JP4021596B2 - Uvイメージングに関するフロント照射蛍光スクリーン - Google Patents

Uvイメージングに関するフロント照射蛍光スクリーン Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザによって生成されたような紫外線(UV)の特性をカメラを使用して検知することに関する。
【0002】
【従来の技術】
人間の目に見えない波長を有するエネルギビームを、可視の範囲内の異なる波長に変換することは良く知られている。この波長変換は、不可視エネルギビームを蛍光スクリーンに入射させ、可視光としてこのエネルギビームを再放射させる蛍光スクリーンの使用によってしばしば達成される。かかるスクリーンは、X線系で最も一般的に使用される。
【0003】
UVレーザの所定の用途では、レーザビームの断面形状、及び、ビームにわたる光強度の変化は、非常に重要である。かかる用途の一つは、半導体ウェハ上に集積回路を形成するときのフォトリソグラフィの分野である。レーザの診断目的のためにUVレーザビーム特性を検出するのが望ましい。これらのビーム特性を検出するために要求される解像度は、数十ミクロンのオーダーである。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明のある実施形態では、珪酸ナトリウム溶液のようなバインダ中の蛍光パウダは、石英ガラス基板の第1の平らな面に堆積される。石英ガラスはUV放射に対して透明である。レーザビームのUV出力は、第1の面に対峙する石英ガラス基板の第2の平面に入射するように角度がつけられたミラーで反射される。蛍光体は、石英ガラスによって透過されたUV光によって活性化され、第2の面を介して可視波長を再放射する。バインダは、UV波長に対して透明であるものが選択され、その結果、第1の面に対する蛍光体の本当に薄い層(10乃至20ミクロン)が、入射UVビームによって活性化される。基板の第1の面に対する活性化された蛍光層が、(バインダが不透明であるため)非常に薄く、(石英基板の光学的表面品質のため)平らであるので、活性化された蛍光体は、入射UV光に精密に対応する可視光を作り出す。好ましい実施形態では、蛍光パウダのグレインサイズに依存して、10ミクロンの解像度が得られる。
【0005】
可視光に対して敏感であるカメラが、石英ガラス基板の第2面及び第1面を介して、UVミラーを直接介して、検知するために位置決めされ焦点合わせされる。カメラからのイメージは、レーザビームの望ましくない特性を補正するためにレーザを制御し、他の診断目的のために解析される。
【0006】
【発明の実施の形態】
図1は、レーザ診断、及び、レーザビームの特徴を検出し、レーザ光出力を調整するためにこれらの特徴を使用する制御システム10の概略図である。
【0007】
レーザ12はレーザビーム14を出力する。ある実施形態では、レーザビーム14は、4mm×15mmの長方形の断面積を有する。レーザ12は、約248nm又は193nmの波長を有するUVを出力するエキシマレーザである。
【0008】
角度がついたUVスプリッタ16は、入射ビーム14を受け、ビーム14の小さな部分をスクリーン24に反射する。スプリッタ16は、可視光の波長に変換し、かかるミラーは2色性ミラーとして当業者に周知である。
【0009】
ある特定の用途では、レーザビーム14の大部分がスプリッタ16を介して光学素子のセット、及び、ステッパ18のレチクル、又は、半導体ウェハをレーザ光に選択的に曝すためのスキャナに貫通する。ウェハ表面を照射するレーザ光は、結果としての集積回路の予定の特徴を保証するためにウェハにわたって非常に均一でなければならない。
【0010】
ある実施形態では、スプリッタ16によって反射された光20の強度は、合計のビーム14の強度の約1%である。従って、入射ビーム14の約99%は、スプリッタ16を介して透過され、ビーム22として称される。
【0011】
ある実施形態では、スクリーン24は、石英基板26と、蛍光材料の堆積された層28とからなる。ある実施形態では、基板26は、約1/4インチ厚であり、その表面は、ひずみを実際に最小にするために平らにするように形成される。かかる光学的に高品質な基板は、知られており、市販されている。基板26は円形であっても良く、長方形であってもよい。
【0012】
基板26の一つの表面30は、重要なUV波長に対して感度が高い蛍光材料が堆積される。ある市販されている蛍光材料は、UV波長を緑色の波長に変換するが、蛍光材料は、UV波長を他の波長に変換するために市販されている。
【0013】
