JP2001202519A - パターンの位置合わせ方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 位置決めマークあるいは位置決めマークの代
わりとなり得るようなランドが存在しないパターンの位
置合わせを行う。 【解決手段】 マスタパターン中に位置決め用領域を設
定する（ステップ１０５）。位置決め用領域中に存在す
るパターンエッジの近傍領域のみを相関値算出領域と
し、位置決め用領域に対応する領域を被測定パターンか
ら抽出して、この領域とマスタパターンの位置決め用領
域との相関値を算出する際に、マスタパターンと被測定
パターンの各々について相関値算出領域のみを用いて相
関値を算出する。最も相関値が高いピーク位置を被測定
パターンの位置決め用領域と見なし、マスタパターンと
被測定パターンの位置決め用領域の位置を合わせる（ス
テップ１１０）。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、グリーンシートあ
るいはテープキャリア等に形成されたパターンを検査す
るパターン検査方法に係り、特にマスタパターンと被測
定パターンの位置合わせを行う位置合わせ方法に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、ＩＣ、ＬＳＩの多ピン化要求
に適した実装技術として、ＰＧＡ（Pin Grid Array）が
知られている。ＰＧＡは、チップを付けるパッケージの
ベースとしてセラミック基板を用い、リード線の取り出
し位置まで配線を行っている。このセラミック基板を作
るために、アルミナ粉末を液状のバインダで練り合わせ
てシート状にしたグリーンシートと呼ばれるものが使用
され、このグリーンシート上に高融点の金属を含むペー
ストがスクリーン印刷される。そして、このようなシー
トを焼成することにより、グリーンシートを焼結させる
と共にペーストを金属化させる、いわゆる同時焼成が行
われる。

【０００３】また、その他の実装技術として、ＴＡＢ
（Tape Automated Bonding）が知られている。ＴＡＢ法
は、ポリイミド製のテープキャリア（ＴＡＢテープ）上
に形成された銅箔パターンをＩＣチップの電極に接合し
て外部リードとする。銅箔パターンは、テープキャリア
に銅箔を接着剤で貼り付け、これをエッチングすること
によって形成される。

【０００４】このようなグリーンシートあるいはテープ
キャリアでは、パターン形成後に顕微鏡を用いて人間に
より目視でパターンの検査が行われる。しかしながら、
微細なパターンを目視で検査するには、熟練を要すると
共に、目を酷使するという問題点があった。そこで、目
視検査に代わるものとして、テープキャリア等に形成さ
れたパターンをＴＶカメラで撮像して自動的に検査する
技術が提案されている（例えば、特開平６−２７３１３
２号公報、特開平７−１１０８６３号公報）。

【０００５】図１５、図１６は特開平６−２７３１３２
号公報に記載された断線を検出する従来の検査方法を説
明するための図である。良品と判定された被測定パター
ンを撮像することによって作成されたマスタパターン
は、パターンエッジを示す直線の集合として登録され
る。また、被測定パターンは、パターンを撮像した濃淡
画像から抽出したパターンエッジを示すエッジデータ
（エッジ座標）の集合として入力される。そして、抽出
した被測定パターンのエッジデータｎ１、ｎ２、ｎ３・
・・とマスタパターンの直線との対応付けを行う。この
対応付けを行うために、図１５に示すように、マスタパ
ターンの連続する直線Ａ１とＡ２、Ａ２とＡ３・・・・
がつくる角をそれぞれ２等分する２等分線Ａ２’、Ａ
３’・・・・を求める。

【０００６】この２等分線Ａ２’、Ａ３’・・・・によ
ってマスタパターンの直線Ａ１、Ａ２、Ａ３・・・・の
周囲は、各直線にそれぞれ所属する領域に分割される。
これにより、各領域内に存在する被測定パターンのエッ
ジデータｎ１、ｎ２、ｎ３・・・・は、その領域が属す
るマスタパターンの直線Ａ１、Ａ２、Ａ３・・・・とそ
れぞれ対応付けられたことになる。例えば図１５におい
て、エッジデータｎ１〜ｎ３は、直線Ａ１と対応付けら
れ、データｎ４〜ｎ６は、直線Ａ２と対応付けられる。
次に、被測定パターンのエッジデータとマスタパターン
とを比較し、被測定パターンが断線しているかどうかを
検査する。この検査は、図１６に示すように、被測定パ
ターンの連結したエッジデータｎ１〜ｎ９を追跡するこ
とによりパターンエッジを追跡するラベリング処理によ
って実現される。このとき、被測定パターンの先端に生
じた断線により、この断線部でエッジデータが連結しな
いため、マスタパターンの直線Ａ３〜Ａ５に対応するエ
ッジデータが存在しない。こうして、被測定パターンの
断線を検出することができる。

【０００７】図１７は特開平６−２７３１３２号公報に
記載された短絡を検出する従来の検査方法を説明するた
めの図である。この検査方法では、まずマスタパターン
と被測定パターンを所定の大きさに切り出した検査領域
２０において、被測定パターンの連結したエッジデータ
を追跡する。これにより、被測定パターンの各エッジデ
ータは、ｎ１〜ｎ１８と順次ラベリングされる。しか
し、パターンエッジを示す対向する２直線からなるマス
タパターンＭａと同じく対向する２直線からなるマスタ
パターンＭｂには、エッジデータｎ８、ｎ１７は登録さ
れていない。こうして、被測定パターンの短絡を検出す
ることができる。

【０００８】図１８は特開平７−１１０８６３号公報に
記載された欠損あるいは突起を検出する従来の検査方法
を説明するための図である。この検査方法では、まず中
心線Ｌに垂直な垂線を引いて、この垂線がマスタパター
ンのエッジを示す直線Ａ１、Ａ２と交わる交点間の長さ
をマスタパターンの幅Ｗ０として予め求めておく。次
に、実際の検査では、被測定パターンのエッジデータｎ
からマスタパターンの中心線Ｌに対して垂線を下ろすこ
とにより、対向するエッジデータ間の距離を求める。こ
の距離が被測定パターンの幅Ｗであり、これをマスタパ
ターンの幅Ｗ０と比較することにより、被測定パターン
の欠損あるいは突起を検出することができる。

【０００９】しかし、このような検査方法を用いるパタ
ーン検査装置では、被測定パターンの全体にわたってマ
スタパターンとの比較による詳細な検査をソフトウェア
で行うため、パターン検査に時間がかかるという問題点
があった。そこで、短時間で検査が可能なパターン検査
装置が提案されている（例えば、特開平１０−１４１９
３０号公報）。特開平１０−１４１９３０号公報に記載
されたパターン検査装置では、ハードウェアによって被
測定パターンの欠陥候補を検出し、検出した欠陥候補を
含む所定の小領域だけソフトウェアによって検査するの
で、被測定パターンの欠陥を従来よりも高速に検査する
ことができる。

