JP2001342176A - エチニルピリジン類及びその製造法 - Google Patents

エチニルピリジン類及びその製造法

Info

Publication number
JP2001342176A
JP2001342176A JP2000165223A JP2000165223A JP2001342176A JP 2001342176 A JP2001342176 A JP 2001342176A JP 2000165223 A JP2000165223 A JP 2000165223A JP 2000165223 A JP2000165223 A JP 2000165223A JP 2001342176 A JP2001342176 A JP 2001342176A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
ethynylpyridines
hydrogen atom
alkyl group
general formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000165223A
Other languages
English (en)
Inventor
Mayumi Nishida
まゆみ 西田
Akira Torii
晃 鳥居
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koei Chemical Co Ltd
Original Assignee
Koei Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Koei Chemical Co Ltd filed Critical Koei Chemical Co Ltd
Priority to JP2000165223A priority Critical patent/JP2001342176A/ja
Publication of JP2001342176A publication Critical patent/JP2001342176A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Abstract

(57)【要約】 【課題】 新規なエチニルピリジン類の提供。 【解決手段】 一般式（１）： 【化１】 （式中、Ｒ1はアルキル基、ニトロ基、トリフルオロメ
チル基又はアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ2は水素
原子、アルキル基、ヒドロキシアルキル基又はトリアル
キルシリル基を表し、ｎは１〜４の整数である。但し、
Ｒ1がアルキル基であって、且つＲ2が水素原子又はトリ
アルキルシリル基である場合を除く。）で示されるエチ
ニルピリジン類。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なエチニルピ
リジン類に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、エチニルピリジン類としては、３
−（３−ヒドロキシ−１−プロピニル）ピリジン、３−
（３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ブチニル）ピリジ
ン［Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍ
ｉｓｔｒｙ，６３，１１０９（１９９８）」、２（又は
３）−エチニルピリジン、２（又は３）−（２−トリメ
チルシリル−１−エチニル）ピリジン、２，６−ジメチ
ル−４−エチニルピリジン、２，６−ジメチル−４−
（２−トリメチルシリル−１−エチニル）ピリジン［Ｓ
ｙｎｔｈｅｓｉｓ，３１２（１９８３）］が知られてお
り、これらは、ポリマー原料、医薬中間体等に有用な化
合物である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記以外のエチニルピ
リジン類は知られておらず、ピリジン環の炭素原子に結
合する置換基を有するエチニルピリジン類は当該置換基
がアルキル基である場合を除きこれまで知られていなか
った。本発明は、新規なエチニルピリジン類を提供する
ことを課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するために、鋭意検討を行った結果、新規化合物で
ある一般式（１）：
【０００５】
【化４】 （式中、Ｒ1はアルキル基、ニトロ基、トリフルオロメ
チル基又はアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ2は水素
原子、アルキル基、ヒドロキシアルキル基又はトリアル
キルシリル基を表し、ｎは１〜４の整数である。但し、
Ｒ1がアルキル基であって、且つＲ2が水素原子又はトリ
アルキルシリル基である場合を除く。）で示されるエチ
ニルピリジン類［以下、エチニルピリジン類（１）とい
う。］を見出した。また当該エチニルピリジン類（１）
