KR101605714B1

KR101605714B1 - 반송 유닛 및 이를 가지는 기판 처리 장치

Info

Publication number: KR101605714B1
Application number: KR1020140051212A
Authority: KR
Inventors: 김진호
Original assignee: 세메스 주식회사
Priority date: 2014-04-29
Filing date: 2014-04-29
Publication date: 2016-03-24
Also published as: KR20150125028A

Abstract

본 발명의 실시예는 기판을 반송하는 중에 액 처리하는 장치를 제공한다 반송 유닛은 기판을 지지하는 반송 샤프트 및 상기 반송 샤프트가 회전되도록 상기 반송 샤프트에 구동력을 제공하는 구동 어셈블리를 포함하되, 상기 구동 어셈블리는 구동 샤프트 및 상기 구동 샤프트의 외측면을 둘러싸며, 내부에 버퍼공간이 형성되고 상기 버퍼공간과 통하는 배출유로가 형성되는 하우징을 포함한다. 하우징에는 버퍼공간과 통하는 배출유로가 형성되므로, 버퍼공간에 유입된 미스트 또는 처리액은 배출유로로 배출될 수 있다.

Description

반송 유닛 및 이를 가지는 기판 처리 장치{Transfer Unit and Apparatus for treating substrate with the unit}

본 발명은 기판을 반송 처리하는 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판을 반송하는 중에 액 처리하는 장치에 관한 것이다.

액정 디스플레이(LCD)와 같은 평판 표시 패널을 제조하기 위해 베이크, 도포, 현상, 세정 등 다양한 공정들이 요구된다. 이들 공정들 중 세정 공정은 기판 상에 부착된 파티클 등과 같이 오염 물질을 제거하는 공정으로서, 박막 트랜지스터 등의 소자 손실을 최소화하여 수율을 향상시키기 위한 공정이 수행된다.

일반적으로 액 처리 공정은 일 방향으로 반송되는 기판 상에 처리액을 공급한다. 복수 개의 반송 샤프트들(4)은 챔버(2)의 외측에 위치된 구동 어셈블리(6)에 의해 회전되고, 기판은 반송 샤프트(4)의 회전에 의해 반송된다. 기판 상에 공급된 처리액은 기판으로부터 낙하되어 챔버(2)의 하부면에 형성된 배출구로 배출된다. 그러나 처리액의 일부는 반송 샤프트(4)로 낙하된다. 낙하된 처리액은 반송 샤프트(4)의 길이방향을 따라 반송 샤프트(4)에 구동력을 제공하는 구동 어셈블리(6)로 침투될 수 있다. 또한 챔버(2) 내부는 처리액에 의해 다량의 미스트가 발생되며, 미스트는 구동 어셈블리(6)에 침투될 수 있다. 이로 인해 구동 어셈블리(6)에는 처리액에 의한 액 맺힘이 형성되거나 쇼트가 발생될 수 있다.

또한 도1과 같이 구동 어셈블리(6)의 구동기(8)는 반송 샤프트(4)의 아래에서 반송 샤프트(4)에 회전력을 제공한다. 이에 따라 반송 샤프트(4)에 부착된 처리액은 구동기(8)로 낙하될 수 있다. 또한 구동기(8)를 메인터넌스하는 과정에서 처리액이 구동기(8)에 낙하되어 구동 어셈블리의 손상이 발생된다.

본 발명은 구동 어셈블리에 액 맺힘이 발생되는 것을 최소화할 수 있는 장치를 제공하고자 한다.

본 발명의 실시예는 기판을 반송하는 중에 액 처리하는 장치를 제공한다 반송 유닛은 기판을 지지하는 반송 샤프트 및 상기 반송 샤프트가 회전되도록 상기 반송 샤프트에 구동력을 제공하는 구동 어셈블리를 포함하되, 상기 구동 어셈블리는 구동 샤프트 및 상기 구동 샤프트의 외측면을 둘러싸며, 내부에 버퍼공간이 형성되고 상기 버퍼공간과 통하는 배출유로가 형성되는 하우징을 포함한다.