ある実施形態では、この蛍光材料は、バインダに蛍光パウダとして包含されており、ここでパウダは、10ミクロンの所望の解像度を達成するために10ミクロンのグレインサイズを有する。5乃至50ミクロンのグレインが満足に使用される。かかる蛍光材料は、United Mineral Supply Companyから市販されている。蛍光材料及びバインダは水中で浮遊するので、容易に塗装することができ、又は、基板26の表面に散布することができる。次いで、混合物は水を蒸発させ、バインダを凝固させるために加熱される。ある実施形態では、結果としてできた層28は、0.5mm厚であるが、この厚さは、UV光が層28の非常に小さな距離しか貫通しないので、重要ではない。ある実施形態では、UV光は、10乃至20ミクロンの距離だけ層28に入る。この短い貫通が、ビームの視覚的なイメージのにじみを取り除くために、層28における光散乱を最小にさせる。
【0014】
層28内へのかかる短い貫通を得るために、蛍光材料を保持するのに使用されるバインダは、UV放射に対して不透明であるように選択され、そのためUV放射は散乱しない。このバインダは、珪酸ナトリウム(NaSiO3)であってよく、可視光に対して透明である。好ましくは、バインダは全て無機であり、その結果,UV照射はバインダを劣化させない。ある実施形態では、層28は5%のバインダと95%の蛍光材料からなる。ある適当な混合物は、セメンティングガラスに関して使用される水ガラスと一般に呼ばれる。
【0015】
別の実施形態では、蛍光パウダは、石英表面に対して単に機械的に圧力がかけられただけであり、この場合、バインダの効果は望めない。
【0016】
スクリーン24は、比較的容易であり、材料が市販されているので製造するのに高価でない。
【0017】
ビーム20は、基板26の裏面32に入射させられる。基板26の裏面32から層28まで入射ビームを適用することによって、光を再放射する蛍光材料の部分が、ひずみを最小にするために非常に平坦となりうる。利用される層の部分が、平坦な表面に対して10乃至20ミクロンの層だけであるので、利用される部分はまた、非常に均一であり、その結果、強度と、イメージの形状のひずみが非常に小さくなる。
【0018】
CCDカメラのような従来のカメラが、スプリッタ16、及び、基板26の透明な表面32を介して可視イメージ41を見ることができ、このイメージを電気信号に変換する。スプリッタ16は、スクリーン24によって再放射された光の波長に対して透明である。レンズ42は、イメージを拡大することによって、アプリケーションに関するイメージをカメラ40に適当に変換するのに使用され、ビーム20の特徴はよりよく検出される。
【0019】
いくつかのカメラがUV放射を直接検出するので、これらのカメラは種々の障害を有し、UV放射は典型的にはカメラのイメージセンサを劣化させる。スクリーン24によって再放射された波長は、容易に検出され、カメラ40のイメージセンサを劣化させない。
【0020】
カメラ40の出力は、ビーム20にわたって光強度を解析し、ビーム形状を検出し、ビーム特性を最適化かどうか判断するコントローラ44に印加される。あるケースでは、コントローラ44は、次いで、ビームを適当に補正するためにレーザ12に対するアプリケーションに関する補正信号を生成する。レーザ出力を調整するための技術は、周知であり、ここで議論する必要はない。カメラ40の処理された出力はまた、ビーム特性の読み出しを提供するCRT又はプリンタ46によって表示されうる。
【0021】
レーザの作動特性を制御するために、図1の全てのコンポーネントは、サブモジュール、又は、一部のより複雑なビームを測定するサブモジュールとしてレーザ内に構築される。かかる構成によりその場測定が可能になる。コンポーネントはまた、容易に搬送され、レーザに一時的に取り付けられるセパレートモジュール内に組み立てられ得る。この場合、構成は、フィールドツールと呼ばれ、レーザ特性は時折標準的に測定されうる。かくして、その場合、コントローラ44によるレーザの制御は実施されない。
【0022】
入射ビームの正確なイメージを得るためにスクリーン24の裏面32を介して再放射されるイメージを検知することは、不可視の入射光ビームの特性を正確に検出するために他のアプリケーションに適用される。
【0023】
他の実施形態では、UVスプリッタ16は使用されず、ビーム14がスクリーン24に直接入射される。かかる実施形態では、カメラ40は、表面32を介して発する活性化した蛍光材料の発光を正確に検出するように、ビーム14から僅かにオフセットされる。
【0024】
本発明の特定の実施形態を示し、記載してきたけれども、本発明の広い観点から逸脱することなく変更及び修正をすることができるということは当業者に明らかであり、それゆえ、本発明の精神及び範囲内にあるかかる全ての変更及び修正は特許請求の範囲に入る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一つの実施形態に関するレーザ診断システムの概略図である。
【符号の説明】
10 制御システム
12 レーザ
14 レーザビーム
16 スプリッタ
20 光
22 ビーム
24 スクリーン
26 石英基板
28 蛍光材料の堆積された層
40 カメラ
42 レンズ
44 コントローラ

Claims (16)

  1. 人間の目に対して不可視である第1の波長の光を生成する光源と、
