CN100352565C - 面板处理系统 - Google Patents

Abstract

一种面板处理系统，包括：驱动单元；浴室，该浴室形成有面板处理区域和驱动区域；面板输送轴，该输送轴位于面板处理区域中，用来通过接收来自驱动单元的旋转力输送面板；一个或多个支撑部件，用于支撑面板输送轴并且提供用于处理该面板的流体；以及，流体喷射单元，该单元对应于在面板处理区域中的面板输送部分设置，用来通过流体通道单元向面板喷射流体。

Description

面板处理系统

技术领域

本发明涉及一种面板处理系统，该系统能够通过洗涤剂涂敷、清洗和干燥过程，使用液体来处理面板，尤其涉及一种能够通过改进流体供应结构来改善流体供应效率并且能够保持良好处理环境的面板处理系统。

背景技术

一般来说，为了处理平板显示器等的面板，首先将面板传送到具有预定面板处理区域的面板处理系统。在面板通过该系统的面板处理区域时，喷射出例如清洁剂和干燥剂的流体来处理该面板。

图9显示出一种传统的面板处理系统。

如该图所示，传统的面板处理系统包括一浴室100和一流体喷射单元120，浴室100在该浴室100的面板处理区域A1处提供用于处理面板P的空间，流体喷射单元120用于通过喷射流体，处理沿着浴室100中的面板输送部分运动的面板P的表面。

浴室100可以由例如一封闭箱所形成，以提供用于处理面板P的有限空间。面板输送单元110和流体喷射单元120如在该图中所示一样安装在浴室100中。

面板输送单元110构成为一个输送装置，该输送装置在支撑该面板P的同时能够使该面板P沿着一方向运动。也就是说，面板输送单元110包括多个位于面板处理区域A1处的面板输送轴130、用于支撑面板输送轴130从而使得这些面板输送轴能够输送面板P的框架140、以及用于向面板输送轴130施加转动能量的驱动单元150。

该框架140被设置成将面板输送轴130可转动地支撑在浴室100中。也就是说，每个面板输送轴130具有通过轴承座160固定在框架140的顶部上的相对端部，从而能够沿所需方向输送该面板P。

可以采用电动机作为驱动单元150的驱动源170。该驱动单元150对应于面板输送轴130的一个端部区域设置，并且通过例如涡轮的传动单元180与面板输送轴130连接，从而将动力传递给面板输送轴130。在这方面，如在该图中所示一样，驱动源170可以安装在浴室100中。或者，它可以安装在浴室100外面并且具有能够传递动能的结构。

设置流体喷射单元120，从而使它可以在浴室100的面板处理区域A1中的面板输送部分处，使用流体来处理面板P的表面。如在该图中所示一样，与流体喷射单元120连接的流体喷射管道190穿过浴室100的侧壁。

该浴室100设在位于输送轴130上方的面板处理区域处，并且具有一排气孔200，通过它将包含有用于处理面板P的清洁剂或处理剂的蒸汽从浴室100中直接排出。

通过利用排气孔200，从浴室100中的面板处理区域A1中将蒸汽排出，从而可以防止由流体供应管道从外面延伸到面板处理区域A1所经过的孔所泄漏的蒸汽而引起的外部设备的腐蚀，进一步的，可以防止液体蒸汽被引入到驱动区域中，从而防止驱动单元和传动单元受到腐蚀。

但是，在传统的面板处理系统中，面板输送单元和流体喷射单元分别单独形成，每个执行单一的功能。因此，难以在这些单元之间得到期望的相容性。另外，由于这些单元的形成没有采用模块形式，因此，制造和维护该系统的费用昂贵。

另外，为了安装这些单独的单元，需要相对较大的空间，从而使得难以减小该系统并且使系统的结构复杂化。

由于面板处理区域和驱动区域在浴室中不是隔离的，所以，在通过吸气操作使流体蒸汽穿过排气孔排出时，由在驱动单元的零部件之间的物理摩擦或接触产生出的外来物质会被引导进面板处理区域中，由此降低了该面板的处理质量。

