JP4044755B2 - 不揮発性半導体メモリ装置及びそれのプログラム方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は不揮発性半導体メモリ装置に係り、より詳細には、フィールド領域によって電気的に絶縁された同一の行の隣接したメモリセルの間に寄生的に存在する寄生MOSトランジスタのしきい値電圧を調節できるフラッシュメモリ装置及びそれのプログラム方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体メモリ装置に貯蔵されたデータのリフレッシュなしにデータを電気的に消去及びプログラム可能な半導体メモリ装置に対する要求が増加しつつある。又、メモリ装置の貯蔵容量及び集積度を増加させることが主な傾向である。貯蔵されたデータのリフレッシュなしに大容量及び高集積度を提供する不揮発性半導体メモリ装置の一例が、NAND型フラッシュメモリ装置である。パワーオフの時にもデータを維持するので、そのようなフラッシュメモリ装置は電源が急に遮断される恐れのある電子装置(例えば、携帯用端末器、携帯用コンピュータ等)に幅広く使用されている。
【0003】
NAND型フラッシュメモリ装置のような不揮発性半導体メモリ装置は、電気的に消去及びプログラム可能なROMセルを含み、“フラッシュEEPROMセル”と呼ばれる。通常、フラッシュEEPROMセルは、セルトランジスタを含み、トランジスタは第1導電型(例えば、P型)の半導体基板(又は、バルク)、所定間隔離隔された第2導電型(例えば、N形)のソース及びドレイン領域、ソース及びドレイン領域の間のチャンネル領域の上に位置し、電荷を貯蔵する浮遊ゲート、そして、浮遊ゲートの上に位置した制御ゲートを含む。
【0004】
前述した構造を有するフラッシュEEPROMセルのアレイを図1に示す。
【0005】
図1を参照すると、メモリセルアレイはビットラインに各々対応する複数のセルストリング10を含む。便宜のために、図1には2つのビットラインBL0,BL1及びそれに対応する2つのセルストリング10を示す。各セルストリング10は第1選択トランジスタとしてのストリング選択トランジスタSST、第2選択トランジスタとしての接地選択トランジスタGST、そして、選択トランジスタSST,GSTの間に直列連結された複数のフラッシュEEPROMセルMCm(m=0〜15)で構成される。ストリング選択トランジスタSSTは対応するビットラインに連結されたドレイン及びストリング選択ラインSSLに連結されたゲートを有し、接地選択トランジスタGSTは共通ソースラインCSLに連結されたソース及び接地選択ラインGSLに連結されたゲートを有する。そして、ストリング選択トランジスタSSTのソース及び接地選択トランジスタGSTのドレインの間にはフラッシュEEPROMセルMC15〜MC0が直列連結され、セルMC15〜MC0は対応するワードラインWL15〜WL0に各々連結される。
【0006】
初期に、メモリセルアレイのフラッシュEEPROMセルは、例えば、−3Vのしきい値電圧を有するように消去される。次に、フラッシュEEPROMセルをプログラムするために、所定時間の間、選択されたフラッシュEEPROMセルのワードラインに高電圧(例えば、20V)を印加することによって、選択されたメモリセルがより高いしきい値電圧に変化するのに対して、残りの(選択されない)EEPROMセルのしきい値電圧は変化しない。
【0007】
選択されたワードラインの上に連結された選択されないフラッシュEEPROMセルをプログラムしないで、同一のワードラインの上に連結された選択されたメモリセルをプログラムしようとする時、問題点が発生する。ワードラインにプログラム電圧が印加される時、プログラム電圧は選択されたフラッシュEEPROMセルだけでなく同一のワードラインに沿って配列された選択されないフラッシュEEPROMセルにも印加される。ワードラインの上に連結された選択されないフラッシュEEPROMセル、特に、選択されたメモリセルに隣接したフラッシュEEPROMセルがプログラムされる。選択されたワードラインに連結された非選択セルの意図しないプログラムは“プログラムディスターブ”と呼ばれる。
【0008】
プログラムディスターブを防止するための方法の1つは、自己昇圧スキームを利用したプログラム禁止方法である。自己昇圧スキームを利用したプログラム禁止方法は、米国特許第5,677,873号に“METHOD OF PROGRAMMING FLASH EEPROM INTEGRATED CIRCUIT MEMORY DEVICES TO PREVENT INADVERTENT PROGRAMMING OF NONDESIGNATED NAND MEMORY CELLS THEREIN”の名称で、米国特許第5,991,202号に“METHOD FOR REDUCING PROGRAM DISTURB DURING SELF−BOOSTING IN ANAND FLASH MEMORY”の名称で開示されている。
【0009】
自己昇圧スキームを利用したプログラム禁止方法においては、接地選択トランジスタGSTのゲートに0Vの電圧を印加することによって、接地経路が遮断される。選択ビットライン(例えば、BL0)にはプログラム電圧として0Vの電圧が印加され、非選択ビットライン(例えば、BL1)にはプログラム禁止電圧として3.3V又は5Vの電源電圧Vccが印加される。同時に、ビットラインBL1に連結されたストリング選択トランジスタSSTのゲートに電源電圧を印加することによって、ストリング選択トランジスタSSTのソースがVcc−Vth(Vthはストリング選択トランジスタのしきい値電圧)まで充電される。この時、ストリング選択トランジスタSSTは遮断される(又は、シャットオフされる)。次に、選択ワードラインに高電圧Vpgmを印加し、選択されないワードラインにパス電圧Vpassを印加することによって、プログラムが禁止されたセルトランジスタのチャンネル電圧が昇圧される。これは浮遊ゲートとチャンネルとの間にF−Nトンネリングを発生させなく、その結果、プログラムが禁止されたセルトランジスタが初期の消去状態に維持される。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
前述したプログラム禁止スキームを使用する時、1つの問題点が発生する。即ち、寄生MOSトランジスタを通じて流れる漏洩電流によって、プログラムされるフラッシュEEPROMセルに隣接したプログラム禁止のフラッシュEEPROMセルに“プログラムディスターブ”が発生する。これは詳細に後述される。
【0011】
図1の点線A−A’に沿って切るメモリセルアレイを示す図2を参照すると、同一のワードラインWL14に連結されたフラッシュEEPROMセルは半導体基板(又は、ポケットPウェル)に形成されたフィールド領域又はフィールド酸化膜領域12によって、電気的に絶縁されている。このような構造では、隣接したフラッシュEEPROMセル、ワードラインWL14、そして、半導体基板が寄生MOSトランジスタを形成する。隣接したフラッシュEEPROMセルのうち、プログラムが禁止されるセルのチャンネル領域は寄生MOSトランジスタのドレイン領域として作用し、プログラムされるセルのチャンネル領域は寄生MOSトランジスタのソース領域として作用し、ワードラインWL14は寄生MOSトランジスタのゲートとして作用する。そして、寄生MOSトランジスタのソース及びドレイン領域の間のフィールド領域12に接する半導体基板は寄生MOSトランジスタのチャンネル領域として作用する。
【0012】
ワードラインWL14に印加される高電圧Vpgmが寄生MOSトランジスタのしきい値電圧より高い場合、寄生MOSトランジスタがターンオンされる。これはプログラムが禁止されるセルのチャンネル領域からプログラムされるセルのチャンネル領域にターンオンされた寄生MOSトランジスタを通じて漏洩電流を流す。従って、プログラムが禁止されるセルの自己昇圧されたチャンネル電圧が低まり、その結果、プログラムが禁止されるフラッシュEEPROMセルにプログラムディスターブが発生する。
【0013】
