JP4076855B2 - 酢酸ビニル製造の空間時間収率を向上させた高選択性シェル型含浸触媒 - Google Patents

酢酸ビニル製造の空間時間収率を向上させた高選択性シェル型含浸触媒 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の背景】
1.発明の分野
この発明は、特定の特徴を有するシェル型Pd−Au触媒及びその製造方法に関する。これらは、アルカン酸アルケニル(例えば酢酸ビニル)の生成において、アルケン(例えばエチレン)と、アルカン酸(例えば酢酸)及び酸素との蒸気相反応を触媒し、空間時間収率、比活性を高め、アルケンからアルカン酸アルケニルへの変換(例えば、エチレンから酢酸ビニルへ)の選択性を高めるのに有効である。
【0002】
2.関連技術の説明
酢酸ビニル(Vinyl Acetate;VA)は、ポリ(酢酸ビニル)を製造するためのモノマーとして需要が多い化学製品である。この重要なポリマーとその誘導体は、接着剤、塗料、コーティング剤、フィルム、積層材料(laminating materials)などにも使用が拡大している。VAの製造については、これまでにも数多くの技術が文献で報告されている。主たる技術は、エチレンと、酢酸及び酸素との反応で、触媒を用いたガス相反応に関するものである。現在、この反応に広く使用される触媒の種類として、T.C.ビソットに付与された米国特許第4048096号に記載された表面シェル型含浸触媒がある。
【0003】
ビソットの米国特許第4048096号は、温度150℃及び反応圧力120psig( . 82 MPa)で測定したとき、1時間当り、貴金属(Pd+Au)1グラムについて約83グラム以上の比活性を有する触媒を開示している。この触媒は、(1)粒径約3〜約7mm、細孔容積(pore volume)が約0.2〜約1.5ml/gの触媒担持粒子と、(2)触媒担持体の表面から約0.5mm以内の表面層中に分布し、触媒1リットル当り約1.5〜約5.0グラムの量で存在するパラジウムと、触媒1リットル当り約0.5〜約2.25グラムの量で存在する金と、(3)触媒1リットル当り約5〜約60グラムのアルカリ金属酢酸塩と、から成る。パラジウムは活性触媒金属であり、金は助触媒(promoter)である。
【0004】
ビソットの'096特許の触媒作製方法は、(1)触媒担持体に水溶性パラジウムと金化合物の水溶液を含浸する工程、(2)含浸した触媒担持体を、水溶性パラジウム及び金化合物と反応可能な非水溶性パラジウム及び金化合物を形成することのできる化合物(望ましくはメタケイ酸ナトリウム)の溶液と接触させることにより、触媒担持体表面上に非水溶性パラジウムと金の化合物を析出させる工程、(3)還元剤で処理することにより、担持体表面上の非水溶性パラジウム及び金化合物を、パラジウム及び金に変換する工程、(4)触媒を水で洗浄する工程、(5)触媒を乾燥する工程、(6)触媒にアルカリ金属酢酸塩の助触媒(例えば、カリウム助触媒)を含浸する工程、(7)触媒を乾燥する工程、を含んでいる。
【0005】
Pd−Auが担持された従来の触媒と比べて、ビソットの'096特許が改良され点は、触媒担持体の表面から約0.5mm以下内部の表面層として、パラジウムと金を含む触媒を分配することである。含浸工程は、パラジウムと金の化合物の水溶液を用いて行われ、該水溶液の全容積は、触媒担持体の吸収能力の約95%〜約100%である。ビソット特許の含浸工程は、濡れた触媒担持体にアルカリ金属ケイ酸塩溶液を含ませることによって行われ、アルカリケイ酸塩の量は、アルカリ金属ケイ酸塩溶液を触媒担持体と約12〜24時間接触させた後に溶液のpHが約6.5〜9.5になる量である。ビソット特許の全ての実施例では、析出化合物のPd及びAuへの還元は、ヒドラジン溶液と反応させることにより行われる。
【0006】
ビソット特許よりも以前から明らかなことであるが、酢酸ビニル(VA)製造技術における問題は、常に、空間時間収率(Space-Time Yield;STY)と触媒の比活性(Specific Activity;SA)を向上させることであった。ビソット特許では、このシェル型触媒について、空間時間収率、触媒の比活性、及び/又はその選択性(selectivity)を改良するものである。
【0007】
