JP4091231B2 - パターンの位置合わせ方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、グリーンシートあるいはテープキャリア等に形成されたパターンを検査するパターン検査方法に係り、特にマスタパターンと被測定パターンの位置合わせを行う位置合わせ方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、ＩＣ、ＬＳＩの多ピン化要求に適した実装技術として、ＰＧＡ（Pin Grid Array）が知られている。ＰＧＡは、チップを付けるパッケージのベースとしてセラミック基板を用い、リード線の取り出し位置まで配線を行っている。このセラミック基板を作るために、アルミナ粉末を液状のバインダで練り合わせてシート状にしたグリーンシートと呼ばれるものが使用され、このグリーンシート上に高融点の金属を含むペーストがスクリーン印刷される。そして、このようなシートを焼成することにより、グリーンシートを焼結させると共にペーストを金属化させる、いわゆる同時焼成が行われる。
【０００３】
また、その他の実装技術として、ＴＡＢ（Tape Automated Bonding）が知られている。ＴＡＢ法は、ポリイミド製のテープキャリア（ＴＡＢテープ）上に形成された銅箔パターンをＩＣチップの電極に接合して外部リードとする。銅箔パターンは、テープキャリアに銅箔を接着剤で貼り付け、これをエッチングすることによって形成される。
【０００４】
このようなグリーンシートあるいはテープキャリアでは、パターン形成後に顕微鏡を用いて人間により目視でパターンの検査が行われる。しかしながら、微細なパターンを目視で検査するには、熟練を要すると共に、目を酷使するという問題点があった。そこで、目視検査に代わるものとして、テープキャリア等に形成されたパターンをＴＶカメラで撮像して自動的に検査する技術が提案されている（例えば、特開平６−２７３１３２号公報、特開平７−１１０８６３号公報）。
【０００５】
図１５、図１６は特開平６−２７３１３２号公報に記載された断線を検出する従来の検査方法を説明するための図である。良品と判定された被測定パターンを撮像することによって作成されたマスタパターンは、パターンエッジを示す直線の集合として登録される。また、被測定パターンは、パターンを撮像した濃淡画像から抽出したパターンエッジを示すエッジデータ（エッジ座標）の集合として入力される。そして、抽出した被測定パターンのエッジデータｎ１、ｎ２、ｎ３・・・とマスタパターンの直線との対応付けを行う。この対応付けを行うために、図１５に示すように、マスタパターンの連続する直線Ａ１とＡ２、Ａ２とＡ３・・・・がつくる角をそれぞれ２等分する２等分線Ａ２’、Ａ３’・・・・を求める。
【０００６】
この２等分線Ａ２’、Ａ３’・・・・によってマスタパターンの直線Ａ１、Ａ２、Ａ３・・・・の周囲は、各直線にそれぞれ所属する領域に分割される。これにより、各領域内に存在する被測定パターンのエッジデータｎ１、ｎ２、ｎ３・・・・は、その領域が属するマスタパターンの直線Ａ１、Ａ２、Ａ３・・・・とそれぞれ対応付けられたことになる。例えば図１５において、エッジデータｎ１〜ｎ３は、直線Ａ１と対応付けられ、データｎ４〜ｎ６は、直線Ａ２と対応付けられる。次に、被測定パターンのエッジデータとマスタパターンとを比較し、被測定パターンが断線しているかどうかを検査する。
この検査は、図１６に示すように、被測定パターンの連結したエッジデータｎ１〜ｎ９を追跡することによりパターンエッジを追跡するラベリング処理によって実現される。このとき、被測定パターンの先端に生じた断線により、この断線部でエッジデータが連結しないため、マスタパターンの直線Ａ３〜Ａ５に対応するエッジデータが存在しない。こうして、被測定パターンの断線を検出することができる。
【０００７】
図１７は特開平６−２７３１３２号公報に記載された短絡を検出する従来の検査方法を説明するための図である。この検査方法では、まずマスタパターンと被測定パターンを所定の大きさに切り出した検査領域２０において、被測定パターンの連結したエッジデータを追跡する。これにより、被測定パターンの各エッジデータは、ｎ１〜ｎ１８と順次ラベリングされる。しかし、パターンエッジを示す対向する２直線からなるマスタパターンＭａと同じく対向する２直線からなるマスタパターンＭｂには、エッジデータｎ８、ｎ１７は登録されていない。こうして、被測定パターンの短絡を検出することができる。
【０００８】
図１８は特開平７−１１０８６３号公報に記載された欠損あるいは突起を検出する従来の検査方法を説明するための図である。この検査方法では、まず中心線Ｌに垂直な垂線を引いて、この垂線がマスタパターンのエッジを示す直線Ａ１、Ａ２と交わる交点間の長さをマスタパターンの幅Ｗ０として予め求めておく。次に、実際の検査では、被測定パターンのエッジデータｎからマスタパターンの中心線Ｌに対して垂線を下ろすことにより、対向するエッジデータ間の距離を求める。この距離が被測定パターンの幅Ｗであり、これをマスタパターンの幅Ｗ０と比較することにより、被測定パターンの欠損あるいは突起を検出することができる。
【０００９】
しかし、このような検査方法を用いるパターン検査装置では、被測定パターンの全体にわたってマスタパターンとの比較による詳細な検査をソフトウェアで行うため、パターン検査に時間がかかるという問題点があった。そこで、短時間で検査が可能なパターン検査装置が提案されている（例えば、特開平１０−１４１９３０号公報）。特開平１０−１４１９３０号公報に記載されたパターン検査装置では、ハードウェアによって被測定パターンの欠陥候補を検出し、検出した欠陥候補を含む所定の小領域だけソフトウェアによって検査するので、被測定パターンの欠陥を従来よりも高速に検査することができる。
【００１０】