が、一般式（２）：
【化５】 （式中、Ｒ1はアルキル基、ニトロ基、トリフルオロメ
チル基又はアルコキシカルボニル基を表し、Ｘはハロゲ
ン原子を表し、ｎは１〜４の整数である。）で示される
ハロゲノピリジン類［以下、ハロゲノピリジン類（２）
という。］と一般式（３）： ＨＣ≡Ｃ−Ｒ2 （３） （式中、Ｒ2は水素原子、アルキル基、ヒドロキシアル
キル基又はトリアルキルシリル基を表す。）で示される
アセチレン類［以下、アセチレン類（３）という。］
を、塩基、パラジウム触媒、ハロゲン化銅及び３級ホス
フィンの存在下に反応させることにより容易に製造でき
ることも見出し、本発明を完成するに至った。
【０００６】すなわち、本発明は、エチニルピリジン類
（１）、並びにハロゲノピリジン類（２）をアセチレン
類（３）と、塩基、パラジウム触媒、ハロゲン化銅及び
３級ホスフィンの存在下に反応させることを特徴とする
エチニルピリジン類（１）の製造法に関する。
【０００７】本発明のエチニルピリジン類（１）は、当
該エチニルピリジン類（１）がピリジン環に有する置換
基を他の置換基に容易に誘導することができるので、更
に新規なエチニルピリジン類を製造することができる。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明を具体的に説明す
る。本発明のエチニルピリジン類（１）において、上記
一般式（１）中のＲ1で表されるアルキル基としては、
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基等が挙げられ、アルコキシカルボニル基としては
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポ
キシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられ
る。また、またＲ2で表されるアルキル基としては、Ｒ1
で表される上記アルキル基と同様のものが挙げられ、ヒ
ドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、１
−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−
ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基等が
挙げられ、トリアルキルシリル基としては、トリメチル
シリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリル基等が挙げられる。また一般式（１）
中のｎは１〜４の整数であり、好ましくはｎは１であ
る。
【０００９】本発明のエチニルピリジン類（１）の具体
例としては、例えば、２−（３−ヒドロキシ−３−メチ
ル−１−ブチニル）−５−メチルピリジン、２−（３−
ヒドロキシ−３−メチル−１−ブチニル）−５−ニトロ
ピリジン、２−（３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ブ
チニル）−５−トリフルオロメチルピリジン、２−（３
−ヒドロキシ−３−メチル−１−ブチニル）−５−メト
キシカルボニルピリジン、２−（２−トリメチルシリル
−１−エチニル）−３−メトキシカルボニルピリジン、
２−エチニル−５−トリフルオロメチルピリジン、２−
エチニル−３−メトキシカルボニルピリジン等を挙げる
ことができるがこれらに限定されない。本発明のエチニ
ルピリジン類（１）は、例えば、Ｒ1がニトロ基である
化合物を水素添加すれば、ニトロ基をアミノ基に転化し
たアミノ−エチニルピリジン類を製造できる等、更に他
の新規なエチニルピリジン類を提供することができる。
【００１０】本発明のエチニルピリジン類（１）は、ハ
ロゲノピリジン類（２）をアセチレン類（３）と、塩
基、金属パラジウムが担体に支持されたパラジウム触
媒、ハロゲン化銅及び３級ホスフィンの存在下に反応さ
せることにより製造することができる。
【００１１】ハロゲノピリジン類（２）において、上記
一般式（２）中のＸで表されるハロゲン原子は、具体的
には、塩素、臭素又はヨウ素である。ハロゲノピリジン
類の具体例としては、２−クロロ−５−メチルピリジ
ン、２−クロロ−５−ニトロピリジン、２−クロロ−５
−トリフルオロメチルピリジン、２−クロロ−５−メト
キシカルボニルピリジン、２−ブロモ−５−メチルピリ
ジン、２−ブロモ−５−ニトロピリジン、２−ブロモ−
５−トリフルオロメチルピリジン、２−ブロモ−５−メ
トキシカルボニルピリジン、２−ヨード−５−メチルピ
リジン、２−ヨード−５−ニトロピリジン、２−ヨード
−５−トリフルオロメチルピリジン、２−ヨード−５−
メトキシカルボニルピリジン等を挙げることができるが
これらに限定されない。
【００１２】アセチレン類（３）の具体例としては、ア
セチレン、メチルアセチレン、１−ブチン等のアルキ
ン、２−ヒドロキシメチルアセチレン、３−ブチン−１
−オール、３−ブチン−２−オール、４−ペンチン−１
−オール、４−ペンチン−２−オール、２−メチル−３
−ブチン−２−オール等のヒドロキシアルキルアセチレ
