JP4153039B2 - ピリドン誘導体及び除草剤 - Google Patents

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Description

［技術分野］
本発明は、ピリドン誘導体及びこれを有効成分として含有する除草剤に関するものである。
［背景技術］
これまでに、３−（置換）フェニル−２−ピリドン誘導体は幾つか知られているが、本発明化合物の特徴である３−（置換）フェニル−６−（置換）アルキル−２−ピリドン誘導体については数例の化合物しか知られていない。例えば特公昭４６−３０１９０号公報明細書には３−（４−クロロフェニル）−６−メチル−２−ピリドンが記載されている。また、アメリカ合衆国特許ＵＳ−３７２Ｏ７６８号には３−フェニル−６−エチル−２−ピリドンが記載されている。しかし、何れの明細書にも除草活性についての記載はない。一方、３−（置換）フェニル−４−ピリドン誘導体は幾つか知られているが、本発明化合物の特徴である３−（置換）フェニル−６−（置換）アルキル−４−ピリドン誘導体については数例の化合物しか知られていない。例えばケミカルアブストラクト第７６巻１４０４０７号には３−フェニル−６−メチル−４−ピリドンが記載されているものの、除草活性については記載されていない。また、特開昭６２−１６７７０８号公報明細書には５位にカルバモイル基を有する３−（置換）フェニル−６−（置換）アルキル−４−ピリドン誘導体が記載され、除草活性も記載されている。しかしながら、本発明化合物とは異なるものである。
近年、特に有用作物と雑草に同時に施用しても、作物に対して害を与えずに雑草のみを枯殺する選択作用を有する除草剤が強く要望されている。また、環境中に薬剤が過剰に残留することを防止するために、低薬量で完全な効果が得られる薬剤の開発が望まれている。
本発明者らは上記の課題を解決するために数多くのピリドン誘導体を合成し、それらの有用性について種々検討した。その結果、ある種のピリドン誘導体が上記の課題を解決する優れた除草活性と選択性を有することを見いだし、本発明を完成するに至った。
［発明の開示］
すなわち、本発明は、一般式
Figure 0004153039
｛式中、ＲはＣ１〜Ｃ６アルキル基又はＣ１〜Ｃ６ハロアルキル基を表し、Ｒ１は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、アセチル基、基−Ｎ＝ＣＲ１３Ｒ１４又は基−ＮＲ２３Ｒ２４を表す（ただし、Ｒ１が水素原子の場合は、ＲはＣ１〜Ｃ６ハロアルキル基を表す。）。Ｒ１３及びＲ１４はそれぞれ独立に水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、基−ＮＲ２３Ｒ２４又はフェニル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基もしくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ基で置換されていてもよい。）を表し、Ｒ２３及びＲ２４はそれぞれ独立に水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、ベンゾイル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基もしくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ基で置換されていてもよい。）、フェノキシカルボニル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基もしくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ基で置換されていてもよい。）、ホルミル基又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基を表し、Ｒ２は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、カルボキシル基又はＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基を表し、Ｒ１９は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、シアノ基又はＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、Ｑは式
Figure 0004153039
［式中、Ｒ３は水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｒ４は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキルアミノ基、ベンジルオキシ基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基もしくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ基で置換されていてもよい）、ヒドロキシル基、チオール基、アミノ基又はシアノ基を表し、Ｒ５は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、ヒドロキシル基、チオール基、アミノ基、ニトロ基、クロロスルホニル基、アセチルチオ基、シアノ基、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ホルミル基、ヒドロキシメチル基、基−ＹＲ９、基−ＣＲ２１＝ＮＯＲ９、基−ＣＯ２Ｒ１０、基−ＣＯＳＲ１０、基−ＣＯＮＲ１０Ｒ１１、基−ＳＯ２ＮＲ１０Ｒ１１、基−ＮＨＣＯＮＨＲ１１、基−ＳＯＲ１２、基−ＳＯ２Ｒ１２、アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、基−ＣＯ２Ｎ＝ＣＲ１３Ｒ１４、基−ＣＨ（ＯＨ）Ｒ２１、基−ＣＨ２ＹＲ９、ヘテロ環基又は基−ＣＨ２ＣＨ（Ｃｌ）ＣＯ２Ｒ１０を表し、Ｙは酸素原子、硫黄原子又は基−ＮＲ２１−を表し、Ｒ２１は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル基又はＣ３〜Ｃ６アルキニル基を表し、Ｒ９はＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、ヒドロキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基、基−ＣＨ（Ｒ１５）ＣＯＹＲ１６、ベンジル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基もしくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ基で置換されていてもよい。）、基−ＣＨ２（３〜６員ヘテロ環）（該基のヘテロ環基はハロゲン原子、ニトロ基、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基もしくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ基で置換されていてもよい。）、３〜６員ヘテロ環基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、オキソ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基もしくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ基で置換されていてもよい。）又はフェニル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基もしくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ基で置換されていてもよい。）を表し、Ｒ１５は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基又はＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基を表し、Ｒ１６は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、ベンジル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基もしくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ基で置換されていてもよい。）又はフェニル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基もしくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ基で置換されていてもよい。）を表し、Ｒ１０は水素原子、ナトリウム原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６アルケニルオキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６アルキニルオキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、ハロＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、ハロＣ３〜Ｃ６アルケニルオキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、ベンジルオキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基（該基のベンジル基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基もしくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ基で置換されていてもよい。）、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６モノアルキルカルバモイルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ジアルキルカルバモイルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、フェニルオキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基（該基のフェニル基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基もしくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ基で置換されていてもよい。）、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、ベンジル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基もしくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ基で置換されていてもよい。）又はフェニル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基もしくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ基で置換されていてもよい。）を表し、Ｒ１１は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基又はＣ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、Ｒ１２は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基又はＣ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、Ｒ６は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、シアノＣ１〜Ｃ６アルキル基、ベンジル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基もしくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ基で置換されていてもよい）又は基−ＣＨ２（３〜６員ヘテロ環）を表し、Ｒ７は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、シアノ基、Ｃ１〜Ｃ６ヒドロキシアルキル基、基−ＣＯ２Ｒ１０、ホルミル基、アシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基又はカルボキシル基を表し、Ｒ８は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、アシル基、ハロゲン原子又はニトロ基を表し、Ｒ２０は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６ハロアルケニルオキシ基又は基−ＮＲ１１Ｒ１２を表し、Ｙ’は酸素原子、硫黄原子、基−ＮＲ２１−又は基−ＣＯ−を表す。］を表す。｝で示されるピリドン誘導体及びこれを有効成分として含有する除草剤を提供するものである。
なお、本明細書において、ハロゲン原子とはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を示す。
Ｃ１〜Ｃ６アルキル基とは炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示し、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、３，３−ジメチルブチル基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基とはハロゲン原子によって置換された炭素数１〜６のアルキル基を示し、例えばジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等を挙げることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基とは炭素数２〜６の直鎖又は分岐鎖状のアルケニル基を示し、例えばビニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等を挙げることができる。
Ｃ３〜Ｃ６ハロアルケニル基とはハロゲン原子によって置換された炭素数３〜６の直鎖又は分岐鎖状のアルケニル基を示し、例えば２−クロロ−２−プロペニル基、３−クロロ−２−プロペニル基等を挙げることができる。
Ｃ３〜Ｃ６アルキニル基とは炭素数３〜６の直鎖又は分岐鎖状のアルキニル基を示し、例えばプロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、３，３−ジメチル−１−ブチニル基、４−メチル−１−ペンチニル基、３−メチル−１−ペンチニル基等を挙げることができる。
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基とは炭素数３〜８のシクロアルキル基を示し、例えばシクロプロピル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
３〜６員ヘテロ環基とは例えばピリミジニル基、ピリジル基、チエニル基、チアゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、オキソラニル基、ジオキソラニル基、オキシラニル基等を挙げることができる。
次に、本発明化合物の具体例を表１〜表３３に記載する。しかしながら、本発明化合物はこれらの化合物に限定されるものではない。なお、化合物番号は以後の記載において参照される。
（表中＊は三重結合を表す。以下同様）
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本発明化合物は、例えば以下に示す製造法に従って製造することができる。しかし、その製造法はこれらの方法に限定されるものではない。
Figure 0004153039
｛式中、Ｒ１は前記と同じ意味を表し、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ａｃはアセチル基を表し、Ｑ’は式、
Figure 0004153039
〔式中、Ｒ３、Ｒ２０、Ｒ２１及びＹはそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｒ４’は水素原子、ハロゲン原子又はニトロ基を表し、Ｒ５’は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、ニトロ基、基−ＹＲ９’、基−ＳＯＲ９’、基−ＳＯ２Ｒ９’又はＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、Ｒ６’はＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ６ハロアルケニル基、オキシランメチル基又はＣ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、Ｒ７’は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子又はヒドロキシル基を表し、Ｒ８’は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基又はニトロ基を表し、Ｒ９’はＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ３〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ６ハロアルケニル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニルＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオＣ１〜Ｃ６アルキル基、ベンジルオキシ基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基等で置換されていてもよい。）又は５〜６員ヘテロ環基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基等で置換されていてもよい。）を表す。〕を表す。｝
一般式〔ＩＩ−１〕で表される化合物をハロゲン化することにより、一般式〔ＩＩ−２〕で表される化合物を製造することができる。ハロゲン化剤として例えば三臭化リン、臭化チオニル、塩化チオニル、塩化水素又は臭化水素等を使用することができる。溶媒として例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）又はジオキサン等のエーテル類あるいはｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、得られた一般式〔ＩＩ−２〕で表される化合物とシアノ化剤とを反応させることにより、一般式〔ＩＩ−３〕で表される化合物を製造することができる。シアノ化剤として例えばシアン化ナトリウム又はシアン化カリウム等を使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類、メタノール又はエタノール等のアルコール類あるいはアセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、得られた一般式〔ＩＩ−３〕で表される化合物を塩基又は酸の存在下で加水分解することにより、一般式〔ＩＩ−４〕で表される化合物を製造することができる。塩基として例えば水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等の無機塩基を使用することができる。溶媒として例えばメタノール又はエタノール等のアルコール類あるいは水等のプロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、縮合剤及び塩化マグネシウムの存在下、一般式〔ＩＩ−４〕で表される化合物とマロン酸モノエチルカリウム塩とを反応させることにより、一般式〔ＩＩ−５〕で表される化合物を製造することができる。縮合剤として例えば１，１’−カルボニルジイミダゾール（ＣＤＩ）、ヨウ化２−クロロ−１−メチルピリジニウム、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジフェニルホスホリルアジド又はトリフェニルホスフィン等を使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＩＩ−５〕で表される化合物とトリフルオロアセトニトリルとを塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＩＩ−６〕で表される化合物を製造することができる。塩基として例えばトリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）、ピリジン、ピコリン又はキノリン等の有機アミン類あるいはナトリウムメトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等の無機塩基などを使用することができる。溶媒として例えばメタノール又はエタノール等のアルコール類、ジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＩＩ−６〕で表される化合物とオルトギ酸エステルとを無水酢酸の存在下反応させ、一般式〔ＩＩ−７〕で表される化合物を製造することができる。オルトギ酸エステルとして例えばオルトギ酸メチル又はオルトギ酸エチル等を使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒、酢酸等のカルボン酸類あるいは無水酢酸を使用することができる。上記の反応は、室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＩＩ−７〕で表される化合物を加水分解することにより、一般式〔ＩＩ−８〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えば水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等の無機塩基を使用することができる。酸として例えば硫酸又は塩酸等を使用することができる。溶媒として例えばメタノール又はエタノール等のアルコール類、水等のプロトン性極性溶媒あるいはジオキサン又はＴＨＦ等のエーテル類などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。なお、本化合物にはケト−エノール互変異性体が存在する。
次に、一般式〔ＩＩ−８〕で表される本発明化合物と一般式〔ＩＩ−９〕で表される化合物とを塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＩＩ−１０〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等の無機塩基あるいはトリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン又はキノリン等の有機アミン類を使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、得られた一般式〔ＩＩ−１０〕で表される本発明化合物とルイス酸とを反応させた後、水を加えることにより、一般式〔ＩＩ−１１〕で表される本発明化合物を製造し、次に銅触媒の存在下で脱炭酸し、一般式〔ＩＩ〕で表される本発明化合物を製造することができる。ルイス酸として例えば三臭化ホウ素又は三塩化アルミニウム等を使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類、アセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒あるいはメタノール又はエタノール等のアルコール類などを使用することができる。また、脱炭酸はキノリン等の高沸点溶媒を使用することができる。上記の反応は、室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
また、別法として一般式〔ＩＩ−１０〕で表される本発明化合物をジメチルスルホキシドと水及び塩化ナトリウムの存在下で脱炭酸し、一般式〔ＩＩ〕で表される本発明化合物製造することができる。上記の反応は、室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
Figure 0004153039
（式中、Ｑ’、Ｒ、Ｒ１、Ｒ２及びＸはそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｒ１９’は水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキル基を表す。）