发明内容

因此，提供本发明以解决上述问题。

本发明的一个目的在于提供一种面板处理系统，该系统能够保持处理环境清洁，降低这些单元的占用空间并且改善面板输送和流体供应的效率。

为了实现如上目的，本发明提供了一种面板处理系统，包括：驱动单元；浴室，该浴室限定一面板处理区域和一驱动区域；面板输送轴，该输送轴设置在所述面板处理区域中以便通过接收来自所述驱动单元的旋转力来输送面板；一个或多个支撑部件，用于支撑所述面板输送轴，并且提供用于处理该面板的流体；以及流体喷射单元，该喷射单元对应于在面板处理区域中的面板输送部分设置，以便通过流体通道单元向所述面板喷射流体，其中，所述流体通道单元设计为提供一个形成在所述支撑块中的流体通道，所述流体通过该流体通道提供给所述流体喷射单元。

支撑块的数量可以为两个，并且驱动区域可以分成为两个部分，其中，支撑块设置在面板处理区域和驱动区域的两个部分之间。

流体喷射单元可以设置在支撑块上，用来通过接收来自流体通道单元的流体，经过在浴室中的非面板处理区域将流体喷射在面板上。

该流体通道单元可以由流体从中流经的管子形成。

面板处理区域和驱动区域可以采用支撑块上的密封件和盖子部件相互分开。

该面板处理系统还可以进一步包括用于保持浴室的环境的环境保持单元，该环境保持单元设计成通过抽吸操作消除在面板处理区域和驱动区域中所产生出的悬浮外来物质。

用于进行抽吸操作的抽吸区域可以延伸至驱动区域。

附图说明

以下这些附图显示出本发明的实施方案，用来帮助进一步理解本发明并且结合构成本申请的一部分，并且，这些附图与说明书一起用来说明本发明的原理。在这些附图中：

图1为剖视图，显示出根据本发明一实施例的面板处理系统的内部结构；

图2为根据本发明一实施例的面板处理系统的分解剖视图，显示出支撑块和流体通道单元；

图3为根据本发明一实施例的面板处理系统的分解透视图，其中，在图2中所示的流体喷射单元和通道单元安装成能够供应流体；

图4为根据本发明一实施例的面板处理系统的局部放大前视图，显示出一种结构，在该结构中，流体喷射单元和通道单元对应于面板输送部分安装在支撑块上；

图5为一局部放大透视图，显示出形成在图1所示的浴室中的驱动区域的密封结构；

图6为一剖视图，显示出在图1中所示的浴室的内部环境保持单元；

图7为一局部放大前视图，显示出对应于面板输送部分所安装的排气管，该排气管将在图6中所示的两个支撑块相互连接；

图8为根据本发明另一个实施例的环境保持单元的剖视图；

图9为传统面板处理系统的剖视图。

具体实施方式

下面将根据附图，对本发明的优选实施方案进行详细描述。在可能的任何地方，将在这些附图申使用相同的附图标记来表示相同或相似的部件。

参照图1至3，本发明的面板处理系统包括：具有面板处理区域A1和驱动区域A2的浴室2；位于面板处理区域A1中用来输送面板P的多个面板输送轴4；用于支撑面板输送轴4的支撑块6，这些支撑块6设有流体通道单元；流体喷射单元8，该单元对应于面板输送部分设在面板处理区域A1中，用来通过经流体喷射单元提供液体并且将该液体喷射在面板P上来处理面板P；以及，驱动单元10，用于产生出驱动力并且将该驱动力传递给面板输送轴4，该驱动单元10设在浴室2的驱动区域A2中。在该实施方案中，如图所示为用于清洁过程的处理系统，其中，清洁过程为一系列面板处理过程之中的一个过程。

