に固定してもよい。これにより、前記流体通路手段から流体の供給を受けるとともに、供給された流体を噴射して、基板Ｐの両面を同時に洗浄することができる。この場合、流体通路手段は、マニホールド１６と同一または類似した構造とし、１つまたは２つの支持ブロック６に設置されて、基板Ｐの上部側及び下部側の流体噴射手段８に、円滑に流体が供給できるように設置する。

本発明の基板処理システムは、非基板処理領域（本実施例では、支持ブロック６の内部に設けられるマニホールド１６）を通じて、流体噴射手段８に流体を供給する構造であるので、バス２の内部の基板処理領域Ａ１を容易に密閉環境に維持することができる。

駆動装置１０は、基板Ｐの移送のための動力を発生させる駆動源３４、及び駆動源３４の動力を基板移送用軸４に伝達する動力伝達部材３６を含んでいる。本実施例では、駆動装置１０を、図１に示すように、バス２の内部で基板移送用軸４の一端部に対応する駆動領域Ａ２に位置することを一例に挙げて示している。

駆動源３４には、回転動力を発生させる電動モータを用いることができる。駆動源３４は、駆動領域Ａ２において、図１に示すように、例えばウォームギヤのような動力伝達部材３６で基板移送用軸４の一端部に動力伝達が可能なように連結されている。図１では、駆動源３４が駆動領域Ａ２の内部に位置することを一例に挙げて示しているが、バス２の外部から基板移送用軸４に動力伝達ができるように、バス２の外部に設置してもよい。

本実施例では、支持ブロック６及びカバー１４によって、駆動装置１０が設置される駆動領域Ａ２と基板処理領域Ａ１との遮断環境が維持されているので、基板処理時に基板処理領域Ａ１に存在する流体の蒸気が駆動領域Ａ２の内部に入り込んで駆動装置１０を腐食するのを防止することができる。さらに、駆動装置１０の動力発生及び伝達のための物理的な作動時に発生した異物質が、基板処理領域Ａ１内に入るのを防止することができる。

前記では、バス２の内部の基板処理領域Ａ１及び駆動領域Ａ２が、支持ブロック６及びカバー１４によって物理的に遮断されて、基板処理のためのバス２の内部のお互いの環境が維持されていることを一例に挙げて説明及び図示したが、本発明はこれに限定されるものではない。

例えば、基板処理領域Ａ１で発生した薬液や洗浄液などの流体の蒸気や駆動領域Ａ２で発生した異物質を、吸引作用によって除去することにより、基板処理のために最適な環境を維持できるように構成してもよい。図６は、２つの駆動領域Ａ２に対応して設置された環境維持手段Ｄによって、２つの駆動領域Ａ２に発生した異物質を除去し、環境を維持できるように構成した一例を示している。

環境維持手段Ｄは、円滑な吸引作用のために、図６に示すようにパイプやダクト構造等からなる排気管３８を有している。排気管３８は、バス２の外部から一方の駆動領域Ａ２を貫通するように設置されるとともに、２つの駆動領域Ａ２を互いに連通するように連結されている。また、２つの駆動領域Ａ２を連結する排気管３８は、図７に示すように、支持ブロック６で基板Ｐの移送区間に対応して、複数本離隔され設置されている。排気管３８は、図６に示すように、バス２の外側で吸引装置４０と連結されている。吸引装置４０の吸引作用により、駆動領域Ａ２に発生した異物質は、バス２の外部へ排出される。

吸引装置４０は、吸引作用のために、例えば送風ファンなどが設置された構造または周知の吸引構造からなる。吸引装置４０は、前記のように連結された排気管３８を通じて、２つの駆動領域Ａ２に存在する空気を、バス２の外部に排出できるように設置されている。吸引装置４０の吸引作用によって、バス２の外部に排出される空気中には、駆動領域Ａ２の内部で発生した浮游異物質も含まれる。つまり、吸引作用によって、駆動領域Ａ２の異物質は、容易に除去される。

前記では、環境維持手段Ｄがバス２の駆動領域Ａ２に対応して設置されたことを一例に挙げて説明及び図示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、バス２の基板処理領域Ａ１に対応して設置されてもよい。