W.J.バーリーに付与された米国特許第5179056号、第5189004号及び第5342987号には、ビソット特許のシェル型含浸触媒によってそのSTYが改善されるのは、ナトリウムが実質的に存在しない場合であると報告されている。例えば、'056特許のようにナトリウムが実質的に存在しない成分から調製される場合、又は、'004特許のように触媒のナトリウム分を水又はカリウム助触媒の水溶液で洗浄するか、若しくは、'987特許のように製造の中間段階でイオン交換溶液を用いて触媒を洗浄することによってナトリウムを除去する場合である。上記特許はすべて、例示された触媒はヒドラジン溶液で還元されている。米国特許第5693586号では、ビソット特許のシェル型含浸触媒は、全てカリウム塩化合物である試薬から作られ、二酸化炭素の選択性が改善された触媒であることが報告されている。この特許では、触媒の実施例は全て、150℃の温度にてエチレンで還元されている。
【0008】
米国特許第5274181号において、バーリーらは、ビソット特許のシェル型含浸触媒のSTYが改善されるのは、Pdが2.5g/L(0.33wt%)〜6.1g/L(1.05wt%)で、AuとPdの重量比が0.6対1.25の範囲で調製された場合であると報告している。この特許の触媒の実施例は全て、ヒドラジン溶液との反応によって還元される。
【0009】
米国特許第5567839号では、ケイ酸ナトリウムではなくバリウム塩を使用してPdとAu化合物をシェルの中へ析出させることによって、ビソット特許のシェル型含浸触媒のSTYが改善されることが報告されている。この特許の触媒の実施例は全て、ヒドラジン溶液との反応によって還元される。
【0010】
酢酸ビニル合成の際のパラジウム−金触媒の選択は、多孔性触媒担持体基体の外表面及び/又は内表面上でパラジウム金属と金金属の分布がどの程度均一であるかによって影響を受ける。これは、例えば、エチレン、酢酸及び酸素蒸気相反応における二酸化炭素の選択性と酸素の変換と同様である。
【0011】
パラジウムと金の両金属を触媒担持体上で均一に分布させるために、触媒調製工程の操作を行ない、及び/又は、様々な孔寸法の担持基体を使用することが行われている。米国特許第5314858号及び米国特許第5322710号には、酢酸ビニル製造のために高活性触媒を調製することに関して、有用な改良が具体的に開示されている。これらの文献には、水溶性貴金属化合物が、非水溶性化合物として担持体表面に固定される析出工程を操作することにより、担持体上のパラジウムと金の分布を改善するための方法が具体的に開示されている。米国特許第5314858号では、貴金属の担持体上への固定は、大量の固定化剤(fixing agent)の使用を回避するために、2つの別々の析出工程を用いて行われる。米国特許第5322710号では、少なくとも初期析出中は、触媒を含浸した担持体を反応溶液の中に浸漬し、触媒含浸担持体を物理的に回転させることによって貴金属を固定することが記載されている。回転浸漬処理によって触媒を生じ、坦体上に析出した金属が、薄いシェルの中の担持体表面上に、より均一に分布されると言われている。これらの特許の触媒の実施例は全て、150℃の温度でエチレンを用いて還元される。
【0012】
上述のような改良が行われてはいるが、酢酸ビニル製造のための特性に関して、さらに改良された触媒の開発に対する関心が寄せられている。
【0013】
【発明の要旨】
本発明は、Pd−Auからなるシェル型含浸触媒及びその製造方法に関するものである。本発明は、エチレンと、酢酸及び酸素との蒸気相反応を触媒するのに有効であり、空間時間の収率、比活性を高め、エチレンから酢酸ビニルへの選択性を高めるのに有効である。
【0014】
Pd−Auのシェル型含浸触媒は、シリカ担持体にパラジウムと金の塩又は酸の水溶液を含浸させることにより、Pd量を触媒1L当たり約1.8〜約7.2g/Lとし、AuとPdとの重量比が0.3:2.0となるように、シリカ担持体上に作られる。この塩又は酸は、高純度のテトラクロロパラジウム酸カリウム(potassium tetrachlorpalladate)(純度99.99%)及びテトラクロロ金酸水素(hydrogen tetrachlorauate)(純度99.998%)が望ましい。次に、含浸担持体を、析出剤(precipitating agents)として、アルカリ金属メタケイ酸塩又はアルカリ金属水酸化物又はそれらの混合物を用いた溶液と反応させることにより、PdとAuの非水溶性化合物が担持体の上に析出する。なお、PdとAuの塩を中和するのに理論上必要な量を超える量のメタケイ酸ナトリウム溶液を、析出剤として使用することが望ましい。
【0015】
