JP4128633B2 - ２−置換−１−（テトラゾール−５−イル）ベンゼン合成のためのオルトメタル化方法 - Google Patents

Description

本発明は、２−置換−１−（テトラゾール−５−イル）ベンゼンの合成に有用な方法に関するものであり、更に詳しくは、アンギオテンシンＩＩ拮抗薬の中間体としてよく知られている２−置換−１−（テトラゾール−５−イル）ベンゼンの調製に有用な（テトラゾール−５−イル）ベンゼンの直接オルトメタル化方法に関する。
アンギオテンシンＩＩ拮抗薬は、新しい治療上のクラスを構成しており、この親化合物であるロサルタン（ＩＮＮ）は高血圧、不安神経症、緑内障、心臓発作の有用な治療薬として、最近製薬市場で売り出されている。
アンギオテンシンＩＩ拮抗薬のクラスに属するほとんどの化合物は、共通のジフェニルテトラゾリル部分を有する。
この治療上のクラスの最も知られた化合物を挙げると、既に知られているロサルタン、カンデサルタン、イルベサルタン、タソサルタン、バルサルタン等の化合物があり、全て次の一般式：

で表される（式中、Ａは置換されていてもよい含窒素複素環又は開環アミド残基を表す）。
特に、他の既に確認されたアンギオテンシンＩＩ拮抗薬における各Ａ残基は、以下の基を持つ。
ロサルタン Ａ＝２−ブチル−４−クロロ−５−ヒドロキシメチル−イミダゾール−１−イル
カンデサルタン Ａ＝２−エトキシ−７−カルボキシ−１Ｈ−ベンズイミダゾゾール−１−イル
イルベサルタン Ａ＝２−ブチル−１，３−ジアザ−スピロ［４，４］ノン−１−エン−４−オン−３−イル
タソサルタン Ａ＝２，４−ジメチル−５，８−ジヒドロ−６Ｈ−ピリド［２，３−ｄ］ピリミジン−７−オン−８−イル
バルサルタン Ａ＝（Ｓ）−Ｎ−（１−カルボキシ−２−メチルプロプ−１−イル）−Ｎ−ペンタノイルアミノ
化学式（Ｉ）の化合物の合成に有用な重要中間体の一つは，以下の化学式：

（式中、Ｒは水素原子、保護基又は塩生成基を表し；Ｘは塩素、臭素及びヨウ素から選択されるハロゲン原子を表す。）で表される２−置換フェニルテトラゾール誘導体であることは明らかである。
化学式（ＩＩ）の中間体は、化学式（Ｉ）の化合物のジフェニル部分を生成するために好都合に置換されたフェニル誘導体とのクロスカップリング反応に用いられる。
化学式（ＩＩ）の化合物の製造方法に関する文献において知られている限り、直接メタル化についてはただ一つの方法が報告されており、それは水素原子と金属との交換反応である。
特にこの方法は、米国特許第５，０３９，８１４号（メルク社）に開示されており、実際のところフェニルテトラゾールのオルトリチウム化とそれに続くトランスメタレーションである。
この方法の欠点は、高い引火性と反応性ゆえに、大規模に使用する際には特別な安全手順を必要とする有機リチウム化合物を用いる必要がある点である。
フェニルテトラゾール類の直接メタル化の最も一般的な代替法は、相当する２−ハロ置換誘導体のメタル化であり、即ちハロゲン原子と金属との交換反応である。これに関する例は、欧州特許第５５０３１３号（シンセラボ）及び第５３９０８６号（アメリカン・ホーム・プロダクツ社）に開示されている。
直接メタル化による式ＩＩのフェニルテトラゾール類の調製は、有機リチウム化合物の様な特別な安全手順を用いる必要がなくなるために有利であろう。
リチウム誘導体を含まない活性化有機化合物を直接メタル化する方法のいくつかが文献に良く知られている。
フォン・アドリアン・マーサー（Von Adrian Marxer）らはＨｅｒｖａｔｉｃａ Ｃｈｉｍｉｃａ Ａｃｔａ，５７（７），１９８８−２０００（１９７４）において、フェニルピラゾールの直接オルトメタル化にエチルマグネシウムブロミドを使用して、好結果を収めたことを記述している。
フィリップ・Ｅ・イートンらはＪ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、１１１（２０），８０１６-８０１８（１９８９）において、過剰のハウザー塩基、即ち化学式Ｒ₂ＮＭｇＢｒで表される化合物を用いたキューバン類及び芳香族基質の直接オルトメタル化を報告している。
それにもかかわらず、文献記載の方法に従って本発明者らが行ったフェニルテトラゾール直接オルトメタル化の試みは、全く失望するものであった。特に、エチルマグネシウムブロミドを使用した方法では、大過剰のハウザー塩基を使用したにもかかわらず変換率は実際のプロセスにできない程低く、オルトメタル化された物質は得られなかった。
そこで本発明者らは、有機リチウム化合物を用いずに、相当するフェニルテトラゾールの直接オルトメタル化によって式ＩＩで表される化合物を調製できることを見出した。
即ち、本発明の目的は、次式：