一般式〔ＩＩ−３〕で表される化合物と一般式〔III−１〕で表される化合物とを塩基の存在下反応させた後、酸で処理することにより、一般式〔III−２〕で表される本発明化合物と一般式〔III−３〕で表される化合物との混合物を製造することができる。塩基として例えばトリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン又はキノリン等の有機アミン類あるいはナトリウムメトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等の無機塩基などを使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。酸として例えば塩酸又は硫酸等を使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。なお、一般式〔III−２〕で表される本発明化合物にはケト−エノール互変異性体が存在する。
次に、得られた一般式〔III−２〕で表される本発明化合物と一般式〔ＩＩ−９〕で表される化合物又は２，４−ジニトロフェノキシアミンとを塩基の存在下、場合によっては相間移動触媒を使用し、反応させることにより、一般式〔III〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばトリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン又はキノリン等の有機アミン類あるいはナトリウム、水素化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等の無機塩基などを使用することができる。相間移動触媒として例えばテトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド又はベンジルトリエチルアンモニウムクロリド等を使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類、酢酸等のカルボン酸類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
また、別法として、一般式〔III−３〕で表される化合物と一般式〔III−４〕で表される化合物とを反応させても一般式〔III〕で表される本発明化合物を製造することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類、酢酸等のカルボン酸類、メタノール又はエタノール等のアルコール類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は無水条件で、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。場合により中間体のアミド誘導体を単離した後、パラトルエンスルホン酸等の酸触媒存在下に閉環させる。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
また、一般式〔III−２〕で表される本発明化合物は別法として、一般式〔III−６〕で表される化合物と一般式〔III−７〕で表される化合物とを反応させても製造することができる。溶媒として例えば酢酸又はポリリン酸等の酸類、ジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
また、一般式〔III−６〕で表される化合物は一般式〔ＩＩ−３〕で表される化合物とギ酸エチルとを塩基の存在下反応させることにより製造することができる。塩基として例えばトリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン又はキノリン等の有機アミン類あるいはナトリウム、水素化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等の無機塩基などを使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類、メタノール又はエタノール等のアルコール類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、１〜２４時間で終了する。場合により塩を単離した後、酢酸等により酸性にして取り出す。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
また、一般式〔III−３〕で表される化合物は別法として、一般式〔III−８〕で表される化合物と一般式〔III−１〕で表される化合物とを塩基の存在下反応させた後、酸で処理することにより製造することができる。塩基として例えばリチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）、トリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン又はキノリン等の有機アミン類あるいはナトリウムメトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等の無機塩基などを使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。酸として例えば塩酸又は硫酸等を使用することができる。上記の反応は、−７０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
また、一般式〔III−８〕で表される化合物は一般式〔ＩＩ−４〕で表される化合物を酸の存在下でエタノールと反応させることにより製造することができる。溶媒としてはエタノールを使用する。酸として例えば塩酸又は硫酸等を使用することができる。上記の反応は、室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
Figure 0004153039
〔式中、Ｒ３、Ｒ４’及びＲ９はそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｒ１７はＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、Ｐは式
Figure 0004153039
（式中、Ｒ、Ｒ１、Ｒ２及びＲ１９’はそれぞれ前記と同じ意味を表す。）を表す。〕
一般式〔ＩＶ−１〕で表される本発明化合物とルイス酸とを反応させて、一般式〔ＩＶ−２〕で表される本発明化合物を製造することができる。ルイス酸として例えば三臭化ホウ素又は三塩化アルミニウム等を使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類、酢酸等のカルボン酸類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＩＶ−２〕で表される本発明化合物と一般式〔ＩＶ−３〕で表される化合物、一般式〔ＩＶ−４〕で表される化合物又は塩化ジフェニルヨードニウム（Ｒ９がフェニル基の場合）とを塩基の存在下反応させるか、あるいは一般式〔ＩＶ−５〕で表される化合物とをアゾジカルボン酸ジエチル及びトリフェニルホスフィンの存在下反応させることにより、一般式〔ＩＶ〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばトリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン又はキノリン等の有機アミン類あるいはナトリウムメトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等の無機塩基などを使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類、酢酸等のカルボン酸類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
Figure 0004153039
（式中、Ｐ、Ｒ３及びＲ４’はそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｒ１８はＣ１〜Ｃ５アルキル基又は水素原子を表す。）
一般式〔Ｖ−１〕で表される本発明化合物をフッ化セシウムの存在下、閉環反応させることにより一般式〔Ｖ〕で表される本発明化合物を製造することができる。溶媒として例えばＮ，Ｎ−ジエチルアニリン又はＮ，Ｎ−ジメチルアニリン等のＮ，Ｎ−ジアルキルアニリン類を使用することができる。上記の反応は、室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
Figure 0004153039
（式中、Ｐ、Ｒ３、Ｒ６’、Ｒ１７、Ｘ及びＹはそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
一般式〔ＶＩ−１〕で表される本発明化合物をニトロ化することにより、一般式〔ＶＩ−２〕で表される本発明化合物を製造することができる。ニトロ化剤として例えば硝酸もしくは発煙硝酸又は硝酸もしくは発煙硝酸と硫酸との混酸等を使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＶＩ−２〕で表される本発明化合物と一般式〔ＶＩ−３〕で表される化合物とを塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＶＩ−４〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等の無機塩基あるいはトリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン又はキノリン等の有機アミン類などを使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類、酢酸等のカルボン酸類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＶＩ−４〕で表される本発明化合物を還元することにより、一般式〔ＶＩ−５〕で表される本発明化合物を製造できる。還元剤として例えば鉄又はすず／塩酸等を使用することができる。溶媒として例えば酢酸等のカルボン酸類、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、メタノール又はエタノール等のアルコール類あるいは水などを使用することができる。上記の反応は、室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＶＩ−５〕で表される本発明化合物と一般式〔ＶＩ−６〕で表される化合物とを塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＶＩ〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等の無機塩基あるいはトリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン又はキノリン等の有機アミン類などを使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
Figure 0004153039
（式中、Ｐ、Ｒ３、Ｒ４’、Ｒ９、Ｒ１１及びＸはそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
一般式〔ＶＩＩ−１〕で表される本発明化合物をニトロ化することにより、一般式〔ＶＩＩ−２〕で表される本発明化合物を製造することができる。ニトロ化剤として例えば硝酸もしくは発煙硝酸又は硝酸もしくは発煙硝酸と硫酸との混酸等を使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＶＩＩ−２〕で表される本発明化合物を還元することにより、一般式〔ＶＩＩ−３〕で表される本発明化合物を製造することができる。還元剤として例えば鉄又はすず／塩酸等を使用することができる。溶媒として例えば酢酸等のカルボン酸類、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、メタノール又はエタノール等のアルコール類あるいは水などを使用することができる。上記の反応は、室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＶＩＩ−３〕で表される本発明化合物と一般式〔ＩＶ−３〕又は一般式〔ＩＶ−４〕で表される化合物とを塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＶＩＩ〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等の無機塩基あるいはトリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン又はキノリン等の有機アミン類などを使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。一般式〔ＩＶ−４〕で表される化合物との反応の場合、生じたビス体をエタノール中で水酸化ナトリウム水溶液により加水分解する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
また、一般式〔ＶＩＩ−３〕で表される本発明化合物と一般式〔ＶIII−１〕で表される化合物とを反応させることにより、一般式〔ＶIII〕で表される本発明化合物を製造することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
Figure 0004153039
（式中、Ｐ、Ｒ３、Ｒ４’、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２及びＸはそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
一般式〔ＶＩＩ−１〕で表される本発明化合物をクロロスルホン化剤と反応させることにより、一般式〔ＩＸ−１〕で表される本発明化合物を製造することができる。クロロスルホン化剤として例えばクロロスルホン酸又は無水硫酸、硫酸及び四塩化炭素の混合液等を使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＩＸ−１〕で表される本発明化合物を還元することにより、一般式〔ＩＸ−２〕で表される本発明化合物を製造することができる。還元剤として例えば赤リンとヨウ素との混合物又は亜鉛等を使用することができる。溶媒として例えば酢酸等を使用することができる。上記の反応は、室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＩＸ−２〕で表される本発明化合物をアルカリ加水分解することにより、一般式〔ＩＸ−３〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えば水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等が使用できる。溶媒として例えばメタノール、エタノール、水又はこれらの混合液等を使用することができる。上記の反応は、室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＩＸ−３〕で表される本発明化合物と一般式〔ＩＶ−３〕で表される化合物又は一般式〔ＩＶ−４〕で表される化合物とを塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＩＸ〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等の無機塩基あるいはトリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン又はキノリン等の有機アミン類などを使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
上記と同様の方法により、一般式〔ＩＸ−３〕で表される本発明化合物と一般式〔ＩＶ−３’〕で表される化合物又は一般式〔ＩＶ−４’〕で表される化合物とを塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＩＸ’〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等の無機塩基あるいはトリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン又はキノリン等の有機アミン類などを使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＩＸ’〕で表される本発明化合物を酸化することにより、一般式〔ＩＸ’’〕で表される本発明化合物又は一般式〔ＩＸ’’’〕で表される本発明化合物を製造することができる。酸化剤として例えば過酸化水素、ｍ−クロロ過安息香酸、次亜塩素酸ソーダ又は過酸化モノ硫酸カリウム（商品名オキソン）等が使用できる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類、アセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒あるいはメタノール、エタノール又は水等のプロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
また、一般式〔ＩＸ−１〕で表される化合物と一般式〔Ｘ−１〕で表される化合物とを塩基の存在下反応させることにより、一般式〔Ｘ〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等の無機塩基あるいはトリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン又はキノリン等の有機アミン類などを使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
Figure 0004153039
（式中、Ｐ、Ｒ３、Ｒ６及びＸは前記と同じ意味を表す。）
一般式〔ＶＩ−２〕で表される本発明化合物と水硫化ナトリウムとを反応させることにより、一般式〔ＸＩ−１〕で表される本発明化合物を製造することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類、酢酸等の酸類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＩ−１〕で表される本発明化合物を還元することにより、一般式〔ＸＩ−２〕で表される本発明化合物を製造できる。還元剤として例えば鉄又はすず／塩酸等を使用することができる。溶媒として例えば酢酸等のカルボン酸類、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、メタノール、エタノールなどのアルコール類あるいは水などを使用することができる。上記の反応は、室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＩ−２〕で表される本発明化合物とＣＤＩとを反応させることにより、一般式〔ＸＩ−３〕で表される本発明化合物を製造できる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＩ−３〕で表される本発明化合物と一般式〔ＶＩ−６〕で表される化合物とを塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＸＩ］で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等の無機塩基あるいはトリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン又はキノリン等の有機アミン類などを使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
Figure 0004153039
（式中、Ｐ、Ｒ３、Ｒ４’、Ｒ９、Ｒ１１及びＸはそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｒ２２はＣ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基又はＣ３〜Ｃ６アルキニル基を表す。）
一般式〔ＸＩＩ−１〕で表される本発明化合物をブロモ化することにより、一般式〔ＸＩＩ−２〕で表される本発明化合物を製造することができる。ブロモ化剤としてＮ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）等を使用することができる。触媒として２，２’−アゾビスイソブチロニトリルを使用し、溶媒として例えば四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＩＩ−２〕で表される本発明化合物を酸化することにより、一般式〔ＸＩＩ−３〕で表される本発明化合物を製造することができる。酸化剤としてナトリウムメトキシドと２−ニトロプロパンより調製したもの等を使用することができる。溶媒として例えばメタノール、エタノール等のアルコール類などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＩＩ−３〕で表される本発明化合物をヒドロキシルアミン塩酸塩と脱水剤を使用することにより、一般式〔ＸＩＩ〕で表される本発明化合物を製造することができる。脱水剤として硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、パラトルエンスルホン酸等を使用することができる。また、これらを混合する場合もある。溶媒として例えばｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の炭化水素類などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＩＩ〕で表される本発明化合物を加水分解することにより、一般式〔ＸIII’〕で表される本発明化合物を製造することができる。酸として例えば硫酸、塩酸を使用することができる。溶媒として例えばメタノール又はエタノール等のアルコール類あるいは水等のプロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸIII’〕で表される本発明化合物と一般式〔ＸIII−１〕で表される化合物を塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＸIII〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等の無機塩基などを使用することができる。溶媒として例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＩＩ−３〕で表される本発明化合物とヒドロキアミン塩酸塩とを塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＸＩＶ’〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等の無機塩基などを使用することができる。溶媒として例えばベンゼン又はトルエン等の炭化水素類あるいはメタノール又はエタノール等のアルコール類などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＩＶ’〕で表される本発明化合物と一般式〔ＸＩＶ−１〕で表される化合物を塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＸＩＶ〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等の無機塩基などを使用することができる。溶媒として例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
また、別法として一般式〔ＸＩＩ−３〕で表される本発明化合物と一般式〔ＸＩＶ−２〕で表される化合物を塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＸＩＶ〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等の無機塩基などを使用することができる。溶媒として例えばベンゼン又はトルエン等の炭化水素類あるいはメタノール又はエタノール等のアルコール類などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＩＩ−２〕で表される本発明化合物と一般式〔ＸＶ−１〕で表される化合物を塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＸＶ〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等の無機塩基などを使用することができる。溶媒として例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＩＩ−３〕で表される本発明化合物と一般式〔ＸＶＩ−１〕又は一般式〔ＸＶＩ−２〕で表される化合物を反応させることにより、一般式〔ＸＶＩ−３〕で表される本発明化合物を製造することができる。溶媒として例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＶＩ−３〕で表される本発明化合物をジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）と塩化オキザリルと反応させた後、塩基を加えることにより酸化し、一般式〔ＸＶＩ〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基としてトリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン又はキノリン等の有機アミン類などを使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−８０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＶＩ〕で表される本発明化合物と一般式〔ＸＶＩ−３〕で表される化合物を塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＸＶＩ’〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等の無機塩基などを使用することができる。溶媒として例えばベンゼン又はトルエン等の炭化水素類あるいはメタノール又はエタノール等のアルコール類などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