含浸した担持体は、次に、脱イオン水で洗浄する。洗浄は、最後にデカントした洗浄水が硝酸銀試験で陰性になるまで行ない、その後、水分を除去するために乾燥する。乾燥した担持体は、その表面にPdとAuの化合物が析出しており、該担持体を、150℃より高い温度でエチレン又は水素と反応させる。なお、エチレンの場合は310℃以下、水素の場合は299℃以下の温度で反応させる。なお、エチレンの場合は250℃〜325℃の温度、水素の場合は250℃〜299℃の温度で10分〜1時間反応させることが望ましく、PdとAuのほぼ全てが、遊離金属(free metal)の状態になるまで還元し、その後、担持体が乾燥ベースで触媒全重量の6〜7重量%になるまで、酢酸カリウムを含浸させる。その後、触媒を乾燥する。
【0016】
前述の触媒の空間時間収率(STY)と触媒の比活性(SA)は、同一組成の触媒では、エチレン又は水素を用いて150℃で還元されるものよりも約20〜30%大きい。140℃〜160℃の温度範囲で、ガスの空間速度が4500/hrのとき、触媒1Lにつき1時間当たりのSTYが600g以上の酢酸ビニルとなる反応条件で運転すると、触媒は、酢酸ビニルの選択性が90%以上であることを示す。さらに、そのような触媒は作用している時間が長い。
【0017】
【発明の詳細な記述】
この発明は、アルカン酸アルケニルの製造に用いられ、アルケン、アルカン酸及び酸素含有ガスの気相反応を促進するための触媒を含んでいる。触媒は、酢酸ビニルを製造するために用いられ、エチレン、酢酸及び酸素含有ガスの気相反応にとって特に望ましい。
【0018】
触媒作用を受ける気相反応工程において、エチレンは、不均一なPd−Auのシェル型触媒を通じて、蒸気相中で、酢酸及び酸素と発熱反応し、酢酸ビニルと水を生成する。
CH2=CH2+CH3CO2H+1/2O2→CH3CO2CH=CH2+H2
ΔH=−178kJ/mol
【0019】
酢酸ビニルの反応工程は、一般的には、140〜180℃、5〜10気圧(atm)、及びガス1時間当りの空間速度(gas hourly space velocity;GHSV)が約4500/hr-1で行われる。これにより、エチレン8〜10%と酢酸15〜40%の変換が行われる。酸素変換は最大90%が可能で、その収率は、酢酸の場合が最大99%、エチレンの場合が最大94%である。
【0020】
反応温度は、140℃〜200℃である。一般的には、望ましい反応温度の範囲は、140℃〜180℃であって、140℃〜160℃が最も望ましい。140℃より低い温度では、反応速度が遅く、酢酸を蒸気相に保つことが困難である。180℃より高い温度では、触媒によっては、エチレンと酢酸が副産物に変換される量が多くなる。副産物の主なものは二酸化炭素である。一般的に、他の副産物、アセトアルデヒド及び酢酸エチルが生成する量は、約1%以下である。
【0021】
反応圧力は、70〜200psig( . 48〜1 . 38 MPa)である。一般的に、商業的プラントで用いられている圧力は、100〜150psig( . 69〜1 . 03 MPa)である。圧力が高くなると、酢酸を蒸気相に維持するのが困難になるが、圧力が70psig( . 48 MPa)より低くなると、反応のSTYの低下が著しくなる。
【0022】
反応ガスの全容積は、ガス1時間当りの空間速度(GHSV)としては、1リットルの触媒1時間当たり約3000〜5000STPリットルである。GHSV値が高くなると、酢酸ビニルの製造のための選択値が有意的に低下することなく、STYとSAの値がより高くなる。したがって、GHSV値は、例えば4500のように、高い方が望ましい。反応ガスの組成を容積%で表すと、エチレンが27〜60%、不活性成分15〜55%、酢酸12〜17%、酸素6〜8%である。反応は、過剰のエチレン及び酢酸で行われる。そのようにする主たる理由は、可燃性/爆発性の混合物が形成されるのを避けるためである。爆発性混合物を避ける必要があり酸素量を約9%以上にすることはできない。望ましい範囲は、エチレン50〜60%、不活性成分20〜50%、酢酸12〜15%、酸素6〜7%である。商業的には、酸素に代えて空気を用いたり、供給物中のエチレンの割合を多くすることはしばしば行われる。
【0023】
本発明の触媒製造工程で使用される担持粒子(support particles)は、固体の粒子状物質である。この物質には、パラジウム、金及びカリウム助触媒が含浸されることが可能であり、酢酸ビニルのようなアルカン酸アルケニルの製造条件下では不活性である。そのような担持粒子の例として、粒子状シリカ、アルミナ及びシリカ-アルミナを挙げることができる。シリカは、望ましい担持体(support)である。担持体は、1グラム当り100〜800平方メートルの表面積を有することが望ましい。平均直径5〜6mm、表面積が1グラム当り150〜200平方メートル、細孔容積が0.6〜0.7ml/gのシリカビーズ、例えば、Sud Chemie AGが販売する「KA−160」は、最も望ましい担持材料の一例である。
