JP4079731B2 - 光散乱反射板及びその作製方法、並びに反射型液晶表示装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光散乱反射板や、照明器具、液晶表示装置等の表示装置などに関する技術分野に属し、レーザー微細加工技術による光散乱反射板およびその作製方法並びに反射型液晶表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来技術】
従来、照明器具や、液晶表示板等の表示板などの各種光利用装置では、入射光の反射を分散させる光散乱反射性が要求される。光散乱反射性を得るための方法としては、従来、各種光利用装置の反射板の表面を粗面化する方法、屈折率の高い微粒子を光散乱反射剤として分散させて反射板の表面に塗布する方法などが用いられている（特許文献１〜特許文献２参照）。しかしながら、反射板の表面を粗面化する方法では、粗面化の方向性が反射板に指向性をもたらし、反射分散の均一性が失われている。また、光散乱反射剤を反射板の表面に塗布する方法では、輝度が小さく、視認性が低下する問題等が生じていた。さらに、これらの方法では、削る、微粒子を用いるという側面から、ゴミ発生という環境面での負の要素を含んでいる。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１０−２０３０５号公報
【特許文献２】
特開２０００−２９８２０４号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、優れた光散乱反射性及び輝度特性を有しているとともに、容易に製造することができる光散乱反射板及びその作製方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、視認性が良好な反射型液晶表示装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、プラスチック内部に１０-12秒以下のパルスの超短パルスレーザーを照射すると、プラスチックの表面に、微小な隆起部が形成され、さらにこの隆起部側の表面に光沢性材料層を形成すると、優れた光散乱反射性を発揮する光散乱反射面を有する光散乱反射板が得られることを見出した。本発明はこれらの知見に基づいて完成されたものである。
【０００６】
すなわち、本発明は、厚みが５μｍ〜１０ｍｍであり、光散乱反射面を有する光散乱反射板であって、下記の光散乱反射面Ａ又は光散乱反射面Ｂを有することを特徴とする光散乱反射板を提供する。
光散乱反射面Ａ：プラスチック内部へのレーザーの照射によりプラスチック表面に形成された、該プラスチック内部からの隆起による、底面の直径０．３〜１００μｍ、高さ０．１〜５０μｍであり、円錐状、釣り鐘状、カルデラ状、テラス状ないしは半球状の微小隆起物側の表面に、厚みが１０〜２０００ｎｍであるとともに金属材料からなる光沢性材料層が形成されてなる光散乱反射面
光散乱反射面Ｂ：プラスチック内部へのレーザーの照射によりプラスチック表面に該プラスチック内部から隆起して形成された微小隆起物を有する構造体を金型の原型として金型材料の被覆により作製された金型に、成形材料を充填し、この充填物を金型から離型して形成された、微小隆起構造の転写による、底面の直径０．３〜１００μｍ、高さ０．１〜５０μｍであり、円錐状、釣り鐘状、カルデラ状、テラス状ないしは半球状の微小隆起物側の表面に、厚みが１０〜２０００ｎｍであるとともに金属材料からなる光沢性材料層が形成されてなる光散乱反射面
【０００７】
レーザーとしては、パルス幅が１０-12秒以下の超短パルスのレーザーを好適に用いることができる。
【０００８】
レーザー照射前の状態のプラスチックとしては、１００℃以上のガラス転移温度を有するプラスチックが好ましく、また、ポリマー材料と他の材料との複合体を好適に用いることができる。
【０００９】
本発明は、また、前記厚みが５μｍ〜１０ｍｍである光散乱反射板を作製する方法であって、下記の工程Ａ又は工程Ｂを具備することを特徴とする光散乱反射板の作製方法を提供する。
工程Ａ：プラスチック内部にレーザーを照射して、プラスチック表面に該プラスチック内部からの隆起による、底面の直径０．３〜１００μｍ、高さ０．１〜５０μｍであり、円錐状、釣り鐘状、カルデラ状、テラス状ないしは半球状の微小隆起物を形成し、さらに前記微小隆起物側の表面に、厚みが１０〜２０００ｎｍであるとともに金属材料からなる光沢性材料を付着させることにより、光散乱反射面を形成する工程
工程Ｂ：プラスチック内部にレーザーを照射して、プラスチック表面に該プラスチック内部から隆起して形成された微小隆起物を有する構造体を形成し、該微小隆起物を有する構造体を金型の原型として金型材料の被覆により金型を作製し、さらに該金型に成形材料を充填し、この充填物を金型から離型して、成形体表面に微小隆起構造の転写による、底面の直径０．３〜１００μｍ、高さ０．１〜５０μｍであり、円錐状、釣り鐘状、カルデラ状、テラス状ないしは半球状の微小隆起物を形成し、さらに前記微小隆起物側の表面に、厚みが１０〜２０００ｎｍであるとともに金属材料からなる光沢性材料を付着させることにより、光散乱反射面を形成する工程
【００１０】
前記光散乱反射板の作製方法では、プラスチック内部に外部よりパルス幅１０-12秒以下の超短パルスのレーザーを、該超短パルスのレーザーの照射方向に対して垂直な方向に且つプラスチック表面に対して平行な方向に、超短パルスのレーザーの焦点をライン状に移動させながら照射することができ、また、超短パルスのレーザーを、プラスチック表面から５〜１５０μｍの深さに焦点を合わせて照射することができる。工程Ｂで用いられる金型材料としては金属材料を、成形材料としてはプラスチック材料を好適に用いることができる。
【００１１】
本発明は、さらにまた、電気的ON／OFFにより光透過制御可能な液晶パネルと、厚みが５μｍ〜１０ｍｍである光散乱反射板とが組み合わせられている反射型液晶表示装置において、前記光散乱反射板が、光散乱反射面として、下記の光散乱反射面Ａ又は光散乱反射面Ｂを有することを特徴とする反射型液晶表示装置を提供する。
光散乱反射面Ａ：プラスチック内部へのレーザーの照射によりプラスチック表面に形成された、該プラスチック内部からの隆起による、底面の直径０．３〜１００μｍ、高さ０．１〜５０μｍであり、円錐状、釣り鐘状、カルデラ状、テラス状ないしは半球状の微小隆起物側の表面に、厚みが１０〜２０００ｎｍであるとともに金属材料からなる光沢性材料層が形成されてなる光散乱反射面
光散乱反射面Ｂ：プラスチック内部へのレーザーの照射によりプラスチック表面に該プラスチック内部から隆起して形成された微小隆起物を有する構造体を金型の原型として金型材料の被覆により作製された金型に、成形材料を充填し、この充填物を金型から離型して形成された、微小隆起構造の転写による、底面の直径０．３〜１００μｍ、高さ０．１〜５０μｍであり、円錐状、釣り鐘状、カルデラ状、テラス状ないしは半球状の微小隆起物側の表面に、厚みが１０〜２０００ｎｍであるとともに金属材料からなる光沢性材料層が形成されてなる光散乱反射面
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、必要に応じて図面を参照しつつ説明する。
［光散乱反射板］
本発明の光散乱反射板は、光散乱反射面として、前記光散乱反射面Ａ又は光散乱反射Ｂを有している。前記光散乱反射面の形成に際して、プラスチックへのレーザー照射を利用しているので、光散乱反射面は微小な隆起構造を有しており、そのため、優れた光散乱反射性を発揮させることができる。また、輝度特性も優れている。従って、本発明の光散乱反射板を用いると、視認性が良好な反射型液晶表示装置を得ることができる。
【００１３】
しかも、表面に微小隆起構造からなる光散乱反射面を有していても、研削や微粒子の塗布等の物理的に表面を凹凸状にする処理を行っていないので、製造時のゴミの発生が少なく、優れた環境性で製造することが可能である。
【００１４】
具体的には、光散乱反射面Ａや光散乱反射面Ｂは、光散乱反射板の表面に形成された微小な隆起物および光沢性材料による面であり、例えば、図１で示すことができる。図１は、光散乱反射板の例を模式的に示す概略鳥瞰図である。図１において、（ａ）の光散乱反射板１１は、その表面に、円錐状の隆起物の面上（隆起物側の表面）に形成された光沢性材料層１１ａからなる光散乱反射面２１を有しており、（ｂ）の光散乱反射板１２は、その表面に、釣り鐘状の隆起物の面上（隆起物側の表面）に形成された光沢性材料層１２ａからなる光散乱反射面２２を有しており、（ｃ）の光散乱反射板１３は、その表面に、カルデラ状の隆起物の面上（隆起物側の表面）に形成された光沢性材料層１３ａからなる光散乱反射面２３を有しており、（ｄ）の光散乱反射板１４は、その表面に、テラス状の隆起物の面上（隆起物側の表面）に形成された光沢性材料層１４ａからなる光散乱反射面２４を有しており、（ｅ）の光散乱反射板１５は、その表面に、半球状の隆起物の面上（隆起物側の表面）に形成された光沢性材料層１５ａからなる光散乱反射面２５を有している。図１（ａ）〜（ｅ）では、各種形状の隆起物は、プラスチック（１１ｂ，１２ｂ，１３ｂ，１４ｂ，１５ｂ）の表面に該プラスチックの内部から隆起して形成されたものである。また、隆起物は、該隆起物の直径と同じかそれ以上の間隔を置いて複数個形成されている。このような隆起物の底面の直径は０．３〜１００μｍ（好ましくは１〜５０μｍ）程度であり、高さは０．１〜５０μｍ（好ましくは０．５〜２０μｍ）程度である。
【００１５】
より具体的には、円錐状や釣り鐘状の隆起物としては、その底面の直径は０．３〜５０μｍ（好ましくは１〜２０μｍ）程度の範囲から選択し、その高さは０．１〜３０μｍ（好ましくは０．５〜１５μｍ）程度の範囲から選択することが望ましい。カルデラ状の隆起物としては、その底面の直径は０．３〜５０μｍ（好ましくは１〜２０μｍ）程度の範囲から選択し、その高さは０．１〜３０μｍ（好ましくは１〜２０μｍ）程度の範囲から選択することが望ましい。テラス状の隆起物としては、その底面の直径は０．３〜５０μｍ（好ましくは１〜２０μｍ）程度の範囲から選択し、その高さは０．１〜１５μｍ（好ましくは１〜１０μｍ）程度の範囲から選択することが望ましい。半球状の隆起物としては、その底面の直径は０．３〜５０μｍ（好ましくは１〜２０μｍ）程度の範囲から選択し、その高さは０．１〜３０μｍ（好ましくは１〜２０μｍ）程度の範囲から選択することが望ましい。
【００１６】
また、隆起物の間隔（底面の円の中心間距離）は、特に制限されないが、好ましくは底面の直径と同じかそれ以上（例えば、直径〜直径の１０倍程度、好ましくは、直径〜直径の５倍程度）である。
【００１７】
なお、カルデラ状の隆起物とは、凸部の頂部が陥没している形状の隆起物を意味している。また、テラス状の隆起物とは、凸部の頂部が平面状になっている形状の隆起物を意味している。
【００１８】
１つの光散乱反射板において、隆起物は複数個形成されており、該複数の隆起物側の表面上に光沢性材料層が形成されることにより良好な光散乱反射性が発揮されている。なお、隆起物の数は、特に制限されず、目的とする光散乱反射性等に応じて適宜選択することができる。
【００１９】
このような光散乱反射板は、プラスチック内部にレーザーを照射することにより、プラスチック表面に微小な隆起物を形成し、該隆起物を利用するとともに、光沢性材料層を形成することにより、光散乱反射面Ａや光散乱反射面Ｂを有する光散乱反射板を作製することができる。より具体的には、光散乱反射面Ａを有する光散乱反射板は、下記の工程Ａを具備する方法により作製することができ、光散乱反射面Ｂを有する光散乱反射板は、下記の工程Ｂを具備する方法により作製することができる。
工程Ａ：プラスチック内部にレーザーを照射して、プラスチック表面に該プラスチック内部からの隆起による微小隆起物を形成し、さらに前記微小隆起物側の表面に光沢性材料を付着させることにより、光散乱反射面を形成する工程
工程Ｂ：プラスチック内部にレーザーを照射して、プラスチック表面に該プラスチック内部から隆起して形成された微小隆起物を有する構造体を形成し、該微小隆起物を有する構造体を金型の原型として金型材料の被覆により金型を作製し、さらに該金型に成形材料を充填し、この充填物を金型から離型して、成形体表面に微小隆起構造の転写による微小隆起物を形成し、さらに前記微小隆起物側の表面に光沢性材料を付着させることにより、光散乱反射面を形成する工程
【００２０】
より具体的には、工程Ａには、下記の工程Ａ１〜Ａ２が含まれる。
工程Ａ１：プラスチック内部にレーザーを照射することにより、プラスチック表面に該プラスチック内部から隆起した微小の隆起物を形成する工程
工程Ａ２：工程Ａ１で形成された微小隆起物の面上（微小隆起物側の表面）に、光沢性材料を付着する工程
【００２１】
一方、工程Ｂには、下記の工程Ｂ１〜Ｂ６が含まれる。
工程Ｂ１：プラスチック内部にレーザーを照射することにより、プラスチック表面に該プラスチック内部から隆起した微小の隆起物を形成して金型の原型を形成する工程
工程Ｂ２：工程Ｂ１で形成された金型の原型の表面上に金型材料を被覆する工程
工程Ｂ３：工程Ｂ２で形成された金型材料被覆層を金型の原型から金型として分離する工程