该浴室2可以形成为限定有面板处理区域A1和驱动区域A2的封闭箱形状。安装浴室2，使得可以在例如在除尘室系统中有效地实现例如处理剂涂敷过程或干燥过程的一系列面板处理过程。

浴室2的底部设计成用做排出用于处理面板P的流体。

如图1所示，面板输送轴4安装在浴室2中，使得这些输送轴可以通过接收来自驱动单元10的旋转力来以预定的间距输送面板P。另外，如图4所示，各个输送轴4彼此间隔开，以便提供与面板处理区域A1对应的面板输送部分。

面板输送轴4可以由耐久性和耐化学性良好的金属或合成树脂形成。如图1所示，每个面板输送轴4在其圆周处设有多个用来有效支撑和输送面板P的导环12。

再次参照图1，支撑块6设置成支撑着每根输送轴4的相对端部，从而使得输送轴4能够输送面板P。在这一点上，面板输送轴4插入例如轴承B或衬套中，以便能够转动。

每个支撑块6具有预定的厚度和与在浴室2中的面板P的输送部分对应的长度，从而遮住浴室2中的面板处理区域A1和驱动区域A2，并且固定安装在浴室2的底部上。

如图1所示，通过这些支撑块6，驱动区域A2形成为两个部分，并且面板处理区域A1在其间插入有一密封结构。如图1和5所示，在该实施例中，安装有用来使支撑块6与对应于面板处理区域A1的浴室2的侧壁连接的盖子。

支撑块6设有流体供应通道单元。在该实施例中，如图2所示，可以安装有穿过支撑块6的上下部分的歧管16。

该歧管16设有用来装配在支撑块6上的安装部分18。通道H的尺寸设定为将流体充分提供给流体喷射单元8。

如图2所示，为了将歧管16设置在支撑块6上，如图3所示，首先将歧管16装配在装配浴室20和通孔22中。在该状态中，安装部分18由螺栓和连接件固定装配，并且歧管16的下部与例如螺母的紧固件螺纹连接，以如图4所示一样固定在支撑块6上。

流体供应管道24如图4所示与支撑在支撑块6上的歧管16的下部连接，并且，流体供应管道24与设置在浴室2的外侧上的流体存储部分连接，以供应该流体。

安装歧管16，以便能够将流体有效地提供给设置成彼此间隔开的流体喷射单元8。在该实施例中，虽然多个流体喷射单元设计成由单个歧管16提供流体，但是本发明并不限于此。

在这一点上，如图4所示，歧管16必须设置成没有与支撑着面板输送轴4的区域重叠，其中，面板输送轴4固定在支撑块6上。

这些支撑块和歧管16可以由具有良好耐久性和耐化学性的金属或合成树脂形成。

同时，流体喷射单元8设置成通过接收来自歧管16的流体(即，清洁剂)，清洁沿着面板处理部分运动的面板P的表面。在该实施例中，如图1所示，流体供应管28安装在与各自支撑块6相对应的两个固定块26之间。用于喷射流体的喷嘴30设在流体供应管28中。也就是说，固定块26固定在各自支撑块6上，从而它可以随着歧管16供应流体。

如图4所示，当固定块26安装在支撑块6上时，使用例如橡胶环或衬垫的密封件32来在固定块26和设置在支撑块6上的歧管16之间的连接部分处保持密封状态。

如上所述，虽然流体喷射单元8安装成与面板P的顶面相对应，其中，该面板P通过在浴室2中的输送轴4沿着面板输送部分运动，但是本发明并不限于此。

例如，该流体喷射单元8可以装配在支撑块6上，从而面对着面板P的顶面和底面，以便同时清洁面板P的顶面和底面。在这一点上，歧管16具有与上述实施例类似或相同的结构，从而具有一个或两个用来有效地将流体提供给上下流体喷射单元8的支撑块6。

如上所述，由于安装在浴室2中的流体喷射单元8在非面板处理区域处，即在支撑块区域，通过流体通道单元提供流体，所以可以将在浴室2中的面板处理区域A1保持为封闭的环境。