상기 배출유로는 상기 버퍼공간으로부터 아래방향을 향하도록 제공될 수 있다. 상기 하우징은 중공을 가지는 통 형상으로 제공되며, 상기 하우징은 제1내경을 가지는 제1바디부 및 상기 제1바디부로부터 연장되며, 상기 제1내경보다 큰 제2내경을 가지는 제2바디부를 포함하되, 상기 배출유로는 상기 제2바디부에 형성될 수 있다. 상기 제1바디부는 상기 제2바디부에 비해 상기 반송 샤프트와 더 가깝게 위치될 수 있다. 상기 하우징은 상기 제2바디부로부터 연장되며, 상기 제3내경을 가지는 제3바디부를 더 포함하되, 상기 제3내경은 상기 제2내경보다 작게 제공될 수 있다. 상기 구동 샤프트의 외측면에는 상기 구동 샤프트의 둘레방향을 따라 홈이 형성되고, 상기 홈은 상기 제2바디부와 대응되는 영역에 형성될 수 있다. 상기 구동 어셈블리는 상기 구동 샤프트와 상기 하우징 간의 틈을 차단하도록 상기 홈에 장착되는 내측 실링부재를 더 포함할 수 있다. 상기 구동 어셈블리는 상기 구동 샤프트와 상기 하우징 간의 틈을 차단하는 외측 실링부재를 더 포함하되, 상기 외측 실링부재는 상기 제1바디부와 상기 구동 샤프트 사이에 위치되는 전단 외측링 및 상기 제3바디부와 상기 구동 샤프트 사이에 위치되는 후단 외측링을 포함할 수 있다.

기판 처리 장치는 내부에 처리공간을 제공하는 챔버, 상기 처리공간에서 기판을 일 방향으로 지지 및 반송시키는 반송 유닛, 그리고 상기 반송유닛에 놓여진 기판 상으로 처리액을 공급하는 액 공급유닛을 포함하되, 상기 반송 유닛은 상기 일 방향을 따라 순차적으로 배열되는 복수 개의 반송 샤프트들, 길이방향이 상기 일 방향을 향하며, 상기 반송 샤프트들 각각에 구동력을 전달하는 연결 샤프트, 상기 연결 샤프트가 회전되도록 상기 연결 샤프트에 구동력을 제공하는 구동 샤프트, 그리고 상기 구동 샤프트의 외측면을 둘러싸며, 내부에 버퍼공간이 형성되고 상기 버퍼공간과 통하는 배출유로가 형성되는 하우징을 포함한다.

상기 하우징은 중공을 가지는 통 형상으로 제공되며, 상기 하우징은 제1내경을 가지는 제1바디부 및 상기 제1바디부로부터 연장되며, 상기 제1내경보다 큰 제2내경을 가지는 제2바디부를 포함하되, 상기 배출유로는 상기 제2바디부에 형성되며, 상기 버퍼공간으로부터 아래방향을 향하도록 제공될 수 있다. 상기 하우징은 상기 제2바디부로부터 연장되며, 상기 제3내경을 가지는 제3바디부를 더 포함하되, 상기 제1바디부는 상기 제2바디부에 비해 상기 반송 샤프트와 더 가깝게 위치되고, 상기 제2바디는 상기 제3바디에 비해 상기 반송 샤프트와 더 가깝게 위치되며, 상기 제3내경은 상기 제2내경보다 작게 제공될 수 있다.

본 발명의 실시예에 의하면, 반송 샤프트에 회전력을 제공하는 구동 샤프트는 그 둘레가 하우징에 의해 감싸도록 제공되며, 하우징의 내부에는 버퍼공간이 제공된다. 하우징에는 버퍼공간과 통하는 배출유로가 형성되므로, 버퍼공간에 유입된 미스트 또는 처리액은 배출유로로 배출될 수 있다.

또한 본 발명의 실시예에 의하면, 하우징의 내측면은 중앙영역이 양측 가장자리영역보다 낮도록 단차진 형상을 가진다. 이로 인해 버퍼공간에 제공된 처리액은 구동기까지 침투되는 것을 방지할 수 있다.

또한 본 발명의 실시예에 의하면, 버퍼공간에는 내측 실링부재가 제공되어 버퍼공간에 제공된 처리액이 구동기까지 침투되는 것을 방지할 수 있다.