このような問題点は寄生MOSトランジスタのしきい値電圧を増加させることによって防止できる。フィールド領域に不純物を注入することによって、寄生MOSトランジスタのしきい値電圧を増加させる方法が提案されてきた。しかし、このような不純物注入方法はドレイン領域のブレークダウン電圧が低まる短所がある。又、メモリセルアレイの寸法が減少するのに従って、不純物濃度を増加させることが制限される。半導体基板(又は、ポケットPウェル)をマイナス電圧にバイアスすることによって、寄生MOSトランジスタのしきい値電圧を増加させる方法が提案されてきた。しかし、このような方法は、ポケットPウェルを充電するのに長時間が所要されるので、全体的なプログラム時間が増加する短所がある。
【0014】
結果的に、隣接したフラッシュEEPROMセルの間に存在する寄生MOSトランジスタを通じて流れる漏洩電流を効果的に遮断できる新たなプログラム方法が要求される。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、プログラム動作の時、ワードライン電圧の増加なしに、隣接したセルの間に形成される寄生MOSトランジスタのしきい値電圧を増加させ得る不揮発性半導体メモリ装置及びそれのプログラム方法を提供することを目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】
本発明の一特徴によると、不揮発性半導体メモリ装置は、第1及び第2ページバッファ、第1及び第2ビットラインレベル制御トランジスタ、そして、ビットラインレベル制御回路を含む。第1及び第2ページバッファは第1及び第2ビットラインに各々対応し、プログラム動作の間、メモリセルアレイにプログラムされるデータビットをラッチする。第1及び第2ビットラインレベル制御トランジスタは第1及び第2ビットラインと第1及び第2ページバッファとの間に各々連結され、ビットラインレベル制御信号に応じて第1及び第2ビットラインと第1及び第2ページバッファを電気的に分離/連結する。ビットラインレベル制御回路は第1及び第2ビットライン電圧制御トランジスタに共通に印加されるビットラインレベル制御信号を発生する。ここで、ビットラインレベル制御信号はプログラムサイクルの第1ビットラインセットアップ区間の間、ページバッファに各々ラッチされたデータビットが対応するビットラインに十分に伝達されるように第1電圧を有し、そして、第1及び第2ページバッファからの充電電流が第1及び第2ビットラインに各々供給されるプログラムサイクルの第2ビットラインセットアップ区間の間、プログラムを示すデータビットに対応するビットラインの電位が接地電圧より高く設定されるように第1電圧より低い第2電圧を有する。
【0017】
本発明の他の特徴によると、不揮発性半導体メモリ装置のプログラム方法が提供される。不揮発性半導体メモリ装置は、第1及び第2ビットラインと、この第1及び第2ビットラインに連結された第1及び第2セルストリングであって、各セルストリングは第1及び第2選択トランジスタの間に直列連結されたメモリセルトランジスタで構成され、メモリセルトランジスタは対応するワードラインに各々連結されたセルストリングと、第1及び第2ビットラインに各々対応し、プログラムされるデータビットを各々ラッチするレジスタとを含む。不揮発性半導体メモリ装置のプログラム方法としては、先ず、対応するレジスタに各々ラッチされたプログラムされるデータビットに従って、第1及び第2ビットラインに第1電圧及び第2電圧のうち、1つが各々提供される。次に、第1及び第2ビットラインを対応するレジスタから電気的に分離した後、第1電圧が印加されたビットラインの電位が第1電圧より高くバイアスされるように、所定時間の間、第1及び第2ビットラインに所定の充電電流が供給される。次に、第1及び第2ビットラインへの電流供給を遮断した後、ワードラインのうち、選択されたワードラインにプログラム電圧が印加される。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下、添付した図を参照して、本発明の望ましい実施形態を詳細に説明する。
【0019】
本発明によるNAND型フラッシュメモリ装置を示す構成図を図3に示す。メモリ装置はセルアレイ100、行デコーダ回路120、ページバッファ回路130、そして、列パスゲート回路140を含む。セルアレイ100は列に配列された複数のセルストリング(又は、NANDストリング)12からなる。各セルストリング12はストリング選択トランジスタSSTm(m=0,1,2,...,i)を含み、このストリング選択トランジスタSSTmのゲートはストリング選択ラインSSLに連結される。各セルストリング12は、又、接地選択トランジスタGSTmを含む。この接地選択トランジスタGSTmのゲートは接地選択ラインGSLに連結される。各セルストリング12のストリング選択トランジスタSSTmのソースと接地選択トランジスタGSTmとの間には、複数のメモリセル又はフラッシュEEPROMセルMCn(n=0,1,2,...,15)が直列連結される。各セルストリング12のEEPROMセルMCnの制御ゲートは対応するワードラインWLjに各々連結される。各ストリング選択トランジスタSSTmのドレインは対応するビットラインBLmに連結され、各接地選択トランジスタGSTmのソースは共通ソースラインCSLに連結される。ストリング選択ラインSSL、ワードラインWLj、そして、接地選択ラインGSLは行デコーダ回路120に電気的に連結される。
【0020】
ビットラインBLmはビットラインレベル制御トランジスタとしての対応するNMOSトランジスタM1を通じてページバッファ回路130に連結され、NMOSトランジスタM1はビットラインレベル制御回路110から発生した制御信号BLCTLによって、共通に制御される。各NMOSトランジスタM1はビットラインレベル制御回路110から出力される制御信号BLCTLの電圧レベルに従って対応するビットラインの電圧レベルを調節し、これは詳細に後述される。
【0021】
続いて、図3を参照すると、ページバッファ回路130はビットラインBLiに各々対応するページバッファ130_iを含む。リードサイクルの間、ページバッファは選択されたデータを感知し、データを列パスゲート回路140を通じてデータ出力バッファ(図示しない)に伝達する。プログラムサイクルの間、ページバッファは列パスゲート回路140を通じて入出力バッファから印加されるデータを貯蔵する。以降、ビットラインBL0に対応するページバッファ130_0を参照して、構成及び機能をより詳細に説明する。他のビットラインBL1〜BLiに対応するページバッファ130_1〜130_iはページバッファ130_0と同一の機能と構成を有する。
【0022】
ページバッファ130_0はPMOSトランジスタM2、4つのNMOSトランジスタM3〜M6、そして、2つのインバータで構成されたラッチ50を含む。ドレインがノードN1に連結されたPMOSトランジスタM2のゲート及びソースは信号LOADEN及び電源電圧Vccに各々連結される。PMOSトランジスタM2はビットラインセットアップ動作が実行される時、活性化される信号LOADENに応じてビットラインBL0に電流を供給する。ソース及びゲートが接地電圧Vssと信号BLDISに各々連結されたトランジスタM3はノードN1と接地電圧との間に連結され、ビットラインBL0の電圧を放電し、ページバッファ(即ち、ラッチ)を接地電圧レベルに初期化する。ゲートが信号BLSELに連結されたNMOSトランジスタM4はノードN1及びラッチ50のノードN2の間に連結される。ラッチ50のノードN3はNMOSトランジスタM5,M6を通じて接地電圧に連結される。トランジスタM5のゲートはノードN1に連結され、トランジスタM6のゲートは信号LATCHに連結される。NMOSトランジスタM5,M6はビットラインBL0の上の電圧レベル及び信号LATCHに応じてラッチ50に貯蔵されたデータの状態を変化させる。
【0023】
図4は図3に示したビットラインレベル制御回路110の望ましい実施形態を示す。
【0024】
図4を参照すると、ビットラインレベル制御回路110はフィールド禁止電圧発生器210、レベルシフタ220、伝達ゲート回路230、NORゲートG2、そして、NMOSトランジスタM22で構成され、図に示すように、連結される。ビットラインレベル制御回路110は信号BLCTLEN1〜BLCTLEN4に応じて制御信号BLCTLを発生し、制御信号BLCTLはプログラムサイクルのビットラインセットアップ動作、プログラム動作、そして、リカバリ動作の時、異なる電圧レベルを有する。詳細に説明すると、次のとおりである。
【0025】