工程Ｂ４：工程Ｂ３で作製された金型に、成形材料を充填する工程
工程Ｂ５：工程Ｂ４で金型に充填された充填物を、微小隆起物を有する構造体として、金型から離型する工程
工程Ｂ６：工程Ｂ５で形成された微小隆起物の面上（微小隆起物側の表面）に、光沢性材料を付着する工程
【００２２】
なお、前記工程Ｂ１における金型の原型としての微小隆起物を有する構造体は、前記工程Ａ１における微小隆起物を有するプラスチックに相当している。すなわち、光散乱反射面Ａを有する光散乱反射板を形成する際の光沢性材料層を形成する前の微小隆起物を有するプラスチックを、金型の原型として用いて金型を作製し、この金型を用いて、新たな微小隆起物を有する構造体を作製し、この微小隆起物を有する構造体の隆起物の面上（微小隆起物側の表面）に光沢性材料層を形成することにより、光散乱反射面Ｂを有する光散乱反射板を作製することができる。従って、この新たな微小隆起物を有する構造体は、前記レーザーの照射による微小隆起物を有するプラスチックにおける隆起物が転写された複製物であると言える。そのため、このような隆起物を転写する方法を利用すると、レーザー照射によっては、その表面に内部から隆起して形成される隆起物を作製することができない材料であっても、微小隆起物を有する構造体を容易に且つ精密に作製することができる。すなわち、各種の成形材料により、光散乱反射板を製造することができる。
【００２３】
また、工程Ｂを具備する方法では、光散乱反射面を有する光散乱反射板を量産することが容易である。すなわち、レーザー（特に、パルス幅が１０-12秒以下の超短パルスのレーザー）を利用して作製された微小隆起物を有するプラスチックと同一の形状を有するものを、容易に且つ精密に複製して、量産することができる。
【００２４】
さらにまた、工程Ｂを具備する方法では、金型の原型を製造するにあたり、製造時のゴミの発生が少なく、環境汚染やリサイクルなどの環境問題が生じない。従って、環境汚染やリサイクルなどの環境問題を生じさせることなく表面の所望の部位に微小な隆起物からなる光散乱反射面を有する光散乱反射板を得ることができる。
【００２５】
（レーザー照射による隆起物の形成方法）
工程Ａ１や工程Ｂ１における微小の隆起物は、プラスチック内部にレーザーを照射することにより形成することができ、具体的には、図２で示されるように、プラスチック内部にパルス幅が１０-12秒以下の超短パルスのレーザー（以下、「超短パルスレーザー」又は「レーザー」と称する場合がある）を照射することにより、プラスチック表面に形成することができる。図２はプラスチック内部に超短パルスのレーザーを照射する一例を模式的に示す概略鳥瞰図である。図２において、レーザー３は、プラスチックシート１に向けて、照射方向６の向きで、すなわちＺ軸と平行な方向で、照射している。なお、レーザー３はレンズ４を用いることにより焦点を絞って合わせることができる。また、プラスチックシート１はシート状の形態を有しており、該プラスチックシート１の上面１ａはＸ−Ｙ平面と平行な面となっているとともに、Ｚ軸と垂直となっている。
【００２６】
レーザー３は、その焦点５を移動方向７の向き（すなわちＹ軸と平行な向き）に、ライン状に移動させながら照射させている。従って、その結果として、焦点５をライン８上をライン状に移動方向７の向きに移動させながら、レーザー３が照射されていることになる。前記移動方向７は、照射方向６に対して垂直な方向であり、且つプラスチック１の表面１ａに対して平行な方向である。従って、ライン８は、焦点５の移動方向７と平行であり、照射方向６とは垂直となっている。さらに、ライン８は、プラスチック１の表面１ａに対して平行な方向となっている。なお、レーザー３の焦点５を移動方向７にライン状に移動させる際の該焦点５の移動速度としては、特に制限されず、例えば、１０〜１，０００μｍ／秒（好ましくは１００〜８００μｍ／秒）程度の範囲から選択してもよい。
【００２７】
ｄはプラスチックシート１の表面１ａと、レーザー３の焦点５との距離である。従って、距離ｄは、プラスチックシート１の表面１ａからの深さに相当する。すなわち、ライン８は、プラスチックシート１の表面１ａからの深さがｄである位置となっている。該距離ｄとしては、特に制限されず、プラスチックシート１の厚さＴに応じて適宜選択することができ、通常、５〜１５０μｍ程度の範囲から選択される。すなわち、超短パルスのレーザーを、プラスチック表面から、例えば、５〜１５０μｍの深さに焦点を合わせて照射することができる。距離ｄとしては、好ましくは１０〜１２０μｍ、さらに好ましくは２０〜１００μｍ程度である。なお、距離ｄは、もちろん、プラスチックシート１の厚さＴよりも短く、通常、厚さＴの半分以下であるが、半分を越えていてもよい。
【００２８】
より具体的には、レーザー３を照射方向６の方向で、ライン８のうちいずれか１つのライン（ライン８１とする）の一方の末端部に焦点５を合わせて、照射し、この焦点５を移動方向７の方向にライン８１上をライン状にライン８１の他方の末端まで移動させる。その後、このライン８１上の焦点５の移動方法と同様の方法により、レーザー３の焦点５を他のライン（ライン８２とする）の一方の末端に合わせて他方の末端まで該ライン８２上をライン状に移動させる。さらに、このような焦点をライン８のうちいずれか１つのラインの一方の末端に合わせて他方の末端まで移動させることを必要なだけ繰り返すことにより、プラスチックの表面の隆起物（隆起部又は凸部）を形成することができる。隆起物の大きさは、例えば、レーザーの焦点の深さやその移動速度、レーザーの出力の大きさ、プラスチックを形成するポリマーの種類などにより制御することができる。
【００２９】
なお、超短パルスレーザーの焦点の移動は、超短パルスレーザー及びレンズと、プラスチックとの相対位置を動かせることにより、例えば、超短パルスレーザー及びレンズ、及び／又は照射されるプラスチックを移動させることにより、行うことができる。具体的には、超短パルスレーザーの照射は、例えば、照射サンプル（照射されるプラスチック）を、２次元又は３次元の方向に精密に動かすことができる精密なＸＹＺステージに載せ、３次元的に移動させることにより、サンプル任意の場所に行うことができる。また、ＸＹＺステージの移動を時間的に設定することにより、照射を３次元的な連続性を持って任意に行うことができる。
【００３０】
このように、レーザーをプラスチックの内部に外部から照射して、焦点をライン状に移動させることにより、プラスチックの表面に内部からの隆起による微小隆起物を形成することができ、その結果、微小隆起物を有する構造体（プラスチック）を作製することができる。
【００３１】
なお、レーザー照射により形成される隆起物は、通常、レーザーが照射される側の表面（図２では、表面１ａ）に形成される。また、プラスチックの表面において、隆起物が形成される位置としては、レーザーを照射するラインと対応した表面上の位置であり、例えば、図２で示されるように、レーザー３を表面１ａに垂直に且つライン８上をライン状に移動させながら照射する場合、隆起物は、該隆起物の中心部位（底面の円の中心部位）がライン８の垂直上の表面１ａ上にくるような位置に形成される。従って、１つのライン状に形成された隆起物は間隔をあけて形成されており、該隆起物間の間隔（すなわち、ライン８が形成された方向と平行な方向における間隔）としては、前述のように、隆起物の直径と同じかそれ以上の間隔となっている。このような１つのライン上における隆起物間の間隔（ライン上間隔）は特に制限されない。また、もちろん、１つのライン上における隆起物の数は特に制限されず、レーザーの照射条件やプラスチックの素材等に応じて適宜選択することができる。
【００３２】
また、複数のライン状に形成された隆起物の隣接するライン上における隆起物間の間隔（すなわち、ライン８が形成された方向に対して垂直な方向における間隔；ライン間間隔）としては、通常、ライン８の間隔Ｌと同等又はほぼ同等になる。
【００３３】
（レーザー照射前のプラスチック）
本発明では、レーザー（特に、超短パルスレーザー）のプラスチック内部への照射が有効に行われるためには、照射されるプラスチック（レーザー照射前の状態のプラスチック）は、波長４００ｎｍから８００ｎｍの可視光の波長領域で１０％以上の透過率を有することが望ましい。
【００３４】
また、レーザー照射前の状態のプラスチックとしては、そのガラス転移温度は、常温（２３℃）以上であることが一般的に望ましいが、１００℃以上であることが最適である。１００℃以上のガラス転移温度を有しているプラスチック材料を用いることにより、表面に微小隆起物を有するプラスチック構造体を高い精度で作製することができる。なお、超短パルスレーザーの照射により前記のような隆起物が形成されるメカニズムは、まだ詳細には解析されていない。
【００３５】
レーザー照射前の状態のプラスチックにおいて、熱的性質は、隆起物を形成する時の形成因子として働くだけでなく、隆起物の形成後の安定性にも影響を与えるため重要である。隆起物の形成後の安定性については、プラスチックの緩和現象による構造変化が関係し、ガラス転移温度が低い材料では緩和が起こり易く生成した隆起物の構造が不安定になる。
【００３６】
このようなパルスレーザー照射に使用されるプラスチックとしては、共重合体を含めた単一化学構造のポリマー材料からなるものだけでなく、異なる化学構造を有する複数のポリマー材料からなるポリマーアロイやポリマーブレンドでもよい。
【００３７】
また、パルスレーザー照射に使用されるプラスチックとしては、無機化合物や金属などの他の材料を分散状態で含んだ複合体であってもよく、異なるプラスチックや他の材料からなる層を含んだ２以上の層構造からなる積層体であってもよい。
【００３８】
具体的には、前記ポリマー材料の代表的な例として、例えば、メタクリル樹脂（ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）など）、スチレン系樹脂（ポリスチレンの他、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、メチルメタクリレート−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン−メチルメタクリレート共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）など）、ポリアミド、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリアリーレンエーテル（ポリフェニレンエーテルなど）、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン（ポリサルホン）、ポリエーテルスルホン（ポリエーテルサルホン）、ポリウレタン、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど）、ポリエーテルエーテルケトン類（ポリエーテルエーテルケトンやポリエーテルケトンケトンなど）等の熱可塑性樹脂などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３９】
また、本発明の効果が失われない範囲で、プラスチックには、着色剤（顔料、染料など）、耐候剤、酸化防止剤、安定剤、帯電防止剤、漂白剤、離型剤、相溶化剤などを添加・付与されていてもよい。
【００４０】
（レーザー）
レーザーとしては、通常、超短パルスレーザーが用いられる。超短パルスレーザーとしては、チタン・サファイア結晶を媒質とするレーザーや色素レーザーを再生・増幅して得られたフェムト秒パルスレーザーなどが好都合であり、使用されるパルス幅は１０-12秒から１０-15秒のオーダーのものが該当するが、通常は１００フェムト秒（１０-13秒）程度のものが使用される。使用波長は、可視光領域の４００ｎｍから８００ｎｍ、繰り返しは１Ｈｚから８０ＭＨｚの範囲で、通常は１０Ｈｚから５００ｋＨｚ程度の条件で使用される。レーザーパルスの出力は、数ｍＷから数百ｍＷ程度で使用される。なお、プラスチック材料に対して、内部における単位体積当たりに照射されるエネルギーは、超短パルスレーザーの照射エネルギー、プラスチック材料に照射する際に用いられる対物レンズの開口数（光源の絞り込み）、プラスチック材料への照射位置又は焦点の深さ、レーザーの焦点の移動速度などに応じて決められる。
【００４１】
また、本発明では、超短パルスレーザーの平均出力又は照射エネルギーとしては、特に制限されず、目的とする隆起物の大きさや形状等に応じて適宜選択することができ、例えば、５００ｍＷ以下（例えば、１〜５００ｍＷ）、好ましくは５〜３００ｍＷ、さらに好ましくは１０〜１００ｍＷ程度の範囲から選択することができる。
【００４２】
また、超短パルスレーザーの照射スポット径としては、特に制限されず、目的の隆起物の大きさやその形状、レンズの大きさや開口数又は倍率などに応じて適宜選択することができ、例えば、０．１〜１０μｍ程度の範囲から選択することができる。
【００４３】