以上のような検査方法を用いるパターン検査装置では、カメラで取り込んだ被測定パターンとマスタパターンを比較するために、マスタパターンと被測定パターンの位置合わせが必要である。そして、この位置合わせは、マスタパターンに予め設けられた位置決めマークと、これに対応する被測定パターンの位置決めマークの位置を一致させることで行っていた。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、以上のような位置合わせ方法では、他のパターンから独立した位置決めマークが存在しないマスタパターンと被測定パターンの位置を合わせることができないという問題点があった。
そこで、位置決めマークが存在しないパターンについては、ランドの中心を位置決めマークの代わりとしたり、パターンの角を位置決めマークの代わりとしたりする位置合わせ方法が提案されている（特開平１０−３１８７１３号公報）。しかし、この位置合わせ方法においても、位置決めマークの代わりとなり得るようなランドやパターンの角が存在しないマスタパターンと被測定パターンの位置を合わせることができないという問題点があった。
【００１２】
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、位置決めマークあるいは位置決めマークの代わりとなり得るようなランドやパターンの角が存在しないパターンであっても、位置合わせを行うことができる位置合わせ方法を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明のパターンの位置合わせ方法は、マスタパターン（Ｍ）中に複数の位置決め用領域（Ｆｍ）を設定し、前記位置決め用領域毎に各領域中に存在するパターンエッジの近傍領域のみを相関値算出領域（Ｃｍ）とし、前記マスタパターンの位置決め用領域の画像とこれに対応する位置の被測定パターンの領域（Ｒｐ）の画像との相関値を、前記位置決め用領域毎に前記被測定パターンの画像の位置をずらしながら算出する際に、マスタパターンと被測定パターンの各々について相関値算出領域のみを用いて相関値算出を行い、前記相関値が極大値をとるピーク位置の座標を前記位置決め用領域毎に求め、前記位置決め用領域とこの領域について求めた前記ピーク位置との位置ずれ量の判定及び前記極大値の判定を前記位置決め用領域毎に行って、前記位置ずれ量が所定画素数より小さく、かつ前記極大値が所定値より大きい場合のみ、該当する位置決め用領域に対応する被測定パターンの前記領域を被測定パターンの位置決め用領域として採用し、前記ピーク位置に基づいて採用した被測定パターンの位置決め用領域とこれに対応する前記マスタパターンの位置決め用領域の位置を合わせることにより、マスタパターンと被測定パターンの画像の位置合わせを行うようにしたものである。このように、マスタパターンの位置決め用領域に対応する領域を被測定パターンから抽出して、この被測定パターンの領域とマスタパターンの位置決め用領域との相関値を算出し、最も相関値が高いピーク位置を被測定パターンの位置決め用領域と見なして、マスタパターンと被測定パターンの互いの位置決め用領域の位置を合わせることにより、マスタパターンと被測定パターンの位置合わせを行うことができる。その結果、他のパターンから独立した位置決めマークあるいは位置決めマークの代わりとなり得るようなランドや角が存在しないパターンであっても、位置合わせを行うことができる。また、マスタパターンの位置決め用領域中に存在するパターンエッジの近傍領域のみを相関値算出領域とすることにより、濃淡の変化がない部分の影響を少なくすることができる。
【００１４】
また、本発明のパターンの位置合わせ方法の１構成例として、相関値算出領域を、位置決め用領域内のマスタパターンを膨張処理したときのパターンエッジと位置決め用領域内のマスタパターンを収縮処理したときのパターンエッジとの間の領域としたものである。
また、本発明のパターンの位置合わせ方法の１構成例は、マスタパターンを所定の大きさの複数の矩形領域（Ｒｍ）に分割し、各矩形領域の自己相関値を算出して、この自己相関値が位置合わせに適した特性を示す矩形領域を位置決め用領域とするものである。これにより、マスタパターン中に位置合わせに好適な位置決め用領域を設定することができる。
また、本発明のパターンの位置合わせ方法の１構成例は、自己相関値の極大値が一定値以上を示し、かつこの極大値の他に一定値以上の極大値が存在しない場合、自己相関値が位置合わせに適した特性を示していると見なすようにしたものである。
また、本発明のパターンの位置合わせ方法の１構成例は、マスタパターンと被測定パターンの各々の位置決め用領域の座標より被測定パターンとマスタパターンの間の座標変換式を決定し、この座標変換式を用いてマスタパターンを変換することにより、マスタパターンと被測定パターンの位置合わせを行うようにしたものである。
【００１５】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。図１は本発明の第１の実施の形態を示す位置合わせ方法を用いるパターン検査方法のフローチャート図、図２はこの検査方法で用いるパターン検査装置のブロック図である。図２において、１は検査ワークとなるグリーンシート、２はグリーンシート１を載置するためのＸ−Ｙテーブル、３はＸ−Ｙテーブル２上のグリーンシート１を撮像するラインセンサカメラ、４は被測定パターンの欠陥候補を検出する一次検査を行い、欠陥候補の位置を示すアドレス情報を出力する第１の画像処理装置、５はこのアドレス情報により欠陥候補を含む所定の領域について、被測定パターンとマスタパターンの誤差を求め、被測定パターンの二次検査を行う第２の画像処理装置、６は装置全体を制御するホストコンピュータ、７は検査結果を表示するための表示装置である。
【００１６】
最初に、検査の前に予め作成しておくマスタパターンについて説明する。ホストコンピュータ６は、ＣＡＤ（Computer Aided Design ）システムによって作成され例えば磁気ディスクに書き込まれたグリーンシートの設計値データ（以下、ＣＡＤデータとする）を図示しない磁気ディスク装置によって読み出す（図１ステップ１０１）。そして、ホストコンピュータ６は、読み出したＣＡＤデータからパターンのエッジデータを抽出する。エッジデータは、パターンエッジを示す画素「１」の集合である。そして、パターンエッジを示す画素「１」で囲まれた領域を「１」で塗りつぶし、この画素「１」で塗りつぶされたパターン（パターン以外の背景は「０」）を検査の基準となる第１のマスタパターンとする（図１ステップ１０２）。
