JPS58144381A - β−ケトエステル誘導体及びその製造方法 - Google Patents
β−ケトエステル誘導体及びその製造方法Info
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- JPS58144381A JPS58144381A JP2867982A JP2867982A JPS58144381A JP S58144381 A JPS58144381 A JP S58144381A JP 2867982 A JP2867982 A JP 2867982A JP 2867982 A JP2867982 A JP 2867982A JP S58144381 A JPS58144381 A JP S58144381A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は下記一般式ＣＩ）で表わされる新規なβ−ケト
エステル誘導体及びその與造方法に関する。
エステル誘導体及びその與造方法に関する。
Ｒ１００
Ｃ式中Ｒ７は水素原子、低級アルキル基を、Ｒ２は低級
アルキル基を示す） Ｌ記一般式（Ｉ）のＲ１，Ｒ２で表わされる低級アルキ
ル基としては炭素数１〜６の直鎖状あるいは分校状のア
ルキ々基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ｎ−ブチル、 ５ｅｃ−ブチＭ。
アルキル基を示す） Ｌ記一般式（Ｉ）のＲ１，Ｒ２で表わされる低級アルキ
ル基としては炭素数１〜６の直鎖状あるいは分校状のア
ルキ々基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ｎ−ブチル、 ５ｅｃ−ブチＭ。
ｉＳ○−ブチル、ｔ−ブチＡ／Ｉペンチル、ヘキシル法
等が挙げられる。
等が挙げられる。
本発明化合物は文献未載の新規化合物であって抗菌作用
、抗バクテリア作用を有し、医薬として有用な化合物で
ある。
、抗バクテリア作用を有し、医薬として有用な化合物で
ある。
一般式（Ｉ）で表わされるβ−ケトエステル誘導体は、
一般式面 Ｒ１ （式中Ｒ１け水素原子、低級アルキル基を示す）で表わ
されるカルボン酸誘導体に、一般式面（式中Ｒ８け低級
アルコキシ基又はフェニ／Ｌ／基を、Ｙは酸素あるｂは
硫黄原子を、Ｘ′はハロゲン原子を示す）で表わされる
化合物を塩基の存在下反応させ、一般式（５） （式中Ｒ、Ｒ、Ｙは前記と同一の意味を示す）で８ 表わされる化合物を得、これを単離することなくさらに
一般式 （式中Ｒ２は低級アルキル基を、Ｘ” はハロゲン原子
を示す）で表わされる化合物を反応させることによシ製
造される。この製造方法は特に酸に対して不安定な官能
基を分子内に有する化合物よシβ−ケトエステｌし誘導
体を製造するのに有効かっ新規な方法であるや 一般式価のＲ８で表わされる低級アルコキシ基トシては
、例えばメトキシ、エトキシ基等ヲ、Ｘのハロゲン原子
としては塩素、臭素等をそれぞれ例示することができる
。又、一般式ｆｆ）のＸ で表わされるハロゲン原子と
しては臭素、ヨウ素を例ボすることができる。一般式ｍ
で表わされる化合物はシンセシス（５ｙｎｔｈｅｓｉｓ
） １９７８．１４２−１４８に記載されており、そ
の詳細は後記実施例にお込て述べる。
一般式面 Ｒ１ （式中Ｒ１け水素原子、低級アルキル基を示す）で表わ
されるカルボン酸誘導体に、一般式面（式中Ｒ８け低級
アルコキシ基又はフェニ／Ｌ／基を、Ｙは酸素あるｂは
硫黄原子を、Ｘ′はハロゲン原子を示す）で表わされる