よく知られているように、NAND型フラッシュメモリ装置のプログラムサイクルは、ビットラインセットアップ動作、プログラム動作、そして、リカバリ動作からなる。プログラムサイクルの間、変化する信号BLCTLEN1〜BLCTLEN4の関係を図5に示す。ビットラインセットアップ動作は第1ビットラインセットアップ区間Aと第2ビットラインセットアップ区間Bに分けられる。ビットラインレベル制御回路110の出力信号BLCTLは第1ビットラインセットアップ区間Aの間、パス電圧Vpassを有し、第2ビットラインセットアップ区間Bの間(又は、第2ビットラインセットアップ区間及びプログラム区間)、所定電圧Vfi’レベルを有する。ここで、電圧Vfi’は、寄生MOSトランジスタをターンオフするのに必要な最小のソースバルク電圧Vfi(以下、“フィールド禁止電圧”という)とNMOSトランジスタ(即ち、ビットラインレベル制御トランジスタ)のしきい値電圧を合わせた値と同一である。
【0026】
本発明によるNAND型フラッシュメモリ装置においては、隣接したセルの間に形成される寄生MOSトランジスタのしきい値電圧を増加させるために、プログラムされるフラッシュEEPROMセルに対応するビットラインに接地電圧より高い電圧、即ち、フィールド禁止電圧Vfiが供給される。一般に、MOSトランジスタのしきい値電圧Vtは数1によって決定される。
【0027】
【数1】
【0028】
ここで、電圧Vt0はVSBが0である時、得られるしきい値電圧Vtを示し、γは工程パラメータを示す。数1から分かるように、しきい値電圧Vtはソースとバルクとの間の電圧VSBによって影響を受ける。フィールド禁止電圧Vfiレベルは、プログラム動作の時、ワードラインに印加される電圧の増加なしに隣接したセルの間の漏洩電流を効果的に遮断できるように(寄生MOSトランジスタのしきい値電圧(又は、フィールド領域の電位)がプログラムの時、ワードライン電圧より高くなるように)、決定される。又、フィールド禁止電圧Vfiは、図4から分かるように、分配器として動作する抵抗R1,R2の値に従って決定される。プログラムセルに対応するビットラインをフィールド禁止電圧Vfiにバイアシングするためには、NMOSトランジスタM1のゲートに印加される制御信号BLCTLはVfi+Vth1(Vth1 はNMOSトランジスタM1のしきい値電圧を示す)の電圧(Vfi’)を有しなければならない。そのような電圧Vfi’レベルの制御信号BLCTLを発生するビットラインレベル制御回路110の動作を図4及び図5を参照して説明する。
【0029】
先ず、図5に示すように、信号BLCTLEN1〜BLCTLEN4が全部ローレベルに維持される時、NMOSトランジスタM22はターンオンされ、その結果、制御信号BLCTLは接地電圧に維持される。次に、信号BLCTLEN1がハイレベルに維持され、信号BLCTLEN2〜BLCTLEN4がローレベルに維持される時、NMOSトランジスタM22はターンオフされ、制御信号BLCTLはレベルシフタ220を通じてパス電圧VPassレベルを有する。この時、伝達ゲート回路230の経路は遮断され、フィールド禁止電圧発生器210の出力信号VblctlはPMOSトランジスタM18を通して電源電圧Vccレベルを有する。図5に示すように、信号BLCTLEN1がハイロー遷移を有し、信号BLCTLEN2,BLCTLEN3はローハイ遷移を有する。これは伝達ゲート回路230の経路を形成させ、NMOSトランジスタM19をターンオンさせる。この時、レベルシフタ220の出力は接地電圧を有する。結果的に、制御信号BLCTLの電圧は前述した放電経路を通じてパス電圧Vpassから接地電圧に低まる。このような動作はプログラムサイクルのビットラインセットアップ動作のうち、第1ビットラインセットアップ区間Ani属する。言い換えれば、第1ビットラインセットアップ区間Aでは、プログラムされるデータビット各々に対応する電位が対応するビットラインに十分に伝達されるように制御信号BLCTLはパス電圧Vpassレベルを有する。
【0030】
プログラムサイクルのビットラインセットアップ動作のうち、第2ビットラインセットアップ区間Bの初期に、信号BLCTLEN4はローレベルからハイレベルに遷移する。これはNMOSトランジスタM16,M23をターンオンさせ、その結果、比較器として動作する差動増幅器212は基準電圧VREFと抵抗R1,R2によって分配された電圧を比較する。ノードN4の電圧が要求される電圧Vfi’+Vth17(Vth17はNMOSトランジスタM17のしきい値電圧を示す)より低いと、又は、基準電圧VREFが抵抗R1,R2によって分配された電圧より高いと、ノードN4の電圧はPMOSトランジスタM10を通じて供給される電流に従って次第に増加する。ノードN4の電圧が要求される電圧Vfi’+Vth17に至る時、フィールド禁止電圧発生器210の出力電圧VblctlはVfi’になる。即ち、制御信号BLCTLは第2ビットラインセットアップ区間Bに対応する所定時間tfiの間、Vfi’のレベルを有する。続くプログラム動作の間、制御信号BLCTLはVfi’の電圧レベルに維持される。即ち、制御信号BLCTLEN1〜BLCTLEN4は第2ビットラインセットアップ区間Bで設定されたレベルと同一に維持される。
【0031】
要するに、ビットラインレベル制御回路110の出力信号BLCTLはプログラムされるデータビット(例えば、“1”)に対応する電位(例えば、電源電圧又はプログラム禁止電圧)が対応するビットラインに十分に伝達されるように、第1ビットラインセットアップ区間Aでパス電圧Vpassを有する。次に、出力信号BLCTLは“0”のデータビットに対応するビットラインがフィールド禁止電圧Vfiにバイアスされる第2ビットラインセットアップ区間Bで所定電圧Vfi’=Vfi+Vth1を有する。プログラム動作の間、ビットラインレベル制御回路110の出力信号BLCTLは第2ビットラインセットアップ区間Bと同一の電圧Vfi’レベルに維持される。
【0032】
図6は本発明によるNAND型フラッシュメモリ装置のプログラム方法を説明するための動作タイミング図である。以下、図3乃至図6を参照してNAND型フラッシュメモリ装置のプログラム動作を詳細に説明する。
【0033】
プログラムされるデータビット“01”がビットラインBL0,BL1に対応するページバッファ130_0,130_1に各々ロードされたと仮定する。“0”データビットをラッチしたページバッファ130_0に対応するビットラインBL0は選択ビットラインと呼び、“1”データビットをラッチしたページバッファ130_1に対応するビットラインBL1は非選択ビットラインと呼ぶ。又、プログラムされるセル(例えば、MC14)に連結されたワードラインWL14はプログラムサイクルのプログラム動作の間、高電圧Vpgmが供給され、選択ワードラインと呼ぶ。残りのワードラインWL0〜WL13,WL15はパス電圧Vpassが供給され、非選択ワードラインと呼ぶ。
【0034】
このような仮定下で、図6に示すように、第1ビットラインセットアップ区間Aでは、ストリング選択信号SSLが電源電圧のハイレベルに遷移し、信号BLSEL,BLCTLはパス電圧Vpassのハイレベルに遷移する。これと同時に、信号GSL,CSL,BLDIS,LATCHは接地電圧のローレベルに維持される。このような条件によると、NMOSトランジスタM1はパス電圧Vpassを有するビットラインレベル制御信号BLCTLによってターンオンされ、セルストリング12のストリング選択トランジスタSST0,SST1は電源電圧のハイレベルを有するストリング選択信号SSLによってターンオンされる。しかも、ページバッファ130_0,130_1の内部のNMOSトランジスタM4がパス電圧Vpassのハイレベルを有する信号BLSELによってターンオンされる。結果的に、第1ビットラインセットアップ区間Aで、選択ビットラインBL0はプログラム電圧として接地電圧を有するように設定され、非選択ビットラインBL1はプログラム禁止電圧として電源電圧を有するように設定される。
【0035】