【００１０】以上のような検査方法を用いるパターン検
査装置では、カメラで取り込んだ被測定パターンとマス
タパターンを比較するために、マスタパターンと被測定
パターンの位置合わせが必要である。そして、この位置
合わせは、マスタパターンに予め設けられた位置決めマ
ークと、これに対応する被測定パターンの位置決めマー
クの位置を一致させることで行っていた。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上の
ような位置合わせ方法では、他のパターンから独立した
位置決めマークが存在しないマスタパターンと被測定パ
ターンの位置を合わせることができないという問題点が
あった。そこで、位置決めマークが存在しないパターン
については、ランドの中心を位置決めマークの代わりと
したり、パターンの角を位置決めマークの代わりとした
りする位置合わせ方法が提案されている（特開平１０−
３１８７１３号公報）。しかし、この位置合わせ方法に
おいても、位置決めマークの代わりとなり得るようなラ
ンドやパターンの角が存在しないマスタパターンと被測
定パターンの位置を合わせることができないという問題
点があった。

【００１２】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、位置決めマークあるいは位置決めマークの
代わりとなり得るようなランドやパターンの角が存在し
ないパターンであっても、位置合わせを行うことができ
る位置合わせ方法を提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明のパターンの位置
合わせ方法は、マスタパターン（Ｍ）中に位置決め用領
域（Ｆｍ）を設定して、この位置決め用領域中に存在す
るパターンエッジの近傍領域のみを相関値算出領域（Ｃ
ｍ）とし、位置決め用領域に対応する位置の領域（Ｒ
ｐ）を被測定パターン（Ｐ）から抽出して、この被測定
パターンの領域とマスタパターンの位置決め用領域との
相関値を算出する際に、マスタパターンと被測定パター
ンの各々について相関値算出領域のみを用いて相関値算
出を行い、最も相関値が高いピーク位置を被測定パター
ンの位置決め用領域と見なして、マスタパターンと被測
定パターンの互いの位置決め用領域の位置を合わせるこ
とにより、マスタパターンと被測定パターンの位置合わ
せを行うようにしたものである。このように、マスタパ
ターンの位置決め用領域に対応する領域を被測定パター
ンから抽出して、この被測定パターンの領域とマスタパ
ターンの位置決め用領域との相関値を算出し、最も相関
値が高いピーク位置を被測定パターンの位置決め用領域
と見なして、マスタパターンと被測定パターンの互いの
位置決め用領域の位置を合わせることにより、マスタパ
ターンと被測定パターンの位置合わせを行うことができ
る。その結果、他のパターンから独立した位置決めマー
クあるいは位置決めマークの代わりとなり得るようなラ
ンドや角が存在しないパターンであっても、位置合わせ
を行うことができる。また、マスタパターンの位置決め
用領域中に存在するパターンエッジの近傍領域のみを相
関値算出領域とすることにより、濃淡の変化がない部分
の影響を少なくすることができる。

【００１４】また、本発明のパターンの位置合わせ方法
の１構成例として、相関値算出領域を、位置決め用領域
内のマスタパターンを膨張処理したときのパターンエッ
ジと位置決め用領域内のマスタパターンを収縮処理した
ときのパターンエッジとの間の領域としたものである。
また、本発明のパターンの位置合わせ方法の１構成例
は、マスタパターンを所定の大きさの複数の矩形領域
（Ｒｍ）に分割し、各矩形領域の自己相関値を算出し
て、この自己相関値が位置合わせに適した特性を示す矩
形領域を位置決め用領域とするものである。これによ
り、マスタパターン中に位置合わせに好適な位置決め用
領域を設定することができる。また、本発明のパターン
の位置合わせ方法の１構成例は、自己相関値の極大値が
一定値以上を示し、かつこの極大値の他に一定値以上の
極大値が存在しない場合、自己相関値が位置合わせに適
した特性を示していると見なすようにしたものである。
また、本発明のパターンの位置合わせ方法の１構成例
は、マスタパターンと被測定パターンの各々の位置決め
用領域の座標より被測定パターンとマスタパターンの間
の座標変換式を決定し、この座標変換式を用いてマスタ
パターンを変換することにより、マスタパターンと被測
定パターンの位置合わせを行うようにしたものである。

【００１５】

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。図１は本発明の第１
の実施の形態を示す位置合わせ方法を用いるパターン検
査方法のフローチャート図、図２はこの検査方法で用い
るパターン検査装置のブロック図である。図２におい
て、１は検査ワークとなるグリーンシート、２はグリー
ンシート１を載置するためのＸ−Ｙテーブル、３はＸ−
Ｙテーブル２上のグリーンシート１を撮像するラインセ
ンサカメラ、４は被測定パターンの欠陥候補を検出する
一次検査を行い、欠陥候補の位置を示すアドレス情報を
出力する第１の画像処理装置、５はこのアドレス情報に
より欠陥候補を含む所定の領域について、被測定パター
ンとマスタパターンの誤差を求め、被測定パターンの二
次検査を行う第２の画像処理装置、６は装置全体を制御
するホストコンピュータ、７は検査結果を表示するため
の表示装置である。

【００１６】最初に、検査の前に予め作成しておくマス
タパターンについて説明する。ホストコンピュータ６
は、ＣＡＤ（Computer Aided Design ）システムによっ
て作成され例えば磁気ディスクに書き込まれたグリーン
シートの設計値データ（以下、ＣＡＤデータとする）を
図示しない磁気ディスク装置によって読み出す（図１ス
テップ１０１）。そして、ホストコンピュータ６は、読
み出したＣＡＤデータからパターンのエッジデータを抽
出する。エッジデータは、パターンエッジを示す画素
「１」の集合である。そして、パターンエッジを示す画
素「１」で囲まれた領域を「１」で塗りつぶし、この画
素「１」で塗りつぶされたパターン（パターン以外の背
景は「０」）を検査の基準となる第１のマスタパターン
とする（図１ステップ１０２）。

【００１７】このように本実施の形態では、正確なマス
タパターンを作成するために、グリーンシート１の製造
上のマスタとなったＣＡＤデータを用いる。次に、パタ
ーン検査装置のオペレータは、全体の位置合わせを行う
ための位置決めマークを第１のマスタパターンＭにおい
て３箇所以上指定する（ステップ１０３）。

【００１８】図３は第１のマスタパターンＭを示す図で
あり、Ｔｍは位置決めマークを示す。オペレータは、表
示装置７の画面に表示された図３のような映像上におい
て、他のパターンから独立したパターンを位置決めマー
クＴｍとして指定する。ホストコンピュータ６は、指定
された第１の位置決めマークＴｍの位置をメモリに格納
する。

【００１９】次に、オペレータは、図４のように第１の
マスタパターンＭ中に複数の分割領域Ｅｍを設定する
（ステップ１０４）。ホストコンピュータ６は、設定さ
れた各分割領域Ｅｍの位置と大きさをメモリに格納す
る。なお、各分割領域Ｅｍの大きさは一定でなくてもよ
い。