도 1은 일반적인 구동 어셈블리를 보여주는 사시도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치를 보여주는 단면도이다.
도 3은 도 2의 기판처리장치를 보여주는 평면도이다.
도 4는 도 2의 반송 어셈블리를 보여주는 사시도이다.
도 5는 도 2의 구동 어셈블리를 보여주는 단면도이다.
도 6은 도 5의 A 영역을 확대해 보여주는 단면도이다.
도 7은 도 6의 구동 어셈블리의 다른 실시예를 보여주는 단면도이다.
도 8은 도 6의 구동 어셈블리의 또 다른 실시예를 보여주는 단면도이다.

본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장된 것이다.

본 실시예에서 기판(S)은 평판 표시 패널 제조에 사용되는 기판(S)을 예로 들어 설명한다. 그러나 이와 달리 기판(S)은 반도체 칩 제조에 사용되는 웨이퍼일 수 있다. 또한 본 실시예에는 기판(S)을 세정 처리하는 공정에 대해 설명한다. 이하, 본 발명은 도2 내지 도8을 참조하여 본 발명의 일 예를 상세히 설명한다.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치를 보여주는 단면도이고, 도 3은 도 2의 기판처리장치를 보여주는 평면도이다. 도 2 및 도 3을 참조하면, 기판처리장치는 기판을 세정처리하는 공정을 수행한다. 기판 처리 장치는 세정 모듈(350) 및 건조 모듈(330)을 포함한다. 세정 모듈(350)은 기판(S) 상에 잔류된 이물을 세정처리하고, 건조 모듈(330)은 기판(S) 상에 잔류된 기판 처리액을 건조 처리한다. 세정 모듈(350) 및 건조 모듈(330)은 제1방향(12)을 따라 일렬로 배치된다.

세정 모듈(350)은 세정 챔버(351), 반송 유닛(400), 액 공급유닛(360), 그리고 브러쉬 유닛(310)을 포함한다. 세정 챔버(351)는 직육면체 형상을 가지도록 제공된다. 세정 챔버(351)는 내부에 제1처리공간(355)을 제공한다. 세정 챔버(351)의 바닥면에는 배출구(미도시)가 형성된다. 세정 챔버(351)의 양 측단에는 개구(352,353)가 형성된다. 세정 챔버(351)의 일단에 형성된 개구(353)는 기판(S)이 반입되는 입구로 제공되고, 세정 챔버(351)의 타단에 형성된 개구(352)는 기판(S)이 반입되는 출구로 제공된다. 세정 챔버(351)의 출구(352)는 건조 챔버(331)의 입구(333)와 대향되게 위치된다. 세정 챔버(351)의 입구(353) 및 출구(352)는 동일 높이에 형성된다. 세정 챔버(351)의 출구는 건조 모듈(330)과 대향되게 위치된다. 세정 챔버(351)의 제1처리공간(355)은 건조 모듈(330)의 내부와 서로 통하도록 제공된다.

반송 유닛(400)은 기판(S)을 제1방향(12)으로 반송한다. 반송 유닛(400)은 세정 모듈(330)과 건조 모듈(350)에 각각 배치된다. 반송 유닛(400)은 반송 어셈블리(410) 및 구동 어셈블리(430)를 포함한다. 반송 어셈블리(410)는 기판을 지지 및 반송시키고, 구동 어셈블리(430)는 반송 어셈블리(410)에 구동력을 제공한다. 도 4는 도 2의 반송 어셈블리를 보여주는 사시도이다. 도 4를 참조하면, 반송 어셈블리(410)는 반송 샤프트(412), 반송 롤러(414), 가이드 롤러(416) 그리고 연결 샤프트(418)를 포함한다. 반송 샤프트(412)는 복수 개로 제공된다. 각각의 반송 샤프트(412)는 그 길이방향이 제1방향(12)과 수직한 제2방향(14)을 향하도록 제공된다. 반송 샤프트(412)들은 제1방향(12)을 따라 나란히 배치된다. 각각의 반송 샤프트(412)는 서로 간에 이격되게 배치된다. 반송 샤프트(412)는 입구 및 출구에 대응되는 높이에 위치된다. 선택적으로, 반송 샤프트(412)는 기판(S) 상에 잔류된 처리액이 용이하게 제거되도록, 기판(S)을 일정 각도 경사진 상태에서 반송할 수 있다. 반송 샤프트(412)들의 양단은 베어링 등의 회전지지부재(미도시)에 의해 지지된다,

