JP4138035B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、溝型素子分離を用いた半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、コンピュ−タ−や通信機器の重要部分には、多数のトランジスタや抵抗等を電気回路を達成するようにむすびつけ、1チップ上に集積化して形成した大規模集積回路(LSI)が多用されている。このため、機器全体の性能は、LSI単体の性能と大きく結び付いている。LSI単体の性能向上は、素子を微細化して、高集積化することにより実現できる。
【0003】
一方、従来より、素子分離はLOCOS素子分離により行なわれている。この素子分離ではバーズビークと呼ばれる酸化膜の食い込みが素子形成領域に生じ、素子形成領域の実効的な面積が減少する。したがって、LOCOS素子分離は、高集積化に関しては有効ではない。
【0004】
そこで、最近では、基板表面に浅い素子分離溝を形成し、この浅い素子分離溝を絶縁膜により充填するというSTI(Shallow Trench Isolation)分離が多く用いられるようになってきている。
【0005】
この素子分離は、LOCOS素子分離の場合とは異なり、バーズビークが生じないので、素子形成領域の減少を防止できる。また、LOCOS素子分離に比べて、素子分離特性の点でも優れている。すなわち、STI素子分離は、LOCOS素子分離よりも高集積化に適した素子分離であるといえる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、STI素子分離を行なった半導体装置には以下のような問題がある。
STI素子分離では、まず、図11(a)に示すように、半導体基板91の表面に浅い素子分離溝92を形成し、次いでこの素子分離溝92からあふれる程度の厚い絶縁膜93を全面に形成する。なお、図中、94はゲート絶縁膜を示している。
【0007】
次にCMP法、等方エッチング等により絶縁膜93を基板表面まで後退させ、素子分離溝92以外の領域の絶縁膜93を除去し、素子分離溝92内を絶縁膜93で充填する。
【0008】
ここで、等方性または異方性のエッチングにより絶縁膜93の除去を行なう場合には、素子形成領域表面(活性層表面)に絶縁膜93が残置するのを防止するために、絶縁膜93をオーバーエッチングして、絶縁膜93を若干多めに除去する。この結果、図11(b)に示すように、素子分離溝92の上部側面の半導体基板が露出する。以下、素子分離溝92の上部側面の半導体基板の露出面を溝露出面という。
【0009】
この場合、オーバーエッチングにより素子形成領域表面(活性層表面)もエッチングされ、ダメージを受ける。このような不都合を防止するには、CMPを用いれば良い。
【0010】
すなわち、基板全面にストッパ膜を形成してから素子分離溝92を形成し、次いで絶縁膜93を全面に形成した後、CMPによりストッパ膜まで絶縁膜94を研磨する。次にストッパ膜を除去する。この結果、基板表面には絶縁膜94により上に凸の段差が形成される。次にエッチングにより基板表面の高さ制御(平坦化)を行なう。
【0011】
このとき、面内全体で均一なエッチングを行なうことは困難なので、基板表面には凹部が形成されることになる。また、この高さ制御の工程においては、通常、弗酸系等方性エッチング処理が用いられるので、図11(b)に示したような溝露出面が生じることになる。
【0012】
この状態で、素子形成領域および素子分離領域上を走る電極、配線または電極と配線が一体となったもの(以下、これらをまとめて電極配線という)95を形成すると、図11(c)に示すように、溝露出面に電極配線95が配設されることになる。この結果、電極配線95に電圧を印加すると、同図(c)に示すように、基板表面に対して水平方向の電界Eが生じる。
【0013】