ビットラインBL0,BL1が十分に設定され、第2ビットラインセットアップ区間Bが開始される前に、信号BLCTL,BLSELはパス電圧Vpassのハイレベルから接地電圧のローレベルに遷移する。これは接地電圧を有する選択ビットラインBL0及び電源電圧を有する非選択ビットラインBL1を対応するページバッファ130_0,130_1と電気的に絶縁させる。第2ビットラインセットアップ区間Bが開始されると、ビットラインレベル制御回路110は、前述のように、Vfi+Vth1の電圧を有する制御信号BLCTLを発生する。これと同時に、信号LOADENは電源電圧のハイレベルから接地電圧のローレベルに遷移する。このようなバイアス条件によると、選択ビットラインBL0にはNMOSトランジスタM1を通じてPMOSトランジスタM2から電流が供給される。NMOSトランジスタM1のゲート電圧がVfi+Vth1であるので、選択ビットラインBL0の電圧はフィールド禁止電圧Vfiになる。これに対して、非選択ビットラインBL1は第1ビットラインセットアップ区間Aで設定された電圧、即ち、電源電圧に維持される。この時、ストリング選択トランジスタSST0,SST1が実質的にシャットオフされるので、ビットラインBL0,BL1に対応するセルストリング12がフローティングされる。
【0036】
続いて、実質的なプログラム動作が開始されると、選択ワードラインWL14には高電圧Vpgmが印加され、非選択ワードラインWL0〜WL13,WL15にはパス電圧Vpassが印加される。すると、前述のように、非選択ビットラインBL1に対応するセルストリング12がフローティングされるので、非選択ビットラインBL1及び選択ワードラインWL14によって規定されたフラッシュEEPROMセルMC14、即ち、プログラム禁止セルのチャンネル電圧は自己昇圧メカニズムによってF−Nトンネリングを防止するのに十分な電圧まで昇圧される。一方、選択ビットラインBL0及び選択ワードラインWL14によって規定されたフラッシュEEPROMセルMC14、即ち、プログラムされるフラッシュEEPROMセルのチャンネル電圧は高電圧Vpgmの印加によって昇圧される。しかし、ストリング選択トランジスタSST0のゲート電圧が電源電圧であるので、昇圧される電位はストリング選択トランジスタSST0を通じて選択ビットラインBL0に放電される。従って、プログラムされるフラッシュEEPROMセルのチャンネル電圧は第2ビットラインセットアップ区間Bでバイアスされたフィールド禁止電圧Vfiに維持される。プログラム動作が完了した後、リカバリ動作区間の間、ビットラインBL0,BL1の電位が放電され、ページバッファ130_0,130_1は初期化される。
【0037】
前述のバイアス条件によると、選択ワードラインWL14に連結された隣接したフラッシュEEPROMセルMC14の間に形成される寄生MOSトランジスタのしきい値電圧Vtは、数1から分かるように、プログラムされるフラッシュEEPROMセルのチャンネル電圧Vfi、即ち、ソースバルク電圧VSBに比例して、ワードライン電圧Vpgmより高く設定される。したがって、選択ワードラインの隣接したフラッシュEEPROMセルの間に形成される寄生MOSトランジスタはターンオフされるので、プログラム動作の間、寄生MOSトランジスタのチャンネルを通じて流れる漏洩電流が遮断される。結果的に、寄生MOSトランジスタによって発生するプログラムディスターブを防止できる。
【0038】
図7は本発明によるNAND型フラッシュメモリ装置のプログラム動作を説明するための動作タイミング図である。
【0039】
よく知られているように、NAND型フラッシュメモリ装置のプログラムサイクルは、ビットラインセットアップ動作、プログラム動作、そして、リカバリ動作からなる。本発明において、ビットラインセットアップ動作は第1ビットラインセットアップ区間Aと第2ビットラインセットアップ区間Bに分けられる。第1ビットラインセットアップ区間の間に、ページバッファ130_iにラッチされたデータビットが対応するビットラインに伝達される。そして、第2ビットラインセットアップ区間Bの間に、プログラムを示すデータビットに対応するビットラインが寄生MOSトランジスタをターンオフするのに必要な最小のソースバルク電圧にバイアスされる。プログラムを示すデータビットに対応するビットラインがフィールド禁止電圧にバイアスされると、隣接したフラッシュEEPROMセルの間に形成される寄生MOSトランジスタのしきい値電圧が選択されたワードラインに印加される電圧Vpgmより増加する。
【0040】
一般に、MOSトランジスタのしきい値電圧Vtは前述の数1によって決定される。
【0041】
数1から分かるように、しきい値電圧Vtはソースとバルクとの間の電圧VSBによって影響を受ける。フィールド禁止電圧Vfiレベルはプログラム動作の時、ワードラインに印加される電圧の増加なしに隣接したセルの間の漏洩電流を効果的に遮断できるように(寄生MOSトランジスタのしきい値電圧(又は、フィールド領域の電位)がプログラムの時、ワードライン電圧より高くなるように)、決定される。プログラムされるフラッシュEEPROMセルに対応するビットラインをフィールド禁止電圧Vfiでバイアシングするための動作を詳細に説明する。
【0042】
図7を参照すると、プログラムされるデータビット“01”がビットラインBL0,BL1に対応するページバッファ130_0,130_1に各々ロードされたと仮定する。“0”データビットをラッチしたページバッファ130_0に対応するビットラインBL0は選択ビットラインと呼び、“1”データビットをラッチしたページバッファ130_1に対応するビットラインBL1は非選択ビットラインと呼ぶ。又、プログラムされるセル(例えば、MC14)に連結されたワードラインWL14はプログラムサイクルのプログラム動作の間、プログラム電圧Vpgmが供給され、選択ワードラインと呼ぶ。残りのワードラインWL0〜WL13,WL15はパス電圧Vpassが供給され、非選択ワードラインと呼ぶ。
【0043】
このような仮定下で、図7に示すように、第1ビットラインセットアップ区間Aでは、ストリング選択信号SSLが電源電圧のハイレベルに遷移し、信号BLSEL,BLCTLはパス電圧Vpassのハイレベルに遷移する。これと同時に、信号GSL,CSL,BLDIS,LATCHは接地電圧のローレベルに維持される。このような条件によると、NMOSトランジスタM1はパス電圧Vpassを有するビットラインレベル制御信号BLCTLによってターンオンされ、セルストリング12のストリング選択トランジスタSST0,SST1は電源電圧のハイレベルを有するストリング選択信号SSLによってターンオンされる。しかも、ページバッファ130_0,130_1の内部のNMOSトランジスタM4がパス電圧Vpassのハイレベルを有する信号BLSELによってターンオンされる。結果的に、第1ビットラインセットアップ区間Aで、選択ビットラインBL0は接地電圧に設定され、非選択ビットラインBL1はプログラム禁止電圧として電源電圧に設定される。
【0044】
第2ビットラインセットアップ区間Bが開始されると、共通ソースラインCSLには接地選択トランジスタGST0,GST1の突抜け現象を防止するための電圧Vcslが印加される。そして、信号BLSELはハイレベルからローレベルに遷移し、その結果、ビットラインBL0,BL1が対応するページバッファ130_0,130_1と電気的に分離される。これと同時に、一定時間tfiの間、ビットラインBL0,BL1にロード電流Iloadを供給するように、ビットラインプリチャージ信号LOADENの電圧レベルがハイレベルの電源電圧から所定の電圧Vloadに低まる。プログラムを示すデータビットに対応するビットラインをフィールド禁止電圧Vfiにバイアスするための時間tfiとロード電流Iloadとの関係を数2に示す。
【0045】
【数2】
【0046】
ここで、CBLはビットラインのキャパシタンスを示す。
【0047】
第2ビットラインセットアップ区間Bの間、又は時間tfiの間に、PMOSトランジスタM2を通じて供給されるロード電流によって選択ビットラインBL0はフィールド禁止電圧Vfiにバイアスされる。これに対して、非選択ビットラインBL1は第1ビットラインセットアップ区間Aで設定された電圧、即ち、電源電圧に維持される。この時、ストリング選択トランジスタSST0,SST1が実質的にシャットオフされるので、ビットラインBL0,BL1に対応するセルストリング12がフローティングされる。
【0048】