【0024】
本発明の方法に使用される水溶性パラジウム及び金の化合物の水溶液として、例えば、塩化パラジウム(II)、アルカリ土類金属テトラクロロパラジウム(II)、硝酸パラジウム(II)、硫酸パラジウム、塩化金(III)、金酸(III)(HAuCl4)のような適当なパラジウム又は金の化合物の水溶液を挙げることができる。しかしながら、ナトリウムを含む化合物はあまり望ましいものではなく、望ましい化合物は、テトラクロルパラジウム酸カリウム及びテトラクロロ金酸水素である。次に、触媒の空間時間収率(STY)及び比活性(SA)に関して高い数値を得るには、これらの望ましい化合物を高純度の状態、即ち純度99.9+%、望ましくは99.99%で用いることが望ましい。それ故、純度99.99%のテトラクロロパラジウム酸カリウム及び純度99.998%のテトラクロロ金酸水素を用いることが望ましい。
【0025】
PdとAuの化合物は、最終触媒の中で、Pdが約1.8g/L〜約7.2g/L含まれており、AuはPdに対する重量比が0.3〜2.0となる量である。触媒中に含まれるPdは、触媒に対して200gVA/gPd/hrより大きな比活性がもたらされる量であることが望ましく、120psig( . 82 MPa)及び温度範囲が140℃〜160℃の反応条件下で用いられる場合、約600gVA/触媒L/hr以上のSTYがもたらされる。必要なSTY値を得るのに用いられるPdの含有量が少ないほど、VAへの変換の選択性は高くなる。それゆえ、Pdの含有量は約3.0g/L〜約5.4g/Lの範囲が望ましい。
触媒は、0.5〜1.2wt.%のPdを担持する。触媒は、0.3〜2.4wt.%のAuを担持する。触媒は、1.0〜4.5wt.%のカリウムを担持する。
【0026】
担持体の含浸は、回転浸漬法(rotation immersion)にて、初期濡れ状態(point of incipient wetness)になるまで行われる。含浸溶液の量は、担持体の細孔容積の95〜100%(より望ましくは98〜99%)が望ましい。この方法において、触媒担持体は、Pd−Au含浸溶液中に浸漬され、担持体への可溶性貴金属化合物の初期含浸段階の間、担持体は回転している。溶液中での担持体の回転は、15分以上、望ましくは30分以上行われ、全ての溶液が吸収されるまで行なう。回転は、最長2時間まで継続することができる。回転終了後、担持体を密封容器内で、回転なしで1〜2時間放置し、担持体の孔内への含浸溶液の分配を完了させる。
【0027】
回転装置については、どの型式を用いるかは重要なことではない。しかしながら、回転能力は重要である。回転は、含浸担持体の表面全体が、含浸溶液とできるだけ均一に接触するように、十分に速いものでなければならない。一方、回転は、担持体粒子が摩耗するほど激しいものであってはならない。一般的に、回転能力は、約1〜30rpmとすべきであるが、実際に使用される担持体の種類、担持体の量、担持体中の貴金属の含浸量によっては、回転開始時は特に高速の場合もある。回転数rpmは可変であって、これは、使用される装置、担持体の寸法及び形状、担持体の種類、含有される金属に応じて決められる。
【0028】
本発明の触媒の製造に使用される析出剤として、ナトリウム、リチウム及びカリウムのケイ酸塩及び水酸化物を挙げることができる。メタケイ酸ナトリウムを析出剤として使用することが望ましい。析出剤は、担持体の酸性度及び使用溶液の量に応じて、析出剤を1.1〜2.5モル過剰に含む水溶液の形態で用いられるのが望ましい。使用する溶液の量は、担持体粒子を覆うのにちょうど十分であるのが望ましい。含浸した担持体は、固定化溶液中に浸漬し、pH値が最終的に6.5〜8.8となるまで、室温にて、1日〜約3日(約70時間)、全体が被覆された状態に維持される。アルカリの正確な量、固定化時間及び最終pHは、アルカリの種類、担持体の酸性度及び使用する貴金属の量によって異なる。
【0029】
固定化が完了した後、次に、含浸担持体のビーズを、固定化溶液から取り除いて、脱イオン(deionized; D.I.)水で洗浄する。さらなる洗浄は、バッチ式又は連続式で行なうことができる。室温でのさらなる洗浄は、デカントした洗浄水の塩素イオンが100ppm以下になり、デカントした最終の洗浄水がが硝酸銀試験に対して陰性になるまで続けられる。
洗浄が完了した後、含浸担持体のビーズを、例えば90℃〜150℃の強制空気又は窒素雰囲気のオーブンの中で乾燥させる。