なお、図２において、レンズ４は、レーザー３の光線の焦点を絞って合わせるために用いており、レーザーの焦点を絞って合わせる必要が無い場合は、レンズを用いる必要はない。レンズ４の開口数（ＮＡ）は、特に制限されず、対物レンズの倍率に応じて変更することができ、通常は、倍率としては１０〜５０倍、開口数としては０．３〜０．８程度の範囲から選択される。
【００４４】
このように、工程Ａ１と工程Ｂ１とは、同様の方法（すなわち、プラスチック内部にレーザーを照射して、プラスチック表面に該プラスチック内部からの隆起による微小隆起物を形成する方法）により行うことができる。
【００４５】
（金型材料被覆層の形成方法）
工程Ｂ２では、前記工程Ｂ１で形成された金型の原型の表面上に、金型材料を被覆している。該金型材料としては、有機系金型材料（例えば、プラスチック材料など）や、無機系金型材料（例えば、金属材料やその他の無機化合物など）を用いることができる。金型材料は単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。
【００４６】
本発明では、金型材料としては、無機系金型材料、特に、金属材料を好適に用いることができる。該金属材料としては、特に制限されず、金型として用いて成形材料を成形することができるものであればよい。金属材料には、金属単体の他、その他の金属化合物が含まれる。なお、下記に示される無電解メッキ又は電解メッキにより金型材料被覆層（金属被覆層）を微小隆起物を有するプラスチック（金型の原型）の表面に形成する場合は、金属材料としては、前記無電解メッキ又は電解メッキを行うことができるものが好ましい。具体的には、金属材料としては、例えば、ニッケル、銅、銀、金、パラジウム、カドミウム、亜鉛、スズ、鉛、クロム、アルミニウム等の金属や、真ちゅう、ニッケル−クロム合金、銅−ニッケル合金、亜鉛−ニッケル合金、金−銅合金等の合金などが挙げられる。
【００４７】
なお、前記有機系金型材料としてのプラスチック材料としては、微小隆起物を有するプラスチックの溶融温度よりも低い溶融温度を有するプラスチック材料を用いてもよい。有機系金型材料としてのプラスチック材料としては、金型として用いることができるプラスチック材料であれば特に制限されない。具体的には、有機系金型材料としてのプラスチック材料としては、例えば、メタクリル樹脂（ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）など）、スチレン系樹脂（ポリスチレンの他、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、メチルメタクリレート−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン−メチルメタクリレート共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体など）、ポリアミド、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリアリーレンエーテル（ポリフェニレンエーテルなど）、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン（ポリサルホン）、ポリエーテルスルホン（ポリエーテルサルホン）、ポリウレタン、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど）、ポリエーテルエーテルケトン類（ポリエーテルエーテルケトンやポリエーテルケトンケトンなど）などの熱可塑性樹脂や、レジスト材料などが挙げられる。なお、有機系金型材料の使用に際して、金型の原型としての微小隆起物を有するプラスチックと有機系金型材料とが接合しないように、該微小隆起物を有するプラスチックの表面を表面処理してもよい。
【００４８】
微小隆起物を有するプラスチック表面上に金型材料を被覆する方法としては、前記プラスチック表面に金型材料を被覆することができる方法であれば特に制限されない。例えば、金型材料として金属材料を用いる場合は、金型の原型（微小隆起物を有するプラスチック）の表面上に金属材料を堆積させることにより、金属材料により金型の原型の表面を被覆させて、金属材料被覆層を形成することができる。より具体的には、金属材料の被覆方法としては、例えば、無電解メッキを行う方法や、予め、微小隆起物を有するプラスチック表面に蒸着などにより導電性の賦与を行った後に電解メッキを行う方法を好適に採用することができる。なお、無電解メッキを行った後に、電解メッキが行われてもよい。無電解メッキの後に、電解メッキを行うことにより、メッキ金属層の厚みを増加させることができる。
【００４９】
無電解メッキは、例えば、微小隆起物を有するプラスチックを、市販のニッケルメッキ浴に浸漬させることにより、前記プラスチックの全表面にメッキ金属を析出させて、金属被覆層を形成することができる。なお、無電解メッキを行う前にクロム酸処理などの前処理を行うことができる。
【００５０】
金型材料被覆層の厚みは特に制限されず、例えば、２００μｍ以上（例えば、０．２〜５ｍｍ）、好ましくは０．５〜３ｍｍ程度の範囲から選択することができる。金型材料被覆層の厚みが薄すぎると、金型としての強度が低下する。
【００５１】
このように、工程Ｂ２では、金型の原型（微小隆起物を有するプラスチック）の表面上に金型材料を被覆させて、金型材料からなる微小構造が転写された金型材料被覆層を金型の原型の表面上に形成しているので、該金型材料被覆層の内部側の面（微小隆起物を有するプラスチックの表面と接触している面）は、微小隆起物を有するプラスチックの表面の形状に対応している。すなわち、金型材料被覆層は、前記プラスチックの表面の微小隆起物に対応する形状の微小陥没部を有している。
【００５２】
（金型の分離方法）
工程Ｂ３では、前記工程Ｂ２で形成された金型材料被覆層を金型の原型から分離して、金型（微小隆起物を有する構造体形成用金型）を得ている。金型材料被覆層および金型の原型を分離させる方法としては、前記金型材料被覆層を、前記金型の原型（プラスチック部材）から分離させることができる方法であれば特に制限されず、例えば、金型材料被覆層からプラスチック部材を抜き取る方法、剥離させる方法またはエッチングにより除去する方法などを１種で又は２種以上組み合わせて採用することができる。
【００５３】
なお、前記工程Ｂ１〜工程Ｂ３を含む作製方法により作製された金型の形状を他の金型材料（例えば、プラスチック材料など）により写し取って、他の金型材料（プラスチック材料等）による金型を作製して、該金型を利用して光散乱反射板を作製することもできる。例えば、前記工程Ｂ１〜工程Ｂ３を含む作製方法により得られた金属材料からなる金型（又は金属被覆層）の表面をプラスチック材料で被覆して、該被覆により形成されたプラスチック材料被覆層を、前記金属材料からなる金型（又は金属被覆層）から分離させて、プラスチック材料からなる金型を得ることができる。
【００５４】
（成形材料の充填方法）
工程Ｂ４では、前記工程Ｂ３で作製された金型に、成形材料を充填している。前記成形材料としては、特に制限されず、例えば、有機系成形材料、無機系成形材料のいずれであってもよいが、有機系成形材料を好適に用いることができる。成形材料は単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。
【００５５】
前記有機系成形材料としては、プラスチック材料が好ましく、該プラスチック材料のなかでも特に熱可塑性樹脂が好適である。熱可塑性樹脂などのプラスチック材料としては、例えば、メタクリル樹脂（ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）など）、スチレン系樹脂（ポリスチレンの他、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、メチルメタクリレート−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン−メチルメタクリレート共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体など）、ポリアミド、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリアリーレンエーテル（ポリフェニレンエーテルなど）、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン（ポリサルホン）、ポリエーテルスルホン（ポリエーテルサルホン）、ポリウレタン、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど）、ポリエーテルエーテルケトン類（ポリエーテルエーテルケトンやポリエーテルケトンケトンなど）などが挙げられる。
【００５６】
また、有機系成形材料としては、例えば、天然ゴム（ＮＲ）、スチレン・ブタジエンゴム（ＳＢＲ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、ニトリルゴム、アクリロニトリル・ブタジエンゴム（ＮＢＲ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、イソプレンゴム（ＩＲ）、ブチルゴム（ＩＩＲ）、ノルボルネンゴム（ＮＯＲ）、エチレン・プロピレンゴム（ＥＰＭ）、エチレン・プロピレン・ジエンゴム（ＥＰＤＭ）、アクリルゴム（ＡＣＭ）、フッ素ゴム（ＦＫＭ）、シリコーンゴム、ウレタンゴム、多硫化ゴム、フォスファゼンゴム等のゴム材料や、ポリエチレン系エラストマー等のオレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、スチレン系エラストマー、塩化ビニル系エラストマー、エステル系エラストマー、アミド系エラストマー、フッ素系エラストマー、ジエン系エラストマー等のエラストマー材料の他、導電性高分子などであってもよい。なお、有機系成形材料には、無機化合物や金属化合物などの各種材料等が含まれていてもよい。
【００５７】
また、無機系成形材料としては、金属化合物（金属単体を含む）やその他の無機化合物などを適宜選択して用いることができる。なお、無機系成形材料を用いる場合、金型としては、プラスチック材料により作製された金型を用いることができる。
【００５８】
成形材料を金型に充填する方法としては、特に制限されず、例えば、成形材料が熱可塑性樹脂である場合、一般的に、溶融状態の熱可塑性樹脂を金型に流し込む方法が用いられる。金型に溶融状態の熱可塑性樹脂を流し込んだ後は、冷却することにより、熱可塑性樹脂を固化することができる。
【００５９】
（充填物の離型方法）
工程Ｂ５では、工程Ｂ４で金型に充填された充填物（成形材料からなる充填物）を金型から離型させることにより、微小構造が転写された微小隆起物を有する構造体（成形体）を得ている。例えば、成形材料として熱可塑性樹脂を用いた場合、冷却固化された熱可塑性樹脂を金型から抜き取ったり、剥離したりすることにより、離型することができる。
【００６０】
また、本発明では、工程Ｂ５で得られた、微小構造が転写された微小隆起物を有する構造体（成形体）を、金型の原型として用いて、前記工程Ｂ１〜Ｂ５を含む工程の方法と同様にして、新たな微小構造が転写された微小隆起物を有する構造体（成形体）を作製することも可能である。
【００６１】
（光沢性材料層の形成方法）
工程Ａ２や工程Ｂ６では、微小隆起物の面上（微小隆起物側の表面）に光沢性材料層を形成しており、これにより、光散乱反射面を有する光散乱反射板が作製することができる。光沢性材料としては、光沢性材料層の形成により、光沢性を発揮できる材料であれば特に制限されない。光沢性材料としては、無機系光沢性材料、有機系光沢性材料のいずれであっても用いることができる。光沢性材料は単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。
【００６２】
無機系光沢性材料としては、金属材料を好適に用いることができるが、雲母などの光沢性無機材料（非金属系の光沢性無機材料）も用いることができる。なお、金属材料には、金属単体の他、その他の金属化合物が含まれる。また、有機系光沢性材料には、例えば、微小構造により光沢性が発揮される光沢性有機材料が含まれる。
【００６３】
光沢性材料としての金属材料としては、例えば、ニッケル、銅、銀、金、パラジウム、カドミウム、亜鉛、スズ、鉛、クロム、アルミニウム等の金属や、真ちゅう、ニッケル−クロム合金、銅−ニッケル合金、亜鉛−ニッケル合金、金−銅合金等の合金などが挙げられる。
【００６４】
光沢性材料層の形成方法としては、例えば、光沢性材料として金属材料を用いた場合、蒸着方法、スパッタリング方法、イオンプレーティング方法や無電解メッキ方法の他、予め、微小隆起物を有する構造体表面に蒸着などにより導電性の賦与を行った後に電解メッキを行う方法などを好適に採用することができる。なお、これらの方法は単独で又は２種以上組み合わせて用いることができる。例えば、無電解メッキを行った後に、電解メッキが行われてもよい。無電解メッキ方法としては、前記金型材料被覆層を形成する方法における無電解メッキ方法と同様にして行うことができる。
【００６５】
光沢性材料層の厚みは、特に制限されず、例えば、１０ｎｍ以上（例えば、１０〜２０００ｎｍ）、好ましくは１０〜１０００ｎｍ程度の範囲から選択することができる。