【００２０】次に、ホストコンピュータ６は、位置決め
用矩形領域を分割領域Ｅｍごとに設定する（ステップ１
０５）。図５は位置決め用矩形領域の設定方法を示すフ
ローチャート図、図６は位置決め用矩形領域の設定方法
を説明するための図である。まず、ホストコンピュータ
６は、第１のマスタパターンＭの分割領域Ｅｍを図６
（ａ）のように所定の大きさの矩形領域Ｒｍに分割する
（図５ステップ２０１）。

【００２１】続いて、ホストコンピュータ６は、中心座
標がｘｓ，ｙｓの矩形領域Ｒｍ内の濃淡データと、この
矩形領域ＲｍからＸ方向にｉ、Ｙ方向にｊだけ離れた矩
形領域Ｒｍ’内の濃淡データとの自己相関値ｆ（ｘｓ，
ｙｓ）を次式によって算出する（ステップ２０２）。

【００２２】

【数１】

【００２３】式（１）において、ｍａｓｔｅｒ１（ｘｓ
＋ｉ，ｙｓ＋ｊ）は矩形領域Ｒｍ’内のマスタパターン
Ｍの濃淡データ、ｍａｓｔｅｒ２（ｉ，ｊ）は矩形領域
Ｒｍ内のマスタパターンＭの濃淡データである。式
（１）は、図６（ｂ）のように矩形領域Ｒｍの位置をず
らした矩形領域Ｒｍ’と矩形領域Ｒｍとの相関をとるこ
とを意味する。

【００２４】このとき、矩形領域Ｒｍの位置ずれ範囲を
指定する定数ＡＳ，ＡＥは、マスタパターンＭと被測定
パターンＰとの間に生じ得る位置ずれ量と、システムで
許容可能な計算量（矩形領域Ｒｍの位置ずれ量を大きく
する程、計算量が増える）とから予め決定される。この
定数ＡＳ，ＡＥは、数画素程度の値に設定される。な
お、本実施の形態では、Ｘ方向、Ｙ方向共に同一の位置
ずれ量ＡＳ，ＡＥを用いているが、Ｘ方向、Ｙ方向毎に
個別の位置ずれ量を設定してもよい。

【００２５】ホストコンピュータ６は、以上のような自
己相関値ｆ（ｘｓ，ｙｓ）の算出を分割領域Ｅｍ中の各
矩形領域Ｒｍ毎に行う（ステップ２０３）。自己相関値
ｆ（ｘｓ，ｙｓ）の算出後、ホストコンピュータ６は、
分割領域Ｅｍ中において自己相関値ｆ（ｘｓ，ｙｓ）が
位置合わせに適した特性を示している矩形領域Ｒｍを位
置決め用矩形領域Ｆｍとして４箇所以上選択する（ステ
ップ２０４）。

【００２６】位置合わせに適した特性とは、Ｘ方向、Ｙ
方向共に自己相関値ｆ（ｘｓ，ｙｓ）の極大値が一定値
以上を示し、かつ自己相関値ｆ（ｘｓ，ｙｓ）が急峻な
特性を示している場合である。本実施の形態では、Ｘ方
向、Ｙ方向共に、自己相関値ｆ（ｘｓ，ｙｓ）の極大値
が一定値ＴＨ以上を示し、かつこの極大値の他に一定値
ＴＨ以上の極大値が存在しない場合を自己相関値ｆ（ｘ
ｓ，ｙｓ）が位置合わせに適した特性を示していると見
なして、該当矩形領域Ｒｍを位置決め用矩形領域Ｆｍと
する（図６（ｃ））。そして、ホストコンピュータ６
は、位置決め用矩形領域Ｆｍの座標をメモリに格納す
る。

【００２７】このように、自己相関値ｆ（ｘｓ，ｙｓ）
が位置合わせに適した特性を示す矩形領域Ｒｍを位置決
め用矩形領域Ｆｍとすることにより、マスタパターン中
に位置合わせに好適な位置決め用矩形領域Ｆｍを設定す
ることができるので、位置合わせの精度を向上させるこ
とができる。

【００２８】なお、選択すべき位置決め用矩形領域Ｆｍ
がｎ（例えばｎ＝４）箇所と予め規定されていて、該当
矩形領域Ｒｍがｎ箇所以上存在する場合には、ｎ箇所の
位置決め用矩形領域Ｆｍを頂点とするｎ角形の面積が最
大となるように該当矩形領域Ｒｍ中から位置決め用矩形
領域Ｆｍを選択する。

【００２９】ホストコンピュータ６は、以上のようなス
テップ２０１〜２０４の処理を第１のマスタパターンＭ
中の各分割領域Ｅｍごとに行う（ステップ２０５）。こ
うして、位置決め用矩形領域Ｆｍの設定処理が終了す
る。

【００３０】次に、ホストコンピュータ６は、第１のマ
スタパターンから欠損、ピンホール又は断線検出用の第
２のマスタパターンと、突起、飛び散り又は短絡検出用
の第３のマスタパターンとを以下のように作成する（ス
テップ１０６）。図７は第２、第３のマスタパターンの
作成方法を説明するための図であり、第１のマスタパタ
ーンの一部を示している。なお、図７では、説明を簡単
にするために、パターンエッジを意味する直線のみで第
１のマスタパターンを表し、パターンエッジを意味する
直線とその内側を意味する斜線で第２、第３のマスタパ
ターンを表しているが、実際の第１〜第３のマスタパタ
ーンは、パターンエッジとその内側が画素「１」で塗り
つぶされたものである。

【００３１】まず、図７（ａ）に示すように、第１のマ
スタパターンをその中心線と直角の方向に収縮させて、
第２のマスタパターンＭ１を作成する。これは、第１の
マスタパターンの両エッジを示す対向する直線Ａ１とＡ
４（中心線はＬ１）の間隔、及びＡ２とＡ３（中心線は
Ｌ２）の間隔を狭くして第１のマスタパターンを細らせ
ることにより作成することができる。

【００３２】この第２のマスタパターンＭ１による欠陥
検出の精度は、第１のマスタパターンをどれだけ収縮さ
せるかによって決まる。例えば、第１のマスタパターン
の幅の１／５を超える欠損が存在するときに欠陥と認識
したい場合は、第２のマスタパターンＭ１の幅を第１の
マスタパターンの幅の３／５となるように縮小すればよ
い。検出精度は、画素単位や実際の寸法で決めてもよい
ことは言うまでもない。こうして、欠損、ピンホール又
は断線検出用の第２のマスタパターンＭ１が作成され
る。

