JP4153309B2 - デチャックの音響検出及びその装置 - Google Patents
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Description
本発明は、基板のデチャック(dechucking)の完了を検出する方法及びそのための装置に関する。本発明は、真空チャンバ内のプラズマ処理等の処理中における半導体ウエハのデチャックを検出するのに有用である。デチャックの完了を検出するための装置は、半導体ウエハ又はフラットパネルディスプレイ基板等の基板を上昇させるためのリフトピン機構に組み込まれうる。
プラズマエッチング、イオン注入、スパッタリング、瞬時熱プロセス(rapid thermal processing;RTP)、フォトリソグラフィ、化学気相成長(CVD)及びフラットパネルディスプレイ製造プロセス等の半導体処理のための様々なタイプの装置が存在し、その中でエッチング、レジスト剥離、パッシベーション(passivation)、デポジション等が行われる。このようなシステムでは、リフトピン機構によって基板を搬送及び/又は支持する必要がある。そのようなリフトピン機構は、熱的、化学的、光学的及びその他の基板処理で搬送中に基板を一時的に支持するために用いられうる。
本発明は、静電チャックのデチャックを検出するための方法及び装置を提供する。本装置は、その支持面上に半導体基板を静電気的にクランプするように構成された静電チャックを含む基板支持体と、前記半導体基板に音響信号を伝達するように構成された音響信号発生器と、前記半導体基板の第1状態と第2状態とを検出するように構成された検出器と、を備え、前記第1状態は前記半導体基板が静電気的にクランプされているときに検出され、前記第2状態は前記半導体基板全体が静電気的にクランプされていないときに前記検出器によって検出される。好適な実施の形態によれば、前記基板支持体は、該基板支持体と接触するリフトピンを含み、前記音響信号発生器は、前記半導体基板と接触する該リフトピンの少なくとも1つを通して音響信号を伝達する。前記基板支持体は、前記基板上に材料の層を堆積するためにプラズマエッチングチャンバ又はCVDチャンバ等の真空チャンバ内に配置されうる。
シリコンウエハ等の半導体基板が基板支持体に静電気的にクランプされる半導体プロセスでは、クランピング力が十分に減少するまで、支持体から基板を移動させることを遅らせるのが望ましい。クランピング力が十分に減少する前に基板を移動させると、基板にダメージを与えてしまう、及び/又は、基板を上昇させたり下降させたりするために用いられるリフトピンによって基板がESCから外れて、基板が処理されるチャンバ内の望ましくない位置に飛び出すことになり得る。本発明は、基板が十分にデチャックされて、その安全な移動が可能であるのはいつであるかを決定することができる技術を提供する。
図面の簡単な説明
本発明の前述及び他の目的、特徴及び利点は、図面に関連した詳細な説明を参照すれば容易に理解できるであろう。
Claims (18)
- 静電チャックのデチャックを検出するための装置であって、
その支持面上に半導体基板を静電気的にクランプするように構成された静電チャックと当該静電チャックと接触するリフトピンとを含む基板支持体と、
前記半導体基板と接触する前記リフトピンの少なくとも1つを介して前記半導体基板に音波を伝達するように構成された音波発生器と、
前記音波の振幅に従って前記半導体基板の第1状態と第2状態とを検出するように構成された検出器と、
を備え、
前記第1状態は前記半導体基板が静電気的にクランプされているときに検出され、前記第2状態は前記半導体基板全体が静電気的にクランプされていないときに前記検出器によって検出されることを特徴とする装置。 - 静電チャックのデチャックを検出するための装置であって、
その支持面上に半導体基板を静電気的にクランプするように構成された静電チャックを含む基板支持体と、
前記半導体基板に音響信号を伝達するように構成された音響発生器と、
前記音響信号に従って前記半導体基板の第1状態と第2状態とを検出するように構成された検出器と、
を備え、
前記第1状態は前記半導体基板が静電気的にクランプされているときに検出され、前記第2状態は前記半導体基板全体が静電気的にクランプされていないときに前記検出器によって検出され、