【００１７】
このように本実施の形態では、正確なマスタパターンを作成するために、グリーンシート１の製造上のマスタとなったＣＡＤデータを用いる。
次に、パターン検査装置のオペレータは、全体の位置合わせを行うための位置決めマークを第１のマスタパターンＭにおいて３箇所以上指定する（ステップ１０３）。
【００１８】
図３は第１のマスタパターンＭを示す図であり、Ｔｍは位置決めマークを示す。オペレータは、表示装置７の画面に表示された図３のような映像上において、他のパターンから独立したパターンを位置決めマークＴｍとして指定する。ホストコンピュータ６は、指定された第１の位置決めマークＴｍの位置をメモリに格納する。
【００１９】
次に、オペレータは、図４のように第１のマスタパターンＭ中に複数の分割領域Ｅｍを設定する（ステップ１０４）。ホストコンピュータ６は、設定された各分割領域Ｅｍの位置と大きさをメモリに格納する。なお、各分割領域Ｅｍの大きさは一定でなくてもよい。
【００２０】
次に、ホストコンピュータ６は、位置決め用矩形領域を分割領域Ｅｍごとに設定する（ステップ１０５）。図５は位置決め用矩形領域の設定方法を示すフローチャート図、図６は位置決め用矩形領域の設定方法を説明するための図である。まず、ホストコンピュータ６は、第１のマスタパターンＭの分割領域Ｅｍを図６（ａ）のように所定の大きさの矩形領域Ｒｍに分割する（図５ステップ２０１）。
【００２１】
続いて、ホストコンピュータ６は、中心座標がｘｓ，ｙｓの矩形領域Ｒｍ内の濃淡データと、この矩形領域ＲｍからＸ方向にｉ、Ｙ方向にｊだけ離れた矩形領域Ｒｍ’内の濃淡データとの自己相関値ｆ（ｘｓ，ｙｓ）を次式によって算出する（ステップ２０２）。
【００２２】
【数１】

【００２３】
式（１）において、ｍａｓｔｅｒ１（ｘｓ＋ｉ，ｙｓ＋ｊ）は矩形領域Ｒｍ’内のマスタパターンＭの濃淡データ、ｍａｓｔｅｒ２（ｉ，ｊ）は矩形領域Ｒｍ内のマスタパターンＭの濃淡データである。
式（１）は、図６（ｂ）のように矩形領域Ｒｍの位置をずらした矩形領域Ｒｍ’と矩形領域Ｒｍとの相関をとることを意味する。
【００２４】
このとき、矩形領域Ｒｍの位置ずれ範囲を指定する定数ＡＳ，ＡＥは、マスタパターンＭと被測定パターンＰとの間に生じ得る位置ずれ量と、システムで許容可能な計算量（矩形領域Ｒｍの位置ずれ量を大きくする程、計算量が増える）とから予め決定される。この定数ＡＳ，ＡＥは、数画素程度の値に設定される。なお、本実施の形態では、Ｘ方向、Ｙ方向共に同一の位置ずれ量ＡＳ，ＡＥを用いているが、Ｘ方向、Ｙ方向毎に個別の位置ずれ量を設定してもよい。
【００２５】
ホストコンピュータ６は、以上のような自己相関値ｆ（ｘｓ，ｙｓ）の算出を分割領域Ｅｍ中の各矩形領域Ｒｍ毎に行う（ステップ２０３）。
自己相関値ｆ（ｘｓ，ｙｓ）の算出後、ホストコンピュータ６は、分割領域Ｅｍ中において自己相関値ｆ（ｘｓ，ｙｓ）が位置合わせに適した特性を示している矩形領域Ｒｍを位置決め用矩形領域Ｆｍとして４箇所以上選択する（ステップ２０４）。
【００２６】
位置合わせに適した特性とは、Ｘ方向、Ｙ方向共に自己相関値ｆ（ｘｓ，ｙｓ）の極大値が一定値以上を示し、かつ自己相関値ｆ（ｘｓ，ｙｓ）が急峻な特性を示している場合である。本実施の形態では、Ｘ方向、Ｙ方向共に、自己相関値ｆ（ｘｓ，ｙｓ）の極大値が一定値ＴＨ以上を示し、かつこの極大値の他に一定値ＴＨ以上の極大値が存在しない場合を自己相関値ｆ（ｘｓ，ｙｓ）が位置合わせに適した特性を示していると見なして、該当矩形領域Ｒｍを位置決め用矩形領域Ｆｍとする（図６（ｃ））。そして、ホストコンピュータ６は、位置決め用矩形領域Ｆｍの座標をメモリに格納する。
【００２７】
このように、自己相関値ｆ（ｘｓ，ｙｓ）が位置合わせに適した特性を示す矩形領域Ｒｍを位置決め用矩形領域Ｆｍとすることにより、マスタパターン中に位置合わせに好適な位置決め用矩形領域Ｆｍを設定することができるので、位置合わせの精度を向上させることができる。
【００２８】
なお、選択すべき位置決め用矩形領域Ｆｍがｎ（例えばｎ＝４）箇所と予め規定されていて、該当矩形領域Ｒｍがｎ箇所以上存在する場合には、ｎ箇所の位置決め用矩形領域Ｆｍを頂点とするｎ角形の面積が最大となるように該当矩形領域Ｒｍ中から位置決め用矩形領域Ｆｍを選択する。
【００２９】
ホストコンピュータ６は、以上のようなステップ２０１〜２０４の処理を第１のマスタパターンＭ中の各分割領域Ｅｍごとに行う（ステップ２０５）。こうして、位置決め用矩形領域Ｆｍの設定処理が終了する。
【００３０】
次に、ホストコンピュータ６は、第１のマスタパターンから欠損、ピンホール又は断線検出用の第２のマスタパターンと、突起、飛び散り又は短絡検出用の第３のマスタパターンとを以下のように作成する（ステップ１０６）。図７は第２、第３のマスタパターンの作成方法を説明するための図であり、第１のマスタパターンの一部を示している。なお、図７では、説明を簡単にするために、パターンエッジを意味する直線のみで第１のマスタパターンを表し、パターンエッジを意味する直線とその内側を意味する斜線で第２、第３のマスタパターンを表しているが、実際の第１〜第３のマスタパターンは、パターンエッジとその内側が画素「１」で塗りつぶされたものである。
【００３１】
まず、図７（ａ）に示すように、第１のマスタパターンをその中心線と直角の方向に収縮させて、第２のマスタパターンＭ１を作成する。これは、第１のマスタパターンの両エッジを示す対向する直線Ａ１とＡ４（中心線はＬ１）の間隔、及びＡ２とＡ３（中心線はＬ２）の間隔を狭くして第１のマスタパターンを細らせることにより作成することができる。
【００３２】
この第２のマスタパターンＭ１による欠陥検出の精度は、第１のマスタパターンをどれだけ収縮させるかによって決まる。例えば、第１のマスタパターンの幅の１／５を超える欠損が存在するときに欠陥と認識したい場合は、第２のマスタパターンＭ１の幅を第１のマスタパターンの幅の３／５となるように縮小すればよい。検出精度は、画素単位や実際の寸法で決めてもよいことは言うまでもない。こうして、欠損、ピンホール又は断線検出用の第２のマスタパターンＭ１が作成される。