반송 롤러(414)는 각각의 반송 샤프트(412)에 복수 개로 제공된다. 반송 롤러(414)는 반송 샤프트(412)에 장착되어 기판(S)의 저면을 지지한다. 반송 롤러(414)는 그 중심축에 홀이 형성되고, 반송 샤프트(412)는 홀에 강제 끼움된다. 반송 롤러(414)는 반송 샤프트(412)와 함께 회전된다.

가이드 롤러(416)는 반송 샤프트(412)에 지지된 기판(S)이 슬립되는 것을 방지한다. 가이드 롤러(416)는 서로 인접한 2 개의 반송 샤프트들(412) 사이에 위치된다. 가이드 롤러(416)는 반송 샤프트의 일측부에 인접하게 위치된다. 가이드 롤러(416)는 기판(S)의 일측부를 지지하여 기판(S)이 정 위치를 이탈하는 것을 방지한다.

연결 샤프트(418)는 각각의 반송 샤프트(412)에 동일한 회전력이 제공되도록 구동 어셈블리(430)로부터 회전력을 전달한다. 연결 샤프트(418)는 각각의 반송 샤프트(412)를 서로 간에 연결된다. 연결 샤프트(418)는 반송 샤프트(412)들의 일단에 위치된다. 연결 샤프트(418)는 그 길이방향이 제1방향(12)을 향하도록 제공된다. 반송 샤프트(412)들은 연결 샤프트(418)와 함께 회전되도록 제공된다.

다시 도 2를 참조하면, 액 공급유닛(360)은 제1처리공간(355)에 위치된 기판(S)으로 처리액을 공급한다. 액 공급유닛(360)은 복수 개의 노즐들(361)을 포함한다. 노즐들(361) 각각은 동일한 형상을 가지도록 제공된다. 노즐(361)은 바 형상을 가지며, 그 길이방향이 제2방향(14)을 향하도록 제공된다. 노즐들(361) 각각에는 슬릿 형상의 토출홀이 형성된다. 토출홀의 길이방향은 제2방향(14)을 향하도록 제공된다. 일 예에 의하면, 토출홀의 길이는 기판(S)의 폭과 대응되거나 이보다 길게 제공될 수 있다. 복수 개의 노즐들(361) 중 일부는 반송 샤프트(412)(311)의 상부에 위치되고, 다른 일부는 하부에 위치된다. 상부노즐(361a)에는 토출홀이 아래를 향하도록 제공되고, 하부노즐(361b)에는 토출홀이 위를 향하도록 제공된다. 상부노즐(361a)들은 제1방향(12)을 따라 나란히 위치된다. 하부노즐(361b)들은 제1방향(12)을 따라 나란히 위치된다. 하부노즐(361b)과 상부노즐(361a)은 상하로 서로 마주보도록 위치된다.

브러쉬 유닛(310)은 기판(S)을 물리적 접촉력을 사용하여 세정한다. 브러쉬 유닛(310)은 액 공급유닛(360)에 의해 세정이 이뤄진 기판(S)을 2 차 세정한다. 브러쉬 유닛(310)는 처리액에 의해 기판(S)에 대한 부착력이 저하된 파티클을 기판(S)으로부터 제거한다. 브러쉬 유닛(310)은 제1처리공간(355)에서 기판(S)의 반송방향에 대해 액 공급유닛(360)보다 하류에 위치된다. 브러쉬 유닛(310)은 상부 브러쉬(312) 및 하부 브러쉬(314)를 포함한다. 상부 브러쉬(312)는 반송 샤프트(412)의 상부에 위치되고, 하부 브러쉬(314)는 반송 샤프트(412)의 하부에 위치된다. 상부 브러쉬(312)는 그 길이방향이 제2방향(14)을 향하도록 제공된다. 상부 브러쉬(312)는 모터(미도시)에 의해 그 중심축을 중심으로 회전된다. 상부 브러쉬(312)는 기판(S)의 폭과 대응되거나 이보다 길게 제공된다.