ン類、トリメチルシリルアセチレン、トリイソプロピル
シリルアセチレン、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルア
セチレン等のトリアルキルシリルアセチレン類等が挙げ
られる。アセチレン類（３）の使用量は、ハロゲノピリ
ジン類（２）１モルに対して通常１．５〜２．５モルで
ある。
【００１３】塩基としては、無機塩基及び有機塩基のい
ずれも用いることができ、本発明の反応には、これら塩
基の１種以上を使用することができる。好ましい塩基は
有機塩基である。無機塩基としては、例えば、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ、水酸化ナトリ
ウム、水酸化ナトリウム等の水酸化アルカリ等が挙げら
れ、有機塩基としては、例えば、ジイソプロピルアミン
等の２級アミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエ
チルアミン、トリブチルアミン、トリイソオクチルアミ
ン等の３級アミン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチル
モルホリン、Ｎ−エチルモルホリン等の含窒素複素環式
化合物等が挙げられる。塩基の使用量は、少なくとも反
応により副生するハロゲン化水素を中和するのに必要な
量であり、通常、ハロゲノピリジン類（２）１モルに対
して１モル以上である。
【００１４】またパラジウム触媒としては、パラジウム
／炭素、パラジウム／アルミナ等の金属パラジウムが担
体に支持されたものが好ましく、その他、ビストリフェ
ニルホスフィンパラジウム＝ジクロリド等のパラジウム
錯塩や塩化パラジウム、臭化パラジウム、酢酸パラジウ
ム等の塩を使用することもできる。金属パラジウムが担
体に支持された触媒は、該触媒中にパラジウム金属を１
〜１０重量％含有するものが好適である。パラジウム触
媒の使用量は、それに含まれるパラジウムが、ハロゲノ
ピリジン（２）１モルに対して１〜１０ミリモルとなる
ように用いる。
【００１５】３級ホスフィンとしては、トリイソプロピ
ルホスフィン、トリブチルホスフィン等のトリアルキル
ホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリ（ｐ−フロ
ロフェニル）ホスフィン、トリ（ペンタフロロフェニ
ル）ホスフィン、トリ（ｐ−トリルフェニル）ホスフィ
ン、トリフェノキシホスフィン等のトリアリールホスフ
ィン、ジメチルフェニルホスフィン、メチルジフェニル
ホスフィン等のモノ（又はジ）アルキルジ（又はモノ）
アリールホスフィン等が挙げられる。３級ホスフィンの
使用量は、パラジウム触媒中のパラジウム１モルに対し
て０．１〜１００モルである。
【００１６】またハロゲン化銅としては、臭化銅及びヨ
ウ化銅が挙げられ、その使用量は、ハロゲノピリジン類
（２）１モルに対して１〜１０ミリモルである。
【００１７】反応には、反応を阻害しないものであれ
ば、ヘキサン、ベンゼン、エーテル等の有機溶媒を使用
することもできるが、塩基として有機塩基を用いるとき
にはこれを溶媒とするのが好ましい。溶媒使用量には特
に制限はなく、ハロゲノピリジン類（２）１重量部に対
して、通常１０〜３０重量部である。
【００１８】本発明のエチニルピリジン類（１）の製造
法を実施するには、反応器にハロゲノピリジン類
（２）、アセチレン類（３）、塩基、パラジウム触媒、
３級ホスフィン、ハロゲン化銅及び所望により溶媒を仕
込み、撹拌下、好ましくは７５〜９５℃で反応させれば
よい。
【００１９】また一般式（１）中のＲ2が水素原子であ
るエチニルピリジン類（１）は、Ｒ2がヒドロキシアル
キル基又はトリアルキルシリル基であるエチニルピリジ
ン類（１）から製造することもできる。
【００２０】Ｒ2がヒドロキシアルキル基であるエチニ
ルピリジン類（１）［以下、（２−ヒドロキシアルキル
エチニル）ピリジン類という。］から製造する方法とし
ては、例えば、（２−ヒドロキシアルキルエチニル）ピ
リジン類を溶媒中、強塩基の存在下に反応させる方法が
挙げられる。強塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム等のアルカリ金属水酸化物等が挙げられる。
強塩基の使用量は、（２−ヒドロキシアルキルエチニ
ル）ピリジン類１モルに対して４〜１０モルである。溶
媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素が好ましい。溶媒の使用量には特に制限はない
が、（２−ヒドロキシアルキルエチニル）ピリジン類１
重量部に対して１〜１０重量部である。（２−ヒドロキ
シアルキルエチニル）ピリジン類から一般式（１）中の
Ｒ2が水素原子であるエチニルピリジン類（１）を製造
する方法を実施するには、反応器に（２−ヒドロキシア
ルキルエチニル）ピリジン類、強塩基及び溶媒を仕込
み、撹拌下、６０〜１２０℃で反応させればよい。
【００２１】またＲ2がトリアルキルシリル基であるエ