【００３３】続いて、図７（ｂ）に示すように、第１の
マスタパターンをその中心線と直角の方向に膨張させ
て、第３のマスタパターンＭ２を作成する。これは、第
１のマスタパターンの両エッジを示す対向する直線Ａ５
とＡ８（中心線はＬ３）、Ａ６とＡ７（中心線はＬ
４）、Ａ９とＡ１２（中心線はＬ５）及びＡ１０とＡ１
１（中心線はＬ６）の間隔をそれぞれ広くして第１のマ
スタパターンを太らせることにより作成することができ
る。ただし、実際に第３のマスタパターンＭ２になるの
は、膨張処理した結果を論理反転した領域、すなわち直
線Ａ５〜Ａ８からなる第１のマスタパターンＭａと、直
線Ａ９〜Ａ１２からなる第１のマスタパターンＭｂとを
それぞれ膨張処理して生じた２つのパターンに挟まれた
領域である。

【００３４】この第３のマスタパターンＭ２による欠陥
検出の精度は、第１のマスタパターンをどれだけ膨張さ
せるかによって決まる。例えば、第１のマスタパターン
の幅の１／５を超える欠損が存在するときに欠陥と認識
したい場合は、第３のマスタパターンＭ２の幅を第１の
マスタパターンの幅の７／５となるように拡大すればよ
い。また、画素単位や実際の寸法で検出精度を決めても
よいことは第２のマスタパターンと同様である。こうし
て、突起、飛び散り又は短絡検出用の第３のマスタパタ
ーンＭ２が作成される。

【００３５】次に、被測定パターンの検査について説明
する。まず、グリーンシート１をカメラ３によって撮像
する。そして、第１の画像処理装置４は、カメラ３から
出力された濃淡画像をディジタル化して、図示しない内
部の画像メモリにいったん記憶する（ステップ１０
７）。カメラ３は、Ｘ方向に画素が配列されたラインセ
ンサなので、Ｘ−Ｙテーブル２あるいはカメラ３をＹ方
向に移動させることにより、２次元の画像データが画像
メモリに記憶される。

【００３６】続いて、画像処理装置４は、画像メモリに
記憶された被測定パターンの濃淡画像を２値化する（ス
テップ１０８）。被測定パターンの濃淡画像データに
は、銅箔パターンとそれ以外の背景（グリーンシート等
の基材）とが含まれているが、銅箔パターンと背景には
濃度差があるので、銅箔パターンの濃度値と背景の濃度
値の間の値をしきい値として設定すれば、銅箔パターン
は「１」に変換され、背景は「０」に変換される。こう
して、パターンエッジとその内側が画素「１」で塗りつ
ぶされた被測定パターンを得ることができる。

【００３７】次いで、画像処理装置４は、２値化処理し
た被測定パターン全体とマスタパターン全体の位置合わ
せを行う（ステップ１０９）。図８はこの位置合わせ方
法を説明するための図である。画像処理装置４には、前
述のように位置決めマークＴｍが設定された第１のマス
タパターンＭ（図８（ａ））と位置決めマークＴｍの位
置情報とがホストコンピュータ６より送られる。画像処
理装置４は、画像メモリに記憶した被測定パターンＰに
おいて、位置決めマークＴｍに対応する領域を探索する
ことで、図８（ｂ）のように位置決めマークＴｍに対応
する位置決めマークＴｐを検出する。

【００３８】そして、画像処理装置４は、被測定パター
ンＰとマスタパターンＭの各々について、Ｘ方向に並ん
だ２つの位置決めマーク間の距離ＤＸｐ、ＤＸｍを求め
る。なお、マーク間距離は、２つの位置決めマークの重
心間の距離である。続いて、画像処理装置４は、求めた
マーク間距離から拡大／縮小率（ＤＸｐ／ＤＸｍ）を算
出し、この拡大／縮小率によりマスタパターンのマーク
間距離が被測定パターンのマーク間距離と一致するよう
に、マスタパターンＭを全方向に拡大又は縮小する。

【００３９】次いで、画像処理装置４は、拡大／縮小補
正したマスタパターンＭ’と被測定パターンＰのそれぞ
れについて、Ｙ方向に並んだ２つの位置決めマーク間の
距離ＤＹｍ、ＤＹｐを図８（ｃ）、図８（ｄ）のように
求める。そして、被測定パターンのマーク間距離がマス
タパターンのマーク間距離と一致するように、ラインセ
ンサカメラ３とグリーンシート１（Ｘ−Ｙテーブル２）
の相対速度を調整して、シート１を再度撮像する。Ｙ方
向の画像分解能は、ラインセンサカメラ３の画素の大き
さと上記相対速度によって決定される。したがって、Ｘ
−Ｙテーブル２あるいはラインセンサカメラ３の移動速
度を変えることにより、Ｙ方向の画像分解能を調整し、
マーク間距離を一致させることができる。

【００４０】次に、画像処理装置４は、こうして撮像し
て得られた被測定パターンＰ’の位置決めマーク位置と
拡大／縮小補正したマスタパターンＭ’の位置決めマー
ク位置により、図８（ｅ）のようにパターンＰ’、Ｍ’
の角度ずれθを求め、この角度ずれがなくなるようにマ
スタパターンＭ’を回転させる。最後に、画像処理装置
５は、互いのマーク位置が一致するように、マスタパタ
ーンＭ’と被測定パターンＰ’の位置を合わせる。

【００４１】このように本実施の形態では、ラインセン
サカメラ３の画素数によって決定されるＸ方向の画像分
解能に対して、カメラ３の取り込み速度を変えてＹ方向
の画像分解能を調整することにより、縦（Ｙ）、横
（Ｘ）の比率を１：１にすることができる。したがっ
て、良品ではあっても規格に対して許容できる範囲内の
伸びが存在する被測定パターンをマスタパターンに一致
させることができ、形成時のパターン位置のばらつきに
対して自動的にパターンの位置補正を行うことができ
る。

【００４２】次に、画像処理装置４は、被測定パターン
とマスタパターンの分割領域ごとの位置合わせを行う
（ステップ１１０）。図９はこの分割領域ごとの位置合
わせ方法を示すフローチャート図、図１０はこの位置合
わせ方法を説明するための図である。ステップ１１０の
位置合わせ処理において、画像処理装置４は、図１０
（ａ）に示す第１のマスタパターンＭから１つの分割領
域Ｅｍを切り出すと共に、この分割領域Ｅｍに対応する
分割領域Ｅｐを図１０（ｂ）に示す被測定パターンＰか
ら切り出す（図９ステップ３０１）。

【００４３】続いて、画像処理装置４は、切り出した分
割領域Ｅｍ中の位置決め用矩形領域Ｆｍ（Ｆｍ１〜Ｆｍ
４）に対応する、分割領域Ｅｐ中の位置決め用矩形領域
Ｆｐを探索する（ステップ３０２）。図１１はこの探索
方法を示すフローチャート図である。