【００６６】
本発明の光散乱反射板は、前述のような工程Ａ又は工程Ｂを具備する方法により作製することができる。このように、光散乱反射面の形成に際して、レーザー照射を利用しているので、光散乱反射面における隆起物（隆起部又は凸部）が微小な構造であっても、精密に制御された隆起物を有する光散乱反射板を容易に作製することができる。
【００６７】
光散乱反射板は、通常、板状やシート状の形態（又は形状）で製造されるが、他の形態を有していてもよい。光散乱反射板が板状又はシート状の形態を有する場合、その厚みとしては、特に制限されず、例えば、５μｍ〜１０ｍｍ（好ましくは１０μｍ〜５ｍｍ、さらに好ましくは２０〜１００μｍ）程度の範囲から選択することができる。このように、光散乱反射板の厚みが薄くても、レーザー照射を利用しているので、容易に且つ精密に制御された隆起物からなる光散乱反射面を形成することができる。従って、光散乱反射性が優れているとともに、輝度特性が優れている。なお、光散乱反射板の厚みには、通常、光散乱反射面における隆起物の高さは含まれていない。
【００６８】
［反射型液晶表示装置］
本発明の反射型液晶表示装置は、電気的ON／OFFにより光透過制御可能な液晶パネルと、前記光散乱反射面Ａ又は光散乱反射面Ｂを有する光散乱反射板とが組み合わせられている。具体的には、反射型液晶表示装置としては、例えば、図３で表される反射型液晶表示装置などが挙げられる。図３は本発明の反射型液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。図３において、９は反射型液晶表示装置、９１は液晶セル、９２、９２ａは偏光板、９３は光散乱反射板、９４は保護層である。図３で示される反射型液晶表示装置９では、光散乱反射板９３は、液晶セル９１の下部側（内面側）に設置されており、通常、光散乱反射板９３の光散乱反射面側が液晶セル９１側になるように設置される。なお、偏光板９２、偏光板９２ａ、保護層９４は、必要に応じて設けられている。また、偏光板９２および偏光板９２ａは、何れか一方のみが用いられていてもよく、両方が用いられていてもよい。
【００６９】
光散乱反射板９３は、前記光散乱反射面Ａ又は光散乱反射面Ｂを有する光散乱反射板である。反射型液晶表示装置９の上面からの入射される入射光による光は、光散乱反射板９３で光散乱反射され、これにより、反射型液晶表示装置は均一な輝度で表示されている。このように、反射型液晶表示装置では、光散乱反射板が、電気的ON／OFFにより光透過制御可能な液晶パネルと組み合わされている。なお、電気的ON／OFFにより光透過制御可能な液晶パネルとしては、特に制限されず、例えば、図３で示されるように、液晶セルを有する液晶パネルが挙げられる。もちろん、偏光板や保護層の他、位相差板などを必要に応じて適宜用いることができる。
【００７０】
本発明の反射型液晶表示装置は、前記光散乱反射板を有しているので、該光散乱反射板の光散乱反射面の微小隆起構造（微細凹凸構造）に基づいて入射光が良好に乱反射されて拡散し、指向性やギラギラした見栄えが抑制又は防止され、明暗のムラが少ない又はない反射光が形成される。すなわち、本発明の反射型液晶表示装置は、全面的に明るく且つ該明るさの均一性が良好である反射光が得られるため、視認性が優れている。
【００７１】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。
【００７２】
実施例１
０．０５ｍｍ厚さの、ガラス転移温度が１６０℃のポリカーボネート（ＰＣ）シート内部（深さ２５μｍ）に、照射波長８００ｎｍ、パルス幅１５０フェムト秒、繰り返し２００ｋＨｚのチタン・サファイア・フェムト秒パルスレーザーを、照射エネルギー３０ｍＷ、対物レンズの倍率１０倍で、照射スポット約３μｍ径、照射方向に対して直角方向のサンプルの移動速度５００μｍ／秒の条件で照射したところ、ＰＣシートの表面に隆起物が形成された。次に、このＰＣシートの隆起物が形成された表面に、銀を厚みが１００ｎｍとなるように蒸着して、光散乱反射板を作製した。該光散乱反射板について、電子顕微鏡を用いて、その表面の形態及び形状の観察を行ったところ、表面には直径２２μｍ、高さ１５μｍの釣り鐘形状の隆起物が２７μｍ間隔で形成されていることが観察された。
【００７３】
実施例２
０．０５ｍｍ厚さの、ガラス転移温度が−５０℃のアクリロニトリル−スチレン（ＡＳ）樹脂シートの内部（深さ３０μｍ）に、実施例１と同じ超短パルスレーザーを、対物レンズ１０倍を用い、照射エネルギーを２０ｍＷとしたこと以外は実施例１と同じ条件で照射したところ、ＡＳ樹脂シートの表面に隆起物が形成された。次に、このＡＳ樹脂シートの隆起物が形成された表面に、実施例１と同様にして、銀を厚みが１００ｎｍとなるように蒸着して、光散乱反射板を作製した。また、実施例１と同様にして該光散乱反射板についての表面の形態及び形状の観察を行ったところ、表面には直径２０μｍ、高さ５μｍ、窪み３μｍのカルデラ形状の隆起物が２５μｍ間隔で形成されていることが観察された。
【００７４】
実施例３
０．０５ｍｍ厚さの、ガラス転移温度が１０５℃のポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）シートの内部（深さ５μｍ）に、実施例１と同じ超短パルスレーザーを、照射エネルギーを７ｍＷ、移動速度を２５μｍ／秒としたこと以外は実施例１と同じ条件で照射したところ、ＰＭＭＡシートの表面に隆起物が形成された。次に、このＰＭＭＡシートの隆起物が形成された表面に、実施例１と同様にして、銀を厚みが１００ｎｍとなるように蒸着して、光散乱反射板を作製した。また、実施例１と同様にして該光散乱反射板についての表面の形態及び形状の観察を行ったところ、表面には直径８μｍ、高さ３μｍの円錐形状の隆起物が１４μｍ間隔で形成されていることが観察された。
【００７５】
実施例４
０．０５ｍｍ厚さの、ガラス転移温度が２２０℃のポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）シートの内部（深さ５μｍ）に、実施例３と同じ超短パルスレーザーを、照射エネルギーを１０ｍＷとしたこと以外は実施例３と同じ条件で照射したところ、ＰＥＳシートの表面に隆起物が形成された。次に、このＰＥＳシートの隆起物が形成された表面に、実施例１と同様にして、銀を厚みが１００ｎｍとなるように蒸着して、光散乱反射板を作製した。また、実施例１と同様にして該光散乱反射板についての表面の形態及び形状の観察を行ったところ、表面には直径１１μｍ、高さ５μｍの半球形状の隆起物が１７μｍ間隔で形成されていることが観察された。
【００７６】
実施例５
実施例１と同じＰＣシートに、実施例１と同じ超短パルスレーザーを、照射エネルギーを１０ｍＷ、焦点深さを５μｍとしたこと以外は実施例１と同じ条件で照射したところ、ＰＣシートの表面に隆起物が形成された。次に、このＰＣシートの隆起物が形成された表面に、実施例１と同様にして、銀を厚みが１００ｎｍとなるように蒸着して、光散乱反射板を作製した。また、実施例１と同様にして該光散乱反射板についての表面の形態及び形状の観察を行ったところ、表面には直径１１μｍ、高さ４μｍのテラス形状の隆起物が１７μｍ間隔で形成されていることが観察された。
【００７７】
実施例６
実施例１により得られた、表面に隆起物を有するＰＣシートを金型の原型として用いた。この金型の原型（表面に微小隆起物を有するプラスチック）を、濃度：９８重量％の硫酸（「９８％硫酸」と称する場合がある）、無水クロム酸及び９８％硫酸、純水、濃度：３５重量％の塩酸、純水、９８％硫酸、純水に、この順で、順次浸漬して、無電解メッキ前の前処理を行った後、ニッケルによる無電解メッキを行って、表面に微小隆起物を有するプラスチックの表面上にニッケルを０．８ｍｍの厚みまで堆積させた後、ニッケルにより被覆されたプラスチックを剥離させて、ニッケルからなる金型を得た。
【００７８】
このニッケルからなる金型に、ＡＳ樹脂をテトラヒドロフランに溶解したＡＳ樹脂溶液を流し込んで、乾燥して固化させた後、型から抜いて、厚み６５μｍで表面に隆起物が形成されているＡＳ樹脂シートを得た。次に、このＡＳ樹脂シートの隆起物が形成された表面に、実施例１と同様にして、銀を厚みが１００ｎｍとなるように蒸着して、光散乱反射板を作製した。また、実施例１と同様にして該光散乱反射板についての表面の形態及び形状の観察を行ったところ、表面には直径２２μｍ、高さ１５μｍの釣り鐘形状の隆起物が２７μｍ間隔で形成されていることが観察された。
【００７９】
（評価）
実施例１〜６で得られた光散乱反射板を用いて、反射型液晶表示装置を作製して、視認性を評価した。具体的には、液晶セルの下面に、偏光板、実施例１〜６で得られた各光散乱反射板を、この順で且つ光散乱反射板における光散乱反射面（隆起物側の面）が液晶セル側となるように貼り合わせ、一方、前記液晶セルの上面に偏光板を貼り合わせ、さらにその表面に保護層を形成して、図３で示されるような構造の反射型液晶表示装置を作製した。この反射型液晶表示装置について、上面から入射光を入射させて、表示面の視認性を観察したところ、いずれの実施例に係る反射型液晶表示装置でも、その反射光に指向性やギラギラした見栄えは認められず、明暗ムラのない光度の均一性に優れる反射光が観察された。従って、実施例に係る反射型液晶表示装置は優れた視認性が発揮されている。
【００８０】
【発明の効果】
本発明によれば、光散乱反射板は、優れた光拡散性、及び輝度特性を有しているとともに、容易に製造することができる。また、前記光散乱反射板を有する反射型液晶表示装置は、視認性が良好である。しかも、製造時のゴミの発生が少なく、優れた環境性で製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】光散乱反射板の例を模式的に示す概略鳥瞰図である。
【図２】プラスチック内部に超短パルスのレーザーを照射する一例を模式的に示す概略鳥瞰図である。
【図３】本発明の反射型液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
11〜15 光散乱反射板
11a〜15a 光沢性材料層
11b〜15b プラスチック
21〜25 光散乱反射面
１ プラスチックシート
1a プラスチックシート１の表面（上面）
Ｔ プラスチックシート１の厚さ
３ パルス幅が１０-12秒以下である超短パルスレーザー
４ レンズ
５ レーザー３の焦点
６ レーザー３の照射方向
７ レーザー３の焦点５の移動方向
８ レーザー３の焦点５をライン状に移動させる際のライン
ｄ プラスチックシート１の表面1aと、レーザー３の焦点５との距離
Ｌ ライン８における近接したライン間の間隔
９ 反射型液晶表示装置
91 液晶セル
92、92a 偏光板
93 光散乱反射板
94 保護層
【発明の属する技術分野】
本発明は、光散乱反射板や、照明器具、液晶表示装置等の表示装置などに関する技術分野に属し、レーザー微細加工技術による光散乱反射板およびその作製方法並びに反射型液晶表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来技術】
従来、照明器具や、液晶表示板等の表示板などの各種光利用装置では、入射光の反射を分散させる光散乱反射性が要求される。光散乱反射性を得るための方法としては、従来、各種光利用装置の反射板の表面を粗面化する方法、屈折率の高い微粒子を光散乱反射剤として分散させて反射板の表面に塗布する方法などが用いられている（特許文献１〜特許文献２参照）。しかしながら、反射板の表面を粗面化する方法では、粗面化の方向性が反射板に指向性をもたらし、反射分散の均一性が失われている。また、光散乱反射剤を反射板の表面に塗布する方法では、輝度が小さく、視認性が低下する問題等が生じていた。さらに、これらの方法では、削る、微粒子を用いるという側面から、ゴミ発生という環境面での負の要素を含んでいる。
【０００３】
【特許文献１】
特開平１０−２０３０５号公報
【特許文献２】
特開２０００−２９８２０４号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、優れた光散乱反射性及び輝度特性を有しているとともに、容易に製造することができる光散乱反射板及びその作製方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、視認性が良好な反射型液晶表示装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、プラスチック内部に１０-12秒以下のパルスの超短パルスレーザーを照射すると、プラスチックの表面に、微小な隆起部が形成され、さらにこの隆起部側の表面に光沢性材料層を形成すると、優れた光散乱反射性を発揮する光散乱反射面を有する光散乱反射板が得られることを見出した。本発明はこれらの知見に基づいて完成されたものである。
【０００６】
すなわち、本発明は、厚みが５μｍ〜１０ｍｍであり、光散乱反射面を有する光散乱反射板であって、下記の光散乱反射面Ａ又は光散乱反射面Ｂを有することを特徴とする光散乱反射板を提供する。