チニルピリジン類（１）［以下。（２−トリアルキルシ
リルエチニル）ピリジン類という。］から一般式（１）
中のＲ2が水素原子であるエチニルピリジン類（１）を
製造する方法としては、（２−トリアルキルシリルエチ
ニル）ピリジン類を、溶媒中、テトラアルキルアンモニ
ウム＝フロリドの存在下に反応させる方法が挙げられ
る。テトラアルキルアンモニウム＝フロリドとしては、
これが有するアルキル基が炭素数１〜６のアルキル基で
あるものが挙げられ、好ましくはテトラブチルアンモニ
ウム＝フロリドである。テトラアルキルアンモニウム＝
フロリドの使用量は、（２−トリアルキルシリルエチニ
ル）ピリジン類１モルに対して０．１〜２．０モルであ
る。溶媒としては、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化
水素、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン等
のエーテル類等が挙げられる。溶媒の使用量には特に制
限はないが、（２−トリアルキルシリルエチニル）ピリ
ジン類１重量部に対して１〜１０重量部である。（２−
トリアルキルシリルエチニル）ピリジン類から一般式
（１）中のＲ2が水素原子であるエチニルピリジン類
（１）を製造する方法を実施するには、反応器に（２−
トリアルキルシリルエチニル）ピリジン類、テトラブチ
ルアンモニウム＝フロリド及び溶媒を仕込み、撹拌下、
１０〜２５℃で反応させればよい。
【００２２】上記それぞれの反応終了後の反応混合物か
らは、濾過、中和、濃縮、蒸留、再結晶及び／又はカラ
ムクロマトグラフィー等の単位操作を組み合わせてエチ
ニルピリジン類（１）を単離することができる。
【００２３】
【実施例】以下に実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものでは
ない。
【００２４】実施例１ ２−ブロモ−５−メチルピリジン５．２５ｇ（３０．５
ミリモル）、５重量％パラジウム／炭素４．４５ｇ（含
水率：４２重量％）、トリフェニルホスフィン１．２３
ｇ（４．８８ミリモル）、ヨウ化銅２３２．３ｍｇ
（１．２２ミリモル）、ジイソプロピルアミン１００ｍ
ｌ及び２−メチル−３−ブチン−２−オール３．５８ｇ
（４５．８ミリモル）の混合物を、撹拌下、８０℃に加
熱し、環流させながら０．５時間反応を行った。反応終
了後の反応混合物を室温まで冷却した後、濾過して不溶
物を除去した。濾液からジイソプロピルアミンを減圧下
に留去した。得られた残渣をカラムに通じ［充填剤：シ
リカゲル、溶離液：ヘキサン／酢酸エチル（容量比）＝
４／１］、２−（３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ブ
チニル）−５−メチルピリジン５．１４ｇ（２９．３ミ
リモル、収率９６％）を分取した。２−（３−ヒドロキ
シ−３−メチル−１−ブチニル）−５−メチルピリジン
のＮＭＲ、マススペクトル及びＩＲの分析結果を以下に
示す。
【００２５】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：８．３９
（ｄ，Ｊ２．０Ｈｚ，１Ｈ）、７．４９（ｄｄ，Ｊ８．
０，２．０Ｈｚ，１Ｈ）、７．３０（ｄ，Ｊ８．０Ｈ
ｚ，１Ｈ）、３．７５（ｂｓ，ｌ１Ｈ）、２．３２
（ｓ，３Ｈ）、１．６５（ｓ，６Ｈ）
【００２６】13Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：１５
０．１（ＣＨ）、１４０．０（Ｃ）、１３６．７（Ｃ
Ｈ）、１３２．７（Ｃ）、１２６．５（ＣＨ）、９３．
７（Ｃ）、８１．１（Ｃ）、６５．０（Ｃ）、３１．２
（ＣＨ3）、１８．４（ＣＨ3）
【００２７】ＭＳ ｍ／ｚ：１７６（Ｍ+＋１）
【００２８】ＩＲ（ｎｅａｔ）：３１９２，２１２０ｃ
ｍ-1
【００２９】実施例２ ２−ブロモ−５−ニトロピリジン２０３ｍｇ（１ミリモ
ル）、５重量％パラジウム／炭素１５０ｍｇ（含水率：
４２重量％）、トリフェニルホスフィン４０．４ｍｇ
（０．１６ミリモル）、ヨウ化銅７．６ｍｇ（０．０４
ミリモル）及びジイソプロピルアミン５ｍｌ、並びに２
−メチル−３−ブチン−２−オール１２６ｍｇ（１．５
ミリモル）の混合物を、撹拌下、８０℃に加熱し、環流
させながら１時間反応を行った。反応終了後の反応混合
物を実施例１と同様に処理して、２−（３−ヒドロキシ
−３−メチル−１−ブチニル）−５−ニトロピリジン１
８５．２ｍｇ（０．９０ミリモル、収率９０％）を得
た。２−（３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ブチニ
ル）−５−ニトロピリジンのＮＭＲ、マススペクトル及
びＩＲの分析結果を以下に示す。
【００３０】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：９．４０
（ｄ，Ｊ２．６Ｈｚ，１Ｈ）、８．４６（ｄｄ，Ｊ８．
４，２．６Ｈｚ，１Ｈ）、７．６０（ｄ，Ｊ８．４Ｈ
ｚ，１Ｈ）、２．４（ｂｓ，ｌ１Ｈ）、１．６６（ｓ，
６Ｈ）