【0030】
本発明の方法で使用される還元剤は、エチレン又は水素である。乾燥した含浸担持体は、PdとAuの還元が完了して遊離金属状態になるまで、十分な時間、還元剤に曝露される。還元剤がエチレンの場合、温度は150℃〜310℃であり、200℃以上が望ましく、さらに250℃以上、例えば275℃〜310℃がより望ましく、300℃が最も望ましい。還元剤が水素の場合、温度は150℃〜299℃であり、275℃〜299℃が望ましく、299℃が最も望ましい。一般的に、還元が行われる時間は、5時間以内であり、望ましくは1時間以内、望ましくは約10〜60分である。
【0031】
従来、エチレン又は水素還元工程の温度は一般的には150℃であったが、このような低温で還元した含浸担持体から合成した触媒と比べて、前述のような高温で含浸担持体を還元した場合、触媒の活性は著しく増すことが分かった。150℃で還元された含浸担持体から形成された触媒と比べると、還元温度が高くなると、触媒のSTYは約20〜30%増加する。その他の条件は同じで、計算重量がPd0.6wt.%、Au0.5wt.%であり、毎時、1Lあたり600gVAのSTYがもたらされる触媒組成物の場合、300℃で還元した含浸担持体から合成された触媒は、反応温度は8〜10℃低く、酢酸ビニルへの変換の選択性は、150℃で還元された担持体の約90%より高く、92〜93%である。
【0032】
それらの還元を行なうために、含浸担持体のビーズを、まず最初は、窒素のような不活性ガスの流れの中で、室温から150℃まで加熱する。含浸担持体を、次に、150℃の不活性ガスの流れの中で、0.5〜1時間保持する。この加熱工程中、吸着水が生じる。次に、温度を、299〜300℃まで上昇させる。次に、不活性ガスの流れを維持し、エチレン又は水素(望ましくは、1〜5容積%)を、不活性ガスの流れの中へ導入して、還元ガス混合物を生成し、触媒ビーズをこの雰囲気に曝露した。
【0033】
乾燥した含浸ビーズは、エチレン−不活性ガスの混合物の場合は300℃、水素−不活性ガス混合物の場合は299℃の加熱器の中へ直接導入して、還元を行なう。還元ガスの流れは、触媒金属が完全に還元されるように十分な量が供給されなければならず、これは接触時間によって異なる。
【0034】
ガス混合物の中で約10〜15分乃至約5時間還元した後、不活性ガス混合物中の1〜5%エチレン又は水素の供給を停止し、純粋な不活性ガスの流れとする。次に、ビーズを室温まで冷却する。還元時間が短いほど、STY値の高い触媒が生成される。このため、還元時間は約15分〜約1時間が望ましい。水素は、望ましい還元ガスである。
【0035】
本発明の触媒製造方法に用いられるカリウム助触媒として、アルカン酸塩カリウムと、アルカン酸アルケニル生成反応中にアルカン酸カリウムへ変換される全てのカリウム化合物を挙げることができる。なお、アルカン酸アルケニル生成反応とは、アルカン酸アルケニルを製造するために、触媒の存在下で行われるエチレン、アルカン酸及び酸素含有ガスの反応である。酢酸カリウムは、助触媒として望ましく、乾燥基準で全触媒重量の約5〜10wt.%まで添加することが望ましい。助触媒は、水溶液の形で添加することが望ましい。助触媒を、還元された含浸担持体のビーズへ配置するには、前述の如く、初期濡れ状態になるまで、回転浸漬法によって行なうことが望ましい。
触媒を乾燥し、水分を除去する。
【0036】
【実施例】
[触媒の調製]
特に指定のない限り、以下の全ての実施例において、触媒の製造に用いられる原材料は次の通りである。
担持体:KA−160;:テトラクロロ金酸水素(III)三水和物;パラジウム:テトラクロロパラジウム酸(II)カリウム又はナトリウム、99.99%;固定化剤:無水メタケイ酸ナトリウム:水酸化ナトリウム;水酸化カリウム;助剤(promoter):酢酸カリウム;:脱イオン水(D.I.)、抵抗約18メガオーム-cm;還元剤:窒素中5%エチレン又は窒素中5%水素。
【0037】
特に指定のない限り、以下の全ての実施例において、1Lの触媒を合成する手順は次の通りである。テトラクロロパラジウム酸カリウム以外のパラジウム源、又はメタケイ酸ナトリウム以外の固定化剤を用いる場合、パラジウム塩又は固定化剤の量は、正確なモル比が得られるように調整する。
【0038】
1.含浸工程
360mLの脱イオン水中に6.90gのHAuCl43H2O及び12.70gのK2PdCl4を含む溶液を用いて、回転浸漬技術により、室温で600g(1L)のKA−160を含浸させた。KA−160を、2リットル容量の丸底フラスコに入れた。溶液をKA−160の上に注いだ後、フラスコを回転式蒸発器に接続した。次に、全ての溶液が担持体によって吸収されるまで、フラスコを5〜10分間回転した。この後、回転を停止し、含浸した担持体を1時間以上そのまま放置した。その間、溶液が担持体の表面から蒸発しないように、含浸した担持体が入ったフラスコに栓をした。