光散乱反射面Ａ：プラスチック内部へのレーザーの照射によりプラスチック表面に形成された、該プラスチック内部からの隆起による、底面の直径０．３〜１００μｍ、高さ０．１〜５０μｍであり、円錐状、釣り鐘状、カルデラ状、テラス状ないしは半球状の微小隆起物側の表面に、厚みが１０〜２０００ｎｍであるとともに金属材料からなる光沢性材料層が形成されてなる光散乱反射面
光散乱反射面Ｂ：プラスチック内部へのレーザーの照射によりプラスチック表面に該プラスチック内部から隆起して形成された微小隆起物を有する構造体を金型の原型として金型材料の被覆により作製された金型に、成形材料を充填し、この充填物を金型から離型して形成された、微小隆起構造の転写による、底面の直径０．３〜１００μｍ、高さ０．１〜５０μｍであり、円錐状、釣り鐘状、カルデラ状、テラス状ないしは半球状の微小隆起物側の表面に、厚みが１０〜２０００ｎｍであるとともに金属材料からなる光沢性材料層が形成されてなる光散乱反射面
【０００７】
レーザーとしては、パルス幅が１０-12秒以下の超短パルスのレーザーを好適に用いることができる。
【０００８】
レーザー照射前の状態のプラスチックとしては、１００℃以上のガラス転移温度を有するプラスチックが好ましく、また、ポリマー材料と他の材料との複合体を好適に用いることができる。
【０００９】
本発明は、また、前記厚みが５μｍ〜１０ｍｍである光散乱反射板を作製する方法であって、下記の工程Ａ又は工程Ｂを具備することを特徴とする光散乱反射板の作製方法を提供する。
工程Ａ：プラスチック内部にレーザーを照射して、プラスチック表面に該プラスチック内部からの隆起による、底面の直径０．３〜１００μｍ、高さ０．１〜５０μｍであり、円錐状、釣り鐘状、カルデラ状、テラス状ないしは半球状の微小隆起物を形成し、さらに前記微小隆起物側の表面に、厚みが１０〜２０００ｎｍであるとともに金属材料からなる光沢性材料を付着させることにより、光散乱反射面を形成する工程
工程Ｂ：プラスチック内部にレーザーを照射して、プラスチック表面に該プラスチック内部から隆起して形成された微小隆起物を有する構造体を形成し、該微小隆起物を有する構造体を金型の原型として金型材料の被覆により金型を作製し、さらに該金型に成形材料を充填し、この充填物を金型から離型して、成形体表面に微小隆起構造の転写による、底面の直径０．３〜１００μｍ、高さ０．１〜５０μｍであり、円錐状、釣り鐘状、カルデラ状、テラス状ないしは半球状の微小隆起物を形成し、さらに前記微小隆起物側の表面に、厚みが１０〜２０００ｎｍであるとともに金属材料からなる光沢性材料を付着させることにより、光散乱反射面を形成する工程
【００１０】
前記光散乱反射板の作製方法では、プラスチック内部に外部よりパルス幅１０-12秒以下の超短パルスのレーザーを、該超短パルスのレーザーの照射方向に対して垂直な方向に且つプラスチック表面に対して平行な方向に、超短パルスのレーザーの焦点をライン状に移動させながら照射することができ、また、超短パルスのレーザーを、プラスチック表面から５〜１５０μｍの深さに焦点を合わせて照射することができる。工程Ｂで用いられる金型材料としては金属材料を、成形材料としてはプラスチック材料を好適に用いることができる。
【００１１】
本発明は、さらにまた、電気的ON／OFFにより光透過制御可能な液晶パネルと、厚みが５μｍ〜１０ｍｍである光散乱反射板とが組み合わせられている反射型液晶表示装置において、前記光散乱反射板が、光散乱反射面として、下記の光散乱反射面Ａ又は光散乱反射面Ｂを有することを特徴とする反射型液晶表示装置を提供する。
光散乱反射面Ａ：プラスチック内部へのレーザーの照射によりプラスチック表面に形成された、該プラスチック内部からの隆起による、底面の直径０．３〜１００μｍ、高さ０．１〜５０μｍであり、円錐状、釣り鐘状、カルデラ状、テラス状ないしは半球状の微小隆起物側の表面に、厚みが１０〜２０００ｎｍであるとともに金属材料からなる光沢性材料層が形成されてなる光散乱反射面
光散乱反射面Ｂ：プラスチック内部へのレーザーの照射によりプラスチック表面に該プラスチック内部から隆起して形成された微小隆起物を有する構造体を金型の原型として金型材料の被覆により作製された金型に、成形材料を充填し、この充填物を金型から離型して形成された、微小隆起構造の転写による、底面の直径０．３〜１００μｍ、高さ０．１〜５０μｍであり、円錐状、釣り鐘状、カルデラ状、テラス状ないしは半球状の微小隆起物側の表面に、厚みが１０〜２０００ｎｍであるとともに金属材料からなる光沢性材料層が形成されてなる光散乱反射面
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、必要に応じて図面を参照しつつ説明する。
［光散乱反射板］
本発明の光散乱反射板は、光散乱反射面として、前記光散乱反射面Ａ又は光散乱反射Ｂを有している。前記光散乱反射面の形成に際して、プラスチックへのレーザー照射を利用しているので、光散乱反射面は微小な隆起構造を有しており、そのため、優れた光散乱反射性を発揮させることができる。また、輝度特性も優れている。従って、本発明の光散乱反射板を用いると、視認性が良好な反射型液晶表示装置を得ることができる。
【００１３】
しかも、表面に微小隆起構造からなる光散乱反射面を有していても、研削や微粒子の塗布等の物理的に表面を凹凸状にする処理を行っていないので、製造時のゴミの発生が少なく、優れた環境性で製造することが可能である。
【００１４】
具体的には、光散乱反射面Ａや光散乱反射面Ｂは、光散乱反射板の表面に形成された微小な隆起物および光沢性材料による面であり、例えば、図１で示すことができる。図１は、光散乱反射板の例を模式的に示す概略鳥瞰図である。図１において、（ａ）の光散乱反射板１１は、その表面に、円錐状の隆起物の面上（隆起物側の表面）に形成された光沢性材料層１１ａからなる光散乱反射面２１を有しており、（ｂ）の光散乱反射板１２は、その表面に、釣り鐘状の隆起物の面上（隆起物側の表面）に形成された光沢性材料層１２ａからなる光散乱反射面２２を有しており、（ｃ）の光散乱反射板１３は、その表面に、カルデラ状の隆起物の面上（隆起物側の表面）に形成された光沢性材料層１３ａからなる光散乱反射面２３を有しており、（ｄ）の光散乱反射板１４は、その表面に、テラス状の隆起物の面上（隆起物側の表面）に形成された光沢性材料層１４ａからなる光散乱反射面２４を有しており、（ｅ）の光散乱反射板１５は、その表面に、半球状の隆起物の面上（隆起物側の表面）に形成された光沢性材料層１５ａからなる光散乱反射面２５を有している。図１（ａ）〜（ｅ）では、各種形状の隆起物は、プラスチック（１１ｂ，１２ｂ，１３ｂ，１４ｂ，１５ｂ）の表面に該プラスチックの内部から隆起して形成されたものである。また、隆起物は、該隆起物の直径と同じかそれ以上の間隔を置いて複数個形成されている。このような隆起物の底面の直径は０．３〜１００μｍ（好ましくは１〜５０μｍ）程度であり、高さは０．１〜５０μｍ（好ましくは０．５〜２０μｍ）程度である。
【００１５】
より具体的には、円錐状や釣り鐘状の隆起物としては、その底面の直径は０．３〜５０μｍ（好ましくは１〜２０μｍ）程度の範囲から選択し、その高さは０．１〜３０μｍ（好ましくは０．５〜１５μｍ）程度の範囲から選択することが望ましい。カルデラ状の隆起物としては、その底面の直径は０．３〜５０μｍ（好ましくは１〜２０μｍ）程度の範囲から選択し、その高さは０．１〜３０μｍ（好ましくは１〜２０μｍ）程度の範囲から選択することが望ましい。テラス状の隆起物としては、その底面の直径は０．３〜５０μｍ（好ましくは１〜２０μｍ）程度の範囲から選択し、その高さは０．１〜１５μｍ（好ましくは１〜１０μｍ）程度の範囲から選択することが望ましい。半球状の隆起物としては、その底面の直径は０．３〜５０μｍ（好ましくは１〜２０μｍ）程度の範囲から選択し、その高さは０．１〜３０μｍ（好ましくは１〜２０μｍ）程度の範囲から選択することが望ましい。
【００１６】
また、隆起物の間隔（底面の円の中心間距離）は、特に制限されないが、好ましくは底面の直径と同じかそれ以上（例えば、直径〜直径の１０倍程度、好ましくは、直径〜直径の５倍程度）である。
【００１７】
なお、カルデラ状の隆起物とは、凸部の頂部が陥没している形状の隆起物を意味している。また、テラス状の隆起物とは、凸部の頂部が平面状になっている形状の隆起物を意味している。
【００１８】
１つの光散乱反射板において、隆起物は複数個形成されており、該複数の隆起物側の表面上に光沢性材料層が形成されることにより良好な光散乱反射性が発揮されている。なお、隆起物の数は、特に制限されず、目的とする光散乱反射性等に応じて適宜選択することができる。
【００１９】
このような光散乱反射板は、プラスチック内部にレーザーを照射することにより、プラスチック表面に微小な隆起物を形成し、該隆起物を利用するとともに、光沢性材料層を形成することにより、光散乱反射面Ａや光散乱反射面Ｂを有する光散乱反射板を作製することができる。より具体的には、光散乱反射面Ａを有する光散乱反射板は、下記の工程Ａを具備する方法により作製することができ、光散乱反射面Ｂを有する光散乱反射板は、下記の工程Ｂを具備する方法により作製することができる。
工程Ａ：プラスチック内部にレーザーを照射して、プラスチック表面に該プラスチック内部からの隆起による微小隆起物を形成し、さらに前記微小隆起物側の表面に光沢性材料を付着させることにより、光散乱反射面を形成する工程
工程Ｂ：プラスチック内部にレーザーを照射して、プラスチック表面に該プラスチック内部から隆起して形成された微小隆起物を有する構造体を形成し、該微小隆起物を有する構造体を金型の原型として金型材料の被覆により金型を作製し、さらに該金型に成形材料を充填し、この充填物を金型から離型して、成形体表面に微小隆起構造の転写による微小隆起物を形成し、さらに前記微小隆起物側の表面に光沢性材料を付着させることにより、光散乱反射面を形成する工程
【００２０】
より具体的には、工程Ａには、下記の工程Ａ１〜Ａ２が含まれる。
工程Ａ１：プラスチック内部にレーザーを照射することにより、プラスチック表面に該プラスチック内部から隆起した微小の隆起物を形成する工程
工程Ａ２：工程Ａ１で形成された微小隆起物の面上（微小隆起物側の表面）に、光沢性材料を付着する工程
【００２１】
一方、工程Ｂには、下記の工程Ｂ１〜Ｂ６が含まれる。
工程Ｂ１：プラスチック内部にレーザーを照射することにより、プラスチック表面に該プラスチック内部から隆起した微小の隆起物を形成して金型の原型を形成する工程
工程Ｂ２：工程Ｂ１で形成された金型の原型の表面上に金型材料を被覆する工程
工程Ｂ３：工程Ｂ２で形成された金型材料被覆層を金型の原型から金型として分離する工程
工程Ｂ４：工程Ｂ３で作製された金型に、成形材料を充填する工程
工程Ｂ５：工程Ｂ４で金型に充填された充填物を、微小隆起物を有する構造体として、金型から離型する工程
工程Ｂ６：工程Ｂ５で形成された微小隆起物の面上（微小隆起物側の表面）に、光沢性材料を付着する工程
【００２２】
なお、前記工程Ｂ１における金型の原型としての微小隆起物を有する構造体は、前記工程Ａ１における微小隆起物を有するプラスチックに相当している。すなわち、光散乱反射面Ａを有する光散乱反射板を形成する際の光沢性材料層を形成する前の微小隆起物を有するプラスチックを、金型の原型として用いて金型を作製し、この金型を用いて、新たな微小隆起物を有する構造体を作製し、この微小隆起物を有する構造体の隆起物の面上（微小隆起物側の表面）に光沢性材料層を形成することにより、光散乱反射面Ｂを有する光散乱反射板を作製することができる。従って、この新たな微小隆起物を有する構造体は、前記レーザーの照射による微小隆起物を有するプラスチックにおける隆起物が転写された複製物であると言える。そのため、このような隆起物を転写する方法を利用すると、レーザー照射によっては、その表面に内部から隆起して形成される隆起物を作製することができない材料であっても、微小隆起物を有する構造体を容易に且つ精密に作製することができる。すなわち、各種の成形材料により、光散乱反射板を製造することができる。
【００２３】
また、工程Ｂを具備する方法では、光散乱反射面を有する光散乱反射板を量産することが容易である。すなわち、レーザー（特に、パルス幅が１０-12秒以下の超短パルスのレーザー）を利用して作製された微小隆起物を有するプラスチックと同一の形状を有するものを、容易に且つ精密に複製して、量産することができる。
【００２４】
さらにまた、工程Ｂを具備する方法では、金型の原型を製造するにあたり、製造時のゴミの発生が少なく、環境汚染やリサイクルなどの環境問題が生じない。従って、環境汚染やリサイクルなどの環境問題を生じさせることなく表面の所望の部位に微小な隆起物からなる光散乱反射面を有する光散乱反射板を得ることができる。
【００２５】
（レーザー照射による隆起物の形成方法）