【００３１】13Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：１４
８．２（Ｃ）、１４５．３（ＣＨ）、１４２．７
（Ｃ）、１３１．４（ＣＨ）、１２７．０（ＣＨ）、９
９．３（Ｃ）、８０．５（Ｃ）、６５．５（Ｃ）、３
０．９（ＣＨ3）
【００３２】ＭＳ ｍ／ｚ：２０７（Ｍ+＋１）
【００３３】ＩＲ（ｎｅａｔ）：３３５９，３２３３，
１５２１，１３４８，８５６ｃｍ-1
【００３４】実施例３ ２−クロロ−５−トリフルオロメチルピリジン１８１．
５ｍｇ（１ミリモル）、５重量％パラジウム／炭素１５
０ｍｇ（含水率：４２重量％）、トリフェニルホスフィ
ン４０．４ｍｇ（０．１６ミリモル）、ヨウ化銅７．６
ｍｇ（０．０４ミリモル）及びジイソプロピルアミン５
ｍｌ、並びに２−メチル−３−ブチン−２−オール１２
６．２ｍｇ（１．５ミリモル）の混合物を、撹拌下、８
０℃に加熱し、環流させながら４時間反応を行った。反
応終了後の反応混合物を実施例１と同様に処理して、２
−（３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ブチニル）−５
−トリフルオロメチルピリジン１６０ｍｇ（０．７ミリ
モル、収率７０％）を得た。２−（３−ヒドロキシ−３
−メチル−１−ブチニル）−５−トリフルオロメチルピ
リジンのＮＭＲ、マススペクトル及びＩＲの分析結果を
以下に示す。
【００３５】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：８．９０
（ｓ，１Ｈ）、７．４９（ｄｄ，Ｊ８．０，１．８Ｈ
ｚ，１Ｈ）、７．１４（ｄ，Ｊ８．０Ｈｚ，１Ｈ）、
３．９９（ｄｄ，Ｊ４．１，２．６Ｈｚ，１Ｈ）、３．
１７（ｄｄ，Ｊ５．７，４．２Ｈｚ，１Ｈ）、２．９４
（ｄｄ，Ｊ５．８，２．５Ｈｚ，１Ｈ）、２．３４
（ｓ，３Ｈ）
【００３６】13Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：１４
６．６（ＣＨ，Ｊ３Ｈｚ）、１４６．３（Ｃ）、１３
３．４（ＣＨ，Ｊ３Ｈｚ）、１２６．５（ＣＨ）、１２
５．３（Ｃ，Ｊ３３Ｈｚ）、１２３．２（ＣＦ3，Ｊ２
７２Ｈｚ）、９６．９（Ｃ）、８０．４（Ｃ）、６５．
２（Ｃ）、３１．０（ＣＨ3）
【００３７】ＭＳ ｍ／ｚ：２３０（Ｍ+＋１）
【００３８】ＩＲ（ｎｅａｔ）：３３４５，２２３７ｃ
ｍ-1
【００３９】実施例４ ２−クロロ−５−メトキシカルボニルピリジン１．７２
ｇ（１０ミリモル）、５重量％パラジウム／炭素１１．
４６ｇ（含水率：４２重量％）、トリフェニルホスフィ
ン４０３．７ｍｇ（１．６ミリモル）、ヨウ化銅７６．
２ｍｇ（０．４ミリモル）及びジイソプロピルアミン４
０ｍｌ、並びに２−メチル−３−ブチン−２−オール
１．２６ｇ（１５ミリモル）の混合物を、撹拌下８０℃
に加熱し、環流させながら４時間反応を行った。反応終
了後の反応混合物を実施例１と同様に処理して、２−
（３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ブチニル）−５−
メトキシカルボニルピリジン１．８５ｇ（８．４４ミリ
モル、収率８４％）を得た。２−（３−ヒドロキシ−３
−メチル−１−ブチニル）−５−メトキシカルボニルピ
リジンのＮＭＲ、マススペクトル及びＩＲの分析結果を
以下に示す。
【００４０】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：９．１５
（ｂｓ，１Ｈ）、８．２５（ｄｄ，Ｊ８．０，１．８Ｈ
ｚ，１Ｈ）、７．４８（ｄ，Ｊ８．０Ｈｚ，１Ｈ）、
３．９５（ｓ，３Ｈ）、２．８１（ｂｓ，１Ｈ）、１．
６５（ｓ，６Ｈ）
【００４１】13Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：１６
５．２（Ｃ）、１５０．９（ＣＨ）、１４６．５
（Ｃ）、１３７．３（ＣＨ）、１２６．５（ＣＨ）、１
２４．７（Ｃ）、９７．０（Ｃ）、８１．０（Ｃ）、６
５．３（Ｃ）、５２．５（ＣＨ3）、３１．０（ＣＨ3）
【００４２】ＭＳ ｍ／ｚ：１３６（Ｍ+＋１）
【００４３】ＩＲ（ｎｅａｔ）：３４３８、２２３７ｃ
ｍ-1
【００４４】実施例５ ２−クロロ−３−メトキシカルボニルピリジン３．６ｇ
（２１ミリモル）、５重量％パラジウム／炭素３．０ｇ
（含水率：４２重量％）、トリフェニルホスフィン８０
８ｍｇ（３．２ミリモル）、ヨウ化銅１４２ｍｇ（０．
７５ミリモル）及びジイソプロピルアミン１００ｍｌ、
並びにトリメチルシリルアセチレン３．６２ｇ（３６．
９３ミリモル）の混合物を、撹拌下、８０℃に加熱し、
環流させながら３．５時間反応を行った。反応終了後の
反応混合物を実施例１と同様に処理して、２−（２−ト
リメチルシリル−１−エチニル）−３−メトキシカルボ
ニルピリジン２．４ｇ（１０．３ミリモル、収率５０
％）を得た。２−（２−トリメチルシリル−１−エチニ
ル）−３−メトキシカルボニルピリジンのＮＭＲ、マス
スペクトル及びＩＲの分析結果を以下に示す。
【００４５】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：８．６８