【００３３】
続いて、図７（ｂ）に示すように、第１のマスタパターンをその中心線と直角の方向に膨張させて、第３のマスタパターンＭ２を作成する。これは、第１のマスタパターンの両エッジを示す対向する直線Ａ５とＡ８（中心線はＬ３）、Ａ６とＡ７（中心線はＬ４）、Ａ９とＡ１２（中心線はＬ５）及びＡ１０とＡ１１（中心線はＬ６）の間隔をそれぞれ広くして第１のマスタパターンを太らせることにより作成することができる。ただし、実際に第３のマスタパターンＭ２になるのは、膨張処理した結果を論理反転した領域、すなわち直線Ａ５〜Ａ８からなる第１のマスタパターンＭａと、直線Ａ９〜Ａ１２からなる第１のマスタパターンＭｂとをそれぞれ膨張処理して生じた２つのパターンに挟まれた領域である。
【００３４】
この第３のマスタパターンＭ２による欠陥検出の精度は、第１のマスタパターンをどれだけ膨張させるかによって決まる。例えば、第１のマスタパターンの幅の１／５を超える欠損が存在するときに欠陥と認識したい場合は、第３のマスタパターンＭ２の幅を第１のマスタパターンの幅の７／５となるように拡大すればよい。また、画素単位や実際の寸法で検出精度を決めてもよいことは第２のマスタパターンと同様である。こうして、突起、飛び散り又は短絡検出用の第３のマスタパターンＭ２が作成される。
【００３５】
次に、被測定パターンの検査について説明する。まず、グリーンシート１をカメラ３によって撮像する。そして、第１の画像処理装置４は、カメラ３から出力された濃淡画像をディジタル化して、図示しない内部の画像メモリにいったん記憶する（ステップ１０７）。
カメラ３は、Ｘ方向に画素が配列されたラインセンサなので、Ｘ−Ｙテーブル２あるいはカメラ３をＹ方向に移動させることにより、２次元の画像データが画像メモリに記憶される。
【００３６】
続いて、画像処理装置４は、画像メモリに記憶された被測定パターンの濃淡画像を２値化する（ステップ１０８）。被測定パターンの濃淡画像データには、銅箔パターンとそれ以外の背景（グリーンシート等の基材）とが含まれているが、銅箔パターンと背景には濃度差があるので、銅箔パターンの濃度値と背景の濃度値の間の値をしきい値として設定すれば、銅箔パターンは「１」に変換され、背景は「０」に変換される。こうして、パターンエッジとその内側が画素「１」で塗りつぶされた被測定パターンを得ることができる。
【００３７】
次いで、画像処理装置４は、２値化処理した被測定パターン全体とマスタパターン全体の位置合わせを行う（ステップ１０９）。図８はこの位置合わせ方法を説明するための図である。画像処理装置４には、前述のように位置決めマークＴｍが設定された第１のマスタパターンＭ（図８（ａ））と位置決めマークＴｍの位置情報とがホストコンピュータ６より送られる。画像処理装置４は、画像メモリに記憶した被測定パターンＰにおいて、位置決めマークＴｍに対応する領域を探索することで、図８（ｂ）のように位置決めマークＴｍに対応する位置決めマークＴｐを検出する。
【００３８】
そして、画像処理装置４は、被測定パターンＰとマスタパターンＭの各々について、Ｘ方向に並んだ２つの位置決めマーク間の距離ＤＸｐ、ＤＸｍを求める。なお、マーク間距離は、２つの位置決めマークの重心間の距離である。続いて、画像処理装置４は、求めたマーク間距離から拡大／縮小率（ＤＸｐ／ＤＸｍ）を算出し、この拡大／縮小率によりマスタパターンのマーク間距離が被測定パターンのマーク間距離と一致するように、マスタパターンＭを全方向に拡大又は縮小する。
【００３９】
次いで、画像処理装置４は、拡大／縮小補正したマスタパターンＭ’と被測定パターンＰのそれぞれについて、Ｙ方向に並んだ２つの位置決めマーク間の距離ＤＹｍ、ＤＹｐを図８（ｃ）、図８（ｄ）のように求める。そして、被測定パターンのマーク間距離がマスタパターンのマーク間距離と一致するように、ラインセンサカメラ３とグリーンシート１（Ｘ−Ｙテーブル２）の相対速度を調整して、シート１を再度撮像する。
Ｙ方向の画像分解能は、ラインセンサカメラ３の画素の大きさと上記相対速度によって決定される。したがって、Ｘ−Ｙテーブル２あるいはラインセンサカメラ３の移動速度を変えることにより、Ｙ方向の画像分解能を調整し、マーク間距離を一致させることができる。
【００４０】
次に、画像処理装置４は、こうして撮像して得られた被測定パターンＰ’の位置決めマーク位置と拡大／縮小補正したマスタパターンＭ’の位置決めマーク位置により、図８（ｅ）のようにパターンＰ’、Ｍ’の角度ずれθを求め、この角度ずれがなくなるようにマスタパターンＭ’を回転させる。最後に、画像処理装置５は、互いのマーク位置が一致するように、マスタパターンＭ’と被測定パターンＰ’の位置を合わせる。
【００４１】
このように本実施の形態では、ラインセンサカメラ３の画素数によって決定されるＸ方向の画像分解能に対して、カメラ３の取り込み速度を変えてＹ方向の画像分解能を調整することにより、縦（Ｙ）、横（Ｘ）の比率を１：１にすることができる。したがって、良品ではあっても規格に対して許容できる範囲内の伸びが存在する被測定パターンをマスタパターンに一致させることができ、形成時のパターン位置のばらつきに対して自動的にパターンの位置補正を行うことができる。
【００４２】
次に、画像処理装置４は、被測定パターンとマスタパターンの分割領域ごとの位置合わせを行う（ステップ１１０）。図９はこの分割領域ごとの位置合わせ方法を示すフローチャート図、図１０はこの位置合わせ方法を説明するための図である。ステップ１１０の位置合わせ処理において、画像処理装置４は、図１０（ａ）に示す第１のマスタパターンＭから１つの分割領域Ｅｍを切り出すと共に、この分割領域Ｅｍに対応する分割領域Ｅｐを図１０（ｂ）に示す被測定パターンＰから切り出す（図９ステップ３０１）。
【００４３】
続いて、画像処理装置４は、切り出した分割領域Ｅｍ中の位置決め用矩形領域Ｆｍ（Ｆｍ１〜Ｆｍ４）に対応する、分割領域Ｅｐ中の位置決め用矩形領域Ｆｐを探索する（ステップ３０２）。図１１はこの探索方法を示すフローチャート図である。