Figure 0004153039
（式中、Ｐ、Ｒ３、Ｒ４’及びＲ１０は前記と同じ意味を表す。）
一般式〔ＶＩＩ−３〕で表される本発明化合物を亜硝酸ｔｅｒｔ−ブチルと塩化銅（ＩＩ）を反応させジアゾ化した後、一般式〔ＸＶＩＩ−１〕で表される化合物と反応させることにより、一般式〔ＸＶＩＩ〕で表される本発明化合物を製造することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
Figure 0004153039
（式中、Ｐ、Ｒ３、Ｒ４’及びＲ１８はそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
一般式〔ＸＶIII−１〕で表される本発明化合物をフッ化セシウムの存在下、閉環反応させることにより一般式〔ＸＶIII〕で表される本発明化合物を製造することができる。溶媒として例えばＮ，Ｎ−ジエチルアニリン又はＮ，Ｎ−ジメチルアニリン等のＮ，Ｎ−ジアルキルアニリン類を使用することができる。上記の反応は、室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
Figure 0004153039
（式中、Ｑ’、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ２３及びＲ２４はそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
一般式〔ＸＩＸ−１〕で表される本発明化合物を一般式〔ＸＩＸ−２〕で表される化合物とを場合によってはルイス酸を使用し反応させることにより、一般式〔ＸＩＸ〕で表される本発明化合物を製造することができる。ルイス酸としてパラトルエンスルホン酸又は四塩化チタンを使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＩＸ−１〕で表される本発明化合物と一般式〔ＸＸ−１〕で表される化合物とを場合によっては塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＸＸ〕で表される本発明化合物又は一般式〔ＸＩＸ’’〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等の無機塩基あるいはトリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン又はキノリン等の有機アミン類などを使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＸ〕で表される本発明化合物と一般式〔ＸＸ−２〕で表される化合物とを場合によっては塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＸＸ’〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等の無機塩基あるいはトリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン又はキノリン等の有機アミン類などを使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
Figure 0004153039
（式中、Ｐ、Ｒ３、Ｒ６及びＸはそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
一般式〔ＸＸＩ−１〕で表される本発明化合物をチオシアン酸アンモニウムと反応させることにより、一般式〔ＸＸＩ−２〕で表される本発明化合物を製造することができる。溶媒として例えばベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、酢酸等の酸類あるいはメタノール又はエタノール等のアルコール類を使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＸＩ−２〕で表される本発明化合物を臭素又は塩化スルフリルと反応させることにより、一般式〔ＸＸＩ−３〕で表される本発明化合物を製造することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、酢酸等の酸類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＸＩ−３〕で表される本発明化合物をジアゾ化を行なった後、場合によっては硝酸銅（ＩＩ）、酸化銅（Ｉ）などの触媒を使用することにより加水分解して、一般式〔ＸＸＩ’〕で表される本発明化合物を製造することができる。ジアゾ化剤として例えば亜硝酸ナトリウムを使用し、溶媒として例えば酢酸、塩酸、硫酸、水又はそれらの混合物を使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＸＩ’〕で表される本発明化合物と一般式〔ＸＸＩ−４〕で表される化合物とを塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＸＸＩ〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等の無機塩基あるいはトリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン又はキノリン等の有機アミン類などを使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
Figure 0004153039
（式中、Ｐ、Ｒ３、Ｒ４’及びＲ１８は前記と同じ意味を表し、Ｒ２５は水素原子又はアルキル基を表す。）
一般式〔ＸＸＩＩ−１〕で表される本発明化合物をブロモ化することにより、一般式〔ＸＸＩＩ−２〕で表される本発明化合物を製造することができる。ブロモ化剤として例えばＮＢＳ等を使用することができる。触媒として例えば２，２’−アゾビスイソブチロニトリルを使用することができる。溶媒として例えば四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＸＩＩ−２〕で表される本発明化合物と一般式〔ＸＸＩＩ−３〕で表される化合物を塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＸＸＩＩ〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等の無機塩基などを使用することができる。溶媒として例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類、アセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒あるいは過剰の一般式〔ＸＸＩＩ−３〕で表される化合物を使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＸＩＩ〕で表される本発明化合物を三臭化ホウ素と反応させることにより、一般式〔ＸＸＩＩ’〕で表される本発明化合物を製造することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−７０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＸＩＩ−２〕で表される本発明化合物と一般式〔ＸＸIII−１〕で表される化合物を塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＸＸIII〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等の無機塩基などを使用することができる。溶媒として例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＸIII〕で表される本発明化合物を酸化することにより、一般式〔ＸＸIII’〕で表される本発明化合物又は一般式〔ＸＸIII’’〕で表される本発明化合物を製造することができる。酸化剤として例えば過酸化水素、ｍ−クロロ過安息香酸、次亜塩素酸ナトリウム又は過酸化モノ硫酸カリウム（商品名オキソン）等が使用できる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類、アセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒あるいはメタノール、エタノール又は水等のプロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、室温から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
Figure 0004153039
（式中、Ｐ、Ｒ３、Ｒ４’及びＲ１０は前記と同じ意味を表す。）
一般式〔ＸＸＩＶ−１〕で表される本発明化合物をブロモ化することにより、一般式〔ＸＸＩＶ−２〕で表される本発明化合物又は一般式〔ＸＸＶ−１〕で表される本発明化合物を製造することができる。ブロモ化剤として例えばＮＢＳを使用することができる。触媒として例えば２，２’−アゾビスイソブチロニトリルを使用することができる。溶媒として例えば四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
一般式〔ＸＸＩＶ−２〕で表される本発明化合物を酸処理することにより、一般式〔ＸＸＩＶ−３〕で表される本発明化合物を製造することができる。酸としては硫酸、塩酸を使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
一般式〔ＸＸＩＶ−３〕で表される本発明化合物を酸化することにより、一般式〔ＸＸＩＶ’〕で表される本発明化合物を製造することができる。酸化剤としてはジョーンズ試薬（ＣｒＯ３−Ｈ２ＳＯ４）を使用することができる。溶媒として例えばアセトン等のケトン類などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−２０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
一般式〔ＸＸＩＶ’〕で表される本発明化合物と一般式〔ＸＸＩＶ−４〕で表される化合物とを触媒の存在下反応させることにより、一般式〔ＸＸＩＶ〕で表される本発明化合物を製造することができる。触媒としては硫酸、パラトルエンスルホン酸等を使用することができる。また、溶媒として一般式〔ＸＸＩＶ−４〕で表される化合物を使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
一般式〔ＸＸＩＶ’〕で表される本発明化合物を場合によっては銅などの触媒を使用し脱炭酸させることにより、一般式〔ＸＸＶＩ〕で表される本発明化合物を製造することができる。溶媒として例えばキノリンなどの塩基性溶媒を使用するか又は無溶媒で行うことができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で１００℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
一般式〔ＸＸＶ−１〕で表される本発明化合物をフッ素化剤と反応させることにより、一般式〔ＸＸＶ〕で表される本発明化合物を製造することができる。フッ素化剤として例えばフッ化カリウムを使用することができる。溶媒として例えばアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
Figure 0004153039
（式中、Ｑ’は前記と同じ意味を表し、Ｒ２６はＣ１〜Ｃ６アルキル基を表す。）
一般式〔ＩＩ−４〕で表される本発明化合物を塩化チオニルと反応させることにより、一般式〔ＸＸＶＩＩ−１〕で表される本発明化合物を製造することができる。溶媒として例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。また、塩化チオニルを溶媒として使用することもできる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＸＶＩＩ−１〕で表される化合物と一般式〔ＸＸＶＩＩ−２〕で表される化合物とを場合によっては塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＸＸＶＩＩ−３〕で表される化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等の無機塩基あるいはトリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン又はキノリン等の有機アミン類などを使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＸＶＩＩ−３〕で表される化合物をＬＤＡと反応させることにより、一般式〔ＸＸＶＩＩ−４〕で表される化合物を製造することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−８０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＸＶＩＩ−４〕で表される化合物をオキシ塩化リンと反応させることにより、一般式〔ＸＸＶＩＩ〕で表される本発明化合物及び一般式〔ＸＸＶIII〕で表される本発明化合物を製造することができる。溶媒として例えばジエチルアニリン、ジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。また、オキシ塩化リンを溶媒としても使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー又は液体カラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＸＶＩＩ〕で表される化合物をフッ化カリウムと反応させることにより、一般式〔ＸＸＶＩＩ’〕で表される本発明化合物を製造することができる。溶媒として例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＸＶＩＩ〕で表される化合物をシアン化カリウムと反応させることにより、一般式〔ＸＸＶＩＩ’’〕で表される本発明化合物を製造することができる。溶媒として例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＡＣ又はＤＭＳＯ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＸＶＩＩ−４〕で表される本発明化合物と一般式〔ＸＸＶＩＩ−５〕で表される化合物とを塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＸＸＶIII’〕で表される本発明化合物及び一般式〔ＸＸＶＩＩ’’’〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等の無機塩基などを使用することができる。溶媒として例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＡＣ又はＤＭＳＯ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜４８時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィー又は液体カラムクロマトグラフィーにて精製する。
Figure 0004153039
（式中、Ｐ、Ｒ３、Ｒ６、Ｒ１７、Ｒ２１及びＸはそれぞれ前記と同じ意味を表す。）
一般式〔ＸＸＩＸ−１〕で表される本発明化合物を三臭化ホウ素と反応させることにより、一般式〔ＸＸＩＸ−２〕で表される本発明化合物を製造することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−７０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＸＩＸ−２〕で表される本発明化合物と一般式〔ＸＸＩＸ−３〕で表される化合物とを塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＸＸＩＸ−４〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等の無機塩基あるいはトリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン又はキノリン等の有機アミン類などを使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＸＩＸ−４〕で表される本発明化合物を還元剤と反応させることにより、一般式〔ＸＸＩＸ’〕で表される本発明化合物を製造することができる。還元剤として例えば鉄粉、スズなどを使用し、場合によっては塩酸を使用する。溶媒として例えばベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、酢酸エチル又は酢酸メチル等のエステル類、酢酸等の酸類、メタノール又はエタノール等のアルコール類あるいは水を使用することができる。また、場合によってはこれらを混合して使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＸＩＸ’〕で表される本発明化合物と一般式〔ＸＸＩＸ−５〕で表される化合物とを塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＸＸＩＸ〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等の無機塩基あるいはトリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン又はキノリン等の有機アミン類などを使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＸＩＸ−２〕で表される本発明化合物を還元剤と反応させることにより、一般式〔ＸＸＸ−１〕で表される本発明化合物を製造することができる。還元剤として例えば鉄粉、スズなどを使用し、場合によっては塩酸を使用する。溶媒として例えばベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、酢酸エチル又は酢酸メチル等のエステル類、酢酸等の酸類、メタノール又はエタノール等のアルコール類あるいは水を使用することができる。また、場合によってはこれらを混合して使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＸＸ−１〕で表される本発明化合物をＣＤＩと反応させることにより、一般式〔ＸＸＸ’〕で表される本発明化合物を製造することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類、メタノール又はエタノール等のアルコール類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ又はＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
次に、一般式〔ＸＸＸ’〕で表される本発明化合物と一般式〔ＸＸＸ−２〕で表される化合物とを塩基の存在下反応させることにより、一般式〔ＸＸＸ〕で表される本発明化合物を製造することができる。塩基として例えばナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等の無機塩基あるいはトリエチルアミン、ＤＢＵ、ピリジン、ピコリン又はキノリン等の有機アミン類などを使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類、ｎ−ヘキサン、ベンゼン又はトルエン等の炭化水素類、アセトン又はメチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類あるいはアセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＡＣ等の非プロトン性極性溶媒などを使用することができる。上記の反応は、−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
Figure 0004153039
（式中、Ｒ３及びＲ４’はそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｒ５’はＣ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基を表す。）
一般式〔ＸＸＸＩ−１〕で表される化合物とメトキシメチルクロリドとをルイス酸の存在下反応させることにより、一般式〔ＸＸＸＩ〕で表される本発明化合物を製造することができる。ルイス酸としては例えば四塩化チタン又は塩化アルミニウム等を使用することができる。溶媒として例えばジクロロメタン、クロロホルム又は四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類あるいはジエチルエーテル、ＴＨＦ又はジオキサン等のエーテル類などを使用することができる。上記の反応は、場合によっては窒素気流下で−１０℃から溶媒の沸点温度の範囲で行い、通常は１〜２４時間で終了する。目的化合物は反応液から常法により単離することができる。また、必要に応じて再結晶又はカラムクロマトグラフィーにて精製する。
［発明を実施するための最良の形態］
次に、実施例を挙げて本発明化合物の製造法、製剤法及び用途を具体的に説明する。しかしながら、本発明はこれらに限定されるものではない。まず、本発明化合物の具体的製造例を記載する。
製造例１
５−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニル）−３−エトキシカルボニル−２−トリフルオロメチル−４（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号６−５７）の製造
４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシベンジルブロミド（中間体番号１５−１）の製造
４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシベンジルアルコール１２４ｇ（０．５６ｍｏｌ）をジエチルエーテル９００ｍｌに溶解し、三臭化リン５５ｇ（０．２０ｍｏｌ）を氷冷下これに滴下した。室温で３時間撹拌した後、氷水中にあけジエチルエーテルで抽出した。水、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。ジエチルエーテルを減圧下にて留去して目的物１４３ｇ（収率８９％）を得た。
４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニルアセトニトリル（中間体番号１５−２）の製造
シアン化ナトリウム２６ｇ（０．５３ｍｏｌ）をＤＭＦ７００ｍｌに溶解し、４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシベンジルブロミド１４３ｇ（０．５０ｍｏｌ）を室温でこれに滴下した。室温で８時間撹拌した後、水中にあけ酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去して目的物１０７ｇ（収率９２％）を得た。
４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニル酢酸（中間体番号１５−３）の製造
４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニルアセトニトリル１０７ｇ（０．４７ｍｏｌ）をエタノール４００ｍｌに溶解し、水酸化カリウム１００ｇ（１．７８ｍｏｌ）を加え１時間還流した。エタノールを減圧下にて留去した後、得られた残渣を水中にあけジエチルエーテルで洗浄した後、クエン酸で酸性としてから酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた粗結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄して目的物７０ｇ（収率６１％）を得た。融点７５〜７６℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：１．３５（６Ｈ，ｄ）、３．６６（２Ｈ，ｓ）、４．４５（１Ｈ，ｍ）、６．８４（１Ｈ，ｄ）、７．１６（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニルアセト酢酸エチル（中間体番号１５−４）の製造