【0039】
2.固定化工程
0.125MのNa2SiO3固定化液を調製するために、18.30gのNa2SiO3を、1200mlの脱イオン水(pH約13.0)の中で溶解した。
固定化溶液をビーズに速やかに注ぐことにより、工程1で含浸した担持体を、固定化液と反応させた。固定化液は、ビーズを完全に覆うようにした。最終pH値が8.0〜8.5となるように、固定化反応を、室温で3日間(約70時間)行なった。
【0040】
3.洗浄工程
次に、ビーズを固定化溶液から取り除き、約4Lの脱イオン水で洗浄した。次の洗浄は、バッチ式で行なった。さらなる洗浄には、200L以上の脱イオン水を用いた。含浸した担持体は、室温で、40Lの水の中に浸漬した。ビーズの上の水の層を、一晩中ゆっくりと撹拌した。次の日、洗浄水をデカントし、別の40Lの水と交換した。洗浄とデカントの作業を5回行ない、塩素イオンの含有量を100ppm以下になるまで減少させた。最後にデカントした洗浄水は、硝酸銀試験が陰性である。
【0041】
4.乾燥工程
含浸した担持体を、次に、空気が強制送入されるオーブンの中で、90〜100℃の温度にて一晩乾燥した。
【0042】
5.還元工程
還元処理は、環状炉(tube furnace)で加熱されたガラス管又は石英管の中で行なった。
【0043】
含浸した担持体は、窒素の流れ(流量は300〜330ml/分)の中で加熱し、室温から150℃まで5℃/分の速度で昇温した。次に、ビーズを、窒素の流れの中で、150℃の温度で1時間保持した。この加熱中に、吸着水が発生した。次に、温度を1.5℃/分の速度で、エチレンの場合は300℃、水素の場合は299℃まで昇温させた。次に、窒素の流れを維持し、5体積%の還元ガス(実施例1〜12ではエチレン、実施例13では水素)を、300〜330ml/分の流量にて窒素混合物の中に導入した。5時間還元した後(但し、実施例13では時間が異なる)、窒素混合物への5%エチレン(実施例13では水素)の供給を停止し、純粋な窒素の流れとした。ビーズは、次に、窒素雰囲気下で室温まで冷却した。
【0044】
6.促進工程
含浸担持体の含浸を、6〜7wt.%の酢酸カリウム(KOAc)で促進した。360mlの脱イオン水中に39.2〜45.8gのKOAcを含む溶液を用いて、初期濡れ状態まで回転浸漬することにより、ビーズを含浸した。ビーズはフラスコに入れた。
【0045】
7.最終乾燥工程
触媒を、強制空気が送入されるオーブンの中で、90〜100℃にて一晩乾燥した。
【0046】
[触媒反応]
特に指定のない限り、以下の全ての実施例において、反応器と触媒条件は次の通りである。
反応器
ゼトン・アルタミラ(Zeton Altamira)製のマイクロリアクターユニットを用いて、触媒のスクリーニングを行なった。この装置は、触媒スクリーニング専用に作られている。ブルックス質量流量計を通じてガスを供給し、ISCOシリンジポンプによって酢酸を供給した。制御は手動操作で行なった。この装置は、オンラインGCに接続されている。
【0047】
触媒ペレットを挿入できるように、直径3/4インチの反応管を使用した。触媒の使用量は、一般的には、2.5グラムであり、5mmのガラスビーズ37.5グラムを希釈剤として用いた。全ての触媒は、Sud Chemieによって市販されているシリカ担持体KA−160である。活性成分はパラジウムである。一般的には、他の金属、金、助触媒、酢酸カリウムも触媒に添加する。触媒は、シェル型であって、5mm球の最初の0.30〜0.35mmの中に金属が配置されている。
【0048】
温度
反応は、135〜170℃の範囲内で異なる3段階の温度で行なわせた。なお、ここに記載のSTY値は、データ値に基づいて最小二乗アレニウス曲線を算出したもので、140℃、150℃及び160℃でのSTY値を求め、その結果を以下の表に記載している。同じ様に、酢酸ビニル(VA)への変換の選択性を、3段階の温度で測定し、多項式曲線を算出して、140℃、150℃及び160℃での選択性を決定し、下記の表に記載している。主な副産物は二酸化炭素である。一般的に、アセトアルデヒド、酢酸エチルなどの他の副産物の生成は、約1%以下であった。
【0049】
圧力