【００４４】まず、画像処理装置４は、図１０（ｄ）に
示すように、切り出した分割領域Ｅｐから位置決め用矩
形領域Ｆｍ（Ｆｍ１〜Ｆｍ４）と対応する位置にある、
領域Ｆｍと同一サイズの矩形領域Ｒｐ（Ｒｐ１〜Ｒｐ
４）を抽出する（図１１ステップ４０１）。

【００４５】次いで、画像処理装置４は、位置決め用矩
形領域Ｆｍ内の濃淡データとこれに対応する矩形領域Ｒ
ｐ内の濃淡データとの相関値ｇ（ｘｓ，ｙｓ）を次式に
よって算出する（ステップ４０２）。

【００４６】

【数２】

【００４７】式（２）において、ｔａｒｇｅｔ（ｘｓ＋
ｉ，ｙｓ＋ｊ）は矩形領域Ｒｐ内の被測定パターンＰの
濃淡データ、ｍａｓｔｅｒ（ｉ，ｊ）は位置決め用矩形
領域Ｆｍ内のマスタパターンＭの濃淡データ、ＢＳ，Ｂ
Ｅは相関値算出の際の位置ずれ範囲を指定する定数であ
る。

【００４８】このとき、画像処理装置４は、濃淡の変化
がない部分の影響を少なくするために、マスタパターン
Ｍのパターンエッジの近傍領域を相関値算出領域とし、
マスタパターンと被測定パターンの各々について相関値
算出領域内の濃淡データのみを用いて、相関値ｇ（ｘ
ｓ，ｙｓ）の算出を行う。

【００４９】この相関値算出領域を決定するためには、
図１０（ｅ）に示す位置決め用矩形領域Ｆｍ内のマスタ
パターンＭをその中心線と直角の方向に膨張させた画像
（図１０（ｆ））と、同マスタパターンＭをその中心線
と直角の方向に収縮させた画像（図１０（ｇ））とを作
成して、図１０（ｆ）の画像と図１０（ｇ）の画像を反
転させた画像との論理積をとり、この論理積の結果を相
関値算出領域Ｃｍとする（図１０（ｈ））。すなわち、
相関値算出領域Ｃｍは、位置決め用矩形領域Ｆｍ内のマ
スタパターンＭを膨張させたときのパターンエッジと同
マスタパターンＭを収縮させたときのパターンエッジと
の間の領域である。

【００５０】画像処理装置４は、図１０（ｅ）に示す位
置決め用矩形領域Ｆｍのうち相関値算出領域Ｃｍ内のマ
スタパターンＭの濃淡データと、前記位置決め用矩形領
域Ｆｍに対応する矩形領域Ｒｐ（図１０（ｉ））のうち
相関値算出領域Ｃｍに対応する領域内の被測定パターン
Ｐの濃淡データを用いて、相関値ｇ（ｘｓ，ｙｓ）を算
出する。

【００５１】次に、画像処理装置４は、相関値ｇ（ｘ
ｓ，ｙｓ）が極大値をとる位置（以下、ピーク位置と呼
ぶ）を画素以下の精度で算出する（ステップ４０３）。
図１２は相関値ｇ（ｘｓ，ｙｓ）のピーク位置の算出方
法を説明するための図である。図１２の例では、Ｘ座標
がｘｓｍの位置で相関値ｇ（ｘｓ，ｙｓ）が最大値をと
り、相関値ｇ（ｘｓｍ，ｙｓ），ｇ（ｘｓｍ−１，ｙ
ｓ），ｇ（ｘｓｍ＋１，ｙｓ）が２次式にのっているも
のとする。これにより、次式が成立する。

【００５２】

【数３】

【００５３】

【数４】

【００５４】

【数５】

【００５５】式（３）、式（４）、式（５）より、係数
ａ，ｂ，ｃは次式のように求めることができる。

【００５６】

【数６】

【００５７】

【数７】

【００５８】

【数８】

【００５９】一方、ａｘ² ＋ｂｘ＋ｃをｘで微分した傾
きが０になる点がピーク位置なので、次式が成立する。

【００６０】

【数９】

【００６１】式（６）〜式（９）より、ピーク位置のＸ
座標ｘは次式のように求めることができる。

【００６２】

【数１０】

【００６３】なお、図１２、式（３）〜式（１０）にお
いてｙｓは任意の値をとるものとする。こうして、式
（１０）により、ピーク位置のＸ座標ｘを画素以下の精
度で求めることができる。また、同様の方法により、ピ
ーク位置のＹ座標ｙを画素以下の精度で求めることがで
きる。

【００６４】次に、画像処理装置４は、位置決め用矩形
領域ＦｍのＸ座標とピーク位置のＸ座標ｘとのずれ量の
絶対値、同矩形領域ＦｍのＹ座標とピーク位置のＹ座標
ｙとのずれ量の絶対値が所定画素数以上であるか否かを
判定する（ステップ４０４）。さらに、画像処理装置４
は、相関値ｇ（ｘｓ，ｙｓ）の極大値（ピーク位置ｘに
おける相関値とピーク位置ｙにおける相関値）が所定値
（例えば０．５）以下であるか否かを判定する（ステッ
プ４０５）。

【００６５】画像処理装置４は、Ｘ方向のずれ量の絶対
値若しくはＹ方向のずれ量の絶対値の少なくとも一方が
所定画素数以上である場合、あるいは相関値ｇ（ｘｓ，
ｙｓ）の極大値が所定値以下である場合、該当位置決め
用矩形領域Ｆｍを位置合わせに不適切であると判断し
て、位置決め用矩形領域としての設定を解除する（ステ
ップ４０６）。

【００６６】位置合わせに不適切であると判断して位置
決め用矩形領域Ｆｍを削除する理由は、ずれ量の絶対値
が所定画素数以上の場合、位置決め用矩形領域Ｆｍに対
応していない別の位置を探索している可能性が高く、相
関値ｇ（ｘｓ，ｙｓ）の極大値が所定値以下の場合、位
置決め用矩形領域Ｆｍとの相関性が不十分なためであ
る。

【００６７】本発明では、ステップ１０５の処理におい
て自己相関値ｆ（ｘｓ，ｙｓ）が位置合わせに適した特
性を示す矩形領域Ｒｍを位置決め用矩形領域Ｆｍとする
ことにより、マスタパターン中に位置合わせに好適な位
置決め用矩形領域Ｆｍを設定しているので、ステップ４
０５において相関性が不十分となる割合を減らすことが
でき、位置合わせを効率良く行うことができる。

【００６８】なお、ステップ４０６の処理により、位置
決め用矩形領域Ｆｍが２箇所となった場合、後述のよう
に座標変換式を求めることができなくなるので、この場
合にはグリーンシート１が不良であると判断する。