続いて、実質的なプログラム動作が開始されると、選択ワードラインWL14には高電圧Vpgmが印加され、非選択ワードラインWL0〜WL13,WL15にはパス電圧Vpassが印加される。すると、前述のように、非選択ビットラインBL1に対応するセルストリング12がフローティングされるので、非選択ビットラインBL1及び選択ワードラインWL14によって規定されたフラッシュEEPROMセルMC14、即ち、プログラム禁止セルのチャンネル電圧は自己昇圧メカニズムによってF−Nトンネリングを防止するのに十分な電圧まで昇圧される。そのように昇圧されたチャンネル電圧(例えば、8V以上)はプログラムが禁止されたフラッシュEEPROMセルがプログラムされることを防止する。一方、選択ビットラインBL0及び選択ワードラインWL14によって規定されたフラッシュEEPROMセルMC14、即ち、プログラムされるフラッシュEEPROMセルのチャンネル電圧は第2ビットラインセットアップ区間Bでバイアスされたフィールド禁止電圧Vfiに維持される。プログラム動作が完了した後、リカバリ動作区間の間、ビットラインBL0,BL1の電位が放電され、ページバッファ130_0,130_1は初期化される。
【0049】
前述のバイアス条件によると、選択ワードラインWL14に連結された隣接したフラッシュEEPROMセルMC14の間に形成される寄生MOSトランジスタのしきい値電圧Vtは、数1から分かるように、プログラムされるフラッシュEEPROMセルのチャンネル電圧Vfi、即ち、ソースバルク電圧VSBに比例して、ワードライン電圧Vpgmより高く増加する。したがって、選択ワードラインの隣接したフラッシュEEPROMセルの間に形成される寄生MOSトランジスタはターンオフされるので、プログラム動作の間、寄生MOSトランジスタのチャンネルを通じて流れる漏洩電流が遮断される。結果的に、寄生MOSトランジスタによって発生するプログラムディスターブを防止できる。
【0050】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、同一のワードライン上の隣接したセルの間に形成された寄生MOSトランジスタをターンオフするための最小の電圧(又は、フィールド禁止電圧)を選択されたビットラインに印加することによって、寄生MOSトランジスタのしきい値電圧がプログラム電圧より高く増加する。従って、寄生MOSトランジスタによるプログラムディスターブ現象を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】一般的なNAND型フラッシュメモリ装置のメモリセルアレイを示す回路図である。
【図2】図1の点線A−A’に沿って切るメモリセルアレイを示す断面図である。
【図3】本発明によるNAND型フラッシュメモリ装置を示す回路図である。
【図4】図3に示したビットラインレベル制御回路の望ましい実施形態を示す回路図である。
【図5】図4に示したビットラインレベル制御回路の動作タイミング図である。
【図6】本発明によるNAND型フラッシュメモリ装置のプログラム動作を説明するための動作タイミング図である。
【図7】本発明によるNAND型フラッシュメモリ装置のプログラム動作を説明するための動作タイミング図である。
【符号の説明】
100 メモリセルアレイ
110 ビットラインレベル制御回路
120 行デコーダ回路
130 ページバッファ回路
140 列パスゲート回路
Claims (21)
- 複数のビットラインに連結され、ゲートが複数のワードラインに連結された複数のメモリセルトランジスタを含む複数のメモリセルストリングと、ビットラインに対応する複数のレジスタとを含み、
同一のワードラインに連結された隣接したメモリセルはフィールド領域によって電気的に分離され、前記隣接したメモリセルの間に寄生MOSトランジスタが形成され、前記同一のワードラインは前記寄生MOSトランジスタのゲートの役割を果たし、前記隣接したメモリセルのうち、1つは前記寄生MOSトランジスタのドレインの役割を果たし、前記隣接したメモリセルのうち、もう1つは前記寄生MOSトランジスタのソースの役割を果たすように構成された不揮発性半導体メモリ装置をプログラムする方法において、
前記レジスタから供給された第1電圧及び第2電圧を隣接した第1ビットラインと第2ビットラインに各々印加する段階と、
対応するレジスタから前記第1ビットライン及び前記第2ビットラインを電気的に分離する段階と、
前記第1ビットラインを前記第1電圧より高く、前記第2電圧より低い第3電圧まで充電しつつ、前記第2ビットラインを前記第2電圧に維持する段階と、
前記第1ビットライン及び前記第2ビットラインへの電流経路を遮断した後、第4電圧をワードラインに印加する段階とを備え、
前記第3電圧は前記第1電圧に対して前記第4電圧と同方向の電圧であることを特徴とする不揮発性半導体メモリ装置のプログラム方法。 - 前記第1、第2、第3及び第4電圧は各々接地電圧、電源電圧、禁止電圧及びプログラム電圧であることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性半導体メモリ装置のプログラム方法。
- 第1及び第2ビットラインと、この第1及び第2ビットラインに連結された第1及び第2セルストリングであって、各セルストリングは第1及び第2選択トランジスタの間に直列連結されたメモリセルトランジスタで構成され、前記メモリセルトランジスタは対応するワードラインに各々連結されたセルストリングと、前記第1及び第2ビットラインに各々対応し、プログラムされるデータビットを各々ラッチする第1及び第2ページバッファと、ビットラインレベル制御信号に応じて対応する第1及び第2ビットライン及び第1及び第2ページバッファを同時に連結/分離する第1及び第2ビットラインレベル制御トランジスタとを含み、
同一のワードラインに連結された隣接したメモリセルはフィールド領域によって電気的に分離され、前記隣接したメモリセルの間に寄生MOSトランジスタが形成され、前記同一のワードラインは前記寄生MOSトランジスタのゲートの役割を果たし、前記隣接したメモリセルのうち、1つは前記寄生MOSトランジスタのドレインの役割を果たし、前記隣接したメモリセルのうち、もう1つは前記寄生MOSトランジスタのソースの役割を果たすように構成された不揮発性半導体メモリ装置のプログラム方法において、
前記第1及び第2ページバッファに各々ラッチされたデータビットに従って、前記第1及び第2ビットラインがプログラム電圧及びプログラム禁止電圧のうち、1つを各々有するように第1電圧を有するビットラインレベル制御信号を発生する段階と、
前記第1及び第2ビットラインを前記第1及び第2ページバッファから電気的に絶縁する段階と、
前記プログラム電圧を有するビットラインの電位が前記プログラム電圧より高く設定されるように、前記第1電圧より低い第2電圧を有するビットラインレベル制御信号を発生すると同時に、前記第1及び第2ビットラインに電流を供給する段階と、
前記第1ビットラインを前記第1電圧より高く、前記第2電圧より低い第3電圧まで充電しつつ、前記第2ビットラインを前記第2電圧に維持する段階と、
前記第1及び第2ビットラインへの電流供給を遮断した後、前記ワードラインのうち、選択ワードラインに第4電圧を印加する段階とを備え、
前記第3電圧は前記第1電圧に対して前記第4電圧と同方向の電圧であることを特徴とする不揮発性半導体メモリ装置のプログラム方法。 - 前記プログラム電圧は接地電圧であり、前記プログラム禁止電圧は電源電圧であることを特徴とする請求項3に記載の不揮発性半導体メモリ装置のプログラム方法。
- 前記高電圧が前記選択ワードラインに供給される時、前記選択ワードラインに連結された前記第2セルストリングの内部のメモリセルトランジスタのチャンネル電圧が前記プログラム禁止電圧より高く昇圧されることを特徴とする請求項3に記載の不揮発性半導体メモリ装置のプログラム方法。
- 前記高電圧が前記選択ワードラインに供給される時、前記第2セルストリングの内部のメモリセルトランジスタのチャンネル電圧が昇圧されるように、前記第2プログラム電圧より低いパス電圧が選択されないワードラインに印加されることを特徴とする請求項3に記載の不揮発性半導体メモリ装置のプログラム方法。
- 前記第1電圧は前記パス電圧であり、前記第2電圧は前記プログラム禁止電圧より低く、前記プログラム電圧より高いことを特徴とする請求項4又は6に記載の不揮発性半導体メモリ装置のプログラム方法。