この横方向の電界Eは、本来は生じてはならないものである。このため、素子形成領域に形成された素子は電界Eにより悪影響を受け、素子特性が劣化するという問題が生じる場合がある。
【0014】
例えば、素子形成領域にMOSトランジスタを形成した場合には以下の問題が生じる。この場合、電極配線95はゲート電極、ゲート配線またはゲート電極とゲート配線が一体となったもの(以下、これらをまとめてゲート電極配線という)となる。
【0015】
図12に、STI素子分離を行なったMOSトランジスタの平面図を示す。図12において、97は素子形成領域を示しており、他の領域はSTI分離を行なった素子分離領域を示している。すなわち、素子形成領域97は浅い素子分離溝により囲まれた構造になっている。
【0016】
ゲート電極配線95に電圧を印加すると、溝露出面とゲート電極配線95とのコンタクト部分96の近傍の素子形成領域の半導体基板には、ゲート電極配線95に印加される電圧により、基板表面に対して垂直方向の電界、さらに水平方向Eの電界が形成される。以下、このように垂直方向の電界に加えて、他方向の電界が形成される素子形成領域の半導体基板部分をコーナデバイスという。
【0017】
このようにコーナデバイスには1次元ではなく、2次元の電界分布が形成されるので、コーナデバイスが存在すると、微細化によりゲート電極幅が狭くなるとショートチャネル効果はより起こりやすくなる。
【0018】
このことは、溝露出面が生じない理想的な場合に比べて、ショートチャネル効果が大きくなることを意味している。言い換えれば、STI素子分離により素子形成領域の面積の減少は防止できても、コーナデバイスの存在により高集積化が困難になることを意味している。
【0019】
図13に、従来のSTI素子分離およびLOCOS素子分離された半導体基板の素子形成領域にそれぞれMOSトランジスタを形成し、各MOSトランジスタのVg−Id特性を調べた結果を示す。
【0020】
図中、aはSTI素子分離でショートチャネル効果が無い場合のVg−Id特性曲線を示し、bはSTI素子分離でショートチャネル効果が有る場合のVg−Id特性曲線を示し、そしてcはショートチャネル効果が無い場合のLOCOS素子分離の場合のVg−Id特性曲線を示している。なお、縦軸(Id)はログスケールである。
【0021】
図13から、同レベルのゲート電圧Vgでドレイン電流Idを比較すると、STI素子分離の場合のほうがドレイン電流Idが大きいことが分かる。これはSTI素子分離の場合、コーナデバイスの影響により、しきい値電圧が低レベル側にシフトしていることを表わしている。また、このシフトはショートチャネル効果によりさらに大きくなることが分かる。
【0022】
このような問題を解決する方法としては、ゲート電極配線95の幅を大きくすることがあげられる。しかし、これは素子の微細化を妨げることになり、LOCOS素子分離の代わりにSTI素子分離を用いる効果が減少していしまう。
【0023】
なお、以上の述べた問題は、絶縁膜93の上面が一様に減少する場合のみならず、図14に示すように、素子分離溝92の上部側壁の周辺に沿って絶縁膜93に窪みが生じる場合にも当てはまる。
【0024】
また、STI分離によれば、上述したように、LOCOS分離の場合とは異なり、素子形成領域の面積が減少することはないが、微細化が進むとそれに伴って素子形成領域の幅が狭くなり、これにより素子形成領域にコンタクトを取るのが困難になるという問題がある。
【0025】
本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、その目的とするところは、MOSトランジスタの高集積化が容易な溝型素子分離を用いた半導体装置を提供することにある。
【0026】
【課題を解決するための手段】
[概要]