【００６９】一方、画像処理装置４は、Ｘ，Ｙ方向のず
れ量の絶対値が所定画素数より小さく、かつ相関値ｇ
（ｘｓ，ｙｓ）の極大値が所定値より大きい場合、位置
決め用矩形領域Ｆｍに対応する、分割領域Ｅｐ中の位置
決め用矩形領域Ｆｐの中心座標を算出する（ステップ４
０７）。すなわち、画像処理装置４は、算出したピーク
位置のＸ座標ｘを位置決め用矩形領域ＦｐのＸ座標と
し、ピーク位置のＹ座標ｙを同矩形領域ＦｐのＹ座標と
する。

【００７０】以上のようなステップ３０２（ステップ４
０１〜４０７）の処理が分割領域Ｅｍに設定された全て
の位置決め用矩形領域Ｆｍ（Ｆｍ１〜Ｆｍ４）に対して
行われる（ステップ４０８）。こうして、図１０（ｃ）
に示すマスタパターンＭの分割領域Ｅｍにおいて予め設
定された位置決め用矩形領域Ｆｍ（Ｆｍ１〜Ｆｍ４）に
対して、これらに対応する位置決め用矩形領域Ｆｐ（Ｆ
ｐ１〜Ｆｐ４）を被測定パターンＰの対応分割領域Ｅｐ
において図１０（ｊ）のように求めることができる。

【００７１】次に、画像処理装置４は、位置決め用矩形
領域Ｆｍ１〜Ｆｍ４の座標とこれに対応する位置決め用
矩形領域Ｆｐ１〜Ｆｐ４の座標により、被測定パターン
とマスタパターンの間の次式のような座標変換式を最小
２乗法によって求める（図９ステップ３０３）。 Ｘｍ＝αＸｐ＋βＹｐ＋γ Ｙｍ＝δＸｐ＋εＹｐ＋ζ ・・・（１１）

【００７２】式（１１）において、Ｘｍ，Ｙｍはマスタ
パターンのＸ，Ｙ座標、Ｘｐ，Ｙｐは被測定パターンの
Ｘ，Ｙ座標、α，β，γ，δ，ε，ζは定数である。次
に、画像処理装置４は、位置決め用矩形領域Ｆｐ１〜Ｆ
ｐ４のうちの任意の矩形領域、例えば領域Ｆｐ１の座標
をＸｐ，Ｙｐとして式（１１）の座標変換式に代入し、
座標Ｘｍ，Ｙｍを算出する。そして、座標変換式に代入
した位置決め用矩形領域Ｆｐ１に対応する位置決め用矩
形領域Ｆｍ１の座標と算出した座標Ｘｍ，Ｙｍとの偏差
をＸ，Ｙ座標ごとに求める。このような偏差の計算を位
置決め用矩形領域毎に行う（ステップ３０４）。

【００７３】続いて、画像処理装置４は、算出した各偏
差が所定のしきい値より大きいか否かを判定し（ステッ
プ３０５）、全ての偏差が所定のしきい値以下の場合、
被測定パターンの分割領域Ｅｐの歪みが許容範囲内で、
かつ導出した座標変換式が適正であると判断し、この座
標変換式を用いて分割領域Ｅｍ内のマスタパターンの座
標変換を行う（ステップ３０６）。

【００７４】また、画像処理装置４は、全ての偏差が所
定のしきい値より大きい場合、被測定パターンの分割領
域Ｅｐの歪みが許容範囲外であり、検査対象のグリーン
シート１が不良であると判断する（ステップ３０７）。
一方、画像処理装置４は、しきい値以下の偏差としきい
値より大きい偏差が混在する場合、偏差がしきい値より
大となる位置決め用矩形領域、例えば領域Ｆｐ４とこれ
に対応する位置決め用矩形領域Ｆｍ４を除外した上で
（ステップ３０８）、残りの位置決め用矩形領域Ｆｍ１
〜Ｆｍ３，Ｆｐ１〜Ｆｐ３の座標により、式（１１）の
座標変換式を再び求める（ステップ３０３）。

【００７５】以上のようなステップ３０３〜３０５，３
０７，３０８の処理を各偏差が所定のしきい値以下とな
るまで繰り返す。こうして、式（１１）の座標変換式を
決定し、ステップ３０６のマスタパターンの変換を行う
ことができる。式（１１）のような座標変換式を用いる
ことは、いわゆるアフィン変換（affine transformatio
n ）を行うことを意味し、これにより分割領域Ｅｍと分
割領域Ｅｐの位置ずれを補正することができる。

【００７６】本実施の形態では、座標変換式に被測定パ
ターンの位置決め用矩形領域Ｆｐの座標を入力した結果
とマスタパターンの対応位置決め用矩形領域Ｆｍの座標
との偏差を求め、この偏差が所定のしきい値より大きい
位置決め用矩形領域Ｆｐ，Ｆｍを被測定パターンとマス
タパターンの双方から除外して座標変換式を再び求める
ことを全ての偏差が所定のしきい値以下となるまで繰り
返して、座標変換式を決定することにより、座標変換式
の精度を上げることができ、高精度な位置あわせを行う
ことができる。

【００７７】なお、第２、第３のマスタパターンは第１
のマスタパターンから作成されたものなので、第１〜第
３のマスタパターンと被測定パターンとの位置合わせは
第１のマスタパターンを用いて１回行えばよい。

【００７８】また、式（１１）の座標変換式を求めるに
は、マスタパターン及び被測定パターン共に最低３箇所
ずつの位置決め用矩形領域の座標が必要である。しか
し、３箇所ずつでは座標変換式の精度が悪くなるため、
最低４箇所ずつの位置決め用矩形領域を指定して、偏差
がしきい値より大となる位置決め用矩形領域を座標変換
式の導出から除外するようにしている。したがって、マ
スタパターン及び被測定パターン共に位置決め用矩形領
域が３箇所ずつとなっても、各偏差がしきい値以下とな
らない場合には、位置決め用矩形領域を２箇所ずつにし
て座標変換式を求めることはできないので、この場合も
検査対象のグリーンシート１が不良であると判断する。

【００７９】ステップ１１０の位置合わせ処理が終了し
た後、画像処理装置４は、被測定パターンの分割領域と
これに対応する第２、第３のマスタパターンの各分割領
域とを比較して、被測定パターンの一次検査を行う（ス
テップ１１１，１１２）。ステップ１１１，１１２の検
査は、画像処理装置４のハードウェアによって同時に実
施される。

【００８０】まず、第２のマスタパターンＭ１との比較
による検査（ステップ１１１）について説明する。図１
３はこの検査方法を説明するための図である。なお、図
１３の例では、梨地で示すパターンＮＰを除いた部分が
被測定パターンＰである。画像処理装置４は、図１３に
示すように、被測定パターンＰの分割領域Ｅｐと第２の
マスタパターンＭ１の上記座標変換式によって位置補正
がなされた対応分割領域Ｅｍとを比較する。ただし、実
際に比較するのは、被測定パターンＰを論理反転したパ
ターンＮＰと第２のマスタパターンＭ１である。