- 同一の行に沿って配列された隣接したセルはフィールド領域によって電気的に分離され、前記隣接したメモリセルの間に寄生MOSトランジスタが形成され、前記同一のワードラインは前記寄生MOSトランジスタのゲートの役割を果たし、前記隣接したメモリセルのうち、1つは前記寄生MOSトランジスタのドレインの役割を果たし、前記隣接したメモリセルのうち、もう1つは前記MOSトランジスタのソースの役割を果たすことを特徴とする請求項3に記載の不揮発性半導体メモリ装置のプログラム方法。
- 前記第2電圧は、前記寄生MOSトランジスタのしきい値電圧を選択されたワードラインに印加されるプログラム電圧より高く増加させるフィールド禁止電圧及び前記ビットラインレベル制御トランジスタのしきい値電圧の合計であることを特徴とする請求項8に記載の不揮発性半導体メモリ装置のプログラム方法。
- 第1及び第2ビットライン、この第1及び第2ビットラインに連結された第1及び第2セルストリングであって、各セルストリングは第1及び第2選択トランジスタの間に直列連結されたメモリセルトランジスタで構成され、前記メモリセルトランジスタは対応するワードラインに各々連結されたセルストリング、前記第1及び第2ビットラインに各々対応し、プログラムされるデータビットを各々ラッチするレジスタを含み、
同一のワードラインに連結された隣接したメモリセルはフィールド領域によって電気的に分離され、前記隣接したメモリセルの間に寄生MOSトランジスタが形成され、前記同一のワードラインは前記寄生MOSトランジスタのゲートの役割を果たし、前記隣接したメモリセルのうち、1つは前記寄生MOSトランジスタのドレインの役割を果たし、前記隣接したメモリセルのうち、もう1つは前記寄生MOSトランジスタのソースの役割を果たすように構成された不揮発性半導体メモリ装置のプログラム方法において、
前記対応するレジスタに各々ラッチされたプログラムされるデータビットに従って前記第1及び第2ビットラインに第1電圧及び第2電圧のうち、1つを各々提供する段階と、
前記第1及び第2ビットラインを前記対応するレジスタから電気的に分離する段階と、
前記第1電圧が印加されたビットラインの電位が前記第1電圧より高くバイアスされるように、所定時間の間、ビットラインプリチャージに応じて前記第1及び第2ビットラインに電流を供給する段階と、
前記第1ビットラインを前記第1電圧より高く、前記第2電圧より低い第3電圧まで充電しつつ、前記第2ビットラインを前記第2電圧に維持する段階と、
前記第1及び第2ビットラインへの電流供給を遮断した後、前記ワードラインのうち、選択されたワードラインにプログラム電圧を印加する段階とを備え、
前記第3電圧は前記第1電圧に対して前記プログラム電圧と同方向の電圧であることを特徴とする不揮発性半導体メモリ装置のプログラム方法。 - 前記第1電圧は接地電圧であり、前記第2電圧は電源電圧であることを特徴とする請求項10に記載の不揮発性半導体メモリ装置のプログラム方法。
- 前記プログラム電圧が前記選択されたワードラインに供給される時、前記選択されたワードラインに連結された前記第2セルストリングの内部のメモリセルトランジスタのチャンネル電圧が前記第2電圧より高く昇圧されることを特徴とする請求項10に記載の不揮発性半導体メモリ装置のプログラム方法。
- 前記プログラム電圧が前記選択されたワードラインに供給される時、前記第2セルストリングの内部のメモリセルトランジスタのチャンネル電圧が昇圧されるように、前記プログラム電圧より低いパス電圧が選択されないワードラインに印加されることを特徴とする請求項10に記載の不揮発性半導体メモリ装置のプログラム方法。
- 同一の行に沿って配列された隣接したセルはフィールド領域によって電気的に分離され、前記隣接したメモリセルの間に寄生MOSトランジスタが形成され、前記同一のワードラインは前記寄生MOSトランジスタのゲートの役割を果たし、前記隣接したメモリセルのうち、1つは前記寄生MOSトランジスタのドレインの役割を果たし、前記隣接したメモリセルのうち、もう1つは前記寄生MOSトランジスタのソースの役割を果たすことを特徴とする請求項10に記載の不揮発性半導体メモリ装置のプログラム方法。
- 前記第1電圧より高くバイアスされたビットラインの電位は前記寄生MOSトランジスタのしきい値電圧を選択されたワードラインに印加されるプログラム電圧より高く増加させる最小電圧であることを特徴とする請求項14に記載の不揮発性半導体メモリ装置のプログラム方法。
- 前記ビットラインに電流が供給される前記所定時間はビットラインキャパシタンス及び第3電圧によって決定され、前記第3電圧はプログラムを示すデータビットに対応するビットラインの最小電圧であることを特徴とする請求項15に記載の不揮発性半導体メモリ装置のプログラム方法。
- 第1及び第2セルストリング及びこのセルストリングに対応する第1及び第2ビットラインを有するメモリセルアレイと、
前記第1及び第2ビットラインに各々対応し、プログラム動作の間、前記メモリセルアレイにプログラムされるデータビットをラッチする第1及び第2ページバッファと、
前記第1及び第2ビットラインと前記第1及び第2ページバッファの間に各々連結され、ビットラインレベル制御信号に応じて前記第1及び第2ビットラインと前記第1及び第2ページバッファを電気的に分離/連結する第1及び第2ビットライン電圧制御トランジスタと、
この第1及び第2ビットライン電圧制御トランジスタに共通に印加されるビットラインレベル制御信号を発生するビットライン電圧制御回路とを含み、
前記セルストリングの各々は対応するビットラインに連結されたストリング選択トランジスタ、共通ソースラインに連結された接地選択トランジスタ、そして、前記ストリング及び接地選択トランジスタの間に直列連結された複数のメモリセルを有し、前記各セルストリングのメモリセルは対応するワードラインに各々連結され、
同一のワードラインに連結された隣接したメモリセルはフィールド領域によって電気的に分離され、前記隣接したメモリセルの間に寄生MOSトランジスタが形成され、前記同一のワードラインは前記寄生MOSトランジスタのゲートの役割を果たし、前記隣接したメモリセルのうち、1つは前記寄生MOSトランジスタのドレインの役割を果たし、前記隣接したメモリセルのうち、もう1つは前記寄生MOSトランジスタのソースの役割を果たし、
前記ビットラインレベル制御信号はプログラムサイクルの第1ビットラインセットアップ区間の間、前記ページバッファに各々ラッチされたデータビットが対応するビットラインに十分に伝達されるように第1電圧を有し、そして、前記第1及び第2ページバッファからの充電電流が前記第1及び第2ビットラインに各々供給される前記プログラムサイクルの第2ビットラインセットアップ区間の間、プログラムを示すデータビットに対応したビットライン電圧が前記第1ビットラインセットアップ区間の間に伝達された電圧より高 い第3電圧に設定され、かつプログラム禁止を示すデータビットに対応するビットライン電圧が前記第1ビットラインセットアップ区間の間に伝達された電圧を維持するように、前記第1電圧より低い第2電圧を有し、
前記第3電圧は、前記第1ビットラインセットアップ区間の間に伝達された電圧に対して、プログラム電圧と同方向の電圧であることを特徴とする不揮発性半導体メモリ装置。 - 前記第1電圧はパス電圧であることを特徴とする請求項17に記載の不揮発性半導体メモリ装置。
- プログラム動作の時、高電圧が選択されたワードラインに供給される時、前記選択されたワードラインに連結された前記第2セルストリングの内部のメモリセルトランジスタのチャンネル電圧が電源電圧より高く昇圧されることを特徴とする請求項18に記載の不揮発性半導体メモリ装置。
- プログラム動作の時、高電圧が選択されたワードラインに供給される時、前記第2セルストリングの内部のメモリセルトランジスタのチャンネル電圧が昇圧されるように前記高電圧より低いパス電圧が選択されないワードラインに印加されることを特徴とする請求項18に記載の不揮発性半導体メモリ装置。
- 前記第2電圧は、前記寄生MOSトランジスタのしきい値電圧を選択されたワードラインに印加されるプログラム電圧より高く増加させるフィールド禁止電圧及び前記ビットラインレベル制御トランジスタのしきい値電圧の合計であることを特徴とする請求項18に記載の不揮発性半導体メモリ装置。
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Families Citing this family (42)