工程Ａ１や工程Ｂ１における微小の隆起物は、プラスチック内部にレーザーを照射することにより形成することができ、具体的には、図２で示されるように、プラスチック内部にパルス幅が１０-12秒以下の超短パルスのレーザー（以下、「超短パルスレーザー」又は「レーザー」と称する場合がある）を照射することにより、プラスチック表面に形成することができる。図２はプラスチック内部に超短パルスのレーザーを照射する一例を模式的に示す概略鳥瞰図である。図２において、レーザー３は、プラスチックシート１に向けて、照射方向６の向きで、すなわちＺ軸と平行な方向で、照射している。なお、レーザー３はレンズ４を用いることにより焦点を絞って合わせることができる。また、プラスチックシート１はシート状の形態を有しており、該プラスチックシート１の上面１ａはＸ−Ｙ平面と平行な面となっているとともに、Ｚ軸と垂直となっている。
【００２６】
レーザー３は、その焦点５を移動方向７の向き（すなわちＹ軸と平行な向き）に、ライン状に移動させながら照射させている。従って、その結果として、焦点５をライン８上をライン状に移動方向７の向きに移動させながら、レーザー３が照射されていることになる。前記移動方向７は、照射方向６に対して垂直な方向であり、且つプラスチック１の表面１ａに対して平行な方向である。従って、ライン８は、焦点５の移動方向７と平行であり、照射方向６とは垂直となっている。さらに、ライン８は、プラスチック１の表面１ａに対して平行な方向となっている。なお、レーザー３の焦点５を移動方向７にライン状に移動させる際の該焦点５の移動速度としては、特に制限されず、例えば、１０〜１，０００μｍ／秒（好ましくは１００〜８００μｍ／秒）程度の範囲から選択してもよい。
【００２７】
ｄはプラスチックシート１の表面１ａと、レーザー３の焦点５との距離である。従って、距離ｄは、プラスチックシート１の表面１ａからの深さに相当する。すなわち、ライン８は、プラスチックシート１の表面１ａからの深さがｄである位置となっている。該距離ｄとしては、特に制限されず、プラスチックシート１の厚さＴに応じて適宜選択することができ、通常、５〜１５０μｍ程度の範囲から選択される。すなわち、超短パルスのレーザーを、プラスチック表面から、例えば、５〜１５０μｍの深さに焦点を合わせて照射することができる。距離ｄとしては、好ましくは１０〜１２０μｍ、さらに好ましくは２０〜１００μｍ程度である。なお、距離ｄは、もちろん、プラスチックシート１の厚さＴよりも短く、通常、厚さＴの半分以下であるが、半分を越えていてもよい。
【００２８】
より具体的には、レーザー３を照射方向６の方向で、ライン８のうちいずれか１つのライン（ライン８１とする）の一方の末端部に焦点５を合わせて、照射し、この焦点５を移動方向７の方向にライン８１上をライン状にライン８１の他方の末端まで移動させる。その後、このライン８１上の焦点５の移動方法と同様の方法により、レーザー３の焦点５を他のライン（ライン８２とする）の一方の末端に合わせて他方の末端まで該ライン８２上をライン状に移動させる。さらに、このような焦点をライン８のうちいずれか１つのラインの一方の末端に合わせて他方の末端まで移動させることを必要なだけ繰り返すことにより、プラスチックの表面の隆起物（隆起部又は凸部）を形成することができる。隆起物の大きさは、例えば、レーザーの焦点の深さやその移動速度、レーザーの出力の大きさ、プラスチックを形成するポリマーの種類などにより制御することができる。
【００２９】
なお、超短パルスレーザーの焦点の移動は、超短パルスレーザー及びレンズと、プラスチックとの相対位置を動かせることにより、例えば、超短パルスレーザー及びレンズ、及び／又は照射されるプラスチックを移動させることにより、行うことができる。具体的には、超短パルスレーザーの照射は、例えば、照射サンプル（照射されるプラスチック）を、２次元又は３次元の方向に精密に動かすことができる精密なＸＹＺステージに載せ、３次元的に移動させることにより、サンプル任意の場所に行うことができる。また、ＸＹＺステージの移動を時間的に設定することにより、照射を３次元的な連続性を持って任意に行うことができる。
【００３０】
このように、レーザーをプラスチックの内部に外部から照射して、焦点をライン状に移動させることにより、プラスチックの表面に内部からの隆起による微小隆起物を形成することができ、その結果、微小隆起物を有する構造体（プラスチック）を作製することができる。
【００３１】
なお、レーザー照射により形成される隆起物は、通常、レーザーが照射される側の表面（図２では、表面１ａ）に形成される。また、プラスチックの表面において、隆起物が形成される位置としては、レーザーを照射するラインと対応した表面上の位置であり、例えば、図２で示されるように、レーザー３を表面１ａに垂直に且つライン８上をライン状に移動させながら照射する場合、隆起物は、該隆起物の中心部位（底面の円の中心部位）がライン８の垂直上の表面１ａ上にくるような位置に形成される。従って、１つのライン状に形成された隆起物は間隔をあけて形成されており、該隆起物間の間隔（すなわち、ライン８が形成された方向と平行な方向における間隔）としては、前述のように、隆起物の直径と同じかそれ以上の間隔となっている。このような１つのライン上における隆起物間の間隔（ライン上間隔）は特に制限されない。また、もちろん、１つのライン上における隆起物の数は特に制限されず、レーザーの照射条件やプラスチックの素材等に応じて適宜選択することができる。
【００３２】
また、複数のライン状に形成された隆起物の隣接するライン上における隆起物間の間隔（すなわち、ライン８が形成された方向に対して垂直な方向における間隔；ライン間間隔）としては、通常、ライン８の間隔Ｌと同等又はほぼ同等になる。
【００３３】
（レーザー照射前のプラスチック）
本発明では、レーザー（特に、超短パルスレーザー）のプラスチック内部への照射が有効に行われるためには、照射されるプラスチック（レーザー照射前の状態のプラスチック）は、波長４００ｎｍから８００ｎｍの可視光の波長領域で１０％以上の透過率を有することが望ましい。
【００３４】
また、レーザー照射前の状態のプラスチックとしては、そのガラス転移温度は、常温（２３℃）以上であることが一般的に望ましいが、１００℃以上であることが最適である。１００℃以上のガラス転移温度を有しているプラスチック材料を用いることにより、表面に微小隆起物を有するプラスチック構造体を高い精度で作製することができる。なお、超短パルスレーザーの照射により前記のような隆起物が形成されるメカニズムは、まだ詳細には解析されていない。
【００３５】
レーザー照射前の状態のプラスチックにおいて、熱的性質は、隆起物を形成する時の形成因子として働くだけでなく、隆起物の形成後の安定性にも影響を与えるため重要である。隆起物の形成後の安定性については、プラスチックの緩和現象による構造変化が関係し、ガラス転移温度が低い材料では緩和が起こり易く生成した隆起物の構造が不安定になる。
【００３６】
このようなパルスレーザー照射に使用されるプラスチックとしては、共重合体を含めた単一化学構造のポリマー材料からなるものだけでなく、異なる化学構造を有する複数のポリマー材料からなるポリマーアロイやポリマーブレンドでもよい。
【００３７】
また、パルスレーザー照射に使用されるプラスチックとしては、無機化合物や金属などの他の材料を分散状態で含んだ複合体であってもよく、異なるプラスチックや他の材料からなる層を含んだ２以上の層構造からなる積層体であってもよい。
【００３８】
具体的には、前記ポリマー材料の代表的な例として、例えば、メタクリル樹脂（ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）など）、スチレン系樹脂（ポリスチレンの他、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、メチルメタクリレート−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン−メチルメタクリレート共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）など）、ポリアミド、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリアリーレンエーテル（ポリフェニレンエーテルなど）、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン（ポリサルホン）、ポリエーテルスルホン（ポリエーテルサルホン）、ポリウレタン、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど）、ポリエーテルエーテルケトン類（ポリエーテルエーテルケトンやポリエーテルケトンケトンなど）等の熱可塑性樹脂などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３９】
また、本発明の効果が失われない範囲で、プラスチックには、着色剤（顔料、染料など）、耐候剤、酸化防止剤、安定剤、帯電防止剤、漂白剤、離型剤、相溶化剤などを添加・付与されていてもよい。
【００４０】
（レーザー）
レーザーとしては、通常、超短パルスレーザーが用いられる。超短パルスレーザーとしては、チタン・サファイア結晶を媒質とするレーザーや色素レーザーを再生・増幅して得られたフェムト秒パルスレーザーなどが好都合であり、使用されるパルス幅は１０-12秒から１０-15秒のオーダーのものが該当するが、通常は１００フェムト秒（１０-13秒）程度のものが使用される。使用波長は、可視光領域の４００ｎｍから８００ｎｍ、繰り返しは１Ｈｚから８０ＭＨｚの範囲で、通常は１０Ｈｚから５００ｋＨｚ程度の条件で使用される。レーザーパルスの出力は、数ｍＷから数百ｍＷ程度で使用される。なお、プラスチック材料に対して、内部における単位体積当たりに照射されるエネルギーは、超短パルスレーザーの照射エネルギー、プラスチック材料に照射する際に用いられる対物レンズの開口数（光源の絞り込み）、プラスチック材料への照射位置又は焦点の深さ、レーザーの焦点の移動速度などに応じて決められる。
【００４１】
また、本発明では、超短パルスレーザーの平均出力又は照射エネルギーとしては、特に制限されず、目的とする隆起物の大きさや形状等に応じて適宜選択することができ、例えば、５００ｍＷ以下（例えば、１〜５００ｍＷ）、好ましくは５〜３００ｍＷ、さらに好ましくは１０〜１００ｍＷ程度の範囲から選択することができる。
【００４２】
また、超短パルスレーザーの照射スポット径としては、特に制限されず、目的の隆起物の大きさやその形状、レンズの大きさや開口数又は倍率などに応じて適宜選択することができ、例えば、０．１〜１０μｍ程度の範囲から選択することができる。
【００４３】
なお、図２において、レンズ４は、レーザー３の光線の焦点を絞って合わせるために用いており、レーザーの焦点を絞って合わせる必要が無い場合は、レンズを用いる必要はない。レンズ４の開口数（ＮＡ）は、特に制限されず、対物レンズの倍率に応じて変更することができ、通常は、倍率としては１０〜５０倍、開口数としては０．３〜０．８程度の範囲から選択される。
【００４４】
このように、工程Ａ１と工程Ｂ１とは、同様の方法（すなわち、プラスチック内部にレーザーを照射して、プラスチック表面に該プラスチック内部からの隆起による微小隆起物を形成する方法）により行うことができる。
【００４５】
（金型材料被覆層の形成方法）
工程Ｂ２では、前記工程Ｂ１で形成された金型の原型の表面上に、金型材料を被覆している。該金型材料としては、有機系金型材料（例えば、プラスチック材料など）や、無機系金型材料（例えば、金属材料やその他の無機化合物など）を用いることができる。金型材料は単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。
【００４６】
本発明では、金型材料としては、無機系金型材料、特に、金属材料を好適に用いることができる。該金属材料としては、特に制限されず、金型として用いて成形材料を成形することができるものであればよい。金属材料には、金属単体の他、その他の金属化合物が含まれる。なお、下記に示される無電解メッキ又は電解メッキにより金型材料被覆層（金属被覆層）を微小隆起物を有するプラスチック（金型の原型）の表面に形成する場合は、金属材料としては、前記無電解メッキ又は電解メッキを行うことができるものが好ましい。具体的には、金属材料としては、例えば、ニッケル、銅、銀、金、パラジウム、カドミウム、亜鉛、スズ、鉛、クロム、アルミニウム等の金属や、真ちゅう、ニッケル−クロム合金、銅−ニッケル合金、亜鉛−ニッケル合金、金−銅合金等の合金などが挙げられる。
【００４７】