化合物を塩基の存在下反応させ、一般式（５） （式中Ｒ、Ｒ、Ｙは前記と同一の意味を示す）で８ 表わされる化合物を得、これを単離することなくさらに
一般式 （式中Ｒ２は低級アルキル基を、Ｘ” はハロゲン原子
を示す）で表わされる化合物を反応させることによシ製
造される。この製造方法は特に酸に対して不安定な官能
基を分子内に有する化合物よシβ−ケトエステｌし誘導
体を製造するのに有効かっ新規な方法であるや 一般式価のＲ８で表わされる低級アルコキシ基トシては
、例えばメトキシ、エトキシ基等ヲ、Ｘのハロゲン原子
としては塩素、臭素等をそれぞれ例示することができる
。又、一般式ｆｆ）のＸ で表わされるハロゲン原子と
しては臭素、ヨウ素を例ボすることができる。一般式ｍ
で表わされる化合物はシンセシス（５ｙｎｔｈｅｓｉｓ
） １９７８．１４２−１４８に記載されており、そ
の詳細は後記実施例にお込て述べる。
一般式前で表わされる化合物の製造の際、一般式（ｍで
表わされるｆヒ合物と一般式価で表わされるｆヒ合物、
及び塩基の使用割合は適宜選択すればよいが、通常一般
式（２）で表わされる化合物に対し、一般式面で表わさ
れる化合物および塩基をそれぞ！ れ等モＭ乃至１．３倍モル歎程度使用するのが好ましい
。塩基としては、トリエチルアミン、エチルジイソプロ
ピルアミン等の第３級アミンを使用スるのが好適である
、反応溶媒としては反応に関与しないものである限り特
に限定されず、例えばエーテル、テトラハイドロフラン
等のエーテル類。
表わされるｆヒ合物と一般式価で表わされるｆヒ合物、
及び塩基の使用割合は適宜選択すればよいが、通常一般
式（２）で表わされる化合物に対し、一般式面で表わさ
れる化合物および塩基をそれぞ！ れ等モＭ乃至１．３倍モル歎程度使用するのが好ましい
。塩基としては、トリエチルアミン、エチルジイソプロ
ピルアミン等の第３級アミンを使用スるのが好適である
、反応溶媒としては反応に関与しないものである限り特
に限定されず、例えばエーテル、テトラハイドロフラン
等のエーテル類。
ジクロルメタン、クロロホルム等のノ・ロゲンｆヒＩＮ
ｒヒ水素類が使用され、反応温度及び時間も適宜選択す
ればよめが、一般に、−１０°Ｃから室温程度 “にて
約１時間からｌＯ時間程度で十分である。生成する一般
式（至）で表わされるｒヒ金物は単離しても良いが、通
常は単離せず、そのまま次の反応に使用するのが好まし
い。
ｒヒ水素類が使用され、反応温度及び時間も適宜選択す
ればよめが、一般に、−１０°Ｃから室温程度 “にて
約１時間からｌＯ時間程度で十分である。生成する一般
式（至）で表わされるｒヒ金物は単離しても良いが、通
常は単離せず、そのまま次の反応に使用するのが好まし
い。
一般式（５）及びｆｆ）で表わされる化合物の反応に関
して、それぞれの化合物の使用割合は、通常一般式（５
）の化合物に対し、一般式ｍのｆヒ合物を等モル乃至４
倍モル量程変使用するのが好まし一〇反応溶媒としては
前記一般式（ＩＤおよび面の化合物の反応に使用したも
のをそのまま使用できる。反応温度及び時間も適宜選択
すればよく、一般に一１０’Ｑから室温程度にて約１時
間からｌＯ時間程程度十分である。
して、それぞれの化合物の使用割合は、通常一般式（５
）の化合物に対し、一般式ｍのｆヒ合物を等モル乃至４
倍モル量程変使用するのが好まし一〇反応溶媒としては
前記一般式（ＩＤおよび面の化合物の反応に使用したも
のをそのまま使用できる。反応温度及び時間も適宜選択
すればよく、一般に一１０’Ｑから室温程度にて約１時
間からｌＯ時間程程度十分である。
上記方法によって得られた本発明化合物は、通常公知の
方法、例えば抽出、再結晶、蒸留、カラムクロマトグラ