（ｄｄ，Ｊ４．５，１．５Ｈｚ，１Ｈ）、８．１８（ｄ
ｄ，Ｊ８．０，１．５Ｈｚ，１Ｈ）、７．３０（ｄｄ，
Ｊ８．０，４．５Ｈｚ，１Ｈ）、３．９２（ｓ，３
Ｈ）、０．２８（９Ｈ）
【００４６】13Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：１６
５．７（Ｃ）、１５２．４（ＣＨ）、１４２．０
（Ｃ）、１３８．１（ＣＨ）、１２８．９（Ｃ）、１２
２．５（ＣＨ）、１０２．１（Ｃ）、１００．３
（Ｃ）、５２．４（ＣＨ3）
【００４７】ＭＳ ｍ／ｚ：２３４（Ｍ+＋１）
【００４８】ＩＲ（ｎｅａｔ）：２１６７、１７３７ｃ
ｍ-1
【００４９】実施例６ ２−（３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ブチニル）−
５−トリフルオロメチルピリジン５００ｍｇ（２．１ミ
リモル）、トルエン２３ｍｌ及び水酸化ナトリウム４８
０ｍｇ（１２ミリモル）の混合物を、撹拌下、８０℃に
加熱し、環流させながら２時間反応させた。反応終了
後、得られた反応混合物を室温まで冷却した後、水で洗
浄し、更に飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層に硫
酸ナトリウムを加えて乾燥した後、濾過し、濾液を蒸留
して２−エチニル−５−トリフルオロメチルピリジン３
５．９ｍｇ（０．２１ミリモル、収率１０％）を得た。
２−エチニル−５−トリフルオロメチルピリジンのＮＭ
Ｒ及びマススペクトルの分析結果を以下に示す。
【００５０】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：８．８３
（ｓ，１Ｈ）、７．８５（ｄｄ，Ｊ８．０，２．０Ｈ
ｚ，１Ｈ）、７．１４（ｄ，Ｊ８．０Ｈｚ，１Ｈ）、
３．２５（ｓ，１Ｈ）
【００５１】ＭＳ ｍ／ｚ：１７１（Ｍ+＋１）
【００５２】実施例７ ２−（３−トリメチルシリル−１−エチニル）−３−メ
トキシカルボニルピリジン２．３ｇ（９．８７ミリモ
ル）及びテトラヒドロフラン１０ｍｌからなる溶液に、
１モル／リットルのテトラブチルアンモニウム＝フロリ
ド−テトラヒドロフラン溶液０．５ｍｌを室温で滴下
し、撹拌下、同温度で３分間反応させた。反応終了後、
得られた反応混合物を冷却した後、水で洗浄し、更に飽
和食塩水で洗浄した。得られた有機層に硫酸ナトリウム
を加えて乾燥した後、濾過し、濾液からテトラヒドロフ
ランを留去した。得られた残渣をカラムに通じ［充填
剤：シリカゲル、溶離液：ヘキサン／酢酸エチル（容量
比）＝１／１］、２−エチニル−３−メトキシカルボニ
ルピリジン５７０ｍｇ（３．５ミリモル、収率３５％）
を分取した。２−エチニル−３−メトキシカルボニルピ
リジンのＮＭＲ、マススペクトル及びＩＲの分析結果を
以下に示す。
【００５３】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：８．７３
（ｄ，Ｊ５．０，１Ｈ）、８．２４（ｄｄ，Ｊ８．０，
１．５Ｈｚ，１Ｈ）、７．４０（ｄｄ，Ｊ８．０，５．
０Ｈｚ，１Ｈ）、３．９６（ｓ，３Ｈ）、３．５２
（ｓ，１Ｈ）
【００５４】13Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：１４
７．０（Ｃ）、１５２．４（ＣＨ）、１４１．５
（Ｃ）、１３７．８（ＣＨ）、１２８．７（Ｃ）、１２
２．７（ＣＨ）、８１．８（Ｃ）、８１．２（Ｃ）、５
２．４（ＣＨ3）
【００５５】ＭＳ ｍ／ｚ：１６２（Ｍ+＋１）
【００５６】ＩＲ（ｎｅａｔ）：２１１１、１７３３ｃ
ｍ-1
【００５７】実施例８ ２−（３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ブチニル）−
５−メトキシカルボニルピリジン２００ｍｇ（０．９ミ
リモル）、トルエン５ｍｌ及び水酸化ナトリウム１８０
ｍｇ（４．５ミリモル）の混合物を、撹拌下に加熱し、
環流温度で２時間反応させた。反応終了後、反応混合物
を冷却した後、水で洗浄し、更に飽和食塩水で洗浄し
た。得られた有機層に硫酸ナトリウムを加えて乾燥した
後、濾過し、濾液からトルエンを減圧下に留去して残渣
を得た。水含有率５０重量％グアニジン２ｇ（６．８ミ
リモル）を、氷冷した４８％水酸化ナトリウム水溶液２
０ｍｌ及びエーテル２０ｍｌの混合溶物に、少量ずつ加
え、攪拌下、２０分間反応させた。次いで分液して得た
エーテル層を水酸化ナトリウムで乾燥させて、ジアゾメ
タンのエーテル溶液を調製した。この溶液を、上記残渣
に発泡がなくなるまで滴下した。得られた混合物をカラ
ムに通じ［充填剤：シリカゲル、溶離液：ヘキサン／酢
酸エチル（容量比）＝１／１／］、２−エチニル−５−
メトキシカルボニルピリジン６７ｍｇ（０．４１ミリモ
ル、収率４６％）を分取した。２−エチニル−５−メト
キシカルボニルピリジンのＮＭＲ、マススペクトル及び
ＩＲの分析結果を以下に示す。
【００５８】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：９．１９