    前記第1の波長の前記光を第2の波長の光に変換するためのスクリーンと、
    を有し、
    前記第1の波長の前記光が、レーザから発する紫外光であり、
    前記スクリーンは、対峙する滑らかな表面を備える基板を有し、
    前記基板は、前記第1の波長と前記第2の波長の前記光に対して透明であり、
    前記基板は、前記第1の波長の前記光によって活性化されたとき、前記第2の波長の光を生成する材料を第1の表面に堆積させ、
    前記第1の表面に堆積される前記材料が、バインダ中の蛍光材料であり、
    前記堆積された材料の前記第1の表面に対する厚さ10乃至20ミクロンの薄い層内だけの前記蛍光材料が、前記第1の波長の前記光によって光学的に活性化される程度に、前記バインダが前記第1の波長の前記光に対して不透明であり、
    前記第1の波長の前記光は、前記第1の表面と対峙する前記基板の第2の表面に当てられ、
    前記第2の表面を介して発する前記第2の波長の光を検出する光学検出器と、
    を有する、システム。
  2. 前記基板が石英ガラスである、請求項1に記載のシステム。
  3. 前記レーザからのビーム出力が、ビームスプリッタから反射され、前記スクリーンの前記第2の表面を介して前記材料に反射される、請求項1に記載のシステム。
  4. 前記検出器が、前記スプリッタを介して前記基板の前記第2の表面を検知し、前記スプリッタは前記第2の波長に対して透明である、請求項3に記載のシステム。
  5. 前記検出器が、前記スクリーンによって生成された前記第2の波長の検出された光に応じて信号を出力し、
    前記システムが、
    前記光源を調節するために前記信号を制御信号に変換するためのコントローラを更に有する、
    請求項1に記載のシステム。
  6. 人間の目に対して不可視である第1の波長の光を生成する光源と、
    前記第1の波長の前記光を第2の波長の光に変換するためのスクリーンと、
    を有し、
    前記第1の波長の前記光が、レーザから発する紫外光であり、
    前記スクリーンは、対峙する滑らかな表面を備える基板を有し、
    前記基板は、前記第1の波長と前記第2の波長の前記光に対して透明であり、
    前記基板は、前記第1の波長の前記光によって活性化されたとき、前記第2の波長の光を生成する材料を第1の表面に堆積させ、
    前記材料が、バインダに包含された、おおよそ5ミクロン乃至50ミクロンの範囲内のグレインサイズを有する蛍光パウダからなり、
    前記堆積された材料の前記第1の表面に対する厚さ10乃至20ミクロンの薄い層内だけの前記蛍光パウダが、前記第1の波長の前記光によって光学的に活性化される程度に、前記バインダが紫外光に対して不透明であり、可視光に対しては透明であり、
    前記第1の波長の前記光は、前記第1の表面と対峙する前記基板の第2の表面に当てられ、
    前記第2の表面を介して発する前記第2の波長の光を検出する光学検出器と、
    を有する、システム。
  7. 前記第2の表面に入射する前記第1の波長の前記光が、おおよそ20ミクロンの最大深度で前記材料に入る、請求項1に記載のシステム。
  8. 前記材料が、バインダに包含された蛍光パウダを有し、前記堆積された材料の表面の薄い層においてのみ、前記第1の波長の前記光によって前記蛍光パウダが光学的に活性化される程度に、前記バインダが、紫外光に対して不透明であり、可視光に対しては透明である珪酸ナトリウムからなることを特徴とする、請求項1に記載のシステム。
  9. 人間の目に対して不可視の第1の波長の光を生成させ、
    前記第1の波長の前記光を第2の波長の光に変換するためのスクリーンを提供し、
    前記第1の波長の光がレーザから出る紫外光であり、
    前記スクリーンが対峙する滑らかな表面を有する基板を備え、
    前記基板が前記第1の波長及び前記第2の波長の前記光に対して透明であり、
    前記基板は、前記第1の波長の前記光によって活性化されたとき、前記第2の波長の光を生成する材料を第1の表面に堆積させ、
    前記第1の表面に堆積される前記材料が、バインダ中の蛍光材料であり、
    前記堆積された材料の前記第1の表面に対する厚さ10乃至20ミクロンの薄い層内だけの前記蛍光材料が、前記第1の波長の前記光によって光学的に活性化される程度に、前記バインダが前記第1の波長の前記光に対して不透明であり、
    前記第1の波長の前記光を、前記第1の表面と対峙する前記基板の第2の表面に当て、
    前記第2の表面を介して発する前記第2の波長の光を検出する、
    方法。
  10. 前記基板が石英ガラスである、請求項9に記載の方法。
  11. 前記レーザからのビーム出力をビームスプリッタで反射し、前記スクリーンの前記第2の表面を介して前記材料に反射させることを更に含む、請求項9に記載の方法。
  12. 前記検出器が前記スプリッタを介して前記基板の前記第2の表面を検知することができ、前記スプリッタが前記第2の波長に対して透明である、請求項11に記載の方法。