フィー等の操作によりｉ離精製できる。
方法、例えば抽出、再結晶、蒸留、カラムクロマトグラ
フィー等の操作によりｉ離精製できる。
一般式ｍで表わされる本発明化合物全製造する原家′［
である一般式（ＩＴ）の化合物は新規化合物であシ、例
えば以下述べる方法により製造される。
である一般式（ＩＴ）の化合物は新規化合物であシ、例
えば以下述べる方法により製造される。
Ｒ１
幅
■ ＨＲＩ
Ｒ１
（ｎ）
（式中Ｒ４は低級アルキル基を示す）
一般式ｆ［ｌ）で表わされるｆヒ合物の製造については
後記参考例で詳細に述べる。
後記参考例で詳細に述べる。
以下、本発明ｆヒ合物の参考例及び実施例につめて詳し
く説明する。
く説明する。
参考例１
５−エトキシカルボニル−４−メチル−２に。
４（ＥＴｈ−ペンタジェノイルチアゾリン−２−千オン
の合成 ５−エトキシカルボニル−４−メチル−２面。
の合成 ５−エトキシカルボニル−４−メチル−２面。
４０−ペンタジェノイックアシッドＬ２．０８ｇ＆チオ
二Ｍクロライド７０ｗｔｔ中で１時間加熱還流し、今後
、過剰のチオニルクロライドを減圧上留去する。残渣に
乾燥ベンゼン２０ｍ１加えて留去を２回縁シ返す。残渣
を乾燥テトラハイドロフラン１ＯＯｔｔｔｌに溶解し、
チアゾリジン−２−千オンのタリウムｔｉ２１．２ｇ、
乾燥テトラハイドロフラン２００ｍ１の懸濁液に滴下し
、−夜撹拌後、タリウムクロワイドｆｔｐ別し、ｐ液濃
縮残渣をクロロホｌレムにてシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製し、ベンゼン−ｎ−’ヘキサンよシ再
結晶して、ｍｐ９０〜９１’Ｃの黄色針状結晶の標記化
合物１１０７１７（収率７０憾）を得る。
二Ｍクロライド７０ｗｔｔ中で１時間加熱還流し、今後
、過剰のチオニルクロライドを減圧上留去する。残渣に
乾燥ベンゼン２０ｍ１加えて留去を２回縁シ返す。残渣
を乾燥テトラハイドロフラン１ＯＯｔｔｔｌに溶解し、
チアゾリジン−２−千オンのタリウムｔｉ２１．２ｇ、
乾燥テトラハイドロフラン２００ｍ１の懸濁液に滴下し
、−夜撹拌後、タリウムクロワイドｆｔｐ別し、ｐ液濃
縮残渣をクロロホｌレムにてシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製し、ベンゼン−ｎ−’ヘキサンよシ再
結晶して、ｍｐ９０〜９１’Ｃの黄色針状結晶の標記化
合物１１０７１７（収率７０憾）を得る。
元素分析 Ｃ１□Ｈ１５ＮＯ８Ｓ２としてＨＮ
計算値幅）５０．５０ ５．８０ ４．９１実測値（
＠ ５０．４９ ５．８２ ４．７６Ｍａｓｓ
Ｍ”（ｍ／ｚ） ２８５Ｈ’−ＮＭＲ（Ｔ）Ｐｍ）
（ＣＤＣＩ！、）■：１．：（Ｏｔ 、１−７Ｈｚ
８Ｈ◎：２．８０ ｄ Ｊ＝１．２
Ｈｚ ８Ｈ◎：８．８”、 ｔ Ｊ＝７
Ｈｚ ２Ｈ◎ ４．２０ ｔ Ｊ＝
７Ｈｚ ２Ｈ■ ４．５６ ｊ
Ｊ＝７Ｈｚ ２Ｈ■ ６．００〜６．０８
ｍ ＩＨＱ ７．２１
ｄ Ｊ＝１５Ｈｚ ＩＨｏ ７．６
５ ｄ Ｊ＝１５Ｈｚ ＩＨ参考例
２ エチル−６−ハイドロキシ−３−メチル−２９゜４鎚−
へキサジェノエートの合成 ５−エトキシカルボニル−４−メチル−２（２）。
＠ ５０．４９ ５．８２ ４．７６Ｍａｓｓ
Ｍ”（ｍ／ｚ） ２８５Ｈ’−ＮＭＲ（Ｔ）Ｐｍ）
（ＣＤＣＩ！、）■：１．：（Ｏｔ 、１−７Ｈｚ
８Ｈ◎：２．８０ ｄ Ｊ＝１．２
Ｈｚ ８Ｈ◎：８．８”、 ｔ Ｊ＝７
Ｈｚ ２Ｈ◎ ４．２０ ｔ Ｊ＝
７Ｈｚ ２Ｈ■ ４．５６ ｊ
Ｊ＝７Ｈｚ ２Ｈ■ ６．００〜６．０８
ｍ ＩＨＱ ７．２１
ｄ Ｊ＝１５Ｈｚ ＩＨｏ ７．６