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KR100476930B1 (ko) * | 2002-09-04 | 2005-03-16 | 삼성전자주식회사 | 피이크전류를 줄이는 플래쉬메모리 |
US6956770B2 (en) * | 2003-09-17 | 2005-10-18 | Sandisk Corporation | Non-volatile memory and method with bit line compensation dependent on neighboring operating modes |
US7064980B2 (en) * | 2003-09-17 | 2006-06-20 | Sandisk Corporation | Non-volatile memory and method with bit line coupled compensation |
KR100543310B1 (ko) * | 2003-12-24 | 2006-01-20 | 주식회사 하이닉스반도체 | 플래쉬 메모리 소자 |
JP4405292B2 (ja) | 2004-03-22 | 2010-01-27 | パナソニック株式会社 | 不揮発性半導体記憶装置及びその書き込み方法 |
EP1610343B1 (en) * | 2004-06-24 | 2007-12-19 | STMicroelectronics S.r.l. | An improved page buffer for a programmable memory device |
US7379333B2 (en) * | 2004-10-28 | 2008-05-27 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Page-buffer and non-volatile semiconductor memory including page buffer |
JP4690713B2 (ja) * | 2004-12-08 | 2011-06-01 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置及びその駆動方法 |
KR100706248B1 (ko) | 2005-06-03 | 2007-04-11 | 삼성전자주식회사 | 소거 동작시 비트라인 전압을 방전하는 페이지 버퍼를구비한 낸드 플래시 메모리 장치 |
US7295466B2 (en) * | 2005-12-16 | 2007-11-13 | Atmel Corporation | Use of recovery transistors during write operations to prevent disturbance of unselected cells |
US7976144B2 (en) * | 2006-11-21 | 2011-07-12 | Xerox Corporation | System and method for delivering solid ink sticks to a melting device through a non-linear guide |
US7794072B2 (en) * | 2006-11-21 | 2010-09-14 | Xerox Corporation | Guide for printer solid ink transport and method |
US7545678B2 (en) * | 2007-06-29 | 2009-06-09 | Sandisk Corporation | Non-volatile storage with source bias all bit line sensing |
US7471567B1 (en) * | 2007-06-29 | 2008-12-30 | Sandisk Corporation | Method for source bias all bit line sensing in non-volatile storage |
US7692975B2 (en) * | 2008-05-09 | 2010-04-06 | Micron Technology, Inc. | System and method for mitigating reverse bias leakage |
KR101532755B1 (ko) | 2008-10-13 | 2015-07-02 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 메모리 장치, 그것을 포함하는 메모리 시스템, 그것의 프로그램 방법, 및 그것의 프리차지 전압 부스팅 방법 |
US8692310B2 (en) | 2009-02-09 | 2014-04-08 | Spansion Llc | Gate fringing effect based channel formation for semiconductor device |
CN102341865B (zh) | 2009-04-30 | 2014-07-16 | 力晶股份有限公司 | Nand闪存装置的编程方法 |
JP2011129176A (ja) | 2009-12-15 | 2011-06-30 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
KR101691092B1 (ko) | 2010-08-26 | 2016-12-30 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 메모리 장치, 그것의 동작 방법, 그리고 그것을 포함하는 메모리 시스템 |
US9324440B2 (en) | 2010-02-09 | 2016-04-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Nonvolatile memory devices, operating methods thereof and memory systems including the same |
KR101691088B1 (ko) | 2010-02-17 | 2016-12-29 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 메모리 장치, 그것의 동작 방법, 그리고 그것을 포함하는 메모리 시스템 |
KR101658479B1 (ko) | 2010-02-09 | 2016-09-21 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 메모리 장치, 그것의 동작 방법, 그리고 그것을 포함하는 메모리 시스템 |
US9378831B2 (en) | 2010-02-09 | 2016-06-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Nonvolatile memory devices, operating methods thereof and memory systems including the same |
JP5788183B2 (ja) | 2010-02-17 | 2015-09-30 | 三星電子株式会社Samsung Electronics Co.,Ltd. | 不揮発性メモリ装置、それの動作方法、そしてそれを含むメモリシステム |
US8908431B2 (en) | 2010-02-17 | 2014-12-09 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Control method of nonvolatile memory device |
US8923060B2 (en) | 2010-02-17 | 2014-12-30 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Nonvolatile memory devices and operating methods thereof |