上記目的を達成するために、本発明に係る半導体装置(請求項1)は、半導体基板の表面に形成された溝に絶縁膜を埋め込んでなる素子分離領域と、この素子分離領域によって互いに分離された素子形成領域とを具備してなり、前記素子形成領域は、DRAMセルのMOSトランジスタの活性領域を有するとともに、前記溝側の活性領域のうち該活性領域と前記素子分離領域との境にライン状のゲート電極配線が配設された領域に、前記MOSトランジスタのソース・ドレイン間の最も短い距離よりも長い電流経路を有し、前記ゲート電極配線は、前記境と交差する部分の長さが、前記最も短い距離よりも長くなるように配置された半導体装置であって、前記素子形成領域は、正6角形を1組の相対向する角の対角線方向に偏平した形状であって、前記対角線方向が前記MOSトランジスタのチャネル幅方向に一致した形状を有し、かつ、前記素子形成領域は、前記MOSトランジスタの一方のソース・ドレイン拡散層に一方のキャパシタ電極が接続されたスタックトキャパシタまたはトレンチキャパシタの形成領域を有し、前記素子形成領域の中央部の最も広い領域に前記DRAMセルのビット線コンタクトが設けられ、前記ライン状のゲート電極配線は前記ビット線コンタクトの両側に各々1本ずつ前記チャネル幅方向と平行に配置されていることを特徴とする。
【0027】
ここで、上記電流経路は最も長いものであることが好ましい。
また、本発明に係る他の半導体装置(請求項2)は、半導体基板の表面に形成された溝に絶縁膜を埋め込んでなる素子分離領域と、この素子分離領域によって互いに分離された素子形成領域とを具備してなり、前記素子形成領域は、DRAMセルのMOSトランジスタの活性領域を有するとともに、前記溝側の活性領域のうち該活性領域と前記素子分離領域との境にライン状のゲート電極配線が配設された領域に、前記MOSトランジスタのソース・ドレイン間の最も短い距離よりも長い電流経路を有し、前記ゲート電極配線は、前記境と交差する部分の長さが、前記最も短い距離よりも長くなるように配置された半導体装置であって、前記素子形成領域は、一辺が前記MOSトランジスタのチャネル長方向と平行な方向に配置された5角形を前記MOSトランジスタのチャネル幅方向に偏平した形状を有し、かつ、前記素子形成領域は、前記MOSトランジスタの一方のソース・ドレイン拡散層に一方のキャパシタ電極が接続されたスタックトキャパシタまたはトレンチキャパシタの形成領域を有し、前記素子形成領域の中央部の最も広い領域に前記DRAMセルのビット線コンタクトが設けられ、前記ライン状のゲート電極配線は前記ビット線コンタクトの両側に各々1本ずつ前記チャネル幅方向と平行に配置されていることを特徴とする。
【0028】
また、本発明に係る他の半導体装置(請求項3)は、上記半導体装置(請求項1〜2)において、前記溝の底から前記溝の開口面よりも下の領域が前記絶縁膜で埋め込まれ、かつ前記ゲート電極配線が前記溝側の活性領域と前記素子分離領域との境上に配設されていることを特徴とする。
【0032】
また、本発明に係る他の半導体装置(請求項4)は、上記半導体装置(請求項1〜請求項3)において、前記一方のソース・ドレイン拡散層よりもビット線が接続される他方のソース・ドレイン拡散層のほうが素子表面から見た面積が大きいことを特徴とする。
【0033】
[作用]
本発明では、溝側の活性領域のうちゲート電極配線が配設された領域にMOSトランジスタのソース・ドレイン間の最も短い距離よりも長い電流経路が存在する構成になっている。このような構成であると、ゲート電極配線が配設された領域の電流経路が一定である従来よりも広い領域が存在するパターンの素子形成領域を形成することが可能となる。
【0034】
したがって、本発明によれば、素子の微細化が進んでも、素子形成領域またはその上に配設されたゲート電極配線に対してコンタクトを取る必要がある場合には、そのコンタクトは上記広い領域で取れば良いので、MOSトランジスタの高集積化を容易に行なえるようになる。
【0035】
また、本発明では、ゲート電極配線が溝側の活性領域と素子分離領域との境上に配設されているので、溝側の活性領域には2次元の電界分布が形成されるようになる。すなわち、ショートチャネルMOSトランジスタの場合と同様に、活性領域には2次元の電界分布が形成される。