この場合、図８に示すように、環境維持手段Ｄは、排気管３８をバス２の内部の基板処理領域Ａ１に対応して設置するとともに、バス２の外部で、吸引装置４０と連結する。

この時、排気管３８は、基板処理領域Ａ１に対応してバス２の側壁を貫通する姿勢に設置され、駆動領域Ａ２を経由して、図面には示さなかったが、駆動領域Ａ２の内部の異物質も共に吸引して排出することができるように設置する。

もし、排気管３８が基板処理領域Ａ１だけに対応して吸引区間を形成し、吸引作用を行うように設置されたとすると、吸引作用時に、駆動領域Ａ２の異物質が、例えば支持ブロック６とカバー１４との隙間などを通じて基板処理領域Ａ１に流入して、基板処理領域Ａ１の環境が低下する可能性がある。

したがって、上記のように構成された吸引装置４０が動作した時、基板処理領域Ａ１に存在する流体の蒸気は、空気中に含まれて、排気管３８に沿ってバス２の外部に排出される。このような吸引作用によって、基板処理領域Ａ１の流体の蒸気が除去され、基板処理領域Ａ１の環境は維持される。

次に、前記構造からなる本発明による基板処理システムの好ましい動作を、添付した図面を参照して、より詳細に説明する。

まず、基板Ｐがバス２の内部の基板移送用軸４上に配置される。基板Ｐは、基板移送用軸４によってローディングされて、図１に示すように、基板処理区間に対応する位置に移動する。

この時、洗浄のための流体、つまり洗浄液が、図１のように基板Ｐの移送区間に対応して基板移送用軸４を支持している支持ブロック６の少なくとも一つの流体通路手段（マニホールド１６）を通じて流体噴射手段８の供給管２８に供給される。

供給管２８に供給された流体は、供給管２８のノズル３０を通じて、基板処理領域Ａ１で基板処理区間に沿って移動する基板Ｐに噴射される。これにより、基板Ｐが洗浄処理される。尚、このように洗浄処理される基板Ｐは、前処理工程、例えば薬液工程等で薬液処理されている。

本実施例によれば、流体噴射手段８に流体を供給するためのマニホールド１６は、バス２の内部の基板処理領域Ａ１を占有したり経由したりせずに、基板移送用軸４を支持する支持ブロック６の内部領域に設置されている。したがって、マニホールド１６の構造が簡単であり、流体の供給経路を大幅に短縮でき、流体の供給効率を向上させることができる。

本実施例によれば、基板処理領域Ａ１は、外部と遮断され、密閉環境を維持できるのは勿論、駆動領域Ａ２とも、支持ブロック６及びカバー１４によって互いに遮断されている。したがって、基板処理領域Ａ１に発生した流体の蒸気がバス２の外部または駆動領域Ａ２へ流出して、クリーンルームなどの作業場の環境を低下させたり、駆動系統の装置が腐食するのを防止することができる。

本実施例によれば、基板処理領域Ａ１及び駆動領域Ａ２に発生した流体の蒸気及び異物質は、環境維持手段Ｄの吸引作用によって、図６及び図８に示すように、バス２の外部に強制的に排出される。これにより、容易に基板処理領域Ａ１、駆動領域Ａ２及び作業場の環境を最適な状態に維持することができる。

さらに、本実施例によれば、環境維持手段Ｄによって、基板処理領域Ａ１及び駆動領域Ａ２を物理的に遮断する支持ブロック６やカバー１４とバス２との接触部の隙間などを通じて、基板処理領域Ａ１の流体の蒸気や駆動領域Ａ２の異物質が相手側領域に流入するのを根本的に防止することができる。

前記では、基板Ｐの洗浄処理のための処理システムを一例に挙げて説明及び図示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、図面には示さなかったが、流体を利用した薬液工程や乾燥工程のような基板Ｐの処理工程においても使用できるように、これらの工程に要求される流体を供給するとともに、バス２の内部の環境を維持するように変更してもよい。

前記では、本発明による基板処理システムの好ましい実施例について説明したが、本発明はこれに限定されず、特許請求の範囲及び発明を実施するための形態及び添付した図面の範囲内で多様に変形して実施することができ、これも本発明の範囲に属する。