反応圧力は、以下の表に記載されているように、120psig( . 82 MPa)又は50psig( . 34 MPa)である。一般的には、商用プラントで使用されている圧力は、100〜150psig( . 69〜1 . 03 MPa)である。本発明の触媒を用いた実験の中には、120psig( . 82 MPa)の反応圧力で行なったものもある。高性能触媒は、120psig( . 82 MPa)では質量輸送(mass transport)の問題があるため、50psig( . 34 MPa)の実験室結果の方がすぐれている。後に挙げる一連の実験では、圧力を50psig( . 34 MPa)に維持した。圧力が50psig( . 34 MPa)の時の触媒のSTYは、120psig( . 82 MPa)で実験した時の触媒の約半分の値であることが分かった。
【0050】
反応ガスの合計量(GHSV)は、1時間当たり、触媒1リットルにつき4500STPリットルに維持した。これらの実験で用いた初期容積%は、55%C24、26.0%He、12.5%酢酸、及び6.5%O2である。これらの実験では、酸素を、20%酸素と80%ヘリウムの混合物として導入した。2.5gのビーズ全体を評価するため、流量は、エチレンが179立方センチメートル(標準状態換算)(sccm)、20%O2が106sccm、酢酸40.75sccmであった。ガス流量の制御と測定は、0〜500sccmの範囲のブルックス質量流量制御器により行なった。
【0051】
酢酸を液体として供給し、流量の制御はISCOポンプを用いて行ない、最少流量が0.1μl/分(液体)となるように制御した。酢酸液を、エチレン及びO2/Heと共に、150℃のミキシング・ティー(mixing tee)へ導入することにより、酢酸液を蒸発させた。次に、酢酸(蒸気)と他のガスを、それらが反応器に入る前に、静止型のライン型ミキサーの中で静かに混合した。
【0052】
可燃性
エチレンと酸素の混合物の可燃性限界は、温度、圧力及び組成に依存する。酢酸やヘリウムのような追加成分によっても変動する。一般的に、反応器入口での酸素濃度は、無酢酸混合物に基づいて、≦9容積%である。可燃性エチレンと酸素の混合物の生成を防止するのに、質量流量計からの電気出力を利用したPLCコンピュータを使用した。
【0053】
【表1】
Figure 0004076855
【0054】
【表2】
Figure 0004076855
【0055】
実験1乃至実験5は、メタケイ酸ナトリウム、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを固定化剤として使用し、良好なVA触媒を作ることができることを示している。使用した金の源(source)は、Aldrich製のACSグレードのテトラクロロ金酸水素(III)三水和物であり、全ての実験(1〜13)に使用している。パラジウムの源は、様々である。実験3乃至実験5よれば、高純度(99.99%)のK2PdCl4の方が、実験2の低純度(99%)のK2PdCl4及び実験1の高純度のK2PdCl4よりも、高い空間時間収率を得られることを示している。
【0056】
実験5と実験5aは、水酸化ナトリウムを固定化剤として使用し、(99.99%)のK2PdCl4をパラジウム源として使用したとき、触媒を300℃で還元すると、150℃の場合と比べて利点があることを示している。これらの実験では、含浸担持体を1バッチ分作り、2つに分けて、2種類の温度で還元した。2種類の還元温度で還元するために2つの部分に分けた。300℃で還元した実験5aの触媒は、空間時間収率が増加することを示している。160℃の反応温度と比べると、約5%増加している。しかし、140℃の反応温度と比べると、18%以上増加している。
【0057】
実験6、7及び7aは、メタケイ酸ナトリウムを固定化剤として使用し、低純度(98%)のNa2PdCl4を用いて、同じ様に行なった実験である。なお、含浸担持体を、150℃、300℃及び500℃にて、エチレンで還元した点が異なる。これらの実験を参照すると、300℃で還元したときは、低純度のナトリウム源を用いたときも、150℃と比べて、空間時間収率に大幅な向上が認められる。しかしながら、含浸担持体を500℃で還元したときは、活性は0まで低下した。
【0058】
実験8、8a、9及び9aは、120psig( . 82 MPa)と50psig( . 34 MPa)の2種類の反応圧力で実験したときの触媒の結果を示している。実験8と実験9は120psig( . 82 MPa)、実験8aと9aは50psig( . 34 MPa)、反応時間が140℃又は150℃で行なったものである。空間時間収率については、実験8と9は、実験8aと9aの約2倍である。実験8は、金の含有量が多い例であり、質量移動限界(mass transfer limitations)の120psig( . 82 MPa)で反応温度が160℃のとき、空間時間収率は、僅かな増加(12%)を示している。残りの実験では、実験室内での質量移動の問題を回避するために、反応圧力を50psig( . 34 MPa)に維持した。