【0036】
ここで、ショートチャネルMOSトランジスタの場合、2次元の電界分布により、ショートチャネル効果(しきい値電圧の低下)が現われるが、本発明の場合、溝側の活性領域の電流経路は最も長い電流経路となるので、しきい値電圧の低下は抑制される。すなわち、ゲート電極配線の幅を広くしなくても、コーナーデバイスに起因するしきい値電圧の低下を抑制できる。しきい値電圧の低下が抑制されるのは、2次元の電界分布が形成される場合、しきい値電圧はチャネル長に反比例するからである。
【0037】
したがって、本発明によれば、ゲート電極配線の幅を広くしなくてもしきい値電圧の低下(ショートチャネル効果)を抑制できるので、MOSトランジスタの高集積化を容易に行なえるようになる。
【0038】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の実施の形態(以下、実施形態という)を説明する。
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係る半導体装置の平面図である。この図1には、直列接続された2個のMOSトランジスタが配列形成された様子が示されている。
【0039】
図中、1はMOSトランジスタの素子形成領域を示しており、他の領域はSTI素子分離を行なった素子分離領域を示している。この素子分離領域には従来と同様に溝露出面が存在する。本実施形態では、素子形成領域1にはMOSトランジスタしか形成されていないので、素子形成領域1とMOSトランジスタの活性領域とは一致する。
【0040】
素子形成領域1のパターンは、従来のそれとは異なり、正6角形を縦方向に偏平した形状となっている。一方、ゲート電極配線2のパターンは従来のそれと同じである。すなわち、ゲート電極配線2の幅は従来と変わらない。
【0041】
この結果、溝露出面とゲート電極配線2との2つのコンタクト部31 ,32 (溝露出面に配設される部分のゲート電極配線2)を素子表面の上から見ると、その方向はチャネル方向に対してθ(0<θ<90)°だけ傾いたものとなる。
【0042】
したがって、反転層(チャネル)を形成した場合、最も長い電流経路はコーナデバイスに存在し、その電流経路の長さは、ゲート電極配線2の幅(ソース・ドレイン間の最短距離)をLとすると、L/cosθとなる。一方、従来のコーナデバイスにおける電流経路の長さはLで一定である。すなわち、本実施形態のコーナデバイスにおける電流経路は、従来のそれよりも長くなる。なお、コーナデバイス以外の電流経路の長さは、従来と変わらずLである。
【0043】
本実施形態のようにコーナデバイスにおける電流経路が長くなると、従来に比べてコーナデバイスのしきい値電圧は高レベル側にシフトする。これは、チャネル領域に2次元の電解分布が形成される場合、しきい値電圧はチャネル長に反比例して低下するからである。
【0044】
したがって、本実施形態によれば、ゲート電極配線2の幅を大きくすることなく、コーナデバイスに起因するショートチャネル効果の増大を抑制できるようになり、これによりMOSトランジスタの高集積化を容易に行なえるようになる。
【0045】
また、本実施形態の場合、素子形成領域1には従来のそれよりも広い領域が存在する。このため、素子の微細化が進んでも、素子形成領域1に対してコンタクトを取る必要がある場合には、そのコンタクトは上記広い領域で取れば良いので、MOSトランジスタの高集積化を容易に行なえるようになる。なお、狭いほうの領域は従来と同じ大きさである。
【0046】
例えば、DRAMの場合であれば、広い領域をビット線がコンタクトするソース・ドレイン領域に選ぶことにより、そのコンタクト(ビット線コンタクト)は容易なものとなる。
【0047】
図2に、本実施形態および従来のMOSトランジスタのVg−Id特性を示す。図中、aは本実施形態のVg−Id特性曲線を示し、bは従来のVg−Id特性曲線を示している。なお、縦軸(Id)はログスケールである。