【００４４】
まず、画像処理装置４は、図１０（ｄ）に示すように、切り出した分割領域Ｅｐから位置決め用矩形領域Ｆｍ（Ｆｍ１〜Ｆｍ４）と対応する位置にある、領域Ｆｍと同一サイズの矩形領域Ｒｐ（Ｒｐ１〜Ｒｐ４）を抽出する（図１１ステップ４０１）。
【００４５】
次いで、画像処理装置４は、位置決め用矩形領域Ｆｍ内の濃淡データとこれに対応する矩形領域Ｒｐ内の濃淡データとの相関値ｇ（ｘｓ，ｙｓ）を次式によって算出する（ステップ４０２）。
【００４６】
【数２】

【００４７】
式（２）において、ｔａｒｇｅｔ（ｘｓ＋ｉ，ｙｓ＋ｊ）は矩形領域Ｒｐ内の被測定パターンＰの濃淡データ、ｍａｓｔｅｒ（ｉ，ｊ）は位置決め用矩形領域Ｆｍ内のマスタパターンＭの濃淡データ、ＢＳ，ＢＥは相関値算出の際の位置ずれ範囲を指定する定数である。
【００４８】
このとき、画像処理装置４は、濃淡の変化がない部分の影響を少なくするために、マスタパターンＭのパターンエッジの近傍領域を相関値算出領域とし、マスタパターンと被測定パターンの各々について相関値算出領域内の濃淡データのみを用いて、相関値ｇ（ｘｓ，ｙｓ）の算出を行う。
【００４９】
この相関値算出領域を決定するためには、図１０（ｅ）に示す位置決め用矩形領域Ｆｍ内のマスタパターンＭをその中心線と直角の方向に膨張させた画像（図１０（ｆ））と、同マスタパターンＭをその中心線と直角の方向に収縮させた画像（図１０（ｇ））とを作成して、図１０（ｆ）の画像と図１０（ｇ）の画像を反転させた画像との論理積をとり、この論理積の結果を相関値算出領域Ｃｍとする（図１０（ｈ））。すなわち、相関値算出領域Ｃｍは、位置決め用矩形領域Ｆｍ内のマスタパターンＭを膨張させたときのパターンエッジと同マスタパターンＭを収縮させたときのパターンエッジとの間の領域である。
【００５０】
画像処理装置４は、図１０（ｅ）に示す位置決め用矩形領域Ｆｍのうち相関値算出領域Ｃｍ内のマスタパターンＭの濃淡データと、前記位置決め用矩形領域Ｆｍに対応する矩形領域Ｒｐ（図１０（ｉ））のうち相関値算出領域Ｃｍに対応する領域内の被測定パターンＰの濃淡データを用いて、相関値ｇ（ｘｓ，ｙｓ）を算出する。
【００５１】
次に、画像処理装置４は、相関値ｇ（ｘｓ，ｙｓ）が極大値をとる位置（以下、ピーク位置と呼ぶ）を画素以下の精度で算出する（ステップ４０３）。図１２は相関値ｇ（ｘｓ，ｙｓ）のピーク位置の算出方法を説明するための図である。図１２の例では、Ｘ座標がｘｓｍの位置で相関値ｇ（ｘｓ，ｙｓ）が最大値をとり、相関値ｇ（ｘｓｍ，ｙｓ），ｇ（ｘｓｍ−１，ｙｓ），ｇ（ｘｓｍ＋１，ｙｓ）が２次式にのっているものとする。これにより、次式が成立する。
【００５２】
【数３】

【００５３】
【数４】

【００５４】
【数５】

【００５５】
式（３）、式（４）、式（５）より、係数ａ，ｂ，ｃは次式のように求めることができる。
【００５６】
【数６】

【００５７】
【数７】

【００５８】
【数８】

【００５９】
一方、ａｘ² ＋ｂｘ＋ｃをｘで微分した傾きが０になる点がピーク位置なので、次式が成立する。
【００６０】
【数９】

【００６１】
式（６）〜式（９）より、ピーク位置のＸ座標ｘは次式のように求めることができる。
【００６２】
【数１０】

【００６３】
なお、図１２、式（３）〜式（１０）においてｙｓは任意の値をとるものとする。こうして、式（１０）により、ピーク位置のＸ座標ｘを画素以下の精度で求めることができる。また、同様の方法により、ピーク位置のＹ座標ｙを画素以下の精度で求めることができる。
【００６４】
次に、画像処理装置４は、位置決め用矩形領域ＦｍのＸ座標とピーク位置のＸ座標ｘとのずれ量の絶対値、同矩形領域ＦｍのＹ座標とピーク位置のＹ座標ｙとのずれ量の絶対値が所定画素数以上であるか否かを判定する（ステップ４０４）。さらに、画像処理装置４は、相関値ｇ（ｘｓ，ｙｓ）の極大値（ピーク位置ｘにおける相関値とピーク位置ｙにおける相関値）が所定値（例えば０．５）以下であるか否かを判定する（ステップ４０５）。
【００６５】
画像処理装置４は、Ｘ方向のずれ量の絶対値若しくはＹ方向のずれ量の絶対値の少なくとも一方が所定画素数以上である場合、あるいは相関値ｇ（ｘｓ，ｙｓ）の極大値が所定値以下である場合、該当位置決め用矩形領域Ｆｍを位置合わせに不適切であると判断して、位置決め用矩形領域としての設定を解除する（ステップ４０６）。
【００６６】
位置合わせに不適切であると判断して位置決め用矩形領域Ｆｍを削除する理由は、ずれ量の絶対値が所定画素数以上の場合、位置決め用矩形領域Ｆｍに対応していない別の位置を探索している可能性が高く、相関値ｇ（ｘｓ，ｙｓ）の極大値が所定値以下の場合、位置決め用矩形領域Ｆｍとの相関性が不十分なためである。
【００６７】
本発明では、ステップ１０５の処理において自己相関値ｆ（ｘｓ，ｙｓ）が位置合わせに適した特性を示す矩形領域Ｒｍを位置決め用矩形領域Ｆｍとすることにより、マスタパターン中に位置合わせに好適な位置決め用矩形領域Ｆｍを設定しているので、ステップ４０５において相関性が不十分となる割合を減らすことができ、位置合わせを効率良く行うことができる。
【００６８】
なお、ステップ４０６の処理により、位置決め用矩形領域Ｆｍが２箇所となった場合、後述のように座標変換式を求めることができなくなるので、この場合にはグリーンシート１が不良であると判断する。
【００６９】
一方、画像処理装置４は、Ｘ，Ｙ方向のずれ量の絶対値が所定画素数より小さく、かつ相関値ｇ（ｘｓ，ｙｓ）の極大値が所定値より大きい場合、位置決め用矩形領域Ｆｍに対応する、分割領域Ｅｐ中の位置決め用矩形領域Ｆｐの中心座標を算出する（ステップ４０７）。すなわち、画像処理装置４は、算出したピーク位置のＸ座標ｘを位置決め用矩形領域ＦｐのＸ座標とし、ピーク位置のＹ座標ｙを同矩形領域ＦｐのＹ座標とする。
【００７０】
以上のようなステップ３０２（ステップ４０１〜４０７）の処理が分割領域Ｅｍに設定された全ての位置決め用矩形領域Ｆｍ（Ｆｍ１〜Ｆｍ４）に対して行われる（ステップ４０８）。こうして、図１０（ｃ）に示すマスタパターンＭの分割領域Ｅｍにおいて予め設定された位置決め用矩形領域Ｆｍ（Ｆｍ１〜Ｆｍ４）に対して、これらに対応する位置決め用矩形領域Ｆｐ（Ｆｐ１〜Ｆｐ４）を被測定パターンＰの対応分割領域Ｅｐにおいて図１０（ｊ）のように求めることができる。