  13. 検出器が、前記第2の表面を介して発する前記光を検出し、前記方法が、
    前記スクリーンによって生成された前記第2の波長の検出された光に対応して前記検出器によって信号を生成し、
    前記信号を前記光源を調節するための制御信号に変換すること
    を更に含む、請求項9に記載の方法。
  14. 人間の目に対して不可視の第1の波長の光を生成させ、
    前記第1の波長の前記光を第2の波長の光に変換するためのスクリーンを提供し、
    前記第1の波長の光がレーザから出る紫外光であり、
    前記スクリーンが対峙する滑らかな表面を有する基板を備え、
    前記基板が前記第1の波長及び前記第2の波長の前記光に対して透明であり、
    前記基板は、前記第1の波長の前記光によって活性化されたとき、前記第2の波長の光を生成する材料を第1の表面に堆積させ、
    前記材料が、バインダに包含された、おおよそ5ミクロン乃至50ミクロンの範囲内のグレインサイズを有する蛍光パウダからなり、
    前記堆積された材料の前記第1の表面に対する厚さ10乃至20ミクロンの薄い層内だけの前記蛍光パウダが、前記第1の波長の前記光によって光学的に活性化される程度に、前記バインダが紫外光に対して不透明であり、可視光に対しては透明であり、
    前記第1の波長の前記光を、前記第1の表面と対峙する前記基板の第2の表面に当て、 前記第2の表面を介して発する前記第2の波長の光を検出する、
    方法。
  15. 前記第2の表面に入射する前記第1の波長の前記光が、おおよそ20ミクロンの最大深度で前記材料に入る、請求項9に記載の方法。
  16. 前記材料が、バインダに包含された蛍光パウダを有し、前記堆積された材料の表面の薄い層においてのみ、前記第1の波長の前記光によって前記蛍光パウダが光学的に活性化される程度に、前記バインダが、紫外光に対して不透明であり、可視光に対しては透明である珪酸ナトリウムからなることを特徴とする、請求項9に記載の方法。
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6536672B1 (en) * 1998-11-18 2003-03-25 Dna Technologies, Inc. Product authentication system and method
US6354501B1 (en) 1998-11-18 2002-03-12 Crossoff Incorporated Composite authentication mark and system and method for reading the same
JP2000205966A (ja) * 1999-01-20 2000-07-28 Komatsu Ltd 真空紫外レ―ザの波長測定装置
US6607287B1 (en) * 2000-09-20 2003-08-19 Disney Enterprises, Inc. Black-light display
CN101048647A (zh) * 2004-10-28 2007-10-03 应用材料股份有限公司 用于测量集中光束的方法和装置
US7307711B2 (en) * 2004-10-29 2007-12-11 Hitachi Via Mechanics (Usa), Inc. Fluorescence based laser alignment and testing of complex beam delivery systems and lenses
JP4947975B2 (ja) * 2005-12-28 2012-06-06 オリンパス株式会社 内視鏡装置および内視鏡用照明装置
JP4812430B2 (ja) * 2005-12-28 2011-11-09 オリンパス株式会社 内視鏡装置
TWI288234B (en) * 2006-06-13 2007-10-11 Ghitron Technology Co Ltd Multi-directional-absorbing ultraviolet sensor
US8247248B2 (en) * 2009-05-15 2012-08-21 Achrolux Inc. Methods and apparatus for forming uniform layers of phosphor material on an LED encapsulation structure
US9018108B2 (en) 2013-01-25 2015-04-28 Applied Materials, Inc. Low shrinkage dielectric films
US10345714B2 (en) 2016-07-12 2019-07-09 Cymer, Llc Lithography optics adjustment and monitoring