驱动单元10包括产生用于面板P的输送力的动力源34，和用于将动力源34的动力传递给面板输送轴4的传动部件36。如图1所示，该驱动系统10可以设在与面板输送轴4的一个端部对应的驱动区域A2中。

该动力源34可以由产生出旋转力的电动机形成。该动力源34通过例如涡轮的传动部件36与面板输送轴4连接。在该实施例中，虽然驱动源34设在驱动区域A2中，但是本发明并不限于此。也就是说，该驱动源34可以设置在浴室的外侧上，以便能够将动力传递给面板输送轴4。

由于其中安装有驱动单元10的驱动区域A2通过支撑块6和盖子14遮盖着面板处理区域A1，所以，可以防止在面板处理区域A1中的流体蒸汽向驱动区域A2泄漏，从而防止驱动单元10受到腐蚀。另外，可以进一步防止在驱动单元10的操作期间所产生出的外来物质导入到面板处理区域A1。

在该实施例中，虽然面板处理区域A1和驱动区域A2通过支撑块6和盖子14相互物理隔绝，但是本发明并不限于此。

例如，可以通过抽吸操作来消除在面板处理区域A1中所使用的例如处理剂和清洁剂的流体蒸汽，以及在驱动区域A1中所产生出的外来物质，从而提供一个理想的面板处理环境。如图6所示，可以对应于驱动区域A2的两个部分设置环境保持单元D，用来消除在驱动区域A2的两个部分中所产生出的外来物质。

如图6所示，为了进行有效的抽吸操作，该环境保持单元D具有多个排气管38，每个排气管38具有管道机构，该管道机构安装成从浴室2的外侧穿过驱动区域A2，用来连通驱动区域A2的两个部分。在这一点上，用于互连驱动区域A2的两个部分的排气管28被设置在支撑块6上，并且对应于面板P的输送部分相互间隔开(参见图7)。

排气管38与设在浴室2的外侧上的抽吸单元40连接，由此通过抽吸单元40的操作消除在驱动区域A2中产生出的外来物质。

抽吸单元40可以由具有排风扇的单元形成。但是，本发明并不限于这种情况。如图6所示，在驱动区域A1的两个部分中排出的气体通过安装在驱动区域A1的两个部分中的一个上的排气管38排出。在排出气体时，可以同时排出悬浮在气体中的外来物质。

环境保持单元D对应于浴室的驱动区域A1安装。但是，本发明并不限于这种情况。也就是说，环境保持单元D可以对应于面板处理区域A1安装。

参照图8，该图显示出环境保持单元D，其中，排气管38相对于浴室2中的面板处理区域A安装，并且在浴室2的外侧与抽吸单元40连接。

在这一点上，排气管38穿过与面板处理区域A1对应的浴室2的侧壁，并且，延伸到驱动区域A2以消除在驱动区域A2中的外来物质。

当排气管38只是对应于面板处理区域A1设置时，可以通过在支撑块6和盖子14之间的间隙将外来物质引导进入面板处理区域A1，由此会使面板处理区域A1的处理环境变差。

因此，当抽吸单元40操作时，包含在从面板处理区域A1中离开的气体中的蒸汽，沿着排气管38从浴室中排出。通过这种操作，使面板处理区域A1保持为消除了流体蒸汽的环境。

下面将参照附图，对上述面板处理系统的操作进行说明。

如图1所示，当面板P设在浴室2中的面板输送轴4上并且向与面板处理部分对应的位置运动时，流体由流体喷射单元8向面板P喷射，由此清洁该面板P。

在这一点上，首先将流体引导至支撑块6的歧管16，其中，支撑块6用于支撑面板输送轴4，然后，将它提供给流体喷射单元8的供应管28。

通过喷嘴将提供给供应管28的流体喷射出来，以清洁沿着面板处理部分运动的面板P。

该流体可以为用来处理面板P的处理剂。如图4所示，可以对应于面板输送部分设置一个或多个流体喷射单元8。

如上所述，由于流体通道由在支撑块6中的歧管16限定，并且没有穿过在浴室2中的面板处理区域A，所以，该流体通道结构变得更加简单，并且流体供应通道缩短，由此改善了向面板P的流体供应效率。