하부 브러쉬(314)는 반송 샤프트(412)를 중심으로 상부 브러쉬(312)와 상하로 마주보도록 위치된다. 하부 브러쉬(314)는 상부 브러쉬(312)와 동일한 형상을 가지므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.

다음은 반송 유닛의 구동 어셈블리(430)에 대해 보다 상세히 설명한다. 구동 어셈블리(430)는 반송 샤프트(412)에 회전력을 제공한다. 도 5는 도 2의 구동 어셈블리를 보여주는 단면도이고, 도 6은 도 5의 A 영역을 확대해 보여주는 단면도이다. 도 5 및 도 6을 참조하면, 구동 어셈블리(430)는 구동 샤프트(440), 구동기(450), 하우징(460), 내측 실링부재(470), 그리고 외측 실링부재(480)를 포함한다. 구동 샤프트(440)는 그 길이방향이 제2방향(14)을 향하도록 제공된다. 구동 샤프트(440)는 세정 챔버(351)의 일측벽(110)을 관통하도록 제공된다. 구동 샤프트(440)의 일단은 연결 샤프트(418)에 인접하게 위치되고, 타단은 세정 챔버(351)의 외측에 위치된다. 일 예에 의하면, 구동 샤프트(440)는 그 일단이 연결 샤프트(418)에 접촉되게 위치된다. 구동 샤프트(440)의 타단에는 구동기(450)가 위치된다. 구동기(450)는 구동 샤프트(440)를 회전시키고, 이 회전력은 연결 샤프트(418) 및 반송 샤프트(412)들로 제공된다. 구동 샤프트(440)가 구동기(450)에 의해 회전되며, 이와 접촉된 연결 샤프트(418)가 회전된다. 연결 샤프트(418)가 회전됨에 따라 반송 샤프트(412)는 회전된다. 따라서 구동 샤프트(440)는 구동기(450)의 회전력을 복수 개의 반송 샤프트(412)들에 전달하는 매개체로 제공된다. 예컨대 구동기(450)는 모터일 수 있다. 구동 샤프트(440)의 외측면에는 복수 개의 홈들(442)이 형성된다. 홈들(442) 각각은 구동 샤프트(440)의 둘레방향을 따라 형성된다. 각각의 홈(442)은 구동 샤프트(440)의 길이방향을 따라 서로 이격되게 형성된다. 선택적으로 홈(442)은 단일하게 제공될 수 있다.

하우징(460)은 구동기(450)가 제1처리공간(355)에서 발생된 미스트 및 처리액으로부터 노출되는 것을 차단한다. 하우징(460)은 구동 샤프트(440)와 세정 챔버(351)(351)간의 틈을 통해 미스트 및 처리액이 배출되는 것을 차단한다. 하우징(460)은 구동 샤프트(440)의 둘레를 감싸도록 제공된다. 하우징(460)은 세정 챔버(351)의 일측벽(110)에 위치된다. 하우징(460)은 중공의 원통 형상을 가지며, 길이방향이 제2방향을 향하도록 제공된다. 하우징(460)의 내경은 구동 샤프트(440)의 외경보다 크게 제공된다. 하우징(460)의 내측면은 구동 샤프트(440)와 이격되게 위치된다. 하우징(460)의 내측면과 구동 샤프트(440) 간의 사이 공간은 버퍼 공간(464)으로 제공된다. 하우징(460)은 제1바디부(461), 제2바디부(462), 그리고 제3바디부(463)를 포함한다. 제1바디부(461), 제2바디부(462), 그리고 제3바디부(463)는 제2방향(14)을 따라 순차적으로 배열된다. 제2바디부(462)는 제1바디부(461)로부터 연장되고, 제3바디부(463)는 제2바디부(462)로부터 연장된다. 제1바디부(461)는 제2바디부(462)보다 반송 샤프트(412)에 더 가깝게 위치된다. 제2바디부(462)는 제3바디부(463)보다 반송 샤프트(412)에 더 가깝게 위치된다. 제1바디부(461), 제2바디부(462), 그리고 제3바디부(463) 각각은 환형의 링 형상으로 제공된다. 제2바디부(462)의 제2내경은 제1바디부(461)의 제1내경보다 크게 제공된다. 또한 제2바디부(462)의 제2내경은 제3바디부(463)의 제3내경보다 크게 제공된다. 따라서 측부에서 바라볼 때 하우징(460)의 내측면은 중앙영역이 양단에 비해 아래로 단차진 형상을 가진다. 제2바디부(462)는 구동 샤프트(440)의 홈(442)과 대응되는 영역에 위치된다. 제2바디부(462)에는 배출 유로(462a)가 형성된다. 배출 유로(462a)는 버퍼 공간(464)과 통하도록 제공된다. 배출 유로(462a)는 제2바디부(462)의 내측면으로부터 외측면까지 연장된다. 배출 유로(462a)는 제2바디부(462)의 하단에 형성된다. 배출 유로(462a)는 버퍼 공간(464)으로부터 아래방향을 향하도록 제공된다. 상부에서 바라볼 때 배출 유로(462a)는 구동 샤프트(440)의 홈과 중첩되지 않는 위치에 형성된다. 일 예에 의하면, 배출 유로는 구동 샤프트(440)의 홈(442)보다 제1처리공간(355)에 가깝도록 제공될 수 있다. 배출 유로(462a)는 세정 챔버(351)의 일측벽(110)의 내부에 형성된 하부 유로(111)와 통하도록 제공된다. 배출 유로(462a)를 통해 배출되는 미스트 및 처리액은 하부 유로(111)를 통해 제1처리공간(355)로 회수된다.