【００８１】パターンＮＰと第２のマスタパターンＭ１
との論理積をとると、この論理積の結果は、被測定パタ
ーンＰに欠損や断線があるか否かによって異なる。例え
ば、被測定パターンＰがその値として「１」を有し、同
様にマスタパターンＭ１が「１」を有するとき、被測定
パターンＰに欠損や断線がない場合は、パターンＮＰと
マスタパターンＭ１が重なることがないので、この論理
積の結果は「０」となる。

【００８２】これに対して、図１３のように被測定パタ
ーンＰに欠損Ｃがあると、この部分でパターンＮＰとマ
スタパターンＭ１が重なるので、論理積の結果が「１」
となる。これは、被測定パターンにピンホールＨや断線
がある場合も同様である。こうして、被測定パターンの
欠損、ピンホールあるいは断線を検出することができ
る。そして、画像処理装置４は、論理積の結果が「１」
となって欠陥候補と認識した位置（図１３では、Ｃ，Ｈ
の位置）を記憶する。

【００８３】次に、第３のマスタパターンＭ２との比較
による検査（ステップ１１２）について説明する。図１
４はこの検査方法を説明するための図である。画像処理
装置４は、図１４に示すように、被測定パターンＰの分
割領域Ｅｐと第３のマスタパターンＭ２の上記座標変換
式によって位置補正がなされた対応分割領域Ｅｍとを比
較する。上記と同様に、被測定パターンＰａ、Ｐｂと第
３のマスタパターンＭ２の論理積をとると、この論理積
の結果は、被測定パターンＰａ、Ｐｂに突起や短絡があ
るか否かによって異なる。つまり、被測定パターンＰ
ａ、Ｐｂに突起や短絡がない場合は、論理積の結果は
「０」となる。

【００８４】これに対し、図１４のように被測定パター
ンＰａに突起Ｋがあると、この部分で被測定パターンＰ
ａとマスタパターンＭ２が重なるので、論理積の結果が
「１」となる。同様に、被測定パターンＰａ、Ｐｂ間に
短絡Ｓが存在すると、論理積の結果が「１」となる。こ
れは、被測定パターンに飛び散りが存在する場合も同様
である。こうして、被測定パターンの突起、飛び散りあ
るいは短絡を検出することができる。そして、画像処理
装置４は、論理積の結果が「１」となって欠陥候補と認
識した位置（図１４では、Ｋ，Ｓの位置）を記憶する。

【００８５】以上のような一次検査を行った後、画像処
理装置４は、記憶した欠陥候補の位置をアドレス情報と
して出力する。第２の画像処理装置５は、第１の画像処
理装置４によって欠陥候補が検出された場合（ステップ
１１３においてＹＥＳ）、上記アドレス情報が示す位置
の欠陥候補を中心とする、分割領域より小さい所定の大
きさの領域について、被測定パターンと第１のマスタパ
ターンとを比較して誤差を求めることにより、被測定パ
ターンの二次検査を行う（ステップ１１４）。この検査
の方法は、前述した図１５〜図１８の従来の方法と同様
である。

【００８６】以上のようなステップ１１０〜１１４の処
理を未検査の分割領域がなくなるまで（ステップ１１
５）、分割領域ごとに行う。なお、位置決め用矩形領域
Ｆｍは、マスタパターンの全ての分割領域に設定しなく
てもよい。例えば、位置決めマークＴｍに近い周辺部で
は、マスタパターンと被測定パターンの位置ずれが小さ
いので、分割領域ごとの位置合わせを省略してもよい。
すなわち、画像処理装置４は、位置決め用矩形領域Ｆｍ
が設定されていないマスタパターンの分割領域Ｅｍに対
応する、被測定パターンの分割領域Ｅｐについては分割
領域ごとの位置合わせを省略する。

【００８７】第２，第３のマスタパターンの各々と被測
定パターンとの比較検査は、ハードウェアで実現でき、
検出した欠陥候補を含む所定の領域だけ、処理時間のか
かる被測定パターンと第１のマスタパターンの比較によ
って検査するので、被測定パターンを従来よりも高速に
検査することができる。

【００８８】また、検査ワークに局所的な歪みが存在す
る場合、従来のパターン検査方法では、局所的なマスタ
パターンとのずれが発生し、このずれが欠陥候補として
検出されるため、検査ワークの局所的な歪みが許容範囲
内であったとしても、二次検査を実施することになり、
検査時間が低下してしまう。特に、テープキャリアは、
ポリイミド製の薄いフィルムであり、可撓性を有してい
る。このため、検査ワークがテープキャリアである場
合、カメラで撮像するテープキャリアには、局所的な歪
みが存在し、この歪みは、被測定パターンのマスタパタ
ーンとの位置ずれの原因となる。

【００８９】また、テープキャリア上に形成されたパタ
ーンの中央付近には、位置決めマークとなり得るような
独立したパターンが存在しない。したがって、従来はテ
ープキャリアの周辺部に配設された独立したパターンを
位置決めマークとしている。しかし、このような位置合
わせ方法では、周辺部以外で発生している、テープキャ
リアの局所的な歪みに起因する位置ずれを補正すること
ができない。このため、この被測定パターンのマスタパ
ターンとの位置ずれは、前述の検査において欠陥として
検出されることになる。

【００９０】これに対して本実施の形態では、検査ワー
クの局所的な歪みが許容範囲内（つまり、前記偏差がし
きい値以下）であれば、座標変換式による分割領域ごと
の位置合わせによって検査ワークの局所的な歪みを吸収
するので、この歪みが欠陥候補として検出されることが
なくなる。

【００９１】なお、図１０（ａ）、図１０（ｂ）では各
分割領域の重なりが存在しないが、実際の各分割領域は
左右上下が他の分割領域と重なるように設定される。こ
れにより、各分割領域の境界の部分の歪みが許容範囲内
か否かを隣り合う複数の分割領域の偏差によって判断す
ることができ、各分割領域のつながり具合を検査するこ
とができる。

【００９２】また、本実施の形態では、１つの分割領域
の検査が終了した後に、次の分割領域の検査を行ってい
るが、複数の分割領域を並行して検査すれば、更に高速
な検査ができることは言うまでもない。さらに、本実施
の形態では、位置決め用矩形領域Ｆｍ，Ｆｐを分割領域
毎の位置合わせに使用しているが、全体の位置合わせに
使用してもよい。