５ ｄ Ｊ＝１５Ｈｚ ＩＨ参考例
２ エチル−６−ハイドロキシ−３−メチル−２９゜４鎚−
へキサジェノエートの合成 ５−エトキシカルボニル−４−メチル−２（２）。
４（２）−ペンタジェノイルチアゾリン−２−チオン１
．８１１テトラハイドロフラン２０ｇ／、水２ ｙｔｔ
ｌの溶液に、水素比ホウ素ナトリウム２００ηを加えて
、４５分間撹拌する。テトラハイドロフラン留出残Ｈ’
ｆｃエーテル抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。
．８１１テトラハイドロフラン２０ｇ／、水２ ｙｔｔ
ｌの溶液に、水素比ホウ素ナトリウム２００ηを加えて
、４５分間撹拌する。テトラハイドロフラン留出残Ｈ’
ｆｃエーテル抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。
乾燥後、エーテル留出残渣を１０４硝酸銀−シリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製し、濃縮残渣をクーゲ
ルロー／ｖｖｃで減圧蒸留し、ｂＰ ｌ ４０’Ｃ／３
ｍ ｍＨｇの無色油状の標記ｆヒ合物５８０１１ｆＣ
収率６８係）１！Ｉ：得る。
カラムクロマトグラフィーで精製し、濃縮残渣をクーゲ
ルロー／ｖｖｃで減圧蒸留し、ｂＰ ｌ ４０’Ｃ／３
ｍ ｍＨｇの無色油状の標記ｆヒ合物５８０１１ｆＣ
収率６８係）１！Ｉ：得る。
Ｍａｓｓ Ｍ （ｍｌＺ） １７０■ ◎
■ １．２９ ｔ Ｊ＝７Ｈｚ
３Ｈ■ １，６０１．８８ ｂｒ
ＩＨ（Ｄ２０で消失）■ ２．２８ ｄ
Ｊ＝ｌＨｚ ８Ｈ◎４．１７
ｑ Ｊ＝７Ｈｚ ２Ｈ■ ４．２９
ｄ Ｊ−４Ｈｚ ２Ｈ■ ５．６７
〜５．８０ ｍ ｌ）（■
６．２０ ｄ、ｄ Ｊ＝１５Ｈｚ、Ｊ＝４
ＨｚｌＨ■ ６．３３ ｄ Ｊ＝１５Ｈ
ｚ ＩＨＩＲ３４００σ （ＯＩ（吸収） 参考例３ エチル−３−メチル−６−チトラハイドロピフノキシー
２の、４［Ｆ］−へキサジェノエートの合成エチル−６
−ハイドロキシ−８−、Ｉｆシル−の。
３Ｈ■ １，６０１．８８ ｂｒ
ＩＨ（Ｄ２０で消失）■ ２．２８ ｄ
Ｊ＝ｌＨｚ ８Ｈ◎４．１７
ｑ Ｊ＝７Ｈｚ ２Ｈ■ ４．２９
ｄ Ｊ−４Ｈｚ ２Ｈ■ ５．６７
〜５．８０ ｍ ｌ）（■
６．２０ ｄ、ｄ Ｊ＝１５Ｈｚ、Ｊ＝４
ＨｚｌＨ■ ６．３３ ｄ Ｊ＝１５Ｈ
ｚ ＩＨＩＲ３４００σ （ＯＩ（吸収） 参考例３ エチル−３−メチル−６−チトラハイドロピフノキシー
２の、４［Ｆ］−へキサジェノエートの合成エチル−６
−ハイドロキシ−８−、Ｉｆシル−の。
４（２）−へキサジェノエート２．１ｙ、ｐ−）ルエン
スルホン酸８０１１ｇ、乾燥エーテル１５ａｇ７にジハ
イドロビラン１．３５ｍ１ｆｆｉ滴下し、４時間撹拌後
、５幅炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸す
Ｉ−１，１ウムで乾燥する。乾燥後、エーテルを留去し
、得られた残渣をクーゲルロールにて減圧蒸留し、ｂｐ
ｌ ６５ ’Ｃ／３ｍｍＨｇの無色油状の標記ｆヒ
合物２．８９＜収率７３係）を得る。
スルホン酸８０１１ｇ、乾燥エーテル１５ａｇ７にジハ
イドロビラン１．３５ｍ１ｆｆｉ滴下し、４時間撹拌後
、５幅炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸す
Ｉ−１，１ウムで乾燥する。乾燥後、エーテルを留去し
、得られた残渣をクーゲルロールにて減圧蒸留し、ｂｐ
ｌ ６５ ’Ｃ／３ｍｍＨｇの無色油状の標記ｆヒ
合物２．８９＜収率７３係）を得る。