내측 실링부재(470)는 버퍼 공간(464)에 유입된 미스트 및 처리액이 구동기(450)에 제공되는 것을 차단한다. 내측 실링부재(470)는 제1바디부(461)로 유입된 미스트 및 처리액이 제3바디부(463)로 유출되는 것을 차단한다. 내측 실링부재(470)는 버퍼 공간(464)에서 제2바디부(462)에 대응되도록 위치된다. 내측 실링부재(470)는 환형의 링 형상을 가지도록 제공된다. 내측 실링부재(470)는 구동 샤프트(440)의 홈에 장착된다. 내측 실링부재(470)의 외경은 제2바디부(462)의 제2내경과 동일하거나 조금 작게 제공될 수 있다.

외측 실링부재(480)는 구동 샤프트(440)와 제1바디부(461), 그리고 구동 샤프트(440)와 제3바디부(463)의 틈을 각각 실링한다. 외측 실링부재(480)는 전단 외측링(482) 및 후단 외측링(484)을 포함한다. 전단 외측링(482)은 구동 샤프트(440)와 제1바디부(461) 간의 틈을 실링한다. 전단 외측링(482)은 전단 몸체부(482a) 및 전단 링부(482b)를 포함한다. 전단 몸체부(482a)는 환형의 링 형상을 가지도록 제공된다. 전단 몸체부(482a)는 구동 샤프트(440)의 외측면과 제1바디부(461)의 내측면 사이에 위치된다. 전단 몸체부(482a)의 일단은 제1바디부(461)로부터 반송샤프트와 가까워지는 방향으로 돌출되게 위치된다. 전단 링부(482b)는 전단 몸체부(482a)의 일단을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 전단 링부(482b)는 전단 몸체부(482a)의 일단으로부터 전단 몸체부(482a)의 외측방향으로 돌출되게 연장된다. 따라서 제1바디부(461)의 일단은 전단 링부(482b)에 의해 실링되고, 내측면은 전단 몸체부(482a)에 의해 실링된다.

후단 외측링(484)은 구동 샤프트(440)와 제3바디부(463) 간의 틈을 실링한다. 후단 외측링(484)은 제2바디부(462)를 기준으로 전단 외측링(482)과 대칭되는 형상을 가지도록 제공된다. 후단 외측링(484)은 후단 몸체부(484a) 및 후단 링부(484b)를 포함한다. 후단 몸체부(484a)는 환형의 링 형상을 가지도록 제공된다. 후단 몸체부(484a)는 구동 샤프트(440)의 외측면과 제3바디부(463)의 내측면 사이에 위치된다. 후단 몸체부(484a)의 타단은 제3바디부(463)로부터 반송샤프트와 멀어지는 방향으로 돌출되게 위치된다. 후단 링부(484b)는 후단 몸체부(484a)의 타단을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 후단 링부(484b)는 후단 몸체의 타단으로부터 후단 몸체의 외측방향으로 돌출되게 연장된다. 따라서 제3바디부(463)의 타단은 후단 링부(484b)에 의해 실링되고, 내측면은 후단 몸체부(484a)에 의해 실링된다.