JP2011170956A (ja) | 2010-02-18 | 2011-09-01 | Samsung Electronics Co Ltd | 不揮発性メモリ装置およびそのプログラム方法と、それを含むメモリシステム |
US8792282B2 (en) | 2010-03-04 | 2014-07-29 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Nonvolatile memory devices, memory systems and computing systems |
US8553466B2 (en) | 2010-03-04 | 2013-10-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Non-volatile memory device, erasing method thereof, and memory system including the same |
US8279674B2 (en) * | 2010-06-28 | 2012-10-02 | Spansion Llc | High read speed memory with gate isolation |
KR101642015B1 (ko) * | 2010-07-23 | 2016-07-22 | 삼성전자주식회사 | 플래시 메모리 장치 및 플래시 메모리 장치의 프로그램 방법 |
KR101762828B1 (ko) | 2011-04-05 | 2017-07-31 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 메모리 장치 및 불휘발성 메모리 장치의 동작 방법 |
US20120327714A1 (en) * | 2011-06-23 | 2012-12-27 | Macronix International Co., Ltd. | Memory Architecture of 3D Array With Diode in Memory String |
KR20130011058A (ko) * | 2011-07-20 | 2013-01-30 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 장치 및 이의 동작방법 |
US8699273B2 (en) * | 2012-07-31 | 2014-04-15 | Spansion Llc | Bitline voltage regulation in non-volatile memory |
US9214351B2 (en) | 2013-03-12 | 2015-12-15 | Macronix International Co., Ltd. | Memory architecture of thin film 3D array |
US9268899B2 (en) * | 2013-03-14 | 2016-02-23 | Silicon Storage Technology, Inc. | Transistor design for use in advanced nanometer flash memory devices |
KR102242022B1 (ko) | 2013-09-16 | 2021-04-21 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 메모리 및 그것의 프로그램 방법 |
US9396791B2 (en) * | 2014-07-18 | 2016-07-19 | Micron Technology, Inc. | Programming memories with multi-level pass signal |
KR102611841B1 (ko) * | 2016-06-09 | 2023-12-11 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 페이지 버퍼 및 이를 포함하는 메모리 장치 |
US10381088B2 (en) * | 2017-03-30 | 2019-08-13 | Silicon Storage Technology, Inc. | System and method for generating random numbers based on non-volatile memory cell array entropy |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0752540B1 (en) * | 1995-01-19 | 2002-05-02 | Shimano Inc. | Brake system for cycles |
KR100218244B1 (ko) * | 1995-05-27 | 1999-09-01 | 윤종용 | 불휘발성 반도체 메모리의 데이터 독출회로 |
KR0172441B1 (ko) | 1995-09-19 | 1999-03-30 | 김광호 | 불휘발성 반도체 메모리의 프로그램 방법 |
KR0169419B1 (ko) * | 1995-09-28 | 1999-02-01 | 김광호 | 불휘발성 반도체 메모리의 독출방법 및 장치 |
KR0172408B1 (ko) * | 1995-12-11 | 1999-03-30 | 김광호 | 다수상태 불휘발성 반도체 메모리 및 그의 구동방법 |
KR100205240B1 (ko) * | 1996-09-13 | 1999-07-01 | 윤종용 | 단일 비트 및 다중 비트 셀들이 장착된 불휘발성 반도체 메모리 장치 |
US5862074A (en) * | 1996-10-04 | 1999-01-19 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Integrated circuit memory devices having reconfigurable nonvolatile multi-bit memory cells therein and methods of operating same |
KR100259972B1 (ko) * | 1997-01-21 | 2000-06-15 | 윤종용 | 메모리 셀당 2개 이상의 저장 상태들을 갖는 불휘발성 반도체 메모리 장치 |
JPH10223866A (ja) * | 1997-02-03 | 1998-08-21 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
JP3320344B2 (ja) | 1997-09-19 | 2002-09-03 | 富士通株式会社 | ライブラリ装置用カートリッジ移送ロボットおよびライブラリ装置 |
US5991202A (en) * | 1998-09-24 | 1999-11-23 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method for reducing program disturb during self-boosting in a NAND flash memory |
KR100328359B1 (ko) * | 1999-06-22 | 2002-03-13 | 윤종용 | 기판 전압 바운싱을 최소화할 수 있는 플래시 메모리 장치 및그것의 프로그램 방법 |
KR100305030B1 (ko) * | 1999-06-24 | 2001-11-14 | 윤종용 | 플래시 메모리 장치 |
DE10043397B4 (de) * | 1999-09-06 | 2007-02-08 | Samsung Electronics Co., Ltd., Suwon | Flash-Speicherbauelement mit Programmierungszustandsfeststellungsschaltung und das Verfahren dafür |
JP3942342B2 (ja) * | 2000-06-30 | 2007-07-11 | 富士通株式会社 | 多値データを記録する不揮発性メモリ |
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