■１．２８ ｔ Ｊ＝７Ｈｚ ３Ｈ＠
１．４０〜２．００ ｍ ６Ｈ＠２
．２９ ｄ Ｊ＝１．２Ｈｚ ３
Ｈ◎ ８．４０〜４．００ ｍ
２Ｈ■ ４．１７ ｑ Ｊ＝
７Ｈｚ ２Ｈ■ ４．００〜４．４８
ｍ ２Ｈ＠ ４．５２〜
４．７２ ｍ ｌＨｏ５
．６８〜５．８０ ｍ Ｉ
Ｈ■ ６．１６ ｄ、 ｄ Ｊ＝１５Ｈｚ、
Ｊ＝４Ｈｚ ＩＨＱ）６．８４ ｄ
Ｊ ＝１５Ｈｚ ＬＨ参考例４ ３−メチル−６−チトラハイドロピラノキシー２［Ｆ］
、４囮−へキサジェノイックアシッドの合成エチル−３
−メチル−６−チトラハイドロピラノキシー２（２）、
４（２）−へキサジェノエート２．２９ 。
１．４０〜２．００ ｍ ６Ｈ＠２
．２９ ｄ Ｊ＝１．２Ｈｚ ３
Ｈ◎ ８．４０〜４．００ ｍ
２Ｈ■ ４．１７ ｑ Ｊ＝
７Ｈｚ ２Ｈ■ ４．００〜４．４８
ｍ ２Ｈ＠ ４．５２〜
４．７２ ｍ ｌＨｏ５
．６８〜５．８０ ｍ Ｉ
Ｈ■ ６．１６ ｄ、 ｄ Ｊ＝１５Ｈｚ、
Ｊ＝４Ｈｚ ＩＨＱ）６．８４ ｄ
Ｊ ＝１５Ｈｚ ＬＨ参考例４ ３−メチル−６−チトラハイドロピラノキシー２［Ｆ］
、４囮−へキサジェノイックアシッドの合成エチル−３
−メチル−６−チトラハイドロピラノキシー２（２）、
４（２）−へキサジェノエート２．２９ 。
エタノール４ ｍｌの溶液に、８５壬水酸ｆＥ、カリウ
ム１、１４ ’！ 、水４ ｍｌの溶液を滴下し、−夜
撹拌する。
ム１、１４ ’！ 、水４ ｍｌの溶液を滴下し、−夜
撹拌する。
！
次にエタン−１しを留去し、残渣をエーテルで洗浄する
。希塩酸で酸性とし、エーテｌし抽出し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥する。乾燥後、エーテルを留去し、残渣を
、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム
：メタノ−７し＝ａ ： １ ）で分離精製し、得られ
た結晶をｎ−ヘキサンより再結晶し、ｍｐ６０〜６１′
ｃの無色針状結晶１．２５ｙ（収率６３係）を得る。
。希塩酸で酸性とし、エーテｌし抽出し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥する。乾燥後、エーテルを留去し、残渣を
、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム
：メタノ−７し＝ａ ： １ ）で分離精製し、得られ
た結晶をｎ−ヘキサンより再結晶し、ｍｐ６０〜６１′
ｃの無色針状結晶１．２５ｙ（収率６３係）を得る。
元素分析 Ｃｌ２Ｈ１８０４（！： Ｌ ”ｌ（ＣＨ
計算値（＠６３．７０ ８．０２
実測値（＠ ６Ｂ、８９ ８．８７Ｍａｓｓ
Ｍ”（ｍ／ｚ） ２２６Ｈ１−ＮＭＲ（ｐｐｍ）
（ＣＤＣ／３）■ ■１．４０〜２．００ ｍ ６Ｈ◎
２．３０ ｄ Ｊ＝ｌＨｚ ３Ｈ■
８．４０〜４．００ ｍ ２
Ｈ◎４．００〜４．５２ ｍ ２
Ｈ■４．６０〜４．７２ ｍ
ＩＨ■５．７２〜５．８８ ｍ
ＬＨ■６．２２ ｄ、 ｄ Ｊ＝１５Ｈｚ、Ｊ＝
４Ｈｚ ＩＨ＠ ６．３８ ｄ Ｊ＝１５
Ｈｚ ＩＨ■ ８．００〜１０．００ ｂｒ
ｏａｄ ＩＨ（Ｄ２０で？ｎ失）
実施例１ エチル−５−メチル−３−オキソ−８−テトラハイドロ
ピラノキシ−４（２）、６（２）−オクタジェノエート
の合成 参考例４で得られた３−メチル−６−テトラハイドロピ
ラノキシー２（２）、４■−へキサジェノイックアシッ
ド２．３６ｆ、）リエチルアミン１７ｍ／。
Ｍ”（ｍ／ｚ） ２２６Ｈ１−ＮＭＲ（ｐｐｍ）
（ＣＤＣ／３）■ ■１．４０〜２．００ ｍ ６Ｈ◎