４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニル酢酸４７ｇ（０．１９ｍｏｌ）をＴＨＦ３００ｍｌに溶解し、ＣＤＩ３４ｇ（０．２１ｍｏｌ）を加え室温で３時間撹拌した。この反応溶液にマロン酸モノエチルカリウム５０ｇ（０．２９ｍｏｌ）及び無水塩化マグネシウム２８ｇ（０．２９ｍｏｌ）を加え６０℃で３時間撹拌した。ＴＨＦを減圧下にて留去した後、得られた残渣を水中にあけ、１Ｎ塩酸でｐＨ１としてから酢酸エチルで抽出した。水、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた粗結晶をｎ−ヘキサンで洗浄して目的物３５ｇ（収率５８％）を得た。融点５７〜５８℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：１．２８（３Ｈ，ｔ）、１．３５（６Ｈ，ｄ）、３．５１（２Ｈ，ｓ）、３．８２（２Ｈ，ｓ）、４．１９（２Ｈ，ｔ）、４．４７（１Ｈ，ｍ）、６．７７（１Ｈ，ｄ）、７．１２（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
４−アミノ−１−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニル）−３−エトキシカルボニル−５，５，５−トリフルオロ−３−ペンテン−２−オン（中間体番号１５−７）の製造
エタノール４００ｍｌに４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニルアセト酢酸エチル３５ｇ（０．１１ｍｏｌ）、酢酸ナトリウム１１ｇ（０．１３ｍｏｌ）を加え、加熱還流下トリフルオロアセトニトリル［トリフルオロアセトアミド８４ｇ（０．６８ｍｏｌ）及び五酸化二リン９６ｇ（０．６８ｍｏｌ）をトルエン中で加熱還流させて発生させた。］を吹き込みながら６時間撹拌した。エタノールを減圧下にて留去した後、得られた残渣を水中にあけ酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた粗結晶をジイソプロピルエーテル、ｎ−ヘキサンで洗浄して目的物２２ｇ（収率４８％）を得た。融点５８〜５９℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：１．２８（６Ｈ，ｄ）、１．３５（３Ｈ，ｔ）、３．５１（２Ｈ，ｓ）、３．８３（２Ｈ，ｓ）、４．２０（２Ｈ，ｑ）、６．７７（１Ｈ，ｄ）、７．１３（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
４−アセトキシ−５−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニル）−２−トリフルオロメチルニコチン酸エチル（中間体番号１６−４）の製造
４−アミノ−１−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニル）−３−エトキシカルボニル−５，５，５，−トリフルオロ−３−ペンテン−２−オン２２ｇ（５３ｍｍｏｌ）、オルトギ酸エチル１５ｇ（１０１ｍｍｏｌ）を無水酢酸１００ｍｌに溶解し、加熱還流下８時間撹拌した。無水酢酸を減圧下にて留去した後、得られた残渣を熱水中にあけ１時間撹拌した後、酢酸エチルで抽出した。水、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去して目的物２３ｇ（収率９２％）を得た。
５−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニル）−３−エトキシカルボニル−２−トリフルオロメチル−４（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号６−５７）の製造
４−アセトキシ−５−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニル）−２−トリフルオロメチルニコチン酸エチル２３ｇ（５０ｍｍｏｌ）をエタノール３０ｍｌに溶解し、水酸化カリウム６ｇ（１０７ｍｍｏｌ）、水１５ｍｌを加え６０℃で１時間撹拌した。エタノールを減圧下にて留去した後、得られた残渣を水中にあけクエン酸で酸性としてから酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去して目的物２０ｇ（収率９５％）を得た。融点１１８〜１１９℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：１．３８（６Ｈ，ｄ）、１．４６（３Ｈ，ｔ）、４．５４（２Ｈ，ｑ）、６．９８（１Ｈ，ｄ）、７．２６（１Ｈ，ｄ）、８．５４（１Ｈ，ｓ）、１１．６６（１Ｈ，ｓ）ｐｐｍ
製造例２
５−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニル）−３−エトキシカルボニル−１−メチル−２−トリフルオロメチル−４（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号６−４２）の製造
５−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニル）−３−エトキシカルボニル−２−トリフルオロメチル−４（１Ｈ）−ピリドン２０ｇ（４７ｍｏｌ）をＤＭＦ１５０ｍｌに溶解し、氷冷下で６０％水素化ナトリウム２．１ｇ（５３ｍｍｏｌ）を加え、室温で１５分間撹拌した後、ヨウ化メチル１４ｇ（９９ｍｍｏｌ）を加えた。室温で８時間撹拌した後、水中にあけ酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物６ｇ（収率２８％）を得た。融点１７０〜１７２℃
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：１．４０（９Ｈ，ｍ）、３．８５（３Ｈ，ｓ）、４．４０（２Ｈ，ｑ）、４．５１（１Ｈ，ｍ）、７．１７（１Ｈ，ｄ）、７．４０（１Ｈ，ｄ）、７．６３（１Ｈ，ｓ）ｐｐｍ
製造例３
５−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニル）−１−メチル−２−トリフルオロメチル−４（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号６−７）の製造
５−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニル）−３−エトキシカルボニル−１−メチル−２−トリフルオロメチル−４（１Ｈ）−ピリドン０．７ｇ（１．６ｍｍｏｌ）、塩化ナトリウム０．１５ｇ（２．５ｍｍｏｌ）及び水０．１ｍｌをジメチルスルホキシド５ｍｌに加え、１９０℃で３時間撹拌した。冷却後、この反応溶液を水中にあけ酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．１０ｇ（収率１７％）を得た。融点１５０〜１５１℃
製造例４
５−（２，４−ジクロロフェニル）−１−メチル−２−トリフルオロメチル−４（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号６−３）の製造
５−（２，４−ジクロロフェニル）−３−エトキシカルボニル−１−メチル−２−トリフルオロメチル−４（１Ｈ）−ピリドン４．１ｇ（１０．４ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１００ｍｌに溶解し、−６０℃に冷却下３Ｎ三臭化ホウ素ジクロロメタン溶液１０ｍｌを滴下した。室温で３時間撹拌した後、氷水にあけ析出した結晶をろ集した後、水で洗浄した。これを減圧乾燥して粗結晶を得た。キノリン５０ｍｌにこの粗結晶及び銅０．０４ｇ（０．６ｍｍｏｌ）を加え、１７０℃で１時間撹拌した。この反応溶液を水中にあけ析出した粗結晶をろ集した。この粗結晶を少量のＤＭＦに溶解し、不溶物をろ過した後、ろ液を水中にあけ析出した結晶をろ集した。水で結晶を洗浄後、これを乾燥して目的物０．９ｇ（収率２６％）を得た。融点２０５〜２０６℃
製造例５
３−（２，４−ジフルオロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−１２）の製造
３−（２，４−ジフルオロフェニル）−６−トリフルオロメチル−２Ｈ−ピラン−２−オン（中間体番号１７−１）の製造
カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド７．７ｇ（６９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ２００ｍｌに溶解し、氷冷下２，４−ジフルオロフェニルアセトニトリル１０ｇ（６５ｍｍｏｌ）を滴下した。１０分後、（Ｅ）−４−エトキシ−１，１，１−トリフルオロ−３−ブテン−２−オン１３．５ｇ（６９ｍｍｏｌ）を滴下した後、室温で４時間撹拌した。ＴＨＦを減圧下にて留去した後、得られた残渣を水中にあけ、１Ｎ塩酸でｐＨ１としてから酢酸エチルで抽出した。水、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した後、酢酸エチルを減圧下にて留去した。得られた残渣に濃塩酸１５０ｍｌを加え、加熱還流下４時間撹拌した。この反応溶液を氷水中にあけ酢酸エチルで抽出した後、水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した後、酢酸エチルを減圧下にて留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物１３．８ｇ（収率７６％）を得た。融点９８〜１００℃
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：６．７８（１Ｈ，ｄ）、６．９５（２Ｈ，ｍ）、７．５２（１Ｈ，ｄ）、７．５６（１Ｈ，ｑ）ｐｐｍ
３−（２，４−ジフルオロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−１２）の製造
３−（２，４−ジフルオロフェニル）−６−トリフルオロメチル−２Ｈ−ピラン−２−オン１３．８ｇ（５０ｍｍｏｌ）をエタノール１５０ｍｌに溶解し、４０％メチルアミンメタノール溶液５．５ｇ（７０ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下６時間撹拌した。氷水中にあけ酢酸エチルで抽出し、１Ｎ塩酸、水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物３．８ｇ（収率２６％）を得た。融点１２３〜１２４℃
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：３．７０（３Ｈ，ｓ）、６．７５（１Ｈ，ｄ）、６．９０（２Ｈ，ｍ）、７．４３（１Ｈ，ｄ）、７．５８（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ
製造例６
３−（４−クロロ−２−フルオロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−２）の製造
４−クロロ−２−フルオロフェニル酢酸エチルの製造
４−クロロ−２−フルオロフェニル酢酸１８ｇ（９６ｍｍｏｌ）、硫酸２．３ｇをエタノール３００ｍｌに加え、４時間還流させた。冷却後エタノールを留去し、酢酸エチルを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、粗結晶をｎ−ヘキサンで洗浄して目的物１９ｇ（８８ｍｍｏｌ）を得た。融点５３〜５４℃
３−（４−クロロ−２−フルオロフェニル）−６−トリフルオロメチル−２Ｈ−ピラン−２−オン（中間体番号１７−４）の製造
ＴＨＦ４０ｍｌに溶解した４−クロロ−２−フルオロフェニル酢酸エチル１９ｇ（８８ｍｍｏｌ）を、−６５〜−６０℃に冷却下のＬＤＡ−ＴＨＦ溶液［１．６Ｎ−ｎ−ブチルリチウム８３ｍｌ（１３３ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルアミン１５．２ｇ（１５０ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ２００ｍｌより調整した。］に滴下し、１時間撹拌した。次に４−エトキシ−１，１，１−トリフルオロ−３−ブテン−２−オン３０ｇ（１８０ｍｍｏｌ）を滴下した後、冷却を止め、室温で１時間撹拌した。大半のＴＨＦを留去した後、１Ｎ塩酸を加え酢酸エチルで抽出し、水で洗浄した。溶媒を留去した後、濃塩酸３００ｍｌを加え４時間還流した。冷却後水を加え、酢酸エチルで抽出し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物１６ｇ（５５ｍｍｏｌ）を得た。融点１０７〜１０８℃
３−（４−クロロ−２−フルオロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−２）の製造
３−（４−クロロ−２−フルオロフェニル）−６−トリフルオロメチル−２Ｈ−ピラン−２−オン９．３ｇ（３２ｍｍｏｌ）をメタノール１６０ｍｌに加え、氷冷下４０％メチルアミン／メタノール溶液３．８ｇ（４８ｍｍｏｌ）を滴下し、氷冷下で２時間撹拌した。この反応溶液に１０％クエン酸水溶液を加え、酸性とした後、酢酸エチルで抽出し、水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣をトルエン１６０ｍｌに溶解し、パラトルエンスルホン酸０．４ｇ（２．１ｍｍｏｌ）を加え４時間還流した。冷却後、水で洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製して目的物５．７ｇ（１９ｍｍｏｌ）を得た。融点１０３〜１０４℃
製造例７
３−（２，４−ジクロロフェニル）−１−ジフルオロメチル−６−メチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−８）の製造
α−（２，４−ジクロロフェニル）−α−ヒドロキシメチレンアセトニトリルの製造
無水エタノール中に金属ナトリウム６．０ｇを加え、ナトリウムエトキシドのエタノール溶液を調製した後、７０℃に加温下、２，４−ジクロロフェニルアセトニトリル３７．２ｇ及びギ酸エチル２２．２ｇの混液を加えた。添加後、さらに２時間加熱還流した後、一昼夜放置した。反応液を０℃に冷却した後、ろ過し、ジエチルエーテルにて洗浄した後、ろ集したナトリウム塩を１３０ｍｌの蒸留水に加え、０℃で冷却下酢酸９ｍｌを滴下した．滴下後３０分間程室温で撹拌した後、析出した沈澱物をろ集し、水で洗浄した。これを乾燥して目的物３１．７ｇ（収率７４％）を得た。融点１６２−１６３℃
３−（２，４−ジクロロフェニル）−６−メチル−２（１Ｈ）−ピリドンの製造
α−（２，４−ジクロロフェニル）−α−ヒドロキシメチレンアセトニトリル及びアセトン８．８ｇをポリリン酸１１０ｇとよく混合し、約１３０℃に加熱した。この温度で発熱反応が開始した。必要に応じ加熱しながら１３０〜１４０℃で３０分間保持した。冷却した混合物を氷水に注ぎ、この懸濁液を１８時間撹拌した。この粗製物を酢酸エチル及び過剰量の希水酸化カリウム水溶液と撹拌してアルカリ性とする。析出した沈澱物をろ集し、水、酢酸エチル、ジエチルエーテルで順次洗浄して目的物８．０ｇ（収率４５％）を得た。融点２６６〜２６８℃
３−（２，４−ジクロロフェニル）−１−ジフルオロメチル−６−メチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−８）の製造
３−（２，４−ジクロロフェニル）−６−メチル−２（１Ｈ）−ピリドン４．０ｇ、テトラブチルアンモニウムブロミド０．８ｇ、水酸化カリウム２．６ｇをＴＨＦ１００ｍｌに溶解し、０℃で冷却下クロロジフルオロメタンを吹き込んだ。吹き込みを終えた後、さらに室温で１時間撹拌を続け反応を終了とした。次に溶媒を減圧留去した後、酢酸エチルで抽出し、水洗後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．７０ｇ（収率１４％）を得た。融点８３〜８５℃
製造例８
１−アミノ−３−（２，４−ジクロロフェニル）−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−５）の製造
６０％水素化ナトリウム０．１０ｇにＤＭＦ１０ｍｌを加え、氷冷下３−（２，４−ジクロロフェニル）−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン０．７２ｇを加え、室温でさらに３０分間撹拌した後、室温で２，４−ジニトロフェノキシアミン０．４７ｇを加えた。次に５０℃にて１時間撹拌し、反応を終了とした。反応終了後、反応液を水洗し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し粗製物を得た。この粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．５０ｇ（収率６８％）を得た。融点９８〜１００℃
製造例９
３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェニル）−１，５−ジメチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−７９）の製造
３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニル）−１，５−ジメチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン１．３ｇ（１０．４ｍｍｏｌ）をジクロロメタン２０ｍｌに溶解し、−６０℃に冷却下これに、３Ｎ三臭化ホウ素ジクロロメタン溶液６．６ｍｌを滴下した。室温で３時間撹拌した後、この反応溶液を水中にあけ酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾操し、有機層を減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．８ｇ（収率６９％）を得た。融点２０７〜２０８℃
製造例１０
３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−プロパルギルオキシフェニル）−１，５−ジメチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−７６）の製造
ＤＭＦ１０ｍｌに３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェニル）−１．５−ジメチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン０．２０ｇ（０．６ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム０．１ｇ（０．７ｍｍｏｌ）及びプロパルギルプロミド０．１ｇ（０．８ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で２時間撹拌した。この反応溶液を水中にあけ酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．１２ｇ（収率５３％）を得た。融点１０７〜１０８℃
製造例１１
５−（４−クロロ−２−フルオロ−５−フェノキシフェニル）−１−メチル−２−トリフルオロメチル−４（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号６−１９）の製造
メタノール１０ｍｌに５−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェニル）−１−メチル−２−トリフルオロメチル−４（１Ｈ）−ピリドン０．３０ｇ（０．９３ｍｍｏｌ）、塩化ジフェニルヨードニウム０．５ｇ（１．６ｍｍｏｌ）及びナトリウムメトキシド０．０６ｇ（１．１ｍｍｏｌ）を加え、室温で１２時間撹拌した。この反応溶液を水中にあけ酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．１７ｇ（収率４６％）を得た。融点１５９〜１６１℃
製造例１２
５−（４−クロロ−２−フルオロ−５−シクロペンチルオキシフェニル）−１−メチル−２−トリフルオロメチル−４（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号６−１４）の製造
ＴＨＦ３ｍｌに５−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェニル）−１−メチル−２−トリフルオロメチル−４（１Ｈ）−ピリドン０．３０ｇ（０．９３ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン０．３７ｇ（１．４ｍｍｏｌ）及びシクロペンタノール０．１２ｇ（１．４ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下、アゾジカルボン酸ジエチル０．２ｇ（１．１ｍｍｏｌ）を滴下した。室温で２時間撹拌した後、この反応溶液を水中にあけ酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．３０ｇ（収率８３％）を得た。融点１５２〜１５４℃
製造例１３
５−（７−クロロ−５−フルオロ−２−メチルベンゾフラン−４−イル）−１−メチル−２−トリフルオロメチル−４（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号９−１）の製造
Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン５０ｍｌに５−（４−クロロ−２−フルオロ−５−プロパルギルオキシフェニル）−１−メチル−２−トリフルオロメチル−４（１Ｈ）−ピリドン０．６４ｇ（１．８ｍｍｏｌ）、フッ化セシウム０．５６ｇ（３．７ｍｍｏｌ）を加え、１８０〜２００℃で２．５時間撹拌した。この反応溶液を水中にあけ酢酸エチルで抽出した。濃塩酸、水、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラィーで精製して目的物０．５０ｇ（収率７５％）を得た。融点２０８〜２１１℃
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：２．４６（３Ｈ，ｓ）、３．８０（３Ｈ，ｓ）、６．３１（１Ｈ，ｓ）、７．０１（１Ｈ，ｓ）、７．０７（１Ｈ，ｄ）、７．５７（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造例１４
３−（２，４−ジフルオロ−５−ニトロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−１００）の製造
３−（２，４−ジフルオロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン３．７ｇ（１３ｍｍｏｌ）を硫酸２０ｍｌに溶解し、氷冷下発煙硝酸０．９ｇ（１４ｍｍｏｌ）を滴下し、氷冷下３０分間撹拌した。反応溶液を氷水中にあけ酢酸エチルで抽出した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物４．２ｇ（収率９８％）を得た。融点１１５〜１１８℃
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：３．７１（３Ｈ，ｓ）、６．８１（１Ｈ，ｄ）、７．１３（１Ｈ，ｔ）、７．５７（１Ｈ，ｄ）、８．４３（１Ｈ，ｍ）ｐｐｍ
製造例１５
３−（２−フルオロ−４−メトキシカルボニルメトキシ−５−ニトロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−８６）の製造
ＴＨＦ２０ｍｌに氷冷下６０％水素化ナトリウム０．２４ｇ（６．０ｍｍｏｌ）を懸濁させ、グリコール酸メチル０．３２ｇ（６．６ｍｍｏｌ）を加え、１５分間撹拌した。これに３−（２，４−ジフルオロ−５−ニトロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン２ｇ（６．０ｍｍｏｌ）加え、室温で３時間撹拌した。水中にあけ酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物１．５７ｇ（収率６５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：３．７０（３Ｈ，ｓ）、３．８４（３Ｈ，ｓ）、４．８１（２Ｈ，ｓ）、６．７６（１Ｈ，ｄ）、６．７８（１Ｈ，ｄ）７．５３（１Ｈ，ｄ）、８．２６（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造例１６
３−（７−フルオロ−２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾオキサジン−３−オン−６−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号２−４）の製造