【0048】
図から、同レベルのゲート電圧Vgでドレイン電流Idを比較すると、本実施形態のほうがドレイン電流Idが小さく、しきい値電圧が高レベル側にシフトしていることが分かる。
【0049】
このシフト分が多いほど、Vg−Id特性はコーナデバイスの電界に律速されなくなることになる。そして、シフト分がコーナデバイスの電界の影響によるしきい値電圧の低下分より大きくなると、Vg−Id特性はコーナデバイスのない場合のそれとほぼ等しくなる。
【0050】
図3は、本実施形態のMOSトランジスタの製造方法を示す工程断面図である。この工程断面図は、図1のA−A´断面におけるものである。
まず、図3(a)に示すように、p型半導体基板11の表面に浅い素子分離溝12を形成する。具体的には、レジストパターンを形成し、これをマスクにRIE等の異方性エッチング法を用いて基板表面をエッチングする。なお、図では、素子分離溝12の側壁はテーパ形状であるが、垂直であっても良い。
【0051】
次に図3(b)に示すように、素子分離溝12からあふれる程度の厚いTEOS膜13を全面に形成した後、CMP法、等方エッチング等によりTEOS膜13を基板表面まで後退させ、素子分離溝12以外の領域のTEOS膜13を除去し、素子分離溝12内をTEOS膜13で充填する。この工程でSTI素子分離が完成する。
【0052】
このとき、基板表面でTEOS膜13の除去を正確に停止することは非常に困難であり、素子分離溝12以外の領域にTEOS膜13が残置するのを防止するためには、TEOS膜13を若干多めに除去する必要がある。この結果、同図(b)に示すように、素子分離溝12の上部側面のp型半導体基板11が露出することになる。
【0053】
次に図3(c)に示すように、ゲート絶縁膜14となる酸化膜などの絶縁膜、ゲート電極配線15となる不純物がドープされたポリシリコン膜などの導電膜を順次形成した後、これらをパターニングして各素子形成領域にそれぞれ2個のゲート絶縁膜14およびゲート電極配線15を形成する。
【0054】
最後に、図3(d)に示すように、ゲート電極配線15をマスクに用いてリンイオンなどのn型不純物イオンを基板表面に注入した後、アニール処理によりn型不純物イオンを活性化して、ソース・ドレイン拡散層16を形成する。この結果、各素子形成領域には、直列接続された2個のMOSトランジスタが形成される。
【0055】
なお、ここでは、三つのソース・ドレイン拡散層16は同じ大きさであるが、中央のソース・ドレイン拡散層16とその両側のソース・ドレイン拡散層16とは必ずしも同じ大きさである必要はない。また、素子分離溝12の露出面に薄い絶縁膜、つまり、ゲート電極配線15に印加される電圧により形成される電界がが素子形成領域に影響を与える程度の厚さの絶縁膜が形成されていても良い。
(第2の実施形態)
図4は、本発明の第2の実施形態に係る半導体装置の平面図である。なお、図1の半導体装置と対応する部分には図1と同一符号を付してあり、詳細な説明は省略する(他の実施形態について同様)。
【0056】
本実施形態が第1の実施形態と異なる点は、下側のコンタクト部32 のチャネル方向に対する傾き角度θがゼロ、つまり、下側のコンタクト部32 側のコーナデバイスにおける電流経路の長さは従来のそれと同じになっていることにある。
【0057】
図5に、本実施形態および従来のMOSトランジスタのVg−Id特性を示す。図中、aは本実施形態のVg−Id特性曲線を示し、bは従来のVg−Id特性曲線を示している。なお、縦軸(Id)はログスケールである。
【0058】
図から、同レベルのゲート電圧Vgでドレイン電流Idを比較すると、本実施形態のほうがドレイン電流Idが小さく、しきい値電圧が高レベル側にシフトしていることが分かる。
【0059】
すなわち、上側のコンタクト部31 側のコーナデバイスにおける電流経路だけを長くしても、コーナデバイスの影響を効果的に小さくでき、しきい値電圧の低下を抑制できることが分かる。