（ｂｄ，Ｊ２．０，１Ｈ）、８．２８（ｄｄ，Ｊ８．
０，２．０Ｈｚ，１Ｈ）、７．５７（ｄ，Ｊ８．０Ｈ
ｚ，１Ｈ）、３．９６（ｓ，３Ｈ）、３．３４（ｓ，１
Ｈ）
【００５９】13Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：１６
５．１（Ｃ）、１５１．０（ＣＨ）、１４５．８
（Ｃ）、１３７．２（ＣＨ）、１２６．９（ＣＨ）、１
２５．２（Ｃ）、８２．１（Ｃ）、８０．０（Ｃ）、５
２．５（ＣＨ3）
【００６０】ＭＳ ｍ／ｚ：１６２（Ｍ+＋１）
【００６１】ＩＲ（ｎｅａｔ）：２１０７、１７１８ｃ
ｍ-1
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｄ 213/80 Ｃ０７Ｄ 213/80 Ｃ０７Ｆ 7/10 Ｃ０７Ｆ 7/10 Ｓ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｆターム(参考） 4C055 AA01 BA02 BA03 BA06 BA11 BA13 BA16 BA51 BB14 CA02 CA11 CA33 CB02 FA09 FA34 4H039 CA31 CA42 CD10 CD20 4H049 VN01 VP01 VQ59 VR24 VS04 VT04 VT17 VT25 VT48 VT52 VV02 VV06 VW01

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式（１）： 【化１】 （式中、Ｒ1はアルキル基、ニトロ基、トリフルオロメ
    チル基又はアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ2は水素
    原子、アルキル基、ヒドロキシアルキル基又はトリアル
    キルシリル基を表し、ｎは１〜４の整数である。但し、
    Ｒ1がアルキル基であって、且つＲ2が水素原子又はトリ
    アルキルシリル基である場合を除く。）で示されるエチ
    ニルピリジン類。
  2. 【請求項２】 一般式（１）中、Ｒ1がアルキル基、ニ
    トロ基、トリフルオロメチル基又はアルコキシカルボニ
    ル基であり、且つＲ2がヒドロキシアルキル基である請
    求項１記載のエチニルピリジン類。
  3. 【請求項３】 一般式（１）中、Ｒ1がアルコキシカル
    ボニル基であり、且つＲ2がトリアルキルシリル基であ
    る請求項１記載のエチニルピリジン類。
  4. 【請求項４】 一般式（１）中、Ｒ1がトリフルオロメ
    チル基又はアルコキシカルボニル基であり、且つＲ2が
    水素原子である請求項１記載のエチニルピリジン類。
  5. 【請求項５】 一般式（２）： 【化２】 （式中、Ｒ1はアルキル基、ニトロ基、トリフルオロメ
    チル基又はアルコキシカルボニル基を表し、Ｘはハロゲ
    ン原子を表し、ｎは１〜４の整数である。）で示される
    ハロゲノピリジン類を一般式（３）： ＨＣ≡Ｃ−Ｒ2 （３） （式中、Ｒ2は水素原子、アルキル基、ヒドロキシアル
    キル基又はトリアルキルシリル基を表す。）で示される
    アセチレン類と、塩基、パラジウム触媒、ハロゲン化銅
    及び３級ホスフィンの存在下に反応させることを特徴と
    する一般式（１）： 【化３】 （式中、Ｒ1はアルキル基、ニトロ基、トリフルオロメ
    チル基又はアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ2は水素
    原子、アルキル基、ヒドロキシアルキル基又はトリアル
    キルシリル基を表し、ｎは１〜４の整数である。但し、
    Ｒ1がアルキル基であって、且つＲ2が水素原子又はトリ
    アルキルシリル基である場合を除く。）で示されるエチ
    ニルピリジン類の製造法。
  6. 【請求項６】 塩基が有機塩基であり、且つパラジウム
    触媒が金属パラジウムが担体に支持された触媒である請
    求項５記載の方法。
  7. 【請求項７】 一般式（１）及び（３）中のＲ2がヒド
    ロキシアルキル基又はトリアルキルシリル基である請求
    項５記載の方法。
  8. 【請求項８】 一般式（１）中のＲ2がヒドロキシアル
    キル基であるエチニルピリジン類を、溶媒中、強塩基の
    存在下に反応させることを特徴とする一般式（１）中の
    Ｒ2が水素原子であるエチニルピリジン類の製造法。
  9. 【請求項９】 一般式（１）中のＲ2がトリアルキルシ
    リル基であるエチニル類を、溶媒中、テトラアルキルア
    ンモニウム＝フロリドの存在下に反応させることを特徴
    とする一般式（１）中のＲ2が水素原子であるエチニル
    ピリジン類の製造法。