（式中、Ｒは水素原子、保護基又は塩生成基を表し；Ｘは塩素、臭素及びヨウ素から選択されるハロゲン原子を表す）で表される化合物を調製するための直接オルトメタル化方法であって、次式：

（式中、Ｒは前記と同義）で表される化合物を、触媒量の次式：
Ｒ₂−ＮＨ−Ｒ₃ （Ｖ）
（式中、Ｒ₂及びＲ₃は、同一又は異なる分岐又は環状のＣ₃〜Ｃ₆アルキル基又はアルキル部分の炭素数が１〜３のトリアルキルシリル基を表すか、或いはＲ₂とＲ₃とはＮＨ基と共に置換していても良い環状アミンを形成する）で表される二級アミンの存在下、次式：
Ｒ₁−ＭｇＸ （ＩＶ）
（式中、Ｘは前記と同義；Ｒ₁は直鎖又は分岐のＣ₁〜Ｃ₆アルキル基又はベンジル基を表す）で表されるグリニヤール化合物で処理することを含む方法である。
本発明の目的の方法は、アンギオテンシンＩＩ拮抗薬合成の中間体の調製に有用である。
テトラゾール部分の保護基としては、公知のアンギオテンシンＩＩ拮抗薬の公知の合成法に通常使用される基であり、主な基としては、一個又はそれ以上のフェニル又はピリジル等のアリール基又はアリールアルコキシ基で置換されていてもよい直鎖又は分岐のＣ₁〜Ｃ₆アルキル基及びＣ₁〜Ｃ₃アルコキシ又はアルキルチオ基が挙げられる。
本発明の目的の方法において好ましい保護基はｔｅｒｔ−ブチルである。
好ましい塩生成基としては、ナトリウム及びカリウムイオンが使用される。
式ＩＶで表されるハロゲン化アルキルマグネシウムは良く知られている化合物である。
一般にこれら化合物は、相当するハロゲン化アルキルをマグネシウムで処理して調製される。
その場で調製したハロゲン化エチルマグネシウム、更にはエチルマグネシウムブロミドが好ましい。
一般に、式ＩＶで表されるグリニヤール試薬は少なくとも化学量論量使用し、式ＩＩで表されるフェニルテトラゾールに比較してやや過剰に使用することが好ましいが、しかし化学量論より少ない量であっても使用され得る。
従って、化合物ＩＶと化合物ＩＩＩとのモル比は一般に１：１から１．５：１の間であり、１．０５：１から１．３：１の間がより好ましい。
式Ｖで表される二級アミンは、ＮＨ基に結合する非常に嵩高い置換基を有する。
式Ｖで表されるアミンで好ましいのは、Ｒ₂及びＲ₃が分岐又は環状のＣ₃〜Ｃ₆アルキル基であるアミン、或いはＲ₂とＲ₃とがＮＨ基と共に置換していても良い環状アミンを形成するアミンである。
置換基Ｒ₂及びＲ₃として分岐又は環状のＣ₃〜Ｃ₆アルキル基を有するアミンの具体例としては、ジイソプロピルアミン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチル−イソプロピルアミン、ジ−シクロペンチルアミン及びジ−シクロヘキシルアミンが挙げられる。
式Ｖで表されるアミンのうち、Ｒ₂とＲ₃とがＮＨ基と共に置換していても良い環状アミンを形成するアミンの好ましい例としては、ピロリジン類、ピペリジン類及びモルホリン類が挙げられるが、これらは２，２，６，６−テトラメチルピペリジンや２，２，５，５−テトラメチルピロリジン等の窒素の二個のビシナル位が置換された４置換アミンである。
特に上記ピペリジン誘導体は、４位がアルキル基及びアルコキシ基又はアセタールとして保護されたオキソ基によって更に順次置換され得る。
特に式Ｖで表されるアミンで好ましいものは、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン及びジイソプロピルアミンである。
式Ｖで表されるアミンは、式ＩＶで表されるグリニヤール試薬と比較して触媒量、即ち、化学量論量より少量用いる。
化合物Ｖと化合物ＩＶとのモル比は通常０．０１：１から０．５：１の間であり、０．０５：１から０．２：１の間がより好ましい。
本発明の目的である直接オルトメタル化は適当な溶媒中で実施する。通常は、溶媒はエーテル類及びそれらと脂肪族又は芳香族炭化水素との混合物である。
好ましくは、テトラヒドロフランが、更にこれとトルエンとの混合物が溶媒として用いられる。
温度はさほど重要なパラメータではなく、通常室温から還流温度の間で行われる。
還流温度にて行われることが好ましい。
直接オルトメタル化反応は触媒量の金属塩を更に添加して、配位子の存在又は非存在下に行ってもよい。
本発明の目的の方法に従って調製された式ＩＩで表される化合物は、前記式Ｉで表される化合物のビフェニルテトラゾリル部分を調製するためにクロスカップリング反応にそのまま用いることができる。
或いは、これらを公知の技法に従ってトランスメタレーション反応させ、次式：