【0060】
したがって、本実施形態でも第1の実施形態と同様に、ゲート電極配線2の幅を大きくすること無く、しきい値電圧の低下を抑制できるようになる。
(第1の参考例)
図6は、第1の参考例に係る半導体装置の平面図である。
【0061】
本参考例が第1の実施形態と異なる点は、コンタクト部31 ,32 を素子表面の上から見た形状が円弧になっていることにある。この場合も、コーナデバイスにおける電流経路の長さは、ゲート電極配線2の幅Lよりも長くなるので、第1の実施形態と同様に、ゲート電極配線2の幅を大きくすること無く、コーナデバイスによるショートチャネル効果を抑制できるようになる。
(第2の参考例)
図7は、第2の参考例に係る半導体装置の平面図である。
【0062】
本参考例が第1の実施形態と異なる点は、長方形の素子形成領域1の長辺に斜めに交わるようにゲート電極配線2を形成することにより、コーナデバイスにおける電流経路の長さをゲート電極配線2の幅Lよりも長くしたことにある。
【0063】
本参考例でも、コーナデバイスにおける電流経路の長さが、ゲート電極配線2の幅Lよりも長くなるので、第1の実施形態と同様に、ゲート電極配線2の幅を大きくすること無く、コーナデバイスによるショートチャネル効果を抑制できるようになる。
(第3の実施形態)
図8は、本発明の第3の実施形態に係る半導体装置の斜視図である。なお、図中、ゲート絶縁膜、層間絶縁膜は省略してある。
【0064】
本実施形態は、本発明をスタック型DRAMセルに適用した例である。スタックキャパシタしては円筒型スタックキャパシタ17を用いている。また、MOSトランジスタとしては図4と同タイプのものを用いている。
【0065】
本実施形態の場合、素子形成領域(活性層)はその中央部が従来に比べて広いので、図9に示すように、従来に比べて、ビット線18とソース・ドレイン拡散層とのコンタクトを取るためのプラグ19とソース・ドレイン拡散層とのコンタクト面積が大きくなり、コンタクト抵抗の低減化を図ることができる。
【0066】
さらに、本実施形態の場合、層間絶縁膜に開口するコンタクトホールに合わせずれが生じ、プラグ19の位置がずれても、中央部が従来に比べて広いことにより、必要なコンタクト面積は確保できる。
(第4の実施形態)
図10は、本発明の第4の実施形態に係る半導体装置の斜視図である。なお、図中、ゲート絶縁膜、層間絶縁膜は省略してある。
【0067】
本実施形態は、本発明をトレンチ型DRAMセルに適用した例である。本実施形態は、キャパシタとしてトレンチキャパシタ20を用い点では第3の実施形態と異なるが他の点は同じである。したがって、本実施形態でも第3の実施形態と同様な効果が得られる。
【0068】
【発明の効果】
以上詳述したように本発明によれば、素子の微細化が進んでも、素子形成領域またはその上に配設されたゲート電極配線に対するコンタクトが容易に取れるので、MOSトランジスタの高集積化を容易に行なえるようになる。
【0069】
また、本発明によれば、ゲート電極配線の幅を広くしなくてもしきい値電圧の低下(ショートチャネル効果)を抑制できるので、MOSトランジスタの高集積化を容易に行なえるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態に係る半導体装置の平面図
【図2】図1および従来のMOSトランジスタのVg−Id特性を示す特性図
【図3】図1のMOSトランジスタの製造方法を示す工程断面図
【図4】本発明の第2の実施形態に係る半導体装置の平面図
【図5】図4および従来のMOSトランジスタのVg−Id特性を示す特性図
【図6】 第1の参考例に係る半導体装置の平面図
【図7】 第2の参考例に係る半導体装置の平面図
【図8】 本発明の第3の実施形態に係る半導体装置の斜視図
【図9】 第3の実施形態の効果を説明するための平面図
【図10】 本発明の第4の実施形態に係る半導体装置の斜視図