本発明は、流体を利用した基板処理工程などに用いる基板処理システムに有用である。

本発明の実施例による基板処理システムの内部構造を示す断面図 本発明の実施例による基板処理システムの支持ブロック及び流体通路手段の構造を説明するための分解斜視図 図２の流体通路手段及び流体噴射手段が流体を供給できるように設置される構造を説明するための分解斜視図 本発明の実施例による基板処理システムの支持ブロックに基板の移送区間に対応して設置される、流体噴射手段及び流体通路手段の構造を説明するための部分拡大正面図 図１のバスの内部に形成される駆動領域の密閉構造を説明するための部分拡大斜視図 本発明の実施例による基板処理システムのバス内部の環境を維持する環境維持手段の構造を説明するための断面図 図６において、２つの支持ブロックを連結する排気管が基板の移送区間に対応して設置される構造を説明するための部分拡大正面図 図６の環境維持手段の他の実施例説明するための断面図 従来の基板処理システムの一般的な構造を示す断面図

符号の説明

２ バス
４ 基板移送用軸
６ 支持ブロック
８ 流体噴射手段
１０ 駆動装置
１２ ガイド具
１４ カバー
１６ マニホールド
１８ マウンティング部
２０ 固定溝
２２ 貫通ホール
２４ 流体供給ライン
２６ 固定ブロック
２８ 供給管
３０ ノズル
３２ シール部材
３４ 駆動源
３６ 動力伝達部材
３８ 排気管
４０ 吸引装置
１００ バス
１１０ 基板移送装置
１２０ 流体噴射手段
１３０ 基板移送用軸
１４０ フレーム
１５０ 駆動装置
１６０ ベアリングブロック
１７０ 駆動源
１８０ 動力伝達要素
１９０ 流体供給ライン
２００ 排気口

Claims (5)

1. 基板処理のための領域及び駆動のための領域が提供される空間部を内部に有するバスと、
   前記駆動のための領域内に位置し、基板を移送するための回転動力を発生させる駆動装置と、
   前記基板処理のための領域内に位置し、前記駆動装置からの回転動力によって基板を移送する基板移送用軸と、
   前記バスの内部に位置し、前記基板移送用軸を、基板を移送するための姿勢に回転可能に支持するとともに、基板処理のための流体が供給される流体通路手段が内部領域を貫通するように設置された支持ブロックと、
   前記支持ブロックに連結され、前記支持ブロックと協働して前記基板処理のための領域と駆動のための領域とを物理的に分離するとともに遮断環境を維持するように設置されたカバー部材と、
   前記基板処理のための領域内で基板の移送区間に対応して位置し、且つ前記流体通路手段との間で流体が連通するように前記支持ブロックに連結され、前記流体通路手段を通じて供給された流体を基板に対応して洗浄、乾燥又は薬液処理が可能なように噴射する流体噴射手段と、
   前記基板処理のための領域又は駆動のための領域に存在する流体の蒸気又は浮游異物質を、吸引作用により前記バスの外部に排出する吸引装置と、
   を有することを特徴とする基板処理システム。
2. 前記支持ブロックは、２つ１組で構成される前記基板移送用軸を、基板移送区間に対応する姿勢に支持するとともに、２つの駆動のための領域と、前記２つの駆動のための領域の間に介在する前記基板処理のための領域とを、前記カバー部材と協働して分離するとともに遮断環境を維持するように設置されることを特徴とする請求項１に記載の基板処理システム。
3. 前記流体噴射手段は、前記支持ブロック上に、基板移送区間に対応して基板処理が可能なように設置され、非基板処理領域である前記流体通路手段を通じて流体の供給を受けて、流体を基板に噴射するものであることを特徴とする請求項１に記載の基板処理システム。
4. 前記流体通路手段は、流体が通ることができる管形状で構成されることを特徴とする請求項１に記載の基板処理システム。
5. 前記吸引作用のための吸引区間は、前記駆動のための領域を経由して、前記駆動のための領域においても吸引作用が行われるように設定されることを特徴とする請求項１に記載の基板処理システム。

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