【００９３】

【発明の効果】本発明によれば、マスタパターン中に位
置決め用領域を設定して、この位置決め用領域中に存在
するパターンエッジの近傍領域のみを相関値算出領域と
し、位置決め用領域に対応する位置の領域を被測定パタ
ーンから抽出して、この被測定パターンの領域とマスタ
パターンの位置決め用領域との相関値を算出する際に、
マスタパターンと被測定パターンの各々について相関値
算出領域のみを用いて相関値算出を行い、最も相関値が
高いピーク位置を被測定パターンの位置決め用領域と見
なして、マスタパターンと被測定パターンの互いの位置
決め用領域の位置を合わせることにより、マスタパター
ンと被測定パターンの位置合わせを行うことができる。
その結果、他のパターンから独立した位置決めマークあ
るいは位置決めマークの代わりとなり得るようなランド
や角が存在しないパターンであっても、位置合わせを行
うことができる。また、位置決め用領域中に存在するパ
ターンエッジの近傍領域のみを相関値算出領域とするこ
とにより、濃淡の変化がない部分の影響を少なくするこ
とができるので、位置合わせの精度を向上させることが
できる。さらに、本発明を局所的な位置合わせに使用す
れば、局所的な歪みが発生しやすく、かつ位置決めマー
クとなり得るような独立したパターンが存在しないテー
プキャリア等の検査ワークであっても、局所的な位置合
わせをして、検査ワークの局所的な歪みを吸収し、マス
タパターンの分割領域と被測定パターンの分割領域の微
妙な位置ずれを補正することができるので、正常な検査
を行うことができる。また、検査ワークの局所的な歪み
が許容範囲内であれば、この歪みが欠陥候補として検出
されることがなくなり、歪みに起因する二次検査が実施
されることがなくなるので、検査時間を短縮することが
できる。

【００９４】また、マスタパターンを所定の大きさの複
数の矩形領域に分割し、各矩形領域の自己相関値を算出
して、この自己相関値が位置合わせに適した特性を示す
矩形領域を位置決め用領域とすることにより、マスタパ
ターン中に位置合わせに好適な位置決め用領域を設定す
ることができるので、位置合わせの精度を向上させるこ
とができる。さらに、マスタパターンの位置決め用領域
の設定後、被測定パターンの位置決め用領域を探索する
処理において、位置合わせに不適当な位置決め用領域の
設定を解除すれば、位置合わせの精度を向上させること
ができる。本発明では、マスタパターン中に位置合わせ
に好適な位置決め用領域を設定することができるので、
位置合わせを効率良く行うことができる。

【００９５】また、マスタパターンと被測定パターンの
各々の位置決め用領域の座標より被測定パターンとマス
タパターンの間の座標変換式を決定し、この座標変換式
を用いてマスタパターンを変換することにより、マスタ
パターンと被測定パターンとの位置合わせを実現するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１の実施の形態を示す位置合わせ
方法を用いるパターン検査方法のフローチャート図であ
る。

【図２】 パターン検査装置のブロック図である。

【図３】 第１のマスタパターン及び位置決めマークを
示す図である。

【図４】 第１のマスタパターンの分割領域を示す図で
ある。

【図５】 マスタパターンの位置決め用矩形領域の設定
方法を示すフローチャート図である。

【図６】 マスタパターンの位置決め用矩形領域の設定
方法を説明するための図である。

【図７】 第２、第３のマスタパターンの作成方法を説
明するための図である。

【図８】 被測定パターンとマスタパターンの全体の位
置合わせ方法を説明するための図である。

【図９】 被測定パターンとマスタパターンの分割領域
ごとの位置合わせ方法を示すフローチャート図である。

【図１０】 被測定パターンとマスタパターンの分割領
域ごとの位置合わせ方法を説明するための図である。

【図１１】 被測定パターンの位置決め用矩形領域の探
索方法を示すフローチャート図である。

【図１２】 相関値のピーク位置の算出方法を説明する
ための図である。

【図１３】 第２のマスタパターンとの比較による検査
方法を説明するための図である。

【図１４】 第３のマスタパターンとの比較による検査
方法を説明するための図である。

【図１５】 断線を検出する従来の検査方法を説明する
ための図である。

【図１６】 断線を検出する従来の検査方法を説明する
ための図である。

【図１７】 短絡を検出する従来の検査方法を説明する
ための図である。

【図１８】 欠損あるいは突起を検出する従来の検査方
法を説明するための図である。

【符号の説明】

１…グリーンシート、２…Ｘ−Ｙテーブル、３…ライン
センサカメラ、４…第１の画像処理装置、５…第２の画
像処理装置、６…ホストコンピュータ、７…表示装置。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 服部 新一 東京都港区西新橋三丁目20番１号 日本ア ビオニクス株式会社内 Ｆターム(参考） 5B057 AA03 BA24 CA12 CA16 CB12 CB16 CF01 CF02 DA07 DB02 DC16 DC34 5F044 MM03 5L096 BA03 CA02 EA02 EA35 FA06 FA34 JA03 JA09

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基準となるマスタパターンの画像とカメ
   ラで撮像した被測定パターンの画像とを比較することに
   より被測定パターンを検査するパターン検査方法におい
   て、 マスタパターン中に位置決め用領域を設定して、この位
   置決め用領域中に存在するパターンエッジの近傍領域の
   みを相関値算出領域とし、 前記位置決め用領域に対応する位置の領域を被測定パタ
   ーンから抽出して、この被測定パターンの領域と前記マ
   スタパターンの位置決め用領域との相関値を算出する際
   に、前記マスタパターンと被測定パターンの各々につい
   て前記相関値算出領域のみを用いて相関値算出を行い、 最も相関値が高いピーク位置を被測定パターンの位置決
   め用領域と見なして、前記マスタパターンと被測定パタ
   ーンの互いの位置決め用領域の位置を合わせることによ
   り、前記マスタパターンと被測定パターンの位置合わせ
   を行うことを特徴とするパターンの位置合わせ方法。
2. 【請求項２】 請求項１記載のパターンの位置合わせ方
   法において、 前記相関値算出領域は、前記位置決め用領域内のマスタ
   パターンを膨張処理したときのパターンエッジと前記位
   置決め用領域内のマスタパターンを収縮処理したときの
   パターンエッジとの間の領域であることを特徴とするパ
   ターンの位置合わせ方法。
3. 【請求項３】 請求項１記載のパターンの位置合わせ方
   法において、 前記マスタパターンを所定の大きさの複数の矩形領域に
   分割し、各矩形領域の自己相関値を算出して、この自己
   相関値が位置合わせに適した特性を示す矩形領域を前記
   位置決め用領域とすることを特徴とするパターンの位置
   合わせ方法。
4. 【請求項４】 請求項３記載のパターンの位置合わせ方
   法において、 前記自己相関値の極大値が一定値以上を示し、かつこの
   極大値の他に一定値以上の極大値が存在しない場合、前
   記自己相関値が位置合わせに適した特性を示していると
   見なすことを特徴とするパターンの位置合わせ方法。
5. 【請求項５】 請求項１記載のパターンの位置合わせ方
   法において、 前記マスタパターンと被測定パターンの各々の位置決め
   用領域の座標より被測定パターンとマスタパターンの間
   の座標変換式を決定し、この座標変換式を用いて前記マ
   スタパターンを変換することにより、前記マスタパター
   ンと被測定パターンの位置合わせを行うことを特徴とす
   るパターンの位置合わせ方法。