（式中、Ｒは前記と同義；ＹはＸと同義又はＯＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ基又はＣ₁〜Ｃ₄アルキル基を表し；ＭはＺｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｃｕ及びＳｎより選択され及びｎはＭに依存して１、２又は３である）で表される化合物を得る。
好ましくは、本発明の方法に従って調製された式ＩＩで表される化合物をトランスメタレーション反応させ、ＭがＺｎでＹが塩素、臭素又はヨウ素である式ＶＩで表される化合物を得る。
トランスメタレーションは、グリニヤール試薬を、通常ＺｎＣｌ₂であるハロゲン化亜鉛で処理することにより行われる。
トランスメタレーション反応は、好ましくは、ハロゲン化亜鉛と共にグリニヤール化合物ＩＩを含む反応液を処理することにより直接行うことができる。
化合物ＩＩに関して記載したように、式ＶＩで表される化合物は、クロスカップリング反応に用いられる。
前記のように、本発明の目的の方法に従って調製された式ＩＩで表される化合物は、アンギオテンシンＩＩ拮抗薬を調製するための中間体として有用である。この点に関して、式ＩＩで表される化合物の有用性は、国際公開ＷＯ９６／４０６８４号（アメリカン・ホーム・プロダクツ社）に記載のクロスカップリング方法によるタソサルタンとして知られる化合物の調製において詳しく例示されている。
本発明の方法の好ましい実施態様は以下のようである。
ハロゲン化エチルを、マグネシウムが好ましい溶媒に懸濁された懸濁液に添加して、相当するグリニヤール化合物を生成した。触媒量の２，２，６，６−テトラメチルピペリジンを添加した後、混合物を加温し、更にフェニル−ｔｅｒｔ−ブチルテトラゾールを添加した。
メタル化反応の終点、即ちエタンの発生が停止した時点において、生成した式ＩＩで表される化合物を、ハロゲン化亜鉛で直接処理し、ＭがＺｎである相当する式ＶＩで表される化合物を得た。この化合物を、いかなる単離又は精製もせずにクロスカップリング反応に用いた。
本発明者らの知る限り、本発明の目的であるメタル化方法は、有機リチウム化合物を用いないフェニルテトラゾールの直接メタル化の唯一の方法である。
更に、本発明者らの知る限り、ハロゲン化アルキルマグネシウムを触媒量の好ましい嵩高い二級アミンと共に使用することは、芳香族化合物の直接メタル化方法としてこれまでの文献に記載がない。
実際、先行文献は、フェニルテトラゾール類とは異なる化合物の直接メタル化について、あるいは触媒を用いないエチルマグネシウムブロミドの反応（上記フォン・アドリアン・マーサー（Von Adrian Marxer）らの研究参照）又は過剰のハウザー塩基を用いることによる直接メタル化（上記フィリップ・Ｅ・イートンらの研究参照）について記載する。
それにもかかわらず、フェニルテトラゾール類に好ましい直接メタル化方法はこれまでに報告されていない（比較例参照）。
当業者であれば、本発明の目的である直接メタル化方法が、文献記載のリチウム化の方法の有利な代替法であることは明白であろう。
アルキルリチウムの使用を回避する顕著な利点とは別に、本発明方法は、実用的及び工業的に特に有利であるである。これは、本方法が低温を必要とせず、得られる式ＩＩで表される粗化合物をそのまま後続のクロスカップリング反応に使用したり、いかなる単離又は精製もせずにトランスメタレーションに用いることができるからである。