JP2000165223A 2000-06-01 2000-06-01 エチニルピリジン類及びその製造法 Pending JP2001342176A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000165223A JP2001342176A (ja) 2000-06-01 2000-06-01 エチニルピリジン類及びその製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000165223A JP2001342176A (ja) 2000-06-01 2000-06-01 エチニルピリジン類及びその製造法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001342176A true JP2001342176A (ja) 2001-12-11

Family

ID=18668725

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000165223A Pending JP2001342176A (ja) 2000-06-01 2000-06-01 エチニルピリジン類及びその製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001342176A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7476750B2 (en) 2004-04-28 2009-01-13 Cambridge University Technical Services Limited Method for synthesizing compound and catalyst for synthesis reaction

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7476750B2 (en) 2004-04-28 2009-01-13 Cambridge University Technical Services Limited Method for synthesizing compound and catalyst for synthesis reaction

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2307393B1 (en) A process for the preparation of the apoptosis promoter abt-263
JP6633539B2 (ja) ２−（２，４−ジフルオロフェニル）−１，１−ジフルオロ−１−（５−置換−ピリジン−２−イル）−３−（１ｈ−テトラゾール−１−イル）プロパン−２−オールおよびその調製工程
JP3763869B2 (ja) ビフェニル化合物の製造方法
WO2004009553A1 (ja) ５−（２’−ピリジル）−２−ピリドン誘導体の製造方法
JP2007230963A (ja) ２，４−ジ置換ピリジンの製造法
JP3334213B2 (ja) 不斉水素化反応
JP2001342176A (ja) エチニルピリジン類及びその製造法
EP0966440B1 (en) Method of production and method of separation of 2,4'-dipyridyl derivatives and methods of production of benzoxazepine derivatives and salts thereof
JP4176201B2 (ja) ５−ハロゲノ−２−置換ピリジンの製造方法
JP5536458B2 (ja) ６−ハロゲノ−３−アリールピリジン誘導体の製造方法
JP3942828B2 (ja) ボンクレキン酸前駆化合物及びその製造方法
JP2583062B2 (ja) 複素環化合物の製造法
JP4212123B2 (ja) ２，４′―ジピリジル誘導体の製造方法、分離方法並びにベンゾオキサゼピン誘導体およびその塩の製造方法
WO2017031215A1 (en) Process development of a pyridine-containing nk-1 receptor antagonist
JP4978762B2 (ja) シクロヘキサ−３−エン−１−オール誘導体の製造方法
JP4509327B2 (ja) Ｎ，ｎ−ジ置換−４−アミノクロトン酸エステルの製造方法
JP6868890B2 (ja) 環上に置換基を有する含窒素環状化合物の製造方法
JPH10130178A (ja) ｇｅｍ−ジフルオロオレフィン類の製造方法、同製造方法に用いるジルコノセン、及びその製造方法
JP2847245B2 (ja) ビピリジン誘導体の新規製造法
JP2500135B2 (ja) カテコ―ル類の製造方法
JPH08127557A (ja) ３−オキシ−５−オキソ−６−ヘプテン酸誘導体の製法
JP2002060354A (ja) アルキンの環化三量化方法
JP2008266242A (ja) ジフルオロメチル複素環化合物の製造方法
JP2001058966A (ja) トリクロロメタン誘導体の製造方法
JPS58144381A (ja) β−ケトエステル誘導体及びその製造方法