２．３０ ｄ Ｊ＝ｌＨｚ ３Ｈ■
８．４０〜４．００ ｍ ２
Ｈ◎４．００〜４．５２ ｍ ２
Ｈ■４．６０〜４．７２ ｍ
ＩＨ■５．７２〜５．８８ ｍ
ＬＨ■６．２２ ｄ、 ｄ Ｊ＝１５Ｈｚ、Ｊ＝
４Ｈｚ ＩＨ＠ ６．３８ ｄ Ｊ＝１５
Ｈｚ ＩＨ■ ８．００〜１０．００ ｂｒ
ｏａｄ ＩＨ（Ｄ２０で？ｎ失）
実施例１ エチル−５−メチル−３−オキソ−８−テトラハイドロ
ピラノキシ−４（２）、６（２）−オクタジェノエート
の合成 参考例４で得られた３−メチル−６−テトラハイドロピ
ラノキシー２（２）、４■−へキサジェノイックアシッ
ド２．３６ｆ、）リエチルアミン１７ｍ／。
乾燥テトラハイドロフランＢＯｍｌの溶液に、水冷撹拌
下、ジェトキシホスホノクロライＦ１．６ｍ？ｉ滴下し
、水冷下で３時間撹拌する。一方、金属マグネシウム１
．２８ （／ 、乾燥テトラハイドロフラン３０ ｗｌ
にイソプロピルブロマイドを滴下し、マグネシウムが溶
解する寸で撹拌後、水冷下に、エチルハイドロジエンマ
ロネート２．８２ ｔｔｔｌを滴下し、水冷下で１．５
時間撹拌する。上記で製造した溶液をこの溶液に滴下し
、１．５時間撹拌する。撹拌後テトラハイドロフランを
留去し、残渣をエーテＭ抽出し、エーテル層を５４塩酸
水溶液、５係炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥する。乾燥後、エーテルを留去し
、残渣ヲクロロホルム：アセトン＝９５：５にてシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し分離精製し、淡黄
色油状の標記ｆヒ合物１．９３Ｆ（収率６５幅）を得る
。
下、ジェトキシホスホノクロライＦ１．６ｍ？ｉ滴下し
、水冷下で３時間撹拌する。一方、金属マグネシウム１
．２８ （／ 、乾燥テトラハイドロフラン３０ ｗｌ
にイソプロピルブロマイドを滴下し、マグネシウムが溶
解する寸で撹拌後、水冷下に、エチルハイドロジエンマ
ロネート２．８２ ｔｔｔｌを滴下し、水冷下で１．５
時間撹拌する。上記で製造した溶液をこの溶液に滴下し
、１．５時間撹拌する。撹拌後テトラハイドロフランを
留去し、残渣をエーテＭ抽出し、エーテル層を５４塩酸
水溶液、５係炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥する。乾燥後、エーテルを留去し
、残渣ヲクロロホルム：アセトン＝９５：５にてシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し分離精製し、淡黄
色油状の標記ｆヒ合物１．９３Ｆ（収率６５幅）を得る
。
Ｍａｓｓ Ｍ”（ｍ／Ｚ） ２９６ＩＲ，１７１８
□−１（−Ｃ（’）ＯＣ２Ｈ５）、ｌＲ７８ｍ−１（＞
−〇）Ｈ’−ＮＭＲ（ｐＰｍ）（ＣＤＣｊ？３）■１．
２７ ｔ Ｊ＝７Ｈｚ ａ、Ｈ◎１．４
０〜２．００ ｍ ６Ｈ◎２．２８
ｄ Ｊ＝ｌＨｚ ８Ｈ◎３．４９
Ｓ ２Ｈ◎８．５２〜４．００ ｍ
２Ｈの４．２０ ｔ Ｊ
＝７Ｈｚ ２Ｈ■４．００〜４．４８ ｍ
２Ｈ■４．５６〜４．６８ ｍ
ＩＨ■６．ｉ２〜６．２０ ｍ
ＩＨ（ｉ）−＠ ６．００〜６．４４ ｍ
２Ｈ（以 上）
□−１（−Ｃ（’）ＯＣ２Ｈ５）、ｌＲ７８ｍ−１（＞
−〇）Ｈ’−ＮＭＲ（ｐＰｍ）（ＣＤＣｊ？３）■１．
２７ ｔ Ｊ＝７Ｈｚ ａ、Ｈ◎１．４
０〜２．００ ｍ ６Ｈ◎２．２８
ｄ Ｊ＝ｌＨｚ ８Ｈ◎３．４９
Ｓ ２Ｈ◎８．５２〜４．００ ｍ
２Ｈの４．２０ ｔ Ｊ
＝７Ｈｚ ２Ｈ■４．００〜４．４８ ｍ
２Ｈ■４．５６〜４．６８ ｍ
ＩＨ■６．ｉ２〜６．２０ ｍ