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5013040A (ja) * 1973-06-04 1975-02-10
US4297584A (en) * 1977-04-11 1981-10-27 Lockheed Missiles & Space Company, Inc. Rare earth phosphors and phosphor screens
US4215275A (en) * 1977-12-07 1980-07-29 Luxtron Corporation Optical temperature measurement technique utilizing phosphors
US4341654A (en) * 1978-08-07 1982-07-27 The Harshaw Chemical Company Getter for melt-grown scintillator ingot
US4422758A (en) * 1981-07-24 1983-12-27 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Boresighting of airborne laser designation systems
US4825084A (en) * 1986-08-19 1989-04-25 Peter F. Braunlich Laser readable thermoluminescent radiation dosimeters and methods for producing thereof
JPH0746582B2 (ja) * 1985-10-01 1995-05-17 ソニー株式会社 光検出装置
US4812660A (en) * 1985-10-10 1989-03-14 Quantex Corporation Photoluminescent materials for outputting yellow-green light
US5083031A (en) * 1986-08-19 1992-01-21 International Sensor Technology, Inc. Radiation dosimeters
JPH01147449A (ja) * 1987-12-03 1989-06-09 Konica Corp レーザー光源用ハロゲン化銀写真感光材料
US4980559A (en) * 1989-02-03 1990-12-25 Eastman Kodak Company X-ray intensifying screen including a titanium activated hafnium dioxide phospher containing europium to reduce afterglow
US5150394A (en) * 1989-12-05 1992-09-22 University Of Massachusetts Medical School Dual-energy system for quantitative radiographic imaging
US5216531A (en) * 1990-08-28 1993-06-01 Asahi Glass Company Ltd. Projection type active matrix polymer dispersed liquid crystal display apparatus with particles of liquid crystal material randomly oriented
JP2618596B2 (ja) * 1991-07-08 1997-06-11 ローン−プーラン・ロレ・ソシエテ・アノニム タキサン類の誘導体を基とする新規組成物
EP0586744B1 (en) * 1992-09-07 1997-03-05 Agfa-Gevaert N.V. A method of erasing energy stored in a photostimulable phosphor medium
JP3146387B2 (ja) * 1992-10-15 2001-03-12 コニカ株式会社 レーザー光源用ハロゲン化銀写真感光材料
JPH0829923A (ja) * 1994-07-11 1996-02-02 Konica Corp ハロゲン化銀写真感光材料と放射線蛍光増感紙との組体
US5606163A (en) * 1995-01-11 1997-02-25 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy All-optical, rapid readout, fiber-coupled thermoluminescent dosimeter system

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