３−（２−フルオロ−４−メトキシカルボニルメトキシ−５−ニトロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン１．５ｇ（３．７ｍｍｏｌ）を酢酸５０ｍｌに溶解し、加熱還流下、鉄粉０．６４ｇ（１１．５ｍｍｏｌ）を加え、１時間撹拌した。反応液をろ過し、ろ液を減圧下にて留去し、得られた残渣を水中にあけ酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．９５ｇ（収率８０％）を得た。融点２１６〜２１８℃
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：３．６９（３Ｈ，ｓ）、４．６０（２Ｈ，ｓ）、６．７８（１Ｈ，ｄ）、６．８０（１Ｈ，ｄ）、７．１８（１Ｈ，ｄ）、７．５３（１Ｈ，ｄ）、８．４７（１Ｈ，ｓ）ｐｐｍ
製造例１７
３−［７−フルオロ−２，３−ジヒドロ−４−（２−プロピニル）−１，４−ベンゾオキサジン−３−オン−６−イル］−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号２−１）の製造
３−（７−フルオロ−２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾオキサジン−３−オン−６−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン０．３ｇ（０．８７ｍｍｏｌ）をＤＭＦ１ｍｌに溶解し、氷冷下で６０％水素化ナトリウム０．０４ｇ（１ｍｍｏｌ）を加え室温で１５分撹拌した後プロパルギルブロミド０．１２ｇ（１ｍｍｏｌ）を加えた。室温で３時間撹拌した後、水中にあけ酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．２４ｇ（収率７２％）を得た。融点１６６〜１６８℃
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：２．２４（１Ｈ，ｔ）、３．６８（３Ｈ，ｓ）、４．６３（２Ｈ，ｓ）、４．６８（２Ｈ，ｄ）、６．７６（１Ｈ，ｄ）、６．８３（１Ｈ，ｄ）、７．４０（１Ｈ，ｄ）、７．５１（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造例１８
３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ニトロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−５８）の製造
３−（４−クロロ−２−フルオロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン１．０ｇ（３．３ｍｍｏｌ）を濃硫酸１０ｍｌに溶解し、氷冷下発煙硝酸０．２５ｇ（４．０ｍｍｏｌ）を滴下し、そのまま１時間撹拌した。この反応溶液を氷水中にあけ酢酸エチルで抽出した。水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物１．１ｇ（収率９６％）を得た。融点１３９〜１４０℃
製造例１９
３−（５−アミノ−４−クロロ−２−フルオロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−５９）の製造
３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ニトロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン１．０ｇ（２．８ｍｍｏｌ）、すず１．３ｇ（１１ｍｍｏｌ）をエタノール３０ｍｌに懸濁させ、室温で濃塩酸５ｍｌを加え１時間撹拌した。反応終了後、水中に注ぎ、反応溶液を中和し、不溶物をろ過してからろ液を酢酸エチルで抽出した。水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた粗結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄して目的物０．９０ｇ（収率９８％）を得た。融点１５５〜１５７℃
製造例２０
３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メチルスルホニルアミノフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−６０）の製造
３−（５−アミノ−４−クロロ−２−フルオロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン０．９ｇ（２．８ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン０．６ｇ（５．９ｍｍｏｌ）をジクロロメタン２０ｍｌに溶解し、氷冷下メチルスルホニルクロリド０．７ｇ（６．１ｍｍｏｌ）を滴下した。室温で２時間撹拌後塩化アンモニウム水溶液で希釈した。酢酸エチルで抽出後、水、飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後得られたビススルホン体の粗結晶をエタノール２５ｍｌに溶解し、室温で０．５Ｎ水酸化ナトリウム水溶液１０ｍｌ（５．０ｍｍｏｌ）を加えて１時間撹拌した。水中にあけクエン酸で酸性にし、酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた粗結晶をｎ−ヘキサンで洗浄して目的物０．８０ｇ（収率７２％）を得た。融点１１３〜１１４℃
製造例２１
３−（４−クロロ−５−クロロスルホニル−２−フルオロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−８４）の製造
３−（４−クロロ−２−フルオロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン２．９ｇ（９．５ｍｍｏｌ）をクロロスルホン酸７０ｇに溶解し、１００℃で５時間加熱撹拌した。冷却後、氷水に少しずつ滴下してから酢酸エチルで抽出し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた粗結晶をｎ−ヘキサンで洗浄して目的物３．３ｇ（収率８６％）を得た。融点７７〜７８℃
製造例２２
３−（５−アセチルチオ−４−クロロ−２−フルオロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−８５）の製造
酢酸５０ｍｌに３−（４−クロロ−５−クロロスルホニル−２−フルオロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン３．１ｇ（７．７ｍｍｏｌ）、赤リン１．２ｇ（３８ｍｍｏｌ）及びヨウ素０．１２ｇ（０．４７ｍｍｏｌ）を加え、１時間加熱還流した。冷却後、不溶物をろ過し、大半の酢酸を留去した後、得られた残渣を水中にあけ酢酸エチルで抽出した。水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物２．８ｇ（収率９８％）を得た。融点９１〜９２℃
製造例２３
３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メルカプトフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−４２）の製造
３−（５−アセチルチオ−４−クロロ−２−フルオロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン２．８ｇ（７．７ｍｍｏｌ）をメタノール３０ｍｌに溶解し、氷冷下１規定水酸化ナトリウム水溶液８．５ｍｌ（８．５ｍｍｏｌ）を滴下した。室温で１時間撹拌後、水中にあけクエン酸で酸性にし、酢酸エチルで抽出した。水、飽和食塩水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後得られた粗結晶をｎ−ヘキサンで洗浄して目的物２．４ｇ（収率９３％）を得た。融点１４１〜１４２℃
製造例２４
３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メチルチオフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−８７）の製造
アセトン２０ｍｌに３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メルカプトフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン０．８ｇ（２．４ｍｍｏｌ）、ヨウ化メチル０．５ｇ（３．５ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム０．５ｇ（３．６ｍｍｏｌ）を懸濁させ、加熱還流下１時間撹拌した。冷却後、不溶物をろ過した後、溶媒を留去した後得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．７ｇ（収率８４％）を得た。融点１４７〜１５０℃
製造例２５
３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メチルスルフィニルフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−８８）の製造
３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メチルチオフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン０．３０ｇ（０．８５ｍｍｏｌ）をクロロホルム１０ｍｌに溶解し、氷冷下８０％ｍ−クロロ過安息香酸０．２０ｇ（０．９３ｍｍｏｌ）を加え２時間撹拌した反応終了後、飽和亜硫酸ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。溶媒を減圧下にて留去した後、得られた粗結晶をｎ−ヘキサンで洗浄して目的物０．２４ｇ（収率７６％）を得た。融点１４７〜１４８℃
製造例２６
３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メチルスルホニルフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−７３）の製造
３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メチルチオフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン０．３０ｇ（０．８５ｍｍｏｌ）をクロロホルム１０ｍｌに溶解し、氷冷下８０％ｍ−クロロ過安息香酸０．４０ｇ（１．８６ｍｍｏｌ）を加え２時間撹拌した。反応終了後、飽和亜硫酸ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。溶媒を減圧下にて留去した後、得られた粗結晶をｎ−ヘキサンで洗浄して目的物０．２５ｇ（収率７３％）を得た。融点１４４〜１４５℃
製造例２７
３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メチルスルファモイルフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−７１）の製造
クロロホルム２５ｍｌに３−（４−クロロ−５−クロロスルホニル−２−フルオロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン０．６ｇ（１．５ｍｍｏｌ）及びメチルアミン塩酸塩１．８ｇ（２６．７ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下、トリエチルアミン６．０ｇ（５９．４ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で２時間撹拌した。この反応溶液を水中にあけクロロホルムで抽出し、水、１０％クエン酸水溶液で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾操した。溶媒を減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．４ｇ（収率６７％）を得た。融点１５０〜１５１℃
製造例２８
３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ブロモメチルフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−８２）の製造
３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メチルフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン２．６３ｇ（８．２３ｍｍｏｌ）とＮＢＳ１．４６ｇ（８．２３ｍｍｏｌ）を１００ｍｌの四塩化炭素に溶かした。加熱還流下撹拌しながら２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．２７ｇ（１．６７ｍｍｏｌ）をゆっくりと加えた後、さらに５時間反応させた。冷却後、不溶物をろ過し、有機層を水洗して硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物２．６７ｇ（収率８１％）を得た。融点１１７〜１１８℃
製造例２９
５−［１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン−３−イル］−２−クロロ−４−フルオロベンズアルデヒド（化合物番号１−８１）の製造
ナトリウムメトキシド０．１５ｇ（２．７８ｍｍｏｌ）を５ｍｌのエタノールに溶かし、２−ニトロプロパン０．２７ｇ（２．９８ｍｍｏｌ）を滴下して室温で１時間撹拌した。これに３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ブロモメチルフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン１．０２ｇ（２．５６ｍｍｏｌ）を加えてそのまま一晩撹拌した。反応混合物を氷水中にあけエーテルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．６８ｇ（収率７７％）を得た。融点１６２〜１６３℃
製造例３０
３−（４−クロロ−５−シアノ−２−フルオロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−１１９）の製造
５−［１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン−３−イル］−２−クロロ−４−フルオロベンズアルデヒド０．５０ｇ（１．５０ｍｍｏｌ）、ヒドロキシルアミン塩酸塩０．１２ｇ（１．６６ｍｍｏｌ）、硫酸マグネシウム０．６７ｇ及びパラトルエンスルホン酸０．１０ｇを５ｍｌのキシレン中で加熱還流した。反応終了後反応混合物を水中にあけ酢酸エチルで抽出し、水、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。溶媒を減圧下にて留去した後、粗生成物をイソプロピルエーテルで洗浄して目的物０．４９ｇ（収率９９％）を得た。融点１８０〜１８１℃
製造例３１
５−（１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン−３−イル）−２−クロロ−４−フルオロ安息香酸（化合物番号１−１４１）の製造
３−（４−クロロ−５−シアノ−２−フルオロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン０．５０ｇ（１．５１ｍｍｏｌ）を７０％−硫酸５ｍｌ中７０℃で１時間撹拌した。冷却後氷水中にあけクロロホルムで抽出し硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下にて留去した後目的物０．５１ｇ（収率９６％）を得た。融点２０９〜２１０℃
製造例３２
５−（１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン−３−イル）−２−クロロ−４−フルオロ安息香酸イソプロピル（化合物番号１−６６）の製造
５−（１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン−３−イル）−２−クロロ−４−フルオロ安息香酸０．２０ｇ（０．５７ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム０．１６ｇ（１．１４ｍｍｏｌ）をＤＭＦ５ｍｌに懸濁し、これにヨウ化イソプロピル０．１５ｇ（０．８６ｍｍｏｌ）を室温で滴下して、そのまま１日撹拌した。反応混合物を水中にあけエーテル抽出し有機層を水洗して硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．２２ｇ（収率１００％）を得た。融点９０〜９２℃
製造例３３
３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−プロパルギルオキシメチルフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−１９９）の製造
水素化ナトリウム０．０４ｇ（１．１０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ５ｍｌに懸濁し、これにプロパルギルアルコール０．０６ｇ（１．１０ｍｍｏｌ）を室温で滴下して３０分間撹拌した。３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ブロモメチルフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン０．４０ｇ（１．００ｍｍｏｌ）を５ｍｌのＤＭＦに溶かして滴下し、２時間撹拌した。反応混合物を水中にあけエーテルで抽出した。硫酸マグネシウムで乾操後、溶媒を減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．３４ｇ（収率９１％）を得た。融点９９〜１０１℃
製造例３４
３−［４−クロロ−２−フルオロ−５−（１−ヒドロキシブチル）フェニル］−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−１９３）の製造
窒素雰囲気下、５−（１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン−３−イル）−２−クロロ−４−フルオロベンズアルデヒド１．００ｇ（３．００ｍｍｏｌ）を２０ｍｌのＴＨＦに溶かして撹拌し、０℃で２．０Ｍマグネシウム−ｎ−プロピルブロミドＴＨＦ溶液３．０ｍｌ（６．００ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後、室温までゆっくりと昇温させ一晩放置した。反応終了後、塩化アンモニウム水溶液で処理した後、エーテルで抽出し有機層を水洗した。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．４３ｇ（収率３８％）を得た。融点１２０〜１２２℃
製造例３５
３−［４−クロロ−２−フルオロ−５−（１−オキソブチル）フェニル］−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−１９４）の製造
塩化オキザリル０．２１ｇ（１．６４ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１０ｍｌに溶解し、−６５℃に冷却した。窒素雰囲気下、ジメチルスルホキシド０．１７ｇ（２．１８ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下して１５分間撹拌した。これに３−［４−クロロ−２−フルオロ−５−（１−ヒドロキシブチル）フェニル］−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン０．３１ｇ（０．８２ｍｍｏｌ）を１０ｍｌのジクロロメタンに溶かして滴下し、そのまま１時間撹拌した。さらにトリエチルアミン０．４２ｇ（４．１ｍｍｏｌ）を滴下した後、室温まで昇温した。これに塩化アンモニウム水溶液を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．２９ｇ（収率９４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）σ値：０．９９（３Ｈ，ｔ）、１．７４（２Ｈ，ｓｅｘｔ）、２．９４（２Ｈ，ｔ）、３．７０（３Ｈ，ｓ）、６．７８（１Ｈ，ｄ）、７．２５（１Ｈ，ｄ）、７．５３（１Ｈ，ｄ）、７．７５（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造例３６
５−（１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン−３−イル）−２−クロロ−４−フルオロベンズアルデヒドオキシム−Ｏ−メチルエーテル（化合物番号１−７２）の製造
５−（１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン−３−イル）−２−クロロ−４−フルオロベンズアルデヒド０．４０ｇ（１．２ｍｍｏｌ）、メトキシアミン塩酸塩０．１５ｇ（１．８ｍｍｏｌ）及び炭酸ナトリウム０．１３ｇ（１．２ｍｍｏｌ）を１０ｍｌのエタノール中で１時間加熱還流した。冷却後、溶媒を減圧下にて留去した後、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗した。硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下にて留去した後、得られた粗結晶をイソプロピルエーテルで洗浄して目的物０．２６ｇ（収率６０％）を得た。融点１０６〜１０７℃
製造例３７
２−クロロ−３−［２−クロロ−４−フルオロ−５−（１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）ピリドン−３−イル）］フェニルプロピオン酸エチル（化合物番号１−１３９）の製造
亜硝酸−ｔｅｒｔ−ブチル０．４８ｇ（４．６８ｍｍｏｌ）、塩化銅（ＩＩ）０．５０ｇ（３．７４ｍｍｏｌ）及びアクリル酸エチル６．５ｇ（６５ｍｍｏｌ）を１５ｍｌのアセトニトリル中で撹拌し、氷冷下３−（５−アミノ−４−クロロ−２−フルオロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン１．００ｇ（３．１１ｍｍｏｌ）の３０ｍｌアセトニトリル懸濁液を滴下し、一晩放置した。希塩酸で反応を停止させた後、エーテルで抽出し、有機層を水洗し硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．５６ｇ（収率４１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）σ値：１．２７（３Ｈ，ｔ）、３．２７（１Ｈ，ｄｄ）、３．５１（１Ｈ，ｄｄ）、３．６９（３Ｈ，ｓ）、４．２３（２Ｈ，ｍ）、４．５７（１Ｈ，ｄｄ）、６．７６（１Ｈ，ｄ）、７．２２（１Ｈ，ｄ）、７．４８（１Ｈ，ｄ）、７．５０（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造例３８
３−（４−クロロ−６−フルオロ−２−メチルベンゾフラン−７−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号５−１）の製造
３−［４−クロロ−２−フルオロ−６−プロパルギルオキシフェニル］−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン２．７８ｇ（７．７３ｍｍｏｌ）とフッ化セシウム２．３５（１５．４６ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジエチルアニリン５０ｍｌ中で１８０℃に加熱して１時間反応させた。溶媒を減圧下にて留去した後、酢酸エチルで抽出して有機層を希塩酸で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．５８ｇ（収率２１％）を得た。融点１３８〜１４０℃
製造法３９
３−［２−フルオロ−４−クロロ−５−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−１−ベンジリデンアミノ−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１−２２６）の製造
トルエン１０ｍｌに３−［２−フルオロ−４−クロロ−５−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−１−アミノ−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン０．２８ｇ（０．７８ｍｍｏｌ）、ベンズアルデヒド０．１ｇ（０．９５ｍｍｏｌ）及び１Ｎ四塩化チタン／ジクロロメタン溶液１滴を加え、室温で８時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を水中にあけ酢酸エチルで抽出した。水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、酢酸エチルを減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．２４ｇ（収率６９％）を得た。融点１３５〜１３６℃