本発明を以下の実施例を参照してより良く説明する。
実施例１
マグネシウム屑（１．２ｇ；５０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２５ｍＬ）懸濁液を撹拌しつつ、エチルブロミド（５．５ｇ；５０ｍｍｏｌ）を不活性雰囲気下、２５℃で滴下した。温度は６０℃以下に維持した。滴下終了時、更にこの混合物を６０℃で３０分間撹拌し、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（０．７２ｇ；５ｍｍｏｌ）を加え、７３℃で１時間還流した。フェニル−ｔｅｒｔ−ブチルテトラゾール（８．１ｇ；４０ｍｍｏｌ）を加え、得られた混合物を撹拌下、１８時間還流した（計約１０００ｍＬの気体が発生した）。ＣＨ₃ＯＤでクエンチし、サンプルを¹Ｈ−ＮＭＲ法により分析した結果、残留フェニル−ｔｅｒｔ−ブチルテトラゾールは開始時の量の５％未満だった。
赤橙色のｔｅｒｔ−ブチルフェニルテトラゾリルマグネシウムブロミド溶液（理論量４０ｍｍｏｌ）を７０℃で冷却した。この溶液を、無水塩化亜鉛（１０．４ｇ；７６．２ｍｍｏｌ）のトルエン（３０ｍＬ）懸濁液に１５分間かけて加えた（マグネシウム残留物が生成した場合は沈殿により除去可能）。得られた懸濁液を６０℃で１時間加熱した。この懸濁液に、８−［（４−ブロモフェニル）メチル］−５，８−ジヒドロ−２，４−ジメチル−ピリド［２，３−ｄ］ピリミジン−７（６Ｈ）−オン（１０．４ｇ；３０ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（０．１ｇ；０．４４ｍｍｏｌ）及びトリフェニルホスフィン（０．３５ｇ；１．３３ｍｍｏｌ）を加え、得られた混合物を２４時間６０℃に維持した。得られた懸濁液を２５℃に冷却し、水（１５ｍＬ）及び酢酸（０．９ｇ）を添加した。二相を分離し、有機相を水（１０ｍＬ）で洗浄し、真空下で蒸発乾固させた。
残留物をＨＰＬＣ法により分析し、以下の結果を得た。
カップリング生成物：９．４８ｇ（２０．３ｍｍｏｌ）
出発原料：１．２４ｇ（３．６ｍｍｏｌ）
実施例２
マグネシウム屑（０．４８ｇ；２０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）懸濁液を撹拌しつつ、エチルブロミド（２．２ｇ；２０ｍｍｏｌ）を不活性雰囲気下、２５℃で滴下した。温度は６０℃以下に維持した。滴下終了時に、この混合物を３０分間撹拌し、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（０．２９ｇ；２ｍｍｏｌ）を加え、７３℃で１時間還流した。フェニルテトラゾールナトリウム塩（２．７ｇ；１６ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）の混合物を６５℃で約１５分間かけて加えた。得られた混合物を６５℃で１８時間撹拌し続け、６０℃に冷却した。無水塩化亜鉛（４．１５ｇ；３０ｍｍｏｌ）を複数回に分けて１５分間かけて加えた後、８−［（４−ブロモフェニル）メチル］−５，８−ジヒドロ−２，４−ジメチル−ピリド［２，３−ｄ］ピリミジン−７（６Ｈ）−オン（４．１５ｇ；１２ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（０．０４ｇ；０．１８ｍｍｏｌ）及びトリフェニルホスフィン（０．１４２ｇ；０．５４ｍｍｏｌ）を加え、得られた混合物を６０℃で２４時間撹拌した。