【図11】従来のSTI素子分離の問題を説明するための工程断面図
【図12】従来のSTI素子分離を行なったMOSトランジスタの平面図
【図13】従来のSTI素子分離されたMOSトランジスタおよびLOCOS素子分離されたMOSトランジスタのVg−Id特性を示す図
【図14】従来のSTI素子分離の問題を説明するための断面図
【符号の説明】
1…素子形成領域
2…ゲート電極配線
31 ,32 …コンタクト部
11…p型半導体基板
12…素子分離溝
13…TEOS膜
14…ゲート絶縁膜
15…ゲート電極配線
16…ソース・ドレイン拡散層
17…円筒型スタックキャパシタ
18…ビット線
19…プラグ
20…トレンチキャパシタ
Claims (4)
- 半導体基板の表面に形成された溝に絶縁膜を埋め込んでなる素子分離領域と、この素子分離領域によって互いに分離された素子形成領域とを具備してなり、前記素子形成領域は、DRAMセルのMOSトランジスタの活性領域を有するとともに、前記溝側の活性領域のうち該活性領域と前記素子分離領域との境にライン状のゲート電極配線が配設された領域に、前記MOSトランジスタのソース・ドレイン間の最も短い距離よりも長い電流経路を有し、前記ゲート電極配線は、前記境と交差する部分の長さが、前記最も短い距離よりも長くなるように配置された半導体装置であって、前記素子形成領域は、正6角形を1組の相対向する角の対角線方向に偏平した形状であって、前記対角線方向が前記MOSトランジスタのチャネル幅方向に一致した形状を有し、かつ、前記素子形成領域は、前記MOSトランジスタの一方のソース・ドレイン拡散層に一方のキャパシタ電極が接続されたスタックトキャパシタまたはトレンチキャパシタの形成領域を有し、前記素子形成領域の中央部の最も広い領域に前記DRAMセルのビット線コンタクトが設けられ、前記ライン状のゲート電極配線は前記ビット線コンタクトの両側に各々1本ずつ前記チャネル幅方向と平行に配置されていることを特徴とする半導体装置。
- 半導体基板の表面に形成された溝に絶縁膜を埋め込んでなる素子分離領域と、この素子分離領域によって互いに分離された素子形成領域とを具備してなり、前記素子形成領域は、DRAMセルのMOSトランジスタの活性領域を有するとともに、前記溝側の活性領域のうち該活性領域と前記素子分離領域との境にライン状のゲート電極配線が配設された領域に、前記MOSトランジスタのソース・ドレイン間の最も短い距離よりも長い電流経路を有し、前記ゲート電極配線は、前記境と交差する部分の長さが、前記最も短い距離よりも長くなるように配置された半導体装置であって、前記素子形成領域は、一辺が前記MOSトランジスタのチャネル長方向と平行な方向に配置された5角形を前記MOSトランジスタのチャネル幅方向に偏平した形状を有し、かつ、前記素子形成領域は、前記MOSトランジスタの一方のソース・ドレイン拡散層に一方のキャパシタ電極が接続されたスタックトキャパシタまたはトレンチキャパシタの形成領域を有し、前記素子形成領域の中央部の最も広い領域に前記DRAMセルのビット線コンタクトが設けられ、前記ライン状のゲート電極配線は前記ビット線コンタクトの両側に各々1本ずつ前記チャネル幅方向と平行に配置されていることを特徴とする半導体装置。
- 前記溝の底から前記溝の開口面よりも下の領域が前記絶縁膜で埋め込まれ、かつ前記ゲート電極配線が前記溝側の活性領域と前記素子分離領域との境上に配設されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体装置。
- 前記一方のソース・ドレイン拡散層よりもビット線が接続される他方のソース・ドレイン拡散層のほうが素子表面から見た面積が大きいことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の半導体装置。
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