另外，由于面板处理区域A1保持为封闭状态并且通过支撑块6和盖子14与驱动区域A2隔离，所以在面板处理区域A1中产生出的流体蒸汽不会向驱动区域A2或向浴室的外侧引导，由此防止处理环境变差以及驱动单元的零部件受到腐蚀。

另外，在面板处理区域A1和驱动区域A2中产生出的流体蒸汽和外来物质在环境保持单元D的抽吸操作作用下，被迫从浴室2向外排出(参见图6和8)，由此优化了该面板处理环境。

另外，通过环境保持单元D的操作，可以完全防止在面板处理区域A1和驱动区域A2之间的蒸汽和外来物质往复运动，穿过形成在支撑块6和盖子14的接触部分处的间隙。

根据本发明，由于流体通道由在支撑块6中的歧管限定，并且没有穿过在浴室2中的面板处理区域A，所以，该流体通道结构变得更加简单，并且流体供应通道缩短，由此改善了对面板P的流体供应效率。

另外，由于流体供应和喷射单元、以及面板输送单元形成在单个结构系统中，所以，可以简化该面板处理系统的结构，并且可以节约制造成本和时间。

另外，由于浴室的内侧与浴室的外侧通过密封件间隔开，并且面板处理区域和驱动区域也在浴室中分开，因此，可以防止蒸汽和外来物质在面板处理区域和驱动区域之间往复运动，从而可以改善面板处理环境。另外，由于可以通过环境保持单元将蒸汽和外来物质排出，所以可以进一步改善面板处理环境，并且可以防止零部件受到腐蚀，由此改善了面板处理效率。

对于本领域普通技术人员显而易见的是，在本发明中可以作出各种各样的改进和变化。因此，只要这些改进和变化落入在所附权利要求和其等同方案的范围内，本发明均覆盖了这些改进和变化。

例如，流体供应结构和浴室2的环境可以根据不同面板处理过程，例如用于该面板的处理剂过程和干燥过程，进行适当的改变。

Claims (7)

1.一种面板处理系统，包括：

驱动单元；

浴室，该浴室限定一面板处理区域和一驱动区域；

面板输送轴，该输送轴设置在所述面板处理区域中以便通过接收来自所述驱动单元的旋转力来输送面板；

一个或多个支撑块，用来支撑所述面板输送轴和供应用来处理所述面板的流体；以及

流体喷射单元，该单元设置在所述面板处理区域中以便通过流体通道单元向所述面板喷射流体，

其中，所述流体通道单元设计为提供一个形成在所述支撑块中的流体通道，所述流体通过该流体通道提供给所述流体喷射单元。

2.如权利要求1所述的面板处理系统，其中，支撑块的数量为两个，并且，驱动区域分成两个部分，其中，支撑块设在面板处理区域和驱动区域的两个部分之间。

3.如权利要求1所述的面板处理系统，其中，所述流体喷射单元设置在支撑块上，用来通过接收来自流体通道单元的流体，经过在浴室中的非面板处理区域将流体喷射在面板上。

4.如权利要求1所述的面板处理系统，其中，所述流体通道单元由所述流体从中流经的管子形成。

5.如权利要求1所述的面板处理系统，其中，所述面板处理区域和所述驱动区域通过支撑块和盖子部件用密封件分开。

6.如权利要求1所述的面板处理系统，进一步包括用于保持浴室环境的环境保持单元，该环境保持单元设计成通过抽吸操作消除在面板处理区域和驱动区域中所产生出的悬浮外来物质。

7.如权利要求6所述的面板处理系统，其中，用于进行抽吸操作的抽吸区域延伸至驱动区域。

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