前記音響信号発生器は、前記半導体基板の機械的な共振周波数で音波を出力し、前記第2状態は、前記基板による前記音波の吸収の増加を前記検出器が検出したときに検出されることを特徴とする装置。 - ピンリフト機構とコントローラとを更に備え、該コントローラは、前記第2状態を示す前記検出器からの出力信号を受信し、前記第2状態が検出されたときに前記基板を上昇させる前記リフトピン機構を作動させることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記リフトピン機構は、空気作動式であり、前記コントローラは、リフトピン台に取り付けられたシャフトを上昇させる空気圧シリンダに加圧ガスを供給するバルブを操作することによって、前記リフトピン機構を作動させることを特徴とする請求項3に記載の装置。
- 前記基板支持体は、プラズマエッチングチャンバ内に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記基板支持体は、CVDチャンバ内に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記基板支持体は、開口部を有し、この開口部を通して伝熱ガスが前記基板と前記支持面との間に供給されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 静電チャックのデチャックを検出するための装置であって、
その支持面上に半導体基板を静電気的にクランプするように構成された静電チャックを含む基板支持体と、
前記半導体基板に音響信号を伝達するように構成された音響発生器と、
前記音響信号に従って前記半導体基板の第1状態と第2状態とを検出するように構成された検出器と、
を備え、
前記第1状態は前記半導体基板が静電気的にクランプされているときに検出され、前記第2状態は前記半導体基板全体が静電気的にクランプされていないときに前記検出器によって検出され、
前記半導体基板は、シリコンウエハであり、前記第2状態は、前記音響信号発生器によって発生された音波が前記ウエハによって吸収されたときに検出されることを特徴とする装置。 - 静電チャックのデチャックを検出する方法であって、
基板支持体上に半導体基板を支持する工程であって、該基板支持体がその支持面上に該半導体基板を静電気的にクランプするように構成された静電チャックを含む工程と、
前記半導体基板をリフトピンと接触させる工程と、
前記半導体基板に音波を伝達するように構成された音波発生器を用いて音波を発生する工程と、
前記音波の振幅に従って前記半導体基板の第1状態と第2状態とを検出する工程と、を含み、
前記音波は、前記半導体基板と接触する前記リフトピンの少なくとも1つを介して伝達され、
前記第1状態は前記半導体基板が静電気的にクランプされているときに検出され、前記第2状態は前記半導体基板が前記支持面に接触し、かつ、しきいクランピング力を超えて静電気的にクランプされていないときに検出されることを特徴とする方法。 - 静電チャックのデチャックを検出する方法であって、
基板支持体上に半導体基板を支持する工程であって、該基板支持体がその支持面上に該半導体基板を静電気的にクランプするように構成された静電チャックを含む工程と、
前記半導体基板に音響信号を伝達するように構成された音響信号発生器を用いて音響信号を発生する工程と、
前記音響信号に従って前記半導体基板の第1状態と第2状態とを検出する工程と、を含み、
該第1状態は前記半導体基板が静電気的にクランプされているときに検出され、前記第2状態は前記半導体基板がしきいクランピング力を超えて静電気的にクランプされていないときに検出され、
前記音響信号発生器は、前記半導体基板の機械的な共振周波数で音波を出力し、前記第2状態は、前記基板による前記音波の吸収の増加を前記検出器が検出したときに検出されることを特徴とする方法。 - 静電チャックのデチャックを検出する方法であって、
基板支持体上に半導体基板を支持する工程であって、該基板支持体がその支持面上に該半導体基板を静電気的にクランプするように構成された静電チャックを含む工程と、
前記半導体基板をリフトピンと接触させる工程と、
前記半導体基板に音波を伝達するように構成された音波発生器を用いて音波を発生する工程と、
前記音波の振幅に従って前記半導体基板の第1状態と第2状態とを検出する工程と、を含み、
前記音波は、前記半導体基板と接触する前記リフトピンの少なくとも1つを介して伝達され、