ＩＨ（ｉ）−＠ ６．００〜６．４４ ｍ
２Ｈ（以 上）
Claims (2)
- （１）一般式 ％式％ ζ式中Ｒ１は水素原子、低級アルキル基を、Ｒ２け低級
アルキル基を示す）で表わされるβ−ケトエステｌし誘
導体。 - （２）一般式 （式中Ｒは水素原子、低級アルキｌし基を示す）で表わ
されるｆヒ合物と、一般式 （式中Ｒ８は低級アルコキシ基又はフェニル基を、Ｙは
酸素あるめは硫黄原子を、Ｘけハロゲン原子を示す）で
表わされる化合物を塩基の存（式中Ｒ２は低級アＭキル
基を、Ｘ はハロゲン原子を示す）で表わされるｆヒ合
物を反応させることを特徴とする一般式 Ｃ式中Ｒ１，Ｒ２は前記と同一の意味を示す）で表わさ
れるβ−ケトエステル誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2867982A JPS58144381A (ja) | 1982-02-23 | 1982-02-23 | β−ケトエステル誘導体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2867982A JPS58144381A (ja) | 1982-02-23 | 1982-02-23 | β−ケトエステル誘導体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58144381A true JPS58144381A (ja) | 1983-08-27 |
| JPS6361310B2 JPS6361310B2 (ja) | 1988-11-28 |
Family
ID=12255178
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2867982A Granted JPS58144381A (ja) | 1982-02-23 | 1982-02-23 | β−ケトエステル誘導体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58144381A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007064077A1 (en) * | 2005-09-16 | 2007-06-07 | Lg Life Sciences Ltd. | A process for preparing beta-ketoester compounds |
-
1982
- 1982-02-23 JP JP2867982A patent/JPS58144381A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007064077A1 (en) * | 2005-09-16 | 2007-06-07 | Lg Life Sciences Ltd. | A process for preparing beta-ketoester compounds |
| US7642356B2 (en) | 2005-09-16 | 2010-01-05 | Lg Life Sciences Ltd. | Process for preparing beta-ketoester compounds |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6361310B2 (ja) | 1988-11-28 |
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