得られた混合物をＨＰＬＣ法により分析し、以下の結果を得た。
カップリング生成物：２．９９ｇ（７．３ｍｍｏｌ）
出発原料：１．５ｇ（４．６ｍｍｏｌ）
実施例３
マグネシウム（０．４８８ｇ；２０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）懸濁液を撹拌しつつ、エチルブロミド（２．２ｇ；２０ｍｍｏｌ）を不活性雰囲気下、２５℃で滴下した。温度は６０℃以下に維持した。得られた混合物を３０分間撹拌し続け、ジイソプロピルアミン（０．４ｇ；４ｍｍｏｌ）を加え、７３℃で１時間還流した。更に、フェニル−ｔｅｒｔ−ブチルテトラゾール（３．２ｇ；１６ｍｍｏｌ）を加え、７３℃で２８時間還流した。
¹Ｈ−ＮＭＲ法による分析の結果、生成物中に約８０％のオルトメタル化物が存在することが確認された。
実施例４
２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（１．３３ｇ；９．４３ｍｍｏｌ）を２３％メチルマグネシウムクロリドとＴＨＦ（６９．１ｇ；２１３ｍｍｏｌ）混合物に加え、撹拌下、還流温度に加温した。得られた混合物を１０分間撹拌し続け、フェニル−ｔｅｒｔ−ブチルテトラゾール（３８．１ｇ；１８８ｍｍｏｌ）を加え、撹拌下、４５時間還流した。
サンプルを¹Ｈ−ＮＭＲ法により分析した結果、生成物中に約８８％のオルトメタル化物が存在することが確認された。
上記混合物を４０℃に冷却し、テトラヒドロフラン（４８ｍＬ）、トルエン（１５７ｍＬ）及び無水塩化亜鉛（５１ｇ；３７５ｍｍｏｌ）を加えた。温度は６０℃以下に維持した。得られた懸濁液を６０℃で２時間撹拌し続け、８−［（４−ブロモフェニル）メチル］−５，８−ジヒドロ−２，４−ジメチル−ピリド［２，３−ｄ］ピリミジン−７（６Ｈ）−オン（４５ｇ；１３０ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（０．４４ｇ；１．９５ｍｍｏｌ）及びトリフェニルホスフィン（１．５ｇ；５．８ｍｍｏｌ）を加え、４時間６０℃に維持した。得られた懸濁液を２５℃に冷却し、水（９０ｍＬ）及び酢酸（１５ｍＬ）を添加した。二相に分離し、有機相を真空下で蒸発乾固させた。
残留物をＨＰＬＣ法により分析し、以下の結果を得た。
カップリング生成物：５５．６ｇ（１１９ｍｍｏｌ；収率＝９１％）
出発原料：０．５％未満
実施例５
２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（０．３１ｇ；２．２１ｍｍｏｌ）を２ＭのベンジルマグネシウムクロリドとＴＨＦ（２４．４ｍＬ；４９ｍｍｏｌ）混合物に加え、撹拌下、還流温度に加温した。得られた混合物を１０分間撹拌し続け、フェニル−ｔｅｒｔ−ブチルテトラゾール（８．９５ｇ；４４ｍｍｏｌ）を加え、撹拌下、４５時間還流した。
サンプルを¹Ｈ−ＮＭＲ法により分析した結果、生成物中に約８８％のオルトメタル化物が存在することが確認された。
実施例６
マグネシウム屑（１．２７ｇ；５２．５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）懸濁液を撹拌しつつ、エチルブロミド（６．３ｇ；５８ｍｍｏｌ）を不活性雰囲気下、２５℃で滴下した。温度は６０℃以下に維持した。滴下終了時にこの混合物を還流温度で撹拌し、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（０．３１ｇ；２．２１ｍｍｏｌ）を加え、１０分間還流した。フェニル−ｔｅｒｔ−ブチルテトラゾール（８．９５ｇ；４４ｍｍｏｌ）を加え、得られた混合物を還流下で２５時間撹拌し続けた。