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：２．５２（１Ｈ，ｔ）、４．７５（２Ｈ，ｄ）、６．８３（１Ｈ，ｄ）、７．２４（１Ｈ，ｄ）、７．３５（１Ｈ，ｄ）、７．５０（２Ｈ，ｍ）、７．９１（２Ｈ，ｄ）、９．８１（１Ｈ，ｓ）ｐｐｍ
製造法４０
３−（６−フルオロ−ベンゾチアゾリン−２−オン−５−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号３−２）の製造
酢酸４０ｍｌに３−（５−アミノ−２−フルオロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン１０．３ｇ（３６ｍｍｏｌ）を溶解し、チオシアン酸アンモニウム６．８ｇ（８９ｍｍｏｌ）を加え室温で２時間撹拌した。この反応溶液に氷冷下臭素６．６ｇ（４１ｍｍｏｌ）の酢酸溶液を加えさらに室温で８時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を水中にあけアンモニア水を加えアルカリ性にした。析出した結晶をろ集し、得られた粗結晶を酢酸エチルで洗浄して２−アミノベンゾチアゾールの混合物８．０ｇ得た。この混合物を硫酸１５ｍｌ、酢酸１５ｍｌに溶解し、氷冷下亜硝酸ナトリウム１．７ｇ（２６ｍｍｏｌ）の水溶液１５ｍｌを加え１．５時間撹拌した。１５℃以下で硝酸銅（ＩＩ）三水和物３３ｇ（０．１４ｍｏｌ）の水溶液２００ｍｌを加え、３０分撹拌した後、酸化銅（Ｉ）３．６ｇ（２５ｍｍｏｌ）を加えさらに３０分間撹拌した。反応終了後、反応溶液を酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．９ｇ（収率７．２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３＋ＤＭＳＯ−ｄ６）δ値：３．６６（３Ｈ，ｄ）、６．６８（１Ｈ，ｓ）、６．７３（１Ｈ，ｄ）、６．８９（１Ｈ，ｓ）、７．３７（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造例４１
３−［６−フルオロ−３−（２−プロピニル）−ベンゾチアゾリン−２−オン−５−イル］−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号３−１）の製造
ＤＭＦ１０ｍｌに３−（６−フルオロ−ベンゾチアゾリン−２−オン−５−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン０．４ｇ（１．２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム０．１８ｇ（１．３ｍｍｏｌ）及び臭化プロパルギル０．１５ｇ（１．３ｍｍｏｌ）を加え、７０℃で２時間加熱撹拌した。反応終了後、反応溶液を水中にあけ酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．３２ｇ（収率７２％）を得た。融点１５０〜１５１℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：２．３０（１Ｈ，ｔ）、３．７３（３Ｈ，ｓ）、４．７３（２Ｈ，ｄ）、６．８０（１Ｈ，ｄ）、７．２７（１Ｈ，ｄ）、７．４５（１Ｈ，ｄ）、７．５６（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造例４２
３−（２−ブロモメチル−７−クロロ−５−フルオロベンゾフラン−４−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号４−７）の製造
３−（７−クロロ−５−フルオロ−２−メチルベンゾフラン−４−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン０．９８ｇ（２．７２ｍｍｏｌ）を四塩化炭素２５ｍｌに溶解し、ＮＢＳ０．５１ｇ（２．８６ｍｍｏｌ）と２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．０４ｇ（０．２７ｍｍｏｌ）を加え２時間還流した。ろ過によりコハク酸イミドを除去した後、四塩化炭素を減圧下にて留去し、得られた残渣を水中にあけ酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた粗結晶をｎ−ヘキサンで洗浄して目的物０．９４ｇ（収率７９％）を得た。融点１４２〜１４４℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：３．７３（３Ｈ，ｓ）、４．５６（２Ｈ，ｓ）、６．６６（１Ｈ，ｓ）、６．８０（１Ｈ，ｄ）、７．２０（１Ｈ，ｄ）、７．５５（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造例４３
３−（７−クロロ−５−フルオロ−２−メトキシメチルベンゾフラン−４−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号４−４）の製造
３−（２−ブロモメチル−７−クロロ−５−フルオロベンゾフラン−４−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン０．３８ｇ（０．８７ｍｍｏｌ）をメタノール１０ｍｌに溶解し、水酸化ナトリウム０．０４ｇ（１．０４ｍｍｏｌ）を加え１時間加熱還流した。メタノールを減圧下にて留去した後、得られた残渣を水中にあけ酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた粗結晶をｎ−ヘキサンで洗浄して目的物０．３１ｇ（収率９２％）を得た。融点１３６〜１３７℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：３．４４（３Ｈ，ｓ）、３．７３（３Ｈ，ｓ）、４．５６（２Ｈ，ｓ）、６．５９（１Ｈ，ｓ）、６．８０（１Ｈ，ｄ）７．１７（１Ｈ，ｄ）、７．５４（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造例４４
３−（７−クロロ−５−フルオロ−２−ヒドロキシメチルベンゾフラン−４−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号４−５）の製造
３−（７−クロロ−５−フルオロ−２−メトキシメチルベンゾフラン−４−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン０．２０ｇ（０．５１ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１０ｍｌに溶解し、−６５℃で１．０Ｍ三臭化ホウ素ジクロロメタン溶液１．５４ｍｌ（１．５４ｍｍｏｌ）を加えた。−６５℃で１時間撹拌し、水中にあけ室温で３０分撹拌した後、ジクロロメタンで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ジクロロメタンを減圧下にて留去した後、得られた粗結晶をｎ−ヘキサンで洗浄して目的物０．１９ｇ（収率９９％）を得た。融点１４５〜１４７℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：３．７３（３Ｈ，ｓ）、４．５５（２Ｈ，ｓ）、６．６６（１Ｈ，ｓ）、６．８０（１Ｈ，ｄ）、７．２０（１Ｈ，ｄ）７．５５（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造例４５
３−（７−クロロ−５−フルオロ−２−メチルチオメチルベンゾフラン−４−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号４−４４）の製造
３−（２−ブロモメチル−７−クロロ−５−フルオロベンゾフラン−４−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン０．３１ｇ（０．７１ｍｍｏｌ）をＴＨＦ２０ｍｌに溶解し、メタンチオール３０％メタノール溶液０．０１４ｇ（０．８５ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム０．１２ｇ（０．８５ｍｍｏｌ）を加え室温で８時間撹拌した。ＴＨＦを減圧下にて留去した後、得られた残渣を水中にあけ酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた粗結晶をｎ−ヘキサンで洗浄して目的物０．２８ｇ（収率９８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：２．１７（３Ｈ，ｓ）、３．７３（３Ｈ，ｓ）、３．７９（２Ｈ，ｓ）、６．４７（１Ｈ，ｓ）、６．８０（１Ｈ，ｄ）、７．１４（１Ｈ，ｄ）、７．５４（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造例４６
３−［７−クロロ−５−フルオロ−２−（１−メチルスルフィニルプロピル）ベンゾフラン−４−イル］−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号４−５７）の製造
製造例４５と同様にして得られた３−［７−クロロ−５−フルオロ−２−（メチルチオプロピル）ベンゾフラン−４−イル］−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン０．２０ｇ（０．４６１ｍｍｏｌ）をメタノール１５ｍｌに溶解し、水５ｍｌとオキソン０．２３ｇ（０．３６９ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間撹拌した。不溶物をろ過により除去した後、メタノールを減圧下にて留去し、得られた残渣を水中にあけ酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．１１ｇ（収率５２％）を得た。融点１２５〜１２７℃
製造例４７
３−［７−クロロ−５−フルオロ−２−（１−メチルスルホニルプロピル）ベンゾフラン−４−イル］−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号４−５８）の製造
３−［７−クロロ−５−フルオロ−２−（１−メチルチオプロピル）ベンゾフラン−４−イル］−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン０．２０ｇ（０．４６１ｍｍｏｌ）をメタノール１５ｍｌに溶解し、水５ｍｌとオキソン０．５７ｇ（０．９２２ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間撹拌した。不溶物をろ過により除去した後、メタノールを減圧下にて留去し、得られた残渣を水中にあけ酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．１８ｇ（収率８５％）を得た。融点１４６〜１４８℃
製造例４８
３−（７−クロロ−２−ジブロモメチル−５−フルオロベンゾフラン−４−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号４−２７）の製造
３−（７−クロロ−５−フルオロ−２−メチルベンゾフラン−４−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン１．５０ｇ（４．１７ｍｍｏｌ）を四塩化炭素３０ｍｌに溶解し、ＮＢＳ２．９７ｇ（１６．６８ｍｍｏｌ）と２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．２１ｇ（１．２５ｍｍｏｌ）を加え１０時間加熱還流した。ろ過によりコハク酸イミドを除去した後、四塩化炭素を減圧下にて留去した後、得られた残渣を水中にあけ酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．９７ｇ（収率４５％）を得た。融点１０７〜１０９℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：３．７４（３Ｈ，ｓ）、６．６５（１Ｈ，ｓ）、６．８１（１Ｈ，ｄ）、６．８２（１Ｈ，ｓ）、７．２６（１Ｈ，ｄ）、７．５５（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造例４９
３−（５，７−ジクロロ−２−トリブロモメチルベンゾフラン−４−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号４−４０）の製造
３−（５，７−ジクロロ−２−メチルベンゾフラン−４−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン１．９２ｇ（５．１０ｍｍｏｌ）を四塩化炭素７０ｍｌに溶解し、ＮＢＳ３．８１ｇ（２１．４２ｍｍｏｌ）と２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．３３ｇ（２．００ｍｍｏｌ）を加え１５時間還流した。ろ過によりコハク酸イミドを除去した後、四塩化炭素を減圧下にて留去した後、得られた残渣を水中にあけ酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．１９ｇ（収率６％）を得た。融点２２５〜２２７℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：３．７５（３Ｈ，ｓ）、６．８４（１Ｈ，ｄ）、６．９３（１Ｈ，ｓ）、７．５０（１Ｈ，ｄ）、７．５７（１Ｈ，ｓ）ｐｐｍ
製造例５０
３−（７−クロロ−５−フルオロ−２−ホルミルベンゾフラン−４−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号４−４６）の製造
硫酸１５ｍｌに３−（７−クロロ−２−ジブロモメチル−５−フルオロベンゾフラン−４−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン０．２９ｇ（０．５６ｍｍｏｌ）を加え５０℃で１時間撹拌した後、水中にあけジエチルエーテルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた粗結晶をｎ−ヘキサンで洗浄して目的物０．２０ｇ（収率９６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：３．７５（３Ｈ，ｓ）、６．８４（１Ｈ，ｄ）、７．４２（１Ｈ，ｄ）、７．４６（１Ｈ，ｓ）、７．６１（１Ｈ，ｄ）、９．９０（１Ｈ，ｓ）ｐｐｍ
製造例５１
３−（２−カルボキシ−７−クロロ−５−フルオロベンゾフラン−４−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号４−２６）の製造
３−（７−クロロ−５−フルオロ−２−ホルミルベンゾフラン−４−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン０．３７ｇ（０．９９ｍｍｏｌ）をアセトン２０ｍｌに溶解し、−２０℃でジョーンズ試薬（ＣｒＯ３−Ｈ２ＳＯ４）を加えた。−２０℃で２時間撹拌した後、水中にあけ酢酸エチルで抽出した。水酸化ナトリウム水溶液を加えアルカリ性として水層を酢酸エチルで洗浄し、塩酸を加えて酸性とした後、酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた粗結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄して目的物０．２９ｇ（収率７５％）を得た。融点２３３〜２３５℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：３．７９（３Ｈ，ｓ）、６．８７（１Ｈ，ｄ）、７．３８（１Ｈ，ｄ）、７．４７（１Ｈ，ｓ）、７．６１（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造例５２
３−（７−クロロ−２−エトキシカルボニル−５−フルオロベンゾフラン−４−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号４−６）の製造
３−（２−カルボキシ−７−クロロ−５−フルオロベンゾフラン−４−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン０．０８ｇ（０．２１ｍｍｏｌ）をエタノール１０ｍｌに溶解し、硫酸４．０ｍｇ（０．０４ｍｍｏｌ）を加え２時間還流した。エタノールを減圧下にて留去した後、得られた残渣を水中にあけジエチルエーテルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ジエチルエーテルを減圧下にて留去した後、得られた粗結晶をｎ−ヘキサンで洗浄して目的物０．０９ｇ（収率９９％）を得た。融点１１８〜１２０℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：１．４１（３Ｈ，ｔ）、３．７５（３Ｈ，ｓ）、４．４３（２Ｈ，ｑ）、６．８２（１Ｈ，ｄ）、７．３４（１Ｈ，ｄ）、７．３８（１Ｈ，ｓ）、７．５７（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造例５３
３−（７−クロロ−５−フルオロベンゾフラン−４−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号４−２８）の製造
３−（２−カルボキシ−７−クロロ−５−フルオロベンゾフラン−４−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２−（１Ｈ）−ピリドン０．２９ｇ（０．７４ｍｍｏｌ）をキノリン１５ｍｌに溶解し、銅粉０．０５ｇ（０．７５ｍｍｏｌ）を加え２１０℃で１５分撹拌した後、ろ過により銅を除去し、水中にあけ塩酸を加え酸性としたのち酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧下にて留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．１８ｇ（収率７０％）を得た。融点１７８〜１７９℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：３．７４（３Ｈ，ｓ）、６．６６（１Ｈ，ｄ）、６．８１（１Ｈ，ｄ）、７．２０（１Ｈ，ｄ）、７．５６（１Ｈ，ｄ）、７．７２（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造法５４
３−（４−クロロフェニル）−４−クロロ−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１１−１）、３−（４−クロロフェニル）−２−クロロ−１−メチル−６−トリフルオロメチル−４（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１３−１）の製造
３−（４−クロロフェニル）−２，４−ジオキソ−１−メチル−６−トリフルオロメチル−１，２，３，４−テトラヒドロピリジンの製造
トルエン２００ｍｌに４−クロロフェニルアセチルクロリド６．７ｇ（３５ｍｍｏｌ）、３−メチルアミノ−４，４，４−トリフルオロクロトン酸エチル１４．０ｇ（７１ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下８時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。トルエンを減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。このクロトン酸エステルをＴＨＦ２０ｍｌに溶解し、−６５〜−６０℃冷却下のＬＤＡ−ＴＨＦ溶液［１．６Ｎ−ｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液５４ｍｌ（８６ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルアミン１１．３ｇ（１１２ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ２００ｍｌより調製］に滴下し、室温で２時間撹拌した。反応終了後、過剰のＴＨＦを留去し、１０％クエン酸水溶液を加え、析出した粗結晶を酢酸エチルで洗浄し目的物３．６ｇ（収率３４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ−ｄ６）δ値：３．３９（３Ｈ，ｓ）、５．８２（１Ｈ，ｓ）、７．１４（２Ｈ，ｄ）、７．４０（２Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
３−（４−クロロフェニル）−４−クロロ−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１１−１）、３−（４−クロロフェニル）−２−クロロ−１−メチル−６−トリフルオロメチル−４（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１３−１）の製造
オキシ塩化リン８．３ｇ（４２．３ｍｍｏｌ）、ジエチルアニリン３０ｍｌに３−（４−クロロフェニル）−２，４−ジオキソ−１−メチル−６−トリフルオロメチル−１，２，３，４−テトラヒドロピリジン３．３ｇ（１０．９ｍｍｏｌ）を加え１００〜１２０℃で４時間撹拌した。反応溶液を減圧下留去し、得られた残渣に酢酸エチルを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層を減圧下留去し、得られた残渣を高速液体クロマトグラフィーで分離精製して目的物２−ピリドン体（化合物番号１１−１）１．３ｇ（収率３７％）及び４−ピリドン体（化合物番号１３−１）１．０ｇ（収率２９％）をそれぞれ得た。
２−ピリドン体（化合物番号１１−１）融点４８〜５０℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：３．７４（３Ｈ，ｓ）、６．６２（１Ｈ，ｓ）、７．１７（２Ｈ，ｄ）、７．３９（２Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
４−ピリドン体（化合物番号１３−１）融点８８〜９０℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：３．７７（３Ｈ，ｓ）、６．９６（１Ｈ，ｓ）、７．１５（２Ｈ，ｄ）、７．４１（２Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造例５５
３−（４−クロロ−３−ニトロフェニル）−４−クロロ−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１１−７）の製造
濃硫酸２ｍｌに３−（４−クロロフェニル）−４−クロロ−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン０．２ｇ（０．６２ｍｍｏｌ）を溶解し、氷冷下発煙硝酸０．０４ｇ（０．６４ｍｍｏｌ）を加え１時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を氷水中にあけ酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層を減圧下留去し、得られた粗結晶をイソプロピルエーテルで洗浄し、目的物０．２１ｇ（収率９１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：３．７４（３Ｈ．ｓ）、６．６６（１Ｈ，ｓ）、７．４０（１Ｈ，ｄｄ）、７．６１（１Ｈ，ｄ）、７．５９（１Ｈ，ｓ）、７．８２（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造例５６
３−（３−アミノ−４−クロロフェニル）−４−クロロ−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１１−８）の製造
エタノール２０ｍｌに３−（４−クロロ−３−ニトロフェニル）−４−クロロ−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン０．５ｇ（１．３７ｍｍｏｌ）を溶解し、室温撹拌下スズ０．８ｇ（６．７８ｍｍｏｌ）を加え１時間撹拌した。反応終了後、過剰のエタノールを減圧下留去し、酢酸エチルと飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて析出物をろ過した後、水、１０％クエン酸水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで有機層を乾燥した。有機層を減圧下留去し、得られた粗結晶をイソプロピルエーテルで洗浄して目的物０．４０ｇ（収率８７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：３．７４（３Ｈ，ｓ）、４．０６（２Ｈ，ｓ）、６．５４（１Ｈ，ｄｄ）、６．５９（１Ｈ，ｓ）、６．６２（１Ｈ，ｄ）、７．２７（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造例５７
３−（４−クロロ−３−メチルスルホニルアミノフェニル）−４−クロロ−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１１−３）の製造