前記第1状態は前記半導体基板が静電気的にクランプされているときに検出され、前記第2状態は前記半導体基板がしきいクランピング力を超えて静電気的にクランプされていないときに検出され、
前記基板支持体は、ピンリフト機構を備え、コントローラが、前記第2状態を示す前記検出器からの出力信号を受信し、前記第2状態が検出されたときに前記基板を上昇させる前記リフトピン機構を作動させることを特徴とする方法。 - 前記リフトピン機構は、空気作動式であり、前記コントローラは、リフトピン台に取り付けられたシャフトを上昇させる空気圧シリンダに加圧ガスを供給するバルブを操作することによって、前記リフトピン機構を作動させることを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 前記基板支持体は、プラズマエッチングチャンバ内に配置され、前記第2状態は、前記半導体基板上の層をエッチングした後に検出されることを特徴とする請求項9に記載の方法。
- 前記基板支持体は、CVDチャンバ内に配置され、前記第2状態は、前記半導体基板上に層を堆積した後に検出されることを特徴とする請求項9に記載の方法。
- 前記基板支持体は、前記支持面に開口部を有し、伝熱ガスがこの開口部を通して前記基板と前記支持面との間の空間に供給されることを特徴とする請求項9に記載の方法。
- 静電チャックのデチャックを検出する方法であって、
基板支持体上に半導体基板を支持する工程であって、該基板支持体がその支持面上に該半導体基板を静電気的にクランプするように構成された静電チャックを含む工程と、
前記半導体基板に音響信号を伝達するように構成された音響信号発生器を用いて音響信号を発生する工程と、
前記音響信号に従って前記半導体基板の第1状態と第2状態とを検出する工程と、を含み、
該第1状態は前記半導体基板が静電気的にクランプされているときに検出され、前記第2状態は前記半導体基板がしきいクランピング力を超えて静電気的にクランプされていないときに検出され、
前記基板支持体は、ピンリフト機構を備え、コントローラが、前記第2状態を示す前記検出器からの出力信号を受信し、前記第2状態が検出されたときに前記基板を上昇させる前記リフトピン機構を作動させ、
前記半導体基板は、シリコンウエハであり、前記第2状態は、前記音響信号発生器によって発生された音波が前記ウエハによって吸収されたときに検出されることを特徴とする方法。 - 静電チャックのデチャックを検出する方法であって、
基板支持体上に半導体基板を支持する工程であって、該基板支持体がその支持面上に該半導体基板を静電気的にクランプするように構成された静電チャックを含む工程と、
前記半導体基板に音響信号を伝達するように構成された音響信号発生器を用いて音響信号を発生する工程と、
前記音響信号に従って前記半導体基板の第1状態と第2状態とを検出する工程と、を含み、
該第1状態は前記半導体基板が静電気的にクランプされているときに検出され、前記第2状態は前記半導体基板がしきいクランピング力を超えて静電気的にクランプされていないときに検出され、
前記基板支持体は、ピンリフト機構を備え、コントローラが、前記第2状態を示す前記検出器からの出力信号を受信し、前記第2状態が検出されたときに前記基板を上昇させる前記リフトピン機構を作動させ、
前記第2状態は、前記音響信号発生器によって発生した音波が前記半導体基板によって吸収されたときに検出されることを特徴とする方法。 - 静電チャックのデチャックを検出する方法であって、
基板支持体上にシリコンウエハを支持する工程であって、該基板支持体がその支持面上に該シリコンウエハを静電気的にクランプするように構成された静電チャックを含む工程と、
前記シリコンウエハに音響信号を伝達するように構成された音響信号発生器を用いて音響信号を発生する工程と、
前記音響信号に従って前記シリコンウエハの第1状態と第2状態とを検出する工程と、を含み、
該第1状態は前記シリコンウエハが静電気的にクランプされているときに検出され、前記第2状態は前記音響信号発生器で発生した音波が前記シリコンウエハに吸収されて前記シリコンウエハがしきいクランピング力を超えて静電気的にクランプされていないことを示すときに検出されることを特徴とする方法。
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