サンプルを¹Ｈ−ＮＭＲ法により分析した結果、生成物中に約７９％のオルトメタル化物が存在することが確認された。
実施例７
マグネシウム屑（９．１ｇ；３７４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１８０ｍＬ）懸濁液を撹拌しつつ、エチルブロミド（３９．２ｇ；３６０ｍｍｏｌ）を不活性雰囲気下、２５℃で滴下した。温度は６０℃以下に維持した。滴下終了時に、この混合物を撹拌下、３０分間還流し、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（２．２３ｇ；１６ｍｍｏｌ）を加え、更に１０分間還流した。フェニル−ｔｅｒｔ−ブチルテトラゾール（１２９ｇ；６３９ｍｍｏｌ）を加え、得られた混合物を還流下で１９時間撹拌した。更に、得られた混合物を４０℃に冷却し、トルエン（３３０ｍＬ）および無水塩化亜鉛（８１ｇ；５９３ｍｍｏｌ）を加えた。温度は６０℃以下に維持した。得られた懸濁液を６０℃で２時間撹拌し続け、８−［（４−ブロモフェニル）メチル］−５，８−ジヒドロ−２，４−ジメチル−ピリド［２，３−ｄ］ピリミジン−７（６Ｈ）−オン（８１ｇ；２３４ｍｏｌ）、酢酸パラジウム（０．７９ｇ；３．５ｍｍｏｌ）及びトリフェニルホスフィン（２．８ｇ；１０．６ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物を６０℃で１８時間撹拌し続け、２５℃で冷却した後、水（１２０ｍＬ）及び酢酸（１５ｍＬ）を添加した。二相に分離し、有機相を真空下で蒸発させた。
残留物をＨＰＬＣ法により分析した結果、以下の結果を得た。
カップリング生成物：８７．５ｇ（１８７ｍｍｏｌ、収率＝８０％）
出発原料：０．５％未満
比較例１
マグネシウム屑（０．４８ｇ；２０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）懸濁液を撹拌しつつ、エチルブロミド（２．２ｇ；２０ｍｍｏｌ）を不活性雰囲気下、２５℃で滴下した。温度は６０℃以下に維持した。得られた混合物を３０分間撹拌し続け、フェニル−ｔｅｒｔ−ブチルテトラゾール（４．０ｇ；２０ｍｍｏｌ）を加え、７３℃で３時間還流した。気体の発生は無く、¹Ｈ−ＮＭＲ法により生成物を分析した結果、オルトメタル化物は検出されなかった。
比較例２
マグネシウム（０．９６ｇ；４０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）懸濁液を撹拌しつつ、エチルブロミド（４．４ｇ；４０ｍｍｏｌ）を不活性雰囲気下、２５℃で滴下した。温度は６０℃以下に維持した。滴下終了時に、この混合物を３０分間撹拌し、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（５．８ｇ；４０ｍｍｏｌ）を加え、気体の発生が停止するまで７３℃で２時間還流した。フェニル−ｔｅｒｔ−ブチルテトラゾール（１．３５ｇ；６．６ｍｍｏｌ）を加え、７３℃で還流した。
¹Ｈ−ＮＭＲ分析法によりオルトメタル化反応の経過を評価した結果、以下の結果を得た。
１．５時間後 メタル化物５６％
３．０時間後 メタル化物６０％
４．０時間後 メタル化物５８％