ジクロロメタン２０ｍｌに３−（３−アミノ−４−クロロフェニル）−４−クロロ−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン０．４ｇ（１．１９ｍｍｏｌ）、メチルスルホニルクロリド０．３ｇ（２．６２ｍｍｏｌ）を溶解し、氷冷下トリエチルアミン０．３ｇ（２．９６ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を水中にあけジクロロメタンで抽出した。有機層を水、１０％クエン酸水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層を減圧下留去し、得られた粗結晶をエタノール１５ｍｌとＤＭＦ５ｍｌの混合溶媒に溶解し、水酸化ナトリウム水溶液３ｍｌ［水酸化ナトリウム０．０５ｇ（１．２５ｍｍｏｌ）］を加え、室温で１時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を水中にあけクエン酸で弱酸性にし、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．４７ｇ（収率９５％）を得た。融点１６１〜１６３℃
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：３．０２（３Ｈ，ｓ）、３．７５（３Ｈ，ｓ）、６．６０（１Ｈ，ｓ）、６．９２（１Ｈ，ｓ）、７．０６（１Ｈ，ｄｄ）、７．２６（１Ｈ，ｓ）７．４７（１Ｈ，ｄ）、７．５９（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造例５８
３−（４−クロロフェニル）−４−フルオロ−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１１−２）の製造
ジメチルスルホキシド１０ｍｌに３−（４−クロロフェニル）−４−クロロ−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン０．３３ｇ（１．０９ｍｍｏｌ）、フッ化カリウム０．０５ｇ（０．８６ｍｍｏｌ）を溶解し、１２０℃で２時間加熱撹拌した。反応終了後、反応溶液を氷水中にあけ酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．１２ｇ（収率３８％）を得た。融点１２０〜１２２℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：３．４２（３Ｈ，ｄ）、６．２０（１Ｈ，ｄ）、７．１６（２Ｈ，ｄ）、７．４０（２Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造例５９
３−［２−フルオロ−４−クロロ−５−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−４−シアノ−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号１１−６）の製造
ジメチルスルホキシド１０ｍｌに３−［２−フルオロ−４−クロロ−５−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−４−クロロ−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン０．３０ｇ（０．７６ｍｍｏｌ）、シアン化カリウム０．０６ｇ（０．９２ｍｍｏｌ）を溶解し、１２０℃で２日間加熱撹拌した。反応終了後、反応溶液を氷水中にあけ酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．０９ｇ（収率２９％）を得た。屈折率１．５６８４
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：２．５０（１Ｈ，ｔ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）、４．７１（２Ｈ，ｍ）、６．９０（１Ｈ，ｄ）、７．２０（１Ｈ，ｓ）、７．２５（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造法６０
３−（２−クロロ−４−ヒドロキシ−５−ニトロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドンの製造（化合物番号１−２７８）の製造
ジクロロメタン１５０ｍｌに３−（２−クロロ−４−メトキシ−５−ニトロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン１０．３ｇ（２８．６ｍｍｏｌ）を溶解し、ドライアイス−アセトン浴で冷却下、３Ｎ三臭化ホウ素／ジクロロメタン溶液３０ｍｌ（９０ｍｍｏｌ）を滴下した。室温まで温度を上げ２時間撹拌した後、氷水中にあけジクロロメタンで抽出した。有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、有機層を減圧下留去して目的物８．０ｇ（収率８０％）を得た。
製造例６１
３−（５−アミノ−２−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドンの製造（化合物番号１−２７９）
エタノール１００ｍｌに３−（２−クロロ−４−ヒドロキシ−５−ニトロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン８．０ｇ（２３ｍｍｏｌ）、スズ８．２ｇ（６９ｍｍｏｌ）を加え、室温撹拌下濃塩酸５ｍｌを加え、１時間撹拌した。反応終了後、過剰のエタノールを減圧下留去し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層を減圧下留去して目的物６．５ｇ（収率９０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：３．７４（３Ｈ，ｓ）、６．８３（１Ｈ，ｄ）、７．２３（１Ｈ，ｄ）、７．３０（１Ｈ，ｄ）、７．５７（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造法６２
３−（６−クロロベンゾオキサゾリン−２−オン−５−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号３−２０）の製造
ＴＨＦ５ｍｌに３−（５−アミノ−２−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン０．６ｇ（１．９ｍｍｏｌ）及びＣＤＩ０．３５ｇ（２．２ｍｍｏｌ）を溶解し、加熱還流下１時間撹拌した。反応終了後、水中にあけ酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．４１ｇ（収率６３％）を得た。融点２６３〜２６５℃
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：３．７８（３Ｈ，ｓ）、６．８４（１Ｈ，ｓ）、６．８５（１Ｈ，ｄ）、７．２８（１Ｈ，ｓ）、７．４６（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造例６３
３−［６−クロロ−３−（２−プロピニル）−ベンゾオキサゾリン−２−オン−５−イル］−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号３−９）の製造
ＤＭＦ１０ｍｌに３−（６−クロロベンゾオキサゾリン−２−オン−５−イル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン０．２０ｇ（０．５８ｍｍｏｌ）を溶解し、室温で６０％水素化ナトリウム０．０２６ｇ（０．６５ｍｍｏｌ）を加え、０．５時間撹拌した。さらに、臭化プロパルギル０．０９ｇ（０．７６ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を水中にあけ酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．１７ｇ（収率７８％）を得た。融点１８７〜１８９℃
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：２．３８（１Ｈ，ｔ）、３．７２（３Ｈ，ｓ、）、４．６０（２Ｈ，ｄ）、６．８０（１Ｈ，ｄ）、７．１８（１Ｈ，ｓ）、７．３７（１Ｈ，ｓ）、７．４３（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造例６４
３−［２−クロロ−４−（１−エトキシカルボニルエトキシ）−５−ニトロフェニル］−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドンの製造（化合物番号１−２８０）
ＤＭＦ１０ｍｌに３−（２−クロロ−４−ヒドロキシ−５−ニトロフェニル）−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン０．８ｇ（２．２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム０．４２ｇ（３．０ｍｍｏｌ）及び２−ブロモプロピオン酸エチル０．５６ｇ（３．３ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で２時間加熱撹拌した。反応終了後、反応溶液を水中にあけ酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．９０ｇ（収率９４％）を得た。
製造例６５
３−（７−クロロ−２，３−ジヒドロ−２−メチル−１，４−ベンゾオキサジン−３−オン−６−イル）−６−トリフルオロメチル−１−メチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号２’−２）の製造
エタノール１０ｍｌに３−［２−クロロ−４−（１−エトキシカルボニルエトキシ）−５−ニトロフェニル］−１−メチル−６−トリフルオロメチル−２（１Ｈ）−ピリドン０．９０ｇ（２．０ｍｍｏｌ）、スズ１ｇ（８．５ｍｍｏｌ）を加え、室温撹拌下濃塩酸２ｍｌを加え、１時間撹拌した。反応終了後、過剰のエタノールを減圧下留去し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層を減圧下留去して目的物０．７ｇ（収率９１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：１．６３（３Ｈ，ｄ）、３．７０（３Ｈ，ｄ）、４．６７（１Ｈ，ｑ）、６．７７（１Ｈ，ｄ）、６．８３（１Ｈ，ｓ）、７．０８（１Ｈ，ｓ）、７．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８０）ｐｐｍ
製造例６６
３−［７−クロロ−２，３−ジヒドロ−２−メチル−４−（２−プロピニル）−１，４−ベンゾオキサジン−３−オン−６−イル］−６−トリフルオロメチル−１−メチル−２（１Ｈ）−ピリドン（化合物番号２’−１）の製造
ＤＭＦ１０ｍｌに３−（７−クロロ−２，３−ジヒドロ−３−メチル−１，４−ベンゾオキサジン−３−オン−６−イル）−６−トリフルオロメチル−１−メチル−２（１Ｈ）−ピリドン０．４０ｇ（１．１ｍｍｏｌ）を溶解し、室温でこれに６０％水素化ナトリウム０．０５ｇ（１．２ｍｍｏｌ）を加え、０．５時間撹拌した。さらに、これに臭化プロパルギル０．２ｇ（１．７ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を水中にあけ酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物０．３４ｇ（収率７７％）を得た。融点２０３〜２０４℃
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：１．６０（３Ｈ，ｄ）、２．２４（１Ｈ，ｔ）、３．７１（３Ｈ，ｄ）、４．６６（３Ｈ，ｍ）、６．７８（１Ｈ，ｄ）、７．１３（２Ｈ，ｄ）、７．４６（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
製造例６７
４−クロロ−２−フルオロ−５−メトキシベンジルクロリド（中間体番号１５−１５）の製造
１Ｎ四塩化チタンのジクロロメタン溶液に２−クロロ−４−フルオロアニソール１７．６ｇ（０．１１ｍｍｏｌ）を溶解し、室温でこれにメトキシメチルクロリド８８．３ｇ（１．１０ｍｏｌ）を滴下後、室温で５時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を水中にあけ室温で２時間撹拌した後、水層を除去した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物１５．５ｇ（収率６８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ値：３．８９（３Ｈ，ｓ）、５．００（２Ｈ，ｓ）、６．９７（１Ｈ，ｄ）、７．１８（１Ｈ，ｄ）ｐｐｍ
次に、本発明化合物のいくつかについて１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
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次に、前記一般式〔ＩＩ−２〕、一般式〔ＩＩ−３〕、一般式〔ＩＩ−４〕、一般式〔ＩＩ−５〕、一般式〔ＩＩ−６〕、一般式〔ＩＩ−７〕、一般式〔III−３〕及び一般式〔III−８〕で示される中間体化合物の代表例を表４３〜表４６に記載する。これら中間体化合物は文献未記載の新規化合物である。
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表４３に示した化合物のいくつかについて１Ｈ−ＮＭＲデータを以下に示す。
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本発明の除草剤は、一般式〔Ｉ−１〕又は一般式〔Ｉ−２〕で示されるピリドン誘導体を有効成分としてなる。本発明化合物を除草剤として使用するには本発明化合物それ自体で用いてもよいが、製剤化に一般的に用いられる担体、界面活性剤、分散剤または補助剤等を配合して、粉剤、水和剤、乳剤、微粒剤または粒剤等に製剤して使用することもできる。
製剤化に際して用いられる担体としては、例えばタルク、ベントナイト、クレー、カオリン、珪藻土、ホワイトカーボン、バーミキュライト、炭酸カルシウム、消石灰、珪砂、硫安、尿素等の固体担体、イソプロピルアルコール、キシレン、シクロヘキサン、メチルナフタレン等の液体担体等があげられる。
界面活性剤及び分散剤としては、例えばアルキルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジスルホン酸金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンモノアルキレート等があげられる。補助剤としては、例えばカルボキシメチルセルロース、ポリエチレングリコール、アラビアゴム等があげられる。使用に際しては適当な濃度に希釈して散布するかまたは直接施用する。
本発明の除草剤は茎葉散布、土壌施用または水面施用等により使用することができる。有効成分の配合割合については必要に応じて適宜選ばれるが、粉剤または粒剤とする場合は０．０１〜１０％（重量）、好ましくは０．０５〜５％（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。また、乳剤及び水和剤とする場合は１〜５０％（重量）、好ましくは５〜３０％（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。
本発明の除草剤の施用量は使用される化合物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件ならびに使用する剤型等によってかわるが、粉剤及び粒剤のようにそのまま使用する場合は、有効成分として１０アール当り０．１ｇ〜５ｋｇ、好ましくは１ｇ〜１ｋｇの範囲から適宜選ぶのがよい。また、乳剤及び水和剤とする場合のように液状で使用する場合は、０．１〜５０，０００ｐｐｍ、好ましくは１０〜１０，０００ｐｐｍの範囲から適宜選ぶのがよい。
また、本発明の化合物は必要に応じて殺虫剤、殺菌剤、他の除草剤、植物生長調節剤、肥料等と混用してもよい。
次に代表的な製剤例をあげて製剤方法を具体的に説明する。化合物、添加剤の種類及び配合比率は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能である。以下の説明において「部」は重量部を意味する。
〈製剤例１〉 水和剤
化合物（２−１）の１０部にポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルの０．５部、β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、珪藻土の２０部、クレーの６９部を混合粉砕し、水和剤を得る。
〈製剤例２〉 水和剤
化合物（１−１４）の１０部にポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルの０．５部、β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、珪藻土の２０部、ホワイトカーボンの５部、クレーの６４部を混合粉砕し、水和剤を得る。
〈製剤例３〉 水和剤
化合物（６−１９）の１０部にポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルの０．５部、β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、珪藻土の２０部、ホワイトカーボンの５部、炭酸カルシウムの６４部を混合粉砕し、水和剤を得る。
〈製剤例４〉 乳剤
化合物（２−７）の３０部にキシレンとイソホロンの等量混合物６０部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の１０部を加え、これらをよくかきまぜることによって乳剤を得る。
〈製剤例５〉 粒剤
化合物（６−９）の１０部、タルクとベントナイトを１：３の割合で混合した増量剤の８０部、ホワイトカーボンの５部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の５部に水１０部を加え、よく練ってペースト状としたものを直径０．７ｍｍのふるい穴から押し出して乾燥した後に０．５〜１ｍｍの長さに切断し、粒剤を得る。
次に試験例をあげて本発明化合物の奏する効果を説明する。尚、比較剤として、次に示す化合物を用いた。
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〈試験例１〉 水田土壌処理による除草効果試験
１００ｃｍ２のプラスチックポットに水田土壌を充填し、代掻後、タイヌビエ（Ｅｃ）、コナギ（Ｍｏ）及びホタルイ（Ｓｃ）の各種子を播種し、水深３ｃｍに湛水した。翌日、製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、水面滴下した。施用量は、有効成分を１０アール当り１００ｇとした。その後、温室内で育成し、処理後２１日目に表４７の基準に従って除草効果を調査した。結果を表４８〜表５５に示す。
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〈試験例２〉 畑地土壌処理による除草効果試験
１２０ｃｍ２プラスチックポットに砂を充填し、ヒエ（Ｅｃ）、メヒシバ（Ｄｉ）、オオイヌタデ（Ｐｏ）、アオビユ（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）、コゴメガヤツリ（Ｃｉ）の各種子を播種して覆土した。製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、１０アール当り有効成分が１００ｇになる様に、１０アール当り１００ｌを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理２１日目に表４７の基準に従って、除草効果を調査した。結果を表５６〜表６２に示す。
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〈試験例３〉 畑地茎葉処理による除草効果試験
１２０ｃｍ２プラスチックポットに砂を充填し、ヒエ（Ｅｃ）、メヒシバ（Ｄｉ）、オオイヌタデ（Ｐｏ）、アオビユ（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）、コゴメロガヤツリ（Ｃｉ）の各種子を播種し、温室内で２週間育成後、製剤例１に準じて調製した水和剤を水に希釈し、１０アール当り有効成分が１００ｇになる様に、１０アール当り１００ｌを小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布処理した。その後、温室内で育成し、処理１４日目に表４７の基準に従って、除草効果を調査した。その結果を表６３〜表６９に示す。−は未試験を表す。
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〈試験例４〉 畑地土壌処理による作物選択性試験
６００ｃｍ２プラスチックポットに砂を充填し、ワタ（Ｇｏ）、メヒシバ（Ｄｉ）、エノコログサ（Ｓｅ）、オオイヌタデ（Ｐｏ）、アオビユ（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）、イチビ（Ａｂ）の各種子を播種して覆土した。翌日、製剤例１に準じて調製した水和剤の所定有効成分量（ａｉ，ｇ／１０ａ）を水で希釈し、１０アール当り１００ｌを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理後２１日目に表４７の基準に従って除草効果及び薬害を調査した。試験結果を表７０〜表７３に示す。−は未試験を表す。
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〈試験例５〉 畑地土壌処理による作物選択性試験
６００ｃｍ２プラスチックポットに砂を充填し、コムギ（Ｔｒ）、メヒシバ（Ｄｉ）、エノコログサ（Ｓｅ）、オオイヌタデ（Ｐｏ）、アオビユ（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）、イチビ（Ａｂ）の各種子を播種して覆土した。翌日、製剤例１に準じて調製した水和剤の所定有効成分量（ａｉ，ｇ／１０ａ）を水で希釈し、１０アール当り１００ｌを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理後２１日目に表４７の基準に従って除草効果及び薬害を調査した。試験結果を表７４〜表７６に示す。−は未試験を表す。
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〈試験例６〉 畑地土壌処理による作物選択性試験
６００ｃｍ２プラスチックポットに砂を充填し、ダイズ（Ｇｌ）、メヒシバ（Ｄｉ）、エノコログサ（Ｓｅ）、ジョンソングラス（Ｓｏ）、オオイヌタデ（Ｐｏ）、アオビユ（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）、イチビ（Ａｂ）の各種子を播種して覆土した。翌日、製剤例１に準じて調製した水和剤の所定有効成分量（ａｉ，ｇ／１０ａ）を水で希釈し、１０アール当り１００ｌを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理後２１日目に表４７の基準に従って除草効果及び薬害を調査した。試験結果を表７７〜表７９に示す。−は未試験を表す。
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〈試験例７〉 畑地土壌処理による作物選択性試験
６００ｃｍ２プラスチックポットに砂を充填し、トウモロコシ（Ｚｅ）、エノコログサ（Ｓｅ）、オオイヌタデ（Ｐｏ）、アオビユ（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）、イチビ（Ａｂ）の各種子を播種して覆土した。翌日、製剤例１に準じて調製した水和剤の所定有効成分量（ａｉ，ｇ／１０ａ）を水で希釈し、１０アール当り１００ｌを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理後２１日目に表４７の基準に従って除草効果及び薬害を調査した。試験結果を表８０〜表８２に示す。
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〈試験例８〉 畑地茎葉処理による作物選択性試験
６００ｃｍ２プラスチックポットに砂を充填し、ワタ（Ｇｏ）、オオイヌタデ（Ｐｏ）、アオビユ（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）、イチビ（Ａｂ）の各種子を播種し、温室内で２週間育成後、製剤例１に準じて調製した水和剤の所定有効成分量（ａｉ，ｇ／１０ａ）を水で希釈し、１０アール当り１００ｌを小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布処理した。その後、温室内で育成し、処理１４日目に表４７の基準に従って除草効果及び薬害を調査した。その結果を表８３に示す。
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〈試験例９〉 畑地茎葉処理による作物選択性試験