다시 도2를 참조하면, 건조 모듈(330)은 건조 챔버(331) 및 가스공급유닛(345)을 포함한다. 건조 챔버(331)는 내부에 공정이 수행되는 제2처리공간(335)을 제공한다. 건조 챔버(331)는 세정 챔버(351)와 대체로 동일한 형상을 가진다. 건조 챔버(331)의 입구(333)는 세정 챔버(351)의 출구(352)와 대향되게 위치된다. 상술한 바와 같이, 반송 유닛(400)은 제1방향(12)을 따라 제1처리공간(355) 및 제2처리공간 각각에 연장되게 위치된다. 반송 유닛(400)은 제1처리공간(355)에 제공된 기판(S)을 제1방향(12)에 따라 제2처리공간(335)으로 반송한다.

가스공급유닛(345)은 기판(S) 상에 잔류된 수분을 제거한다. 가스공급유닛(345)은 기판(S) 상에 건조가스를 공급하여 기판(S)을 건조한다. 예컨대 건조가스는 공기, 질소가스 또는 비활성 가스일 수 있다. 건조 가스는 상온 또는 가열된 상태로 공급될 수 있다. 가스공급유닛(345)은 가스노즐(345)을 포함한다. 가스노즐(345)은 그 길이방향이 제2방향(14)을 향하도록 제공된다. 가스노즐(345)은 반송 샤프트(412)를 기준으로 이의 상부 및 하부에 각각 위치된다. 가스노즐(345)은 기판(S)의 반송방향에 대해 경사진 방향으로 가스를 분사한다. 일 예에 의하면, 상부가스노즐(345a)의 분사구는 기판(S) 상에 잔류하는 수분을 기판(S)의 반송방향과 반대방향을 밀어내도록 하향 경사진 방향을 향하게 제공될 수 있다. 하부가스노즐(345b)의 분사구는 기판(S) 상에 잔류하는 수분을 기판(S)의 반송방향과 반대방향을 밀어내도록 하향 경사진 방향을 향하게 제공될 수 있다.

다음은 본 발명의 구동 어셈블리(430)의 다른 실시예에 대해 설명한다. 도 7은 도 6의 구동 어셈블리의 다른 실시예를 보여주는 단면도이다. 도 7을 참조하면, 하우징(460)은 중공의 원통 형상을 가지도록 제공될 수 있다. 하우징(460)의 내경은 제1처리공간(355)으로부터 멀어질수록 좁아지게 제공될 수 있다. 이에 따라 하우징(460)의 버퍼 공간(464)에서 응결된 미스트 및 처리액은 제1처리공간(355)으로 배출되거나 하우징(460)의 경사진 내경을 따라 배출 유로(462a)로 안내될 수 있다.

본 발명의 구동 어셈블리(430)의 또 다른 실시예에 의하면, 구동 어셈블리(430)에는 내측 실링부재(470)가 제공되지 않을 수 있다. 도 8은 도 6의 구동 어셈블리의 또 다른 실시예를 보여주는 단면도이다. 도 8을 참조하면, 구동 샤프트(440)의 외측면에는 링 형상의 돌기가 형성될 수 있다. 돌기는 제2바디부(462)와 대응되는 영역에 형성될 수 있다. 돌기의 외경은 제2바디부(462)의 내경과 동일하거나 조금 작을 수 있다. 돌기는 제1바디부(461)를 통해 유입된 미스트 및 처리액이 제3바디부(463)로 유출되는 것을 실링할 수 있다.