Claims (11)

1. 次式：
   

   

   （式中、Ｒは水素原子、保護基又は塩生成基を表し；Ｘは塩素、臭素及びヨウ素から選択されるハロゲン原子を示す）で表される化合物を調製するための直接オルトメタル化方法であって、次式：
   

   

   （式中、Ｒは前記と同義）で表される化合物を、触媒量の次式：
   Ｒ₂−ＮＨ−Ｒ₃ （Ｖ）
   （式中、Ｒ₂及びＲ₃は、同一又は異なる分岐又は環状のＣ₃〜Ｃ₆アルキル基又はアルキル部分に１〜３の炭素原子を有するトリアルキルシリル基を示すか、或いはＲ₂とＲ₃とはＮＨ基と共に置換基を有しても良い環状アミンを形成する）で表される二級アミンの存在下、次式：
   Ｒ₁−ＭｇＸ （ＩＶ）
   （式中、Ｘは前記と同義；Ｒ₁は直鎖又は分岐のＣ₁〜Ｃ₆アルキル基又はベンジル基を示す）で表されるグリニヤール試薬で処理することを含む直接オルトメタル化方法。
2. 化合物ＩＶと化合物ＩＩＩとのモル比が１：１から１．５：１の間にある請求項１に記載の直接オルトメタル化方法。
3. モル比が１：０５から１．３：１の間にある請求項２に記載の直接オルトメタル化方法。
4. 化合物ＩＶがハロゲン化エチルマグネシウムである請求項１、２又は３に記載の直接オルトメタル化方法。
5. 化合物ＩＶがエチルマグネシウムブロミドである請求項４に記載の直接オルトメタル化方法。
6. 化合物Ｖと化合物ＩＶとのモル比が０．０１：１から０．５：１の間にある請求項１に記載の直接オルトメタル化方法。
7. モル比が０．０５：１から０．２：１の間にある請求項６に記載の直接オルトメタル化方法。
8. 化合物Ｖがジイソプロピルアミン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチル−イソプロピルアミン、ジ−シクロペンチルアミン、ジ−シクロヘキシルアミン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン及び２，２，５，５−テトラメチルピロリジンより選択されるものである請求項１に記載の直接オルトメタル化方法。
9. 化合物Ｖがジイソプロピルアミン及び２，２，６，６−テトラメチルピペリジンより選択される請求項８に記載の直接オルトメタル化方法。
10. 請求項１に記載の直接オルトメタル化方法を含むことを特徴とする、式Ｉ：
    

    

    （式中、Ａは、以下からなる群から選択される基のいずれか１つを示す：
    ２−ブチル−４−クロロ−５−ヒドロキシメチル−イミダゾール−１−イル；２−エトキシ−７−カルボキシ−１Ｈ−ベンズイミダゾゾール−１−イル；２−ブチル−１，３−ジアザ−スピロ［４，４］ノン−１−エン−４−オン−３−イル；２，４−ジメチル−５，８−ジヒドロ−６Ｈ−ピリド［２，３−ｄ］ピリミジン−７−オン−８−イル；及び（Ｓ）−Ｎ−（１−カルボキシ−２−メチルプロプ−１−イル）−Ｎ−ペンタノイルアミノ）で表される化合物の製造方法。
11. タソサルタンを調製する請求項１０に記載の製造方法。