【００７１】
次に、画像処理装置４は、位置決め用矩形領域Ｆｍ１〜Ｆｍ４の座標とこれに対応する位置決め用矩形領域Ｆｐ１〜Ｆｐ４の座標により、被測定パターンとマスタパターンの間の次式のような座標変換式を最小２乗法によって求める（図９ステップ３０３）。
Ｘｍ＝αＸｐ＋βＹｐ＋γ
Ｙｍ＝δＸｐ＋εＹｐ＋ζ ・・・（１１）
【００７２】
式（１１）において、Ｘｍ，ＹｍはマスタパターンのＸ，Ｙ座標、Ｘｐ，Ｙｐは被測定パターンのＸ，Ｙ座標、α，β，γ，δ，ε，ζは定数である。
次に、画像処理装置４は、位置決め用矩形領域Ｆｐ１〜Ｆｐ４のうちの任意の矩形領域、例えば領域Ｆｐ１の座標をＸｐ，Ｙｐとして式（１１）の座標変換式に代入し、座標Ｘｍ，Ｙｍを算出する。そして、座標変換式に代入した位置決め用矩形領域Ｆｐ１に対応する位置決め用矩形領域Ｆｍ１の座標と算出した座標Ｘｍ，Ｙｍとの偏差をＸ，Ｙ座標ごとに求める。このような偏差の計算を位置決め用矩形領域毎に行う（ステップ３０４）。
【００７３】
続いて、画像処理装置４は、算出した各偏差が所定のしきい値より大きいか否かを判定し（ステップ３０５）、全ての偏差が所定のしきい値以下の場合、被測定パターンの分割領域Ｅｐの歪みが許容範囲内で、かつ導出した座標変換式が適正であると判断し、この座標変換式を用いて分割領域Ｅｍ内のマスタパターンの座標変換を行う（ステップ３０６）。
【００７４】
また、画像処理装置４は、全ての偏差が所定のしきい値より大きい場合、被測定パターンの分割領域Ｅｐの歪みが許容範囲外であり、検査対象のグリーンシート１が不良であると判断する（ステップ３０７）。一方、画像処理装置４は、しきい値以下の偏差としきい値より大きい偏差が混在する場合、偏差がしきい値より大となる位置決め用矩形領域、例えば領域Ｆｐ４とこれに対応する位置決め用矩形領域Ｆｍ４を除外した上で（ステップ３０８）、残りの位置決め用矩形領域Ｆｍ１〜Ｆｍ３，Ｆｐ１〜Ｆｐ３の座標により、式（１１）の座標変換式を再び求める（ステップ３０３）。
【００７５】
以上のようなステップ３０３〜３０５，３０７，３０８の処理を各偏差が所定のしきい値以下となるまで繰り返す。こうして、式（１１）の座標変換式を決定し、ステップ３０６のマスタパターンの変換を行うことができる。式（１１）のような座標変換式を用いることは、いわゆるアフィン変換（affine transformation ）を行うことを意味し、これにより分割領域Ｅｍと分割領域Ｅｐの位置ずれを補正することができる。
【００７６】
本実施の形態では、座標変換式に被測定パターンの位置決め用矩形領域Ｆｐの座標を入力した結果とマスタパターンの対応位置決め用矩形領域Ｆｍの座標との偏差を求め、この偏差が所定のしきい値より大きい位置決め用矩形領域Ｆｐ，Ｆｍを被測定パターンとマスタパターンの双方から除外して座標変換式を再び求めることを全ての偏差が所定のしきい値以下となるまで繰り返して、座標変換式を決定することにより、座標変換式の精度を上げることができ、高精度な位置あわせを行うことができる。
【００７７】
なお、第２、第３のマスタパターンは第１のマスタパターンから作成されたものなので、第１〜第３のマスタパターンと被測定パターンとの位置合わせは第１のマスタパターンを用いて１回行えばよい。
【００７８】
また、式（１１）の座標変換式を求めるには、マスタパターン及び被測定パターン共に最低３箇所ずつの位置決め用矩形領域の座標が必要である。しかし、３箇所ずつでは座標変換式の精度が悪くなるため、最低４箇所ずつの位置決め用矩形領域を指定して、偏差がしきい値より大となる位置決め用矩形領域を座標変換式の導出から除外するようにしている。したがって、マスタパターン及び被測定パターン共に位置決め用矩形領域が３箇所ずつとなっても、各偏差がしきい値以下とならない場合には、位置決め用矩形領域を２箇所ずつにして座標変換式を求めることはできないので、この場合も検査対象のグリーンシート１が不良であると判断する。
【００７９】
ステップ１１０の位置合わせ処理が終了した後、画像処理装置４は、被測定パターンの分割領域とこれに対応する第２、第３のマスタパターンの各分割領域とを比較して、被測定パターンの一次検査を行う（ステップ１１１，１１２）。ステップ１１１，１１２の検査は、画像処理装置４のハードウェアによって同時に実施される。
【００８０】
まず、第２のマスタパターンＭ１との比較による検査（ステップ１１１）について説明する。図１３はこの検査方法を説明するための図である。なお、図１３の例では、梨地で示すパターンＮＰを除いた部分が被測定パターンＰである。画像処理装置４は、図１３に示すように、被測定パターンＰの分割領域Ｅｐと第２のマスタパターンＭ１の上記座標変換式によって位置補正がなされた対応分割領域Ｅｍとを比較する。ただし、実際に比較するのは、被測定パターンＰを論理反転したパターンＮＰと第２のマスタパターンＭ１である。
【００８１】
パターンＮＰと第２のマスタパターンＭ１との論理積をとると、この論理積の結果は、被測定パターンＰに欠損や断線があるか否かによって異なる。例えば、被測定パターンＰがその値として「１」を有し、同様にマスタパターンＭ１が「１」を有するとき、被測定パターンＰに欠損や断線がない場合は、パターンＮＰとマスタパターンＭ１が重なることがないので、この論理積の結果は「０」となる。
【００８２】
これに対して、図１３のように被測定パターンＰに欠損Ｃがあると、この部分でパターンＮＰとマスタパターンＭ１が重なるので、論理積の結果が「１」となる。これは、被測定パターンにピンホールＨや断線がある場合も同様である。こうして、被測定パターンの欠損、ピンホールあるいは断線を検出することができる。そして、画像処理装置４は、論理積の結果が「１」となって欠陥候補と認識した位置（図１３では、Ｃ，Ｈの位置）を記憶する。
【００８３】