410: 반송 어셈블리 412: 반송 샤프트
414: 구동 샤프트 430: 구동 어셈블리
460: 하우징 461: 제1바디부
462: 제2바디부 462a: 배출 유로
463: 제3바디부 470: 내측 실링부재
480: 외측 실링부재

Claims

기판을 지지하는 반송 샤프트와;
상기 반송 샤프트가 회전되도록 상기 반송 샤프트에 구동력을 제공하는 구동 어셈블리를 포함하되,
상기 구동 어셈블리는,
구동 샤프트와;
상기 구동 샤프트의 외측면을 둘러싸며, 내부에 버퍼공간이 형성되고 상기 버퍼공간과 통하는 배출유로가 형성되는 하우징을 포함하는 반송 유닛.
제1항에 있어서,
상기 배출유로는 상기 버퍼공간으로부터 아래방향을 향하도록 제공되는 반송 유닛.
제2항에 있어서,
상기 하우징은 중공을 가지는 통 형상으로 제공되며,
상기 하우징은,
제1내경을 가지는 제1바디부와;
상기 제1바디부로부터 연장되며, 상기 제1내경보다 큰 제2내경을 가지는 제2바디부를 포함하되,
상기 배출유로는 상기 제2바디부에 형성되는 반송 유닛.
제3항에 있어서,
상기 제1바디부는 상기 제2바디부에 비해 상기 반송 샤프트와 더 가깝게 위치되는 반송 유닛.
제3항 또는 제4항에 있어서,
상기 하우징은,
상기 제2바디부로부터 연장되며, 제3내경을 가지는 제3바디부를 더 포함하되,
상기 제3내경은 상기 제2내경보다 작게 제공되는 반송 유닛.
제3항 또는 제4항에 있어서,
상기 구동 샤프트의 외측면에는 상기 구동 샤프트의 둘레방향을 따라 홈이 형성되고,
상기 홈은 상기 제2바디부와 대응되는 영역에 형성되는 반송 유닛.
제6항에 있어서,
상기 구동 어셈블리는,
상기 구동 샤프트와 상기 하우징 간의 틈을 차단하도록 상기 홈에 장착되는 내측 실링부재를 더 포함하는 반송 유닛.
제5항에 있어서,
상기 구동 어셈블리는,
상기 구동 샤프트와 상기 하우징 간의 틈을 차단하는 외측 실링부재를 더 포함하되,
상기 외측 실링부재는,
상기 제1바디부와 상기 구동 샤프트 사이에 위치되는 전단 외측링과;
상기 제3바디부와 상기 구동 샤프트 사이에 위치되는 후단 외측링을 포함하는 반송 유닛.
내부에 처리공간을 제공하는 챔버와;
상기 처리공간에서 기판을 일 방향으로 지지 및 반송시키는 반송 유닛과;
상기 반송유닛에 놓여진 기판 상으로 처리액을 공급하는 액 공급유닛을 포함하되,
상기 반송 유닛은,
상기 일 방향을 따라 순차적으로 배열되는 복수 개의 반송 샤프트들과;
길이방향이 상기 일 방향을 향하며, 상기 반송 샤프트들 각각에 구동력을 전달하는 연결 샤프트와;
상기 연결 샤프트가 회전되도록 상기 연결 샤프트에 구동력을 제공하는 구동 샤프트와;
상기 구동 샤프트의 외측면을 둘러싸며, 내부에 버퍼공간이 형성되고 상기 버퍼공간과 통하는 배출유로가 형성되는 하우징을 포함하는 기판 처리 장치.
제9항에 있어서,
상기 하우징은 중공을 가지는 통 형상으로 제공되며,
상기 하우징은,
제1내경을 가지는 제1바디부와;
상기 제1바디부로부터 연장되며, 상기 제1내경보다 큰 제2내경을 가지는 제2바디부를 포함하되,
상기 배출유로는 상기 제2바디부에 형성되며, 상기 버퍼공간으로부터 아래방향을 향하도록 제공되는 기판 처리 장치.
제10항에 있어서,
상기 하우징은,
상기 제2바디부로부터 연장되며, 제3내경을 가지는 제3바디부를 더 포함하되,
상기 제1바디부는 상기 제2바디부에 비해 상기 반송 샤프트와 더 가깝게 위치되고, 상기 제2바디는 상기 제3바디에 비해 상기 반송 샤프트와 더 가깝게 위치되며,
상기 제3내경은 상기 제2내경보다 작게 제공되는 기판 처리 장치.