なお、前記有機系金型材料としてのプラスチック材料としては、微小隆起物を有するプラスチックの溶融温度よりも低い溶融温度を有するプラスチック材料を用いてもよい。有機系金型材料としてのプラスチック材料としては、金型として用いることができるプラスチック材料であれば特に制限されない。具体的には、有機系金型材料としてのプラスチック材料としては、例えば、メタクリル樹脂（ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）など）、スチレン系樹脂（ポリスチレンの他、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、メチルメタクリレート−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン−メチルメタクリレート共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体など）、ポリアミド、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリアリーレンエーテル（ポリフェニレンエーテルなど）、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン（ポリサルホン）、ポリエーテルスルホン（ポリエーテルサルホン）、ポリウレタン、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど）、ポリエーテルエーテルケトン類（ポリエーテルエーテルケトンやポリエーテルケトンケトンなど）などの熱可塑性樹脂や、レジスト材料などが挙げられる。なお、有機系金型材料の使用に際して、金型の原型としての微小隆起物を有するプラスチックと有機系金型材料とが接合しないように、該微小隆起物を有するプラスチックの表面を表面処理してもよい。
【００４８】
微小隆起物を有するプラスチック表面上に金型材料を被覆する方法としては、前記プラスチック表面に金型材料を被覆することができる方法であれば特に制限されない。例えば、金型材料として金属材料を用いる場合は、金型の原型（微小隆起物を有するプラスチック）の表面上に金属材料を堆積させることにより、金属材料により金型の原型の表面を被覆させて、金属材料被覆層を形成することができる。より具体的には、金属材料の被覆方法としては、例えば、無電解メッキを行う方法や、予め、微小隆起物を有するプラスチック表面に蒸着などにより導電性の賦与を行った後に電解メッキを行う方法を好適に採用することができる。なお、無電解メッキを行った後に、電解メッキが行われてもよい。無電解メッキの後に、電解メッキを行うことにより、メッキ金属層の厚みを増加させることができる。
【００４９】
無電解メッキは、例えば、微小隆起物を有するプラスチックを、市販のニッケルメッキ浴に浸漬させることにより、前記プラスチックの全表面にメッキ金属を析出させて、金属被覆層を形成することができる。なお、無電解メッキを行う前にクロム酸処理などの前処理を行うことができる。
【００５０】
金型材料被覆層の厚みは特に制限されず、例えば、２００μｍ以上（例えば、０．２〜５ｍｍ）、好ましくは０．５〜３ｍｍ程度の範囲から選択することができる。金型材料被覆層の厚みが薄すぎると、金型としての強度が低下する。
【００５１】
このように、工程Ｂ２では、金型の原型（微小隆起物を有するプラスチック）の表面上に金型材料を被覆させて、金型材料からなる微小構造が転写された金型材料被覆層を金型の原型の表面上に形成しているので、該金型材料被覆層の内部側の面（微小隆起物を有するプラスチックの表面と接触している面）は、微小隆起物を有するプラスチックの表面の形状に対応している。すなわち、金型材料被覆層は、前記プラスチックの表面の微小隆起物に対応する形状の微小陥没部を有している。
【００５２】
（金型の分離方法）
工程Ｂ３では、前記工程Ｂ２で形成された金型材料被覆層を金型の原型から分離して、金型（微小隆起物を有する構造体形成用金型）を得ている。金型材料被覆層および金型の原型を分離させる方法としては、前記金型材料被覆層を、前記金型の原型（プラスチック部材）から分離させることができる方法であれば特に制限されず、例えば、金型材料被覆層からプラスチック部材を抜き取る方法、剥離させる方法またはエッチングにより除去する方法などを１種で又は２種以上組み合わせて採用することができる。
【００５３】
なお、前記工程Ｂ１〜工程Ｂ３を含む作製方法により作製された金型の形状を他の金型材料（例えば、プラスチック材料など）により写し取って、他の金型材料（プラスチック材料等）による金型を作製して、該金型を利用して光散乱反射板を作製することもできる。例えば、前記工程Ｂ１〜工程Ｂ３を含む作製方法により得られた金属材料からなる金型（又は金属被覆層）の表面をプラスチック材料で被覆して、該被覆により形成されたプラスチック材料被覆層を、前記金属材料からなる金型（又は金属被覆層）から分離させて、プラスチック材料からなる金型を得ることができる。
【００５４】
（成形材料の充填方法）
工程Ｂ４では、前記工程Ｂ３で作製された金型に、成形材料を充填している。前記成形材料としては、特に制限されず、例えば、有機系成形材料、無機系成形材料のいずれであってもよいが、有機系成形材料を好適に用いることができる。成形材料は単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。
【００５５】
前記有機系成形材料としては、プラスチック材料が好ましく、該プラスチック材料のなかでも特に熱可塑性樹脂が好適である。熱可塑性樹脂などのプラスチック材料としては、例えば、メタクリル樹脂（ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）など）、スチレン系樹脂（ポリスチレンの他、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、メチルメタクリレート−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン−メチルメタクリレート共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体など）、ポリアミド、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリアリーレンエーテル（ポリフェニレンエーテルなど）、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン（ポリサルホン）、ポリエーテルスルホン（ポリエーテルサルホン）、ポリウレタン、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど）、ポリエーテルエーテルケトン類（ポリエーテルエーテルケトンやポリエーテルケトンケトンなど）などが挙げられる。
【００５６】
また、有機系成形材料としては、例えば、天然ゴム（ＮＲ）、スチレン・ブタジエンゴム（ＳＢＲ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、ニトリルゴム、アクリロニトリル・ブタジエンゴム（ＮＢＲ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、イソプレンゴム（ＩＲ）、ブチルゴム（ＩＩＲ）、ノルボルネンゴム（ＮＯＲ）、エチレン・プロピレンゴム（ＥＰＭ）、エチレン・プロピレン・ジエンゴム（ＥＰＤＭ）、アクリルゴム（ＡＣＭ）、フッ素ゴム（ＦＫＭ）、シリコーンゴム、ウレタンゴム、多硫化ゴム、フォスファゼンゴム等のゴム材料や、ポリエチレン系エラストマー等のオレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、スチレン系エラストマー、塩化ビニル系エラストマー、エステル系エラストマー、アミド系エラストマー、フッ素系エラストマー、ジエン系エラストマー等のエラストマー材料の他、導電性高分子などであってもよい。なお、有機系成形材料には、無機化合物や金属化合物などの各種材料等が含まれていてもよい。
【００５７】
また、無機系成形材料としては、金属化合物（金属単体を含む）やその他の無機化合物などを適宜選択して用いることができる。なお、無機系成形材料を用いる場合、金型としては、プラスチック材料により作製された金型を用いることができる。
【００５８】
成形材料を金型に充填する方法としては、特に制限されず、例えば、成形材料が熱可塑性樹脂である場合、一般的に、溶融状態の熱可塑性樹脂を金型に流し込む方法が用いられる。金型に溶融状態の熱可塑性樹脂を流し込んだ後は、冷却することにより、熱可塑性樹脂を固化することができる。
【００５９】
（充填物の離型方法）
工程Ｂ５では、工程Ｂ４で金型に充填された充填物（成形材料からなる充填物）を金型から離型させることにより、微小構造が転写された微小隆起物を有する構造体（成形体）を得ている。例えば、成形材料として熱可塑性樹脂を用いた場合、冷却固化された熱可塑性樹脂を金型から抜き取ったり、剥離したりすることにより、離型することができる。
【００６０】
また、本発明では、工程Ｂ５で得られた、微小構造が転写された微小隆起物を有する構造体（成形体）を、金型の原型として用いて、前記工程Ｂ１〜Ｂ５を含む工程の方法と同様にして、新たな微小構造が転写された微小隆起物を有する構造体（成形体）を作製することも可能である。
【００６１】
（光沢性材料層の形成方法）
工程Ａ２や工程Ｂ６では、微小隆起物の面上（微小隆起物側の表面）に光沢性材料層を形成しており、これにより、光散乱反射面を有する光散乱反射板が作製することができる。光沢性材料としては、光沢性材料層の形成により、光沢性を発揮できる材料であれば特に制限されない。光沢性材料としては、無機系光沢性材料、有機系光沢性材料のいずれであっても用いることができる。光沢性材料は単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。
【００６２】
無機系光沢性材料としては、金属材料を好適に用いることができるが、雲母などの光沢性無機材料（非金属系の光沢性無機材料）も用いることができる。なお、金属材料には、金属単体の他、その他の金属化合物が含まれる。また、有機系光沢性材料には、例えば、微小構造により光沢性が発揮される光沢性有機材料が含まれる。
【００６３】
光沢性材料としての金属材料としては、例えば、ニッケル、銅、銀、金、パラジウム、カドミウム、亜鉛、スズ、鉛、クロム、アルミニウム等の金属や、真ちゅう、ニッケル−クロム合金、銅−ニッケル合金、亜鉛−ニッケル合金、金−銅合金等の合金などが挙げられる。
【００６４】
光沢性材料層の形成方法としては、例えば、光沢性材料として金属材料を用いた場合、蒸着方法、スパッタリング方法、イオンプレーティング方法や無電解メッキ方法の他、予め、微小隆起物を有する構造体表面に蒸着などにより導電性の賦与を行った後に電解メッキを行う方法などを好適に採用することができる。なお、これらの方法は単独で又は２種以上組み合わせて用いることができる。例えば、無電解メッキを行った後に、電解メッキが行われてもよい。無電解メッキ方法としては、前記金型材料被覆層を形成する方法における無電解メッキ方法と同様にして行うことができる。
【００６５】
光沢性材料層の厚みは、特に制限されず、例えば、１０ｎｍ以上（例えば、１０〜２０００ｎｍ）、好ましくは１０〜１０００ｎｍ程度の範囲から選択することができる。
【００６６】
本発明の光散乱反射板は、前述のような工程Ａ又は工程Ｂを具備する方法により作製することができる。このように、光散乱反射面の形成に際して、レーザー照射を利用しているので、光散乱反射面における隆起物（隆起部又は凸部）が微小な構造であっても、精密に制御された隆起物を有する光散乱反射板を容易に作製することができる。
【００６７】
光散乱反射板は、通常、板状やシート状の形態（又は形状）で製造されるが、他の形態を有していてもよい。光散乱反射板が板状又はシート状の形態を有する場合、その厚みとしては、特に制限されず、例えば、５μｍ〜１０ｍｍ（好ましくは１０μｍ〜５ｍｍ、さらに好ましくは２０〜１００μｍ）程度の範囲から選択することができる。このように、光散乱反射板の厚みが薄くても、レーザー照射を利用しているので、容易に且つ精密に制御された隆起物からなる光散乱反射面を形成することができる。従って、光散乱反射性が優れているとともに、輝度特性が優れている。なお、光散乱反射板の厚みには、通常、光散乱反射面における隆起物の高さは含まれていない。
【００６８】
［反射型液晶表示装置］
本発明の反射型液晶表示装置は、電気的ON／OFFにより光透過制御可能な液晶パネルと、前記光散乱反射面Ａ又は光散乱反射面Ｂを有する光散乱反射板とが組み合わせられている。具体的には、反射型液晶表示装置としては、例えば、図３で表される反射型液晶表示装置などが挙げられる。図３は本発明の反射型液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。図３において、９は反射型液晶表示装置、９１は液晶セル、９２、９２ａは偏光板、９３は光散乱反射板、９４は保護層である。図３で示される反射型液晶表示装置９では、光散乱反射板９３は、液晶セル９１の下部側（内面側）に設置されており、通常、光散乱反射板９３の光散乱反射面側が液晶セル９１側になるように設置される。なお、偏光板９２、偏光板９２ａ、保護層９４は、必要に応じて設けられている。また、偏光板９２および偏光板９２ａは、何れか一方のみが用いられていてもよく、両方が用いられていてもよい。
【００６９】
光散乱反射板９３は、前記光散乱反射面Ａ又は光散乱反射面Ｂを有する光散乱反射板である。反射型液晶表示装置９の上面からの入射される入射光による光は、光散乱反射板９３で光散乱反射され、これにより、反射型液晶表示装置は均一な輝度で表示されている。このように、反射型液晶表示装置では、光散乱反射板が、電気的ON／OFFにより光透過制御可能な液晶パネルと組み合わされている。なお、電気的ON／OFFにより光透過制御可能な液晶パネルとしては、特に制限されず、例えば、図３で示されるように、液晶セルを有する液晶パネルが挙げられる。もちろん、偏光板や保護層の他、位相差板などを必要に応じて適宜用いることができる。