次に、第３のマスタパターンＭ２との比較による検査（ステップ１１２）について説明する。図１４はこの検査方法を説明するための図である。画像処理装置４は、図１４に示すように、被測定パターンＰの分割領域Ｅｐと第３のマスタパターンＭ２の上記座標変換式によって位置補正がなされた対応分割領域Ｅｍとを比較する。上記と同様に、被測定パターンＰａ、Ｐｂと第３のマスタパターンＭ２の論理積をとると、この論理積の結果は、被測定パターンＰａ、Ｐｂに突起や短絡があるか否かによって異なる。つまり、被測定パターンＰａ、Ｐｂに突起や短絡がない場合は、論理積の結果は「０」となる。
【００８４】
これに対し、図１４のように被測定パターンＰａに突起Ｋがあると、この部分で被測定パターンＰａとマスタパターンＭ２が重なるので、論理積の結果が「１」となる。同様に、被測定パターンＰａ、Ｐｂ間に短絡Ｓが存在すると、論理積の結果が「１」となる。これは、被測定パターンに飛び散りが存在する場合も同様である。こうして、被測定パターンの突起、飛び散りあるいは短絡を検出することができる。そして、画像処理装置４は、論理積の結果が「１」となって欠陥候補と認識した位置（図１４では、Ｋ，Ｓの位置）を記憶する。
【００８５】
以上のような一次検査を行った後、画像処理装置４は、記憶した欠陥候補の位置をアドレス情報として出力する。
第２の画像処理装置５は、第１の画像処理装置４によって欠陥候補が検出された場合（ステップ１１３においてＹＥＳ）、上記アドレス情報が示す位置の欠陥候補を中心とする、分割領域より小さい所定の大きさの領域について、被測定パターンと第１のマスタパターンとを比較して誤差を求めることにより、被測定パターンの二次検査を行う（ステップ１１４）。この検査の方法は、前述した図１５〜図１８の従来の方法と同様である。
【００８６】
以上のようなステップ１１０〜１１４の処理を未検査の分割領域がなくなるまで（ステップ１１５）、分割領域ごとに行う。なお、位置決め用矩形領域Ｆｍは、マスタパターンの全ての分割領域に設定しなくてもよい。例えば、位置決めマークＴｍに近い周辺部では、マスタパターンと被測定パターンの位置ずれが小さいので、分割領域ごとの位置合わせを省略してもよい。すなわち、画像処理装置４は、位置決め用矩形領域Ｆｍが設定されていないマスタパターンの分割領域Ｅｍに対応する、被測定パターンの分割領域Ｅｐについては分割領域ごとの位置合わせを省略する。
【００８７】
第２，第３のマスタパターンの各々と被測定パターンとの比較検査は、ハードウェアで実現でき、検出した欠陥候補を含む所定の領域だけ、処理時間のかかる被測定パターンと第１のマスタパターンの比較によって検査するので、被測定パターンを従来よりも高速に検査することができる。
【００８８】
また、検査ワークに局所的な歪みが存在する場合、従来のパターン検査方法では、局所的なマスタパターンとのずれが発生し、このずれが欠陥候補として検出されるため、検査ワークの局所的な歪みが許容範囲内であったとしても、二次検査を実施することになり、検査時間が低下してしまう。特に、テープキャリアは、ポリイミド製の薄いフィルムであり、可撓性を有している。このため、検査ワークがテープキャリアである場合、カメラで撮像するテープキャリアには、局所的な歪みが存在し、この歪みは、被測定パターンのマスタパターンとの位置ずれの原因となる。
【００８９】
また、テープキャリア上に形成されたパターンの中央付近には、位置決めマークとなり得るような独立したパターンが存在しない。したがって、従来はテープキャリアの周辺部に配設された独立したパターンを位置決めマークとしている。しかし、このような位置合わせ方法では、周辺部以外で発生している、テープキャリアの局所的な歪みに起因する位置ずれを補正することができない。このため、この被測定パターンのマスタパターンとの位置ずれは、前述の検査において欠陥として検出されることになる。
【００９０】
これに対して本実施の形態では、検査ワークの局所的な歪みが許容範囲内（つまり、前記偏差がしきい値以下）であれば、座標変換式による分割領域ごとの位置合わせによって検査ワークの局所的な歪みを吸収するので、この歪みが欠陥候補として検出されることがなくなる。
【００９１】
なお、図１０（ａ）、図１０（ｂ）では各分割領域の重なりが存在しないが、実際の各分割領域は左右上下が他の分割領域と重なるように設定される。これにより、各分割領域の境界の部分の歪みが許容範囲内か否かを隣り合う複数の分割領域の偏差によって判断することができ、各分割領域のつながり具合を検査することができる。
【００９２】
また、本実施の形態では、１つの分割領域の検査が終了した後に、次の分割領域の検査を行っているが、複数の分割領域を並行して検査すれば、更に高速な検査ができることは言うまでもない。
さらに、本実施の形態では、位置決め用矩形領域Ｆｍ，Ｆｐを分割領域毎の位置合わせに使用しているが、全体の位置合わせに使用してもよい。
【００９３】
【発明の効果】
本発明によれば、マスタパターン中に位置決め用領域を設定して、この位置決め用領域中に存在するパターンエッジの近傍領域のみを相関値算出領域とし、位置決め用領域に対応する位置の領域を被測定パターンから抽出して、この被測定パターンの領域とマスタパターンの位置決め用領域との相関値を算出する際に、マスタパターンと被測定パターンの各々について相関値算出領域のみを用いて相関値算出を行い、最も相関値が高いピーク位置を被測定パターンの位置決め用領域と見なして、マスタパターンと被測定パターンの互いの位置決め用領域の位置を合わせることにより、マスタパターンと被測定パターンの位置合わせを行うことができる。その結果、他のパターンから独立した位置決めマークあるいは位置決めマークの代わりとなり得るようなランドや角が存在しないパターンであっても、位置合わせを行うことができる。また、位置決め用領域中に存在するパターンエッジの近傍領域のみを相関値算出領域とすることにより、濃淡の変化がない部分の影響を少なくすることができるので、位置合わせの精度を向上させることができる。さらに、本発明を局所的な位置合わせに使用すれば、局所的な歪みが発生しやすく、かつ位置決めマークとなり得るような独立したパターンが存在しないテープキャリア等の検査ワークであっても、局所的な位置合わせをして、検査ワークの局所的な歪みを吸収し、マスタパターンの分割領域と被測定パターンの分割領域の微妙な位置ずれを補正することができるので、正常な検査を行うことができる。また、検査ワークの局所的な歪みが許容範囲内であれば、この歪みが欠陥候補として検出されることがなくなり、歪みに起因する二次検査が実施されることがなくなるので、検査時間を短縮することができる。