６００ｃｍ２プラスチックポットに砂を充填し、コムギ（Ｔｒ）、オオイヌタデ（Ｐｏ）、アオビユ（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）、イチビ（Ａｂ）の各種子を播種し、温室内で２週間育成後、製剤例１に準じて調製した水和剤の所定有効成分量（ａｉ，ｇ／１０ａ）を水で希釈し、１０アール当り１００ｌを小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布処理した。その後、温室内で育成し、処理１４日目に表４７の基準に従って除草効果及び薬害を調査した。その結果を表８４〜表８６に示す。
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〈試験例１０〉 畑地茎葉処理による作物選択性試験
６００ｃｍ２プラスチックポットに砂を充填し、ダイズ（Ｇｌ）、オオイヌタデ（Ｐｏ）、アオビユ（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）、イチビ（Ａｂ）の各種子を播種し、温室内で２週間育成後、製剤例１に準じて調製した水和剤の所定有効成分量（ａｉ，ｇ／１０ａ）を水で希釈し、１０アール当り１００ｌを小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布処理した。その後、温室内で育成し、処理１４日目に表４７の基準に従って除草効果及び薬害を調査した。その結果を表８７に示す。
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〈試験例１１〉 畑地茎葉処理による作物選択性試験
６００ｃｍ２プラスチックポットに砂を充填し、トウモロコシ（Ｚｅ）、オオイヌタデ（Ｐｏ）、アオビユ（Ａｍ）、シロザ（Ｃｈ）、イチビ（Ａｂ）の各種子を播種し、温室内で２週間育成後、製剤例１に準じて調製した水和剤の所定有効成分量（ａｉ，ｇ／１０ａ）を水で希釈し、１０アール当り１００ｌを小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布処理した。その後、温室内で育成し、処理１４日目に表４７の基準に従って除草効果及び薬害を調査した。その結果を表８８〜表９０に示す。
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Claims (9)

  1. 一般式
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    ｛式中、ＲはＣ1〜Ｃ6アルキル基又はＣ1〜Ｃ6ハロアルキル基を表し、Ｒ1は水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、アセチル基、基−Ｎ＝ＣＲ13Ｒ14又は基−ＮＲ23Ｒ24を表す（ただし、Ｒ1が水素原子の場合は、ＲはＣ1〜Ｃ6ハロアルキル基を表す。）。Ｒ13及びＲ14はそれぞれ独立に水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、基−ＮＲ23Ｒ24又はフェニル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。）を表し、Ｒ23及びＲ24はそれぞれ独立に水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルカルボニル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル基、ベンゾイル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。）、フェノキシカルボニル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。）、ホルミル基又はＣ1〜Ｃ6アルキルスルホニル基を表し、Ｒ2は水素原子又はＣ1〜Ｃ6アルキル基を表し、Ｒ19は水素原子、ハロゲン原子又はシアノ基を表し、Ｑは式
    Figure 0004153039
    ［式中、Ｒ3は水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｒ4は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキルアミノ基、ベンジルオキシ基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい）、ヒドロキシル基、チオール基、アミノ基又はシアノ基を表し、Ｒ5は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、ヒドロキシル基、チオール基、アミノ基、ニトロ基、クロロスルホニル基、アセチルチオ基、シアノ基、シアノＣ1〜Ｃ6アルキル基、ホルミル基、ヒドロキシメチル基、基−ＹＲ9、基−ＣＲ21＝ＮＯＲ9、基−ＣＯ2Ｒ10、基−ＣＯＳＲ10、基−ＣＯＮＲ10Ｒ11、基−ＳＯ2ＮＲ10Ｒ11、基−ＮＨＣＯＮＨＲ11、基−ＳＯＲ12、基−ＳＯ2Ｒ12、アシル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシＣ1〜Ｃ6アルキル基、基−ＣＯ2Ｎ＝ＣＲ13Ｒ14、基−ＣＨ（ＯＨ）Ｒ21、基−ＣＨ2ＹＲ9、ヘテロ環基又は基−ＣＨ2ＣＨ（Ｃｌ）ＣＯ2Ｒ10を表し、Ｙは酸素原子、硫黄原子又は基−ＮＲ21−を表し、Ｒ21は水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル基又はＣ3〜Ｃ6アルキニル基を表し、Ｒ9はＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、ヒドロキシＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6ハロアルケニル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、シアノＣ1〜Ｃ6アルキル基、基−ＣＨ（Ｒ15）ＣＯＹＲ16、ベンジル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。）、基−ＣＨ2（３〜６員ヘテロ環）（該基のヘテロ環基はハロゲン原子、ニトロ基、オキソ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。
    ）、３〜６員ヘテロ環基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、オキソ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。）又はフェニル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。）を表し、Ｒ15は水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基又はＣ3〜Ｃ8シクロアルキル基を表し、Ｒ16は水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ6ハロアルケニル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、ベンジル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。）又はフェニル基（該基はハロケン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。）を表し、Ｒ10は水素原子、ナトリウム原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ6ハロアルケニル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6アルケニルオキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6アルキニルオキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルオキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシＣ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、ハロＣ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、ハロＣ3〜Ｃ6アルケニルオキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、ベンジルオキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基（該基のベンジル基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。）、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニルＣ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニルＣ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6モノアルキルカルバモイルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ジアルキルカルバモイルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオＣ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、フェノキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基（該基のフェニル基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。）、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、ベンジル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。）又はフェニル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。）を表し、Ｒ11は水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ6ハロアルケニル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルカルボニル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル基又はＣ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ6アルキル基を表し、Ｒ12は水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ6ハロアルケニル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルカルボニル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル基又はＣ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ6アルキル基を表し、Ｒ6は水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ6ハロアルケニル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、シアノＣ1〜Ｃ6アルキル基、ベンジル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい）又は基−ＣＨ2（３〜６員ヘテロ環）を表し、Ｒ7は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル基、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシＣ1〜Ｃ6アルキル基、シアノ基、Ｃ1〜Ｃ6ヒドロキシアルキル基、基−ＣＯ2Ｒ10、ホルミル基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルチオＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルフィニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルホニルＣ1〜Ｃ6アルキル基又はカルボキシル基を表し、Ｒ8は水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、アシル基、ハロゲン原子又はニトロ基を表し、Ｒ20は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ基、Ｃ3〜Ｃ6アルケニルオキシ基、Ｃ3〜Ｃ6アルキニルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルコキシ基、Ｃ3〜Ｃ6ハロアルケニルオキシ基又は基−ＮＲ11Ｒ12を表し、Ｙ’は酸素原子、硫黄原子、基−ＮＲ21−又は基−ＣＯ−を表す。］を表す。｝で示されるピリドン誘導体。
  2. 一般式
    Figure 0004153039
    ｛式中、ＲはＣ1〜Ｃ6アルキル基又はＣ1〜Ｃ6ハロアルキル基を表し、Ｒ1は水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、アセチル基、アミノ基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルアミノ基又はＣ1〜Ｃ6アルキルカルボニルアミノ基を表す（ただし、Ｒ1が水素原子の場合は、ＲはＣ1〜Ｃ6ハロアルキル基を表す。）。Ｒ2は水素原子又はＣ1〜Ｃ6アルキル基を表し、Ｑは式
    Figure 0004153039
    ［式中、Ｒ3は水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｒ4は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキルアミノ基、ベンジルオキシ基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい）、ヒドロキシル基、チオール基、アミノ基又はシアノ基を表し、Ｒ5は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、ヒドロキシル基、チオール基、アミノ基、ニトロ基、クロロスルホニル基、アセチルチオ基、シアノ基、ホルミル基、ヒドロキシメチル基、基−ＹＲ9、基−ＣＨ＝ＮＯＲ9、基−ＣＯ2Ｒ10、基−ＣＯＳＲ10、基−ＣＯＮＲ10Ｒ11、基−ＳＯ2ＮＲ10Ｒ11、基−ＮＨＣＯＮＨＲ11、基−ＳＯＲ12、基−ＳＯ2Ｒ12、アシル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシＣ1〜Ｃ6アルキル基、基−ＣＯ2Ｎ＝ＣＲ13Ｒ14又は基−ＣＨ2ＣＨ（Ｃｌ）ＣＯ2Ｒ10を表し、Ｒ6は水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ6ハロアルケニル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル基、シアノＣ1〜Ｃ6アルキル基又はオキシランメチル基を表し、Ｒ7は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシＣ1〜Ｃ6アルキル基、シアノ基、Ｃ1〜Ｃ6ヒドロキシアルキル基、基−ＣＯ2Ｒ10、アシル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニルＣ1〜Ｃ6アルキル基又はカルボキシル基を表し、Ｒ8は水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、アシル基、ハロゲン原子又はニトロ基を表し、Ｙは酸素原子、硫黄原子又は基−ＮＨ−を表し、Ｒ9はＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、ヒドロキシＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6ハロアルケニル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、シアノＣ1〜Ｃ6アルキル基、基−ＣＨ（Ｒ15）ＣＯＹＲ16、ベンジル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。）、５〜６員ヘテロ環基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。）又はフェニル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。）を表し、Ｒ10は水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ6ハロアルケニル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6アルケニルオキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6アルキニルオキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルオキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシＣ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、ハロＣ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、ハロＣ3〜Ｃ6アルケニルオキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、ベンジルオキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基（該基のベンジル基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。）、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニルＣ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニルＣ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6モノアルキルアミノカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ジアルキルアミノカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオＣ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、フェニルオキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基（該基のフェニル基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。）、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、ベンジル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。）又はフェニル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。）を表し、Ｒ11は水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ6ハロアルケニル基又はＣ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ6アルキル基を表し、Ｒ12は水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ6ハロアルケニル基又はＣ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ6アルキル基を表し、Ｒ13及びＲ14はそれぞれ独立に水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基又はフェニル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。
    ）を表し、Ｒ15は水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基又はＣ3〜Ｃ8シクロアルキル基を表し、Ｒ16は水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ6ハロアルケニル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、ベンジル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。）又はフェニル基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルＣ1〜Ｃ6アルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。）を表す。］を表す。｝で示されるピリドン誘導体。
  3. 一般式が
    Figure 0004153039
    である請求項１記載のピリドン誘導体。
  4. 一般式が
    Figure 0004153039
    である請求項１記載のピリドン誘導体。
  5. 一般式が
    Figure 0004153039
    （式中、ＲがＣ1〜Ｃ6ハロアルキル基を表す。）である請求項１記載のピリドン誘導体。
  6. 一般式が
    Figure 0004153039
    （式中、ＲがＣ1〜Ｃ6ハロアルキル基を表す。）である請求項１記載のピリドン誘導体。
  7. 一般式が
    Figure 0004153039
    （式中、ＲがＣ1〜Ｃ6ハロアルキル基を表し、Ｒ2’が水素原子又はＣ1〜Ｃ6アルキル基を表し、Ｒ19’が水素原子又はＣ1〜Ｃ6アルキル基を表し、Ｑ’が式、
    Figure 0004153039
    〔式中、Ｒ3、Ｒ20、Ｒ21及びＹはそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｒ4’は水素原子、ハロゲン原子又はニトロ基を表し、Ｒ5’は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、ニトロ基、基−ＹＲ9’、基−ＳＯＲ9’、基−ＳＯ2Ｒ9’又はＣ1〜Ｃ6アルコキシＣ1〜Ｃ6アルキル基を表し、Ｒ6’はＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ6ハロアルケニル基、オキシランメチル基又はＣ1〜Ｃ6アルコキシＣ1〜Ｃ6アルキル基を表し、Ｒ7’は水素原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシＣ1〜Ｃ6アルキル基、ハロゲン原子又はヒドロキシル基を表し、Ｒ8’は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基又はニトロ基を表し、Ｒ9’はＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ6ハロアルケニル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニルＣ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオＣ1〜Ｃ6アルキル基、ベンジルオキシ基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。）又は５〜６員ヘテロ環基（該基はハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル基もしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ基で置換されていてもよい。）を表す。〕を表す。）である請求項１記載のピリドン誘導体の製造中間体。
  8. 一般式が
    Figure 0004153039
    ｛式中、Ｚ’が塩素原子、臭素原子（ただし、Ｒ3’が塩素原子の場合を除く。
    ）、カルボキシル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル基又はシアノ基を表し、Ｒ3’が塩素原子又はフッ素原子を表し、Ｒ5’がＣ1〜Ｃ6アルコキシ基、Ｃ3〜Ｃ6アルケニルオキシ基、Ｃ3〜Ｃ6アルキニルオキシ基又はＣ1〜Ｃ6アルキル基を表す。｝である請求項１記載のピリドン誘導体の製造中間体。
  9. 請求項１記載のピリドン誘導体を有効成分として含有する除草剤。
    Figure 0004153039
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