【0059】
実験10、10a、10bは、メタケイ酸ナトリウムを固定化剤として使用し、高純度(99.99%)のK2PdCl4をパラジウム源として用いて調製した触媒の使用効果を示している。エチレンによる還元の場合、300℃で還元した触媒は、150℃で還元した触媒と比べて、生成されるVA(酢酸ビニル)の空間時間収率は20〜40%高い結果となる。実験10bは、エチレンを用いて350℃で還元したとき、活性が大きく低下することを示している。
【0060】
実験11、11a、11b、11cは、エチレン還元温度が150℃が325℃である点以外は、同じ様に調製した触媒の結果を示している。約300℃で還元した含浸触媒から合成した触媒が、最も性能にすぐれることを示している。
【0061】
実験12は、パラジウムの目標値を0.96%、金の目標値を0.76%まで上昇させて、エチレンの還元温度が300℃の触媒である。空間時間収率は良好であったが、VAに対する選択性は、実験11bと比べると低い。
【0062】
実験13は、299℃にて、時間の条件を変えて水素(窒素中に5%H2)の中で還元した含浸担持体から形成した触媒の性能を示している。
【0063】
本発明の具体的実施例を例示の目的で詳細に説明してきたが、特許請求の範囲に規定される発明の精神及び範囲から逸脱することなく、様々な変更を加えることもできる。

Claims (10)

  1. アルカン酸アルケニルを製造するために用いられ、アルケン、アルカン酸及び酸素含有ガスの反応に触媒作用を有する触媒を製造する方法であって、触媒は、パラジウム、金及びアルカン酸カリウムを含浸した担持粒子を含んでおり、
    (a) 担持粒子に、水溶性パラジウムと金の化合物の水溶液を含浸する工程、
    (b) アルカリ金属ケイ酸塩又は水酸化物を析出剤として使用し、非水溶性パラジウムと金の化合物を、溶液から担持粒子の上に析出させる工程、
    (c) デカントした洗浄水が硝酸銀試験で陰性になるまで、析出物を有する担持体を水で洗浄する工程、
    (d) 洗浄した後、析出物を有する担持体を乾燥する工程、
    (e) 還元剤としてエチレン又は水素を使用し、エチレンを還元剤として使用する場合は275℃〜310℃の温度、水素を還元剤として使用する場合は275℃〜299℃の温度にて、析出した非水溶性のパラジウムと金の化合物を、担持粒子上でパラジウムと金に変換する工程、
    (f) 担持粒子が初期濡れ状態になるまで、担持粒子にアルカン酸カリウムを含浸する工程、及び
    (g) 触媒を乾燥する工程、
    を含んでいる触媒の製造方法。
  2. アルケンはエチレンであり、アルカン酸は酢酸であり、アルカン酸アルケニルは酢酸ビニルである請求項1の方法。
  3. 工程(d)の後、工程(e)の前に、乾燥、洗浄した析出担持体を、不活性ガスの流れの中で150℃まで加熱し、そのまま0.5〜1時間維持し、その後温度を上げることを含んでいる請求項1又は2の方法。
  4. 不活性ガスは窒素である請求項3の方法。
  5. パラジウム化合物は、純度99.99%のテトラクロロパラジウム酸カリウムである請求項2、3及び4の何れかの方法。
  6. 金化合物は、純度99.998%のテトラクロロ金酸水素である請求項5の方法。
  7. 触媒は、0.5〜1.2wt.%のPdを担持する請求項6の方法。
  8. 触媒は、0.3〜2.4wt.%のAuを担持する請求項7の方法。
  9. 触媒は、1.0〜4.5wt.%のカリウムを担持する請求項1又は8の方法。
  10. エチレン、酢酸及び酸素を含む反応性ガス組成物について、触媒を用いたガス相反応により、空間時間収率値が、0.34MPaでは1時間あたり触媒1Lにつき300g以上、0.82MPaでは1時間あたり触媒1Lにつき600g以上の酢酸ビニルを製造する方法であって、
    (a) 反応ガス組成物を、請求項4〜9の何れかに記載の触媒と接触させながら通過させる工程、及び
    (b) 反応性ガス組成物を、140℃乃至200℃の温度に維持する工程、
    を含んでいる酢酸ビニルの製造方法。
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