【００９４】
また、マスタパターンを所定の大きさの複数の矩形領域に分割し、各矩形領域の自己相関値を算出して、この自己相関値が位置合わせに適した特性を示す矩形領域を位置決め用領域とすることにより、マスタパターン中に位置合わせに好適な位置決め用領域を設定することができるので、位置合わせの精度を向上させることができる。さらに、マスタパターンの位置決め用領域の設定後、被測定パターンの位置決め用領域を探索する処理において、位置合わせに不適当な位置決め用領域の設定を解除すれば、位置合わせの精度を向上させることができる。本発明では、マスタパターン中に位置合わせに好適な位置決め用領域を設定することができるので、位置合わせを効率良く行うことができる。
【００９５】
また、マスタパターンと被測定パターンの各々の位置決め用領域の座標より被測定パターンとマスタパターンの間の座標変換式を決定し、この座標変換式を用いてマスタパターンを変換することにより、マスタパターンと被測定パターンとの位置合わせを実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第１の実施の形態を示す位置合わせ方法を用いるパターン検査方法のフローチャート図である。
【図２】 パターン検査装置のブロック図である。
【図３】 第１のマスタパターン及び位置決めマークを示す図である。
【図４】 第１のマスタパターンの分割領域を示す図である。
【図５】 マスタパターンの位置決め用矩形領域の設定方法を示すフローチャート図である。
【図６】 マスタパターンの位置決め用矩形領域の設定方法を説明するための図である。
【図７】 第２、第３のマスタパターンの作成方法を説明するための図である。
【図８】 被測定パターンとマスタパターンの全体の位置合わせ方法を説明するための図である。
【図９】 被測定パターンとマスタパターンの分割領域ごとの位置合わせ方法を示すフローチャート図である。
【図１０】 被測定パターンとマスタパターンの分割領域ごとの位置合わせ方法を説明するための図である。
【図１１】 被測定パターンの位置決め用矩形領域の探索方法を示すフローチャート図である。
【図１２】 相関値のピーク位置の算出方法を説明するための図である。
【図１３】 第２のマスタパターンとの比較による検査方法を説明するための図である。
【図１４】 第３のマスタパターンとの比較による検査方法を説明するための図である。
【図１５】 断線を検出する従来の検査方法を説明するための図である。
【図１６】 断線を検出する従来の検査方法を説明するための図である。
【図１７】 短絡を検出する従来の検査方法を説明するための図である。
【図１８】 欠損あるいは突起を検出する従来の検査方法を説明するための図である。
【符号の説明】
１…グリーンシート、２…Ｘ−Ｙテーブル、３…ラインセンサカメラ、４…第１の画像処理装置、５…第２の画像処理装置、６…ホストコンピュータ、７…表示装置。

Claims (5)

1. 基準となるマスタパターンの画像とカメラで撮像した被測定パターンの画像とを比較することにより被測定パターンを検査するパターン検査方法において、
   マスタパターン中に複数の位置決め用領域を設定し、
   前記位置決め用領域毎に各領域中に存在するパターンエッジの近傍領域のみを相関値算出領域とし、
   前記マスタパターンの位置決め用領域の画像とこれに対応する位置の被測定パターンの領域の画像との相関値を、前記位置決め用領域毎に前記被測定パターンの画像の位置をずらしながら算出する際に、前記マスタパターンと被測定パターンの各々について前記相関値算出領域のみを用いて相関値算出を行い、
   前記相関値が極大値をとるピーク位置の座標を前記位置決め用領域毎に求め、
   前記位置決め用領域とこの領域について求めた前記ピーク位置との位置ずれ量の判定及び前記極大値の判定を前記位置決め用領域毎に行って、前記位置ずれ量が所定画素数より小さく、かつ前記極大値が所定値より大きい場合のみ、該当する位置決め用領域に対応する被測定パターンの前記領域を被測定パターンの位置決め用領域として採用し、
   前記ピーク位置に基づいて採用した被測定パターンの位置決め用領域とこれに対応する前記マスタパターンの位置決め用領域の位置を合わせることにより、前記マスタパターンと被測定パターンの画像の位置合わせを行うことを特徴とするパターンの位置合わせ方法。
2. 請求項１記載のパターンの位置合わせ方法において、
   前記相関値算出領域は、前記位置決め用領域内のマスタパターンを膨張処理したときのパターンエッジと前記位置決め用領域内のマスタパターンを収縮処理したときのパターンエッジとの間の領域であることを特徴とするパターンの位置合わせ方法。
3. 請求項１記載のパターンの位置合わせ方法において、
   前記マスタパターンを所定の大きさの複数の矩形領域に分割し、各矩形領域の自己相関値を算出して、この自己相関値が位置合わせに適した特性を示す矩形領域を前記位置決め用領域とすることを特徴とするパターンの位置合わせ方法。
4. 請求項３記載のパターンの位置合わせ方法において、
   前記自己相関値の極大値が一定値以上を示し、かつこの極大値の他に一定値以上の極大値が存在しない場合、前記自己相関値が位置合わせに適した特性を示していると見なすことを特徴とするパターンの位置合わせ方法。
5. 請求項１記載のパターンの位置合わせ方法において、
   前記マスタパターンと被測定パターンの各々の位置決め用領域の座標より被測定パターンとマスタパターンの間の座標変換式を決定し、この座標変換式を用いて前記マスタパターンを変換することにより、前記マスタパターンと被測定パターンの位置合わせを行うことを特徴とするパターンの位置合わせ方法。

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