【００７０】
本発明の反射型液晶表示装置は、前記光散乱反射板を有しているので、該光散乱反射板の光散乱反射面の微小隆起構造（微細凹凸構造）に基づいて入射光が良好に乱反射されて拡散し、指向性やギラギラした見栄えが抑制又は防止され、明暗のムラが少ない又はない反射光が形成される。すなわち、本発明の反射型液晶表示装置は、全面的に明るく且つ該明るさの均一性が良好である反射光が得られるため、視認性が優れている。
【００７１】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。
【００７２】
実施例１
０．０５ｍｍ厚さの、ガラス転移温度が１６０℃のポリカーボネート（ＰＣ）シート内部（深さ２５μｍ）に、照射波長８００ｎｍ、パルス幅１５０フェムト秒、繰り返し２００ｋＨｚのチタン・サファイア・フェムト秒パルスレーザーを、照射エネルギー３０ｍＷ、対物レンズの倍率１０倍で、照射スポット約３μｍ径、照射方向に対して直角方向のサンプルの移動速度５００μｍ／秒の条件で照射したところ、ＰＣシートの表面に隆起物が形成された。次に、このＰＣシートの隆起物が形成された表面に、銀を厚みが１００ｎｍとなるように蒸着して、光散乱反射板を作製した。該光散乱反射板について、電子顕微鏡を用いて、その表面の形態及び形状の観察を行ったところ、表面には直径２２μｍ、高さ１５μｍの釣り鐘形状の隆起物が２７μｍ間隔で形成されていることが観察された。
【００７３】
実施例２
０．０５ｍｍ厚さの、ガラス転移温度が−５０℃のアクリロニトリル−スチレン（ＡＳ）樹脂シートの内部（深さ３０μｍ）に、実施例１と同じ超短パルスレーザーを、対物レンズ１０倍を用い、照射エネルギーを２０ｍＷとしたこと以外は実施例１と同じ条件で照射したところ、ＡＳ樹脂シートの表面に隆起物が形成された。次に、このＡＳ樹脂シートの隆起物が形成された表面に、実施例１と同様にして、銀を厚みが１００ｎｍとなるように蒸着して、光散乱反射板を作製した。また、実施例１と同様にして該光散乱反射板についての表面の形態及び形状の観察を行ったところ、表面には直径２０μｍ、高さ５μｍ、窪み３μｍのカルデラ形状の隆起物が２５μｍ間隔で形成されていることが観察された。
【００７４】
実施例３
０．０５ｍｍ厚さの、ガラス転移温度が１０５℃のポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）シートの内部（深さ５μｍ）に、実施例１と同じ超短パルスレーザーを、照射エネルギーを７ｍＷ、移動速度を２５μｍ／秒としたこと以外は実施例１と同じ条件で照射したところ、ＰＭＭＡシートの表面に隆起物が形成された。次に、このＰＭＭＡシートの隆起物が形成された表面に、実施例１と同様にして、銀を厚みが１００ｎｍとなるように蒸着して、光散乱反射板を作製した。また、実施例１と同様にして該光散乱反射板についての表面の形態及び形状の観察を行ったところ、表面には直径８μｍ、高さ３μｍの円錐形状の隆起物が１４μｍ間隔で形成されていることが観察された。
【００７５】
実施例４
０．０５ｍｍ厚さの、ガラス転移温度が２２０℃のポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）シートの内部（深さ５μｍ）に、実施例３と同じ超短パルスレーザーを、照射エネルギーを１０ｍＷとしたこと以外は実施例３と同じ条件で照射したところ、ＰＥＳシートの表面に隆起物が形成された。次に、このＰＥＳシートの隆起物が形成された表面に、実施例１と同様にして、銀を厚みが１００ｎｍとなるように蒸着して、光散乱反射板を作製した。また、実施例１と同様にして該光散乱反射板についての表面の形態及び形状の観察を行ったところ、表面には直径１１μｍ、高さ５μｍの半球形状の隆起物が１７μｍ間隔で形成されていることが観察された。
【００７６】
実施例５
実施例１と同じＰＣシートに、実施例１と同じ超短パルスレーザーを、照射エネルギーを１０ｍＷ、焦点深さを５μｍとしたこと以外は実施例１と同じ条件で照射したところ、ＰＣシートの表面に隆起物が形成された。次に、このＰＣシートの隆起物が形成された表面に、実施例１と同様にして、銀を厚みが１００ｎｍとなるように蒸着して、光散乱反射板を作製した。また、実施例１と同様にして該光散乱反射板についての表面の形態及び形状の観察を行ったところ、表面には直径１１μｍ、高さ４μｍのテラス形状の隆起物が１７μｍ間隔で形成されていることが観察された。
【００７７】
実施例６
実施例１により得られた、表面に隆起物を有するＰＣシートを金型の原型として用いた。この金型の原型（表面に微小隆起物を有するプラスチック）を、濃度：９８重量％の硫酸（「９８％硫酸」と称する場合がある）、無水クロム酸及び９８％硫酸、純水、濃度：３５重量％の塩酸、純水、９８％硫酸、純水に、この順で、順次浸漬して、無電解メッキ前の前処理を行った後、ニッケルによる無電解メッキを行って、表面に微小隆起物を有するプラスチックの表面上にニッケルを０．８ｍｍの厚みまで堆積させた後、ニッケルにより被覆されたプラスチックを剥離させて、ニッケルからなる金型を得た。
【００７８】
このニッケルからなる金型に、ＡＳ樹脂をテトラヒドロフランに溶解したＡＳ樹脂溶液を流し込んで、乾燥して固化させた後、型から抜いて、厚み６５μｍで表面に隆起物が形成されているＡＳ樹脂シートを得た。次に、このＡＳ樹脂シートの隆起物が形成された表面に、実施例１と同様にして、銀を厚みが１００ｎｍとなるように蒸着して、光散乱反射板を作製した。また、実施例１と同様にして該光散乱反射板についての表面の形態及び形状の観察を行ったところ、表面には直径２２μｍ、高さ１５μｍの釣り鐘形状の隆起物が２７μｍ間隔で形成されていることが観察された。
【００７９】
（評価）
実施例１〜６で得られた光散乱反射板を用いて、反射型液晶表示装置を作製して、視認性を評価した。具体的には、液晶セルの下面に、偏光板、実施例１〜６で得られた各光散乱反射板を、この順で且つ光散乱反射板における光散乱反射面（隆起物側の面）が液晶セル側となるように貼り合わせ、一方、前記液晶セルの上面に偏光板を貼り合わせ、さらにその表面に保護層を形成して、図３で示されるような構造の反射型液晶表示装置を作製した。この反射型液晶表示装置について、上面から入射光を入射させて、表示面の視認性を観察したところ、いずれの実施例に係る反射型液晶表示装置でも、その反射光に指向性やギラギラした見栄えは認められず、明暗ムラのない光度の均一性に優れる反射光が観察された。従って、実施例に係る反射型液晶表示装置は優れた視認性が発揮されている。
【００８０】
【発明の効果】
本発明によれば、光散乱反射板は、優れた光拡散性、及び輝度特性を有しているとともに、容易に製造することができる。また、前記光散乱反射板を有する反射型液晶表示装置は、視認性が良好である。しかも、製造時のゴミの発生が少なく、優れた環境性で製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】光散乱反射板の例を模式的に示す概略鳥瞰図である。
【図２】プラスチック内部に超短パルスのレーザーを照射する一例を模式的に示す概略鳥瞰図である。
【図３】本発明の反射型液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
11〜15 光散乱反射板
11a〜15a 光沢性材料層
11b〜15b プラスチック
21〜25 光散乱反射面
１ プラスチックシート
1a プラスチックシート１の表面（上面）
Ｔ プラスチックシート１の厚さ
３ パルス幅が１０-12秒以下である超短パルスレーザー
４ レンズ
５ レーザー３の焦点
６ レーザー３の照射方向
７ レーザー３の焦点５の移動方向
８ レーザー３の焦点５をライン状に移動させる際のライン
ｄ プラスチックシート１の表面1aと、レーザー３の焦点５との距離
Ｌ ライン８における近接したライン間の間隔
９ 反射型液晶表示装置
91 液晶セル
92、92a 偏光板
93 光散乱反射板
94 保護層
Claims (10)
- 厚みが５μｍ〜１０ｍｍであり、光散乱反射面を有する光散乱反射板であって、下記の光散乱反射面Ａ又は光散乱反射面Ｂを有することを特徴とする光散乱反射板。
光散乱反射面Ａ：プラスチック内部へのレーザーの照射によりプラスチック表面に形成された、該プラスチック内部からの隆起による、底面の直径０．３〜１００μｍ、高さ０．１〜５０μｍであり、円錐状、釣り鐘状、カルデラ状、テラス状ないしは半球状の微小隆起物側の表面に、厚みが１０〜２０００ｎｍであるとともに金属材料からなる光沢性材料層が形成されてなる光散乱反射面
光散乱反射面Ｂ：プラスチック内部へのレーザーの照射によりプラスチック表面に該プラスチック内部から隆起して形成された微小隆起物を有する構造体を金型の原型として金型材料の被覆により作製された金型に、成形材料を充填し、この充填物を金型から離型して形成された、微小隆起構造の転写による、底面の直径０．３〜１００μｍ、高さ０．１〜５０μｍであり、円錐状、釣り鐘状、カルデラ状、テラス状ないしは半球状の微小隆起物側の表面に、厚みが１０〜２０００ｎｍであるとともに金属材料からなる光沢性材料層が形成されてなる光散乱反射面 - レーザーが、パルス幅が１０-12秒以下の超短パルスのレーザーである請求項１記載の光散乱反射板。
- レーザー照射前の状態のプラスチックが、１００℃以上のガラス転移温度を有するプラスチックである請求項１又は２記載の光散乱反射板。
- レーザー照射前の状態のプラスチックが、ポリマー材料と他の材料との複合体である請求項１〜３の何れかの項に記載の光散乱反射板。
- 前記請求項１〜４の何れかの項に記載の厚みが５μｍ〜１０ｍｍである光散乱反射板を作製する方法であって、下記の工程Ａ又は工程Ｂを具備することを特徴とする光散乱反射板の作製方法。
工程Ａ：プラスチック内部にレーザーを照射して、プラスチック表面に該プラスチック内部からの隆起による、底面の直径０．３〜１００μｍ、高さ０．１〜５０μｍであり、円錐状、釣り鐘状、カルデラ状、テラス状ないしは半球状の微小隆起物を形成し、さらに前記微小隆起物側の表面に、厚みが１０〜２０００ｎｍであるとともに金属材料からなる光沢性材料を付着させることにより、光散乱反射面を形成する工程
工程Ｂ：プラスチック内部にレーザーを照射して、プラスチック表面に該プラスチック内部から隆起して形成された微小隆起物を有する構造体を形成し、該微小隆起物を有する構造体を金型の原型として金型材料の被覆により金型を作製し、さらに該金型に成形材料を充填し、この充填物を金型から離型して、成形体表面に微小隆起構造の転写による、底面の直径０．３〜１００μｍ、高さ０．１〜５０μｍであり、円錐状、釣り鐘状、カルデラ状、テラス状ないしは半球状の微小隆起物を形成し、さらに前記微小隆起物側の表面に、厚みが１０〜２０００ｎｍであるとともに金属材料からなる光沢性材料を付着させることにより、光散乱反射面を形成する工程 - プラスチック内部に外部よりパルス幅１０-12秒以下の超短パルスのレーザーを、該超短パルスのレーザーの照射方向に対して垂直な方向に且つプラスチック表面に対して平行な方向に、超短パルスのレーザーの焦点をライン状に移動させながら照射する請求項５記載の光散乱反射板の作製方法。
- 超短パルスのレーザーを、プラスチック表面から５〜１５０μｍの深さに焦点を合わせて照射する請求項５又は６記載の光散乱反射板の作製方法。
- 工程Ｂで用いられる金型材料が金属材料である請求項５〜７の何れかの項に記載の光散乱反射板の作製方法。
- 工程Ｂで用いられる成形材料がプラスチック材料である請求項５〜８の何れかの項に記載の光散乱反射板の作製方法。
- 電気的ON／OFFにより光透過制御可能な液晶パネルと、厚みが５μｍ〜１０ｍｍである光散乱反射板とが組み合わせられている反射型液晶表示装置において、前記光散乱反射板が、光散乱反射面として、下記の光散乱反射面Ａ又は光散乱反射面Ｂを有することを特徴とする反射型液晶表示装置。
光散乱反射面Ａ：プラスチック内部へのレーザーの照射によりプラスチック表面に形成された、該プラスチック内部からの隆起による、底面の直径０．３〜１００μｍ、高さ０．１〜５０μｍであり、円錐状、釣り鐘状、カルデラ状、テラス状ないしは半球状の微小隆起物側の表面に、厚みが１０〜２０００ｎｍであるとともに金属材料からなる光沢性材料層が形成されてなる光散乱反射面
光散乱反射面Ｂ：プラスチック内部へのレーザーの照射によりプラスチック表面に該プラスチック内部から隆起して形成された微小隆起物を有する構造体を金型の原型として金型材料の被覆により作製された金型に、成形材料を充填し、この充填物を金型から離型して形成された、微小隆起構造の転写による、底面の直径０．３〜１００μｍ、高さ０．１〜５０μｍであり、円錐状、釣り鐘状、カルデラ状、テラス状ないしは半球状の微小隆起物側の表面に、厚みが１０〜２０００ｎｍであるとともに金属材料からなる光沢性材料層が形成されてなる光散乱反射面
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