JP2000146687A - Ｕｖイメ―ジングに関するフロント照射蛍光スクリ―ン - Google Patents
Ｕｖイメ―ジングに関するフロント照射蛍光スクリ―ンInfo
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- G—PHYSICS
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- G—PHYSICS
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＵＶイメージングに関するフロント照射蛍光
スクリーンを提供する。 【解決手段】 本発明のある実施形態では、バインダ中
の蛍光パウダは、石英ガラス基板の第１の平らな面に堆
積される。レーザビームのＵＶ出力は、第１の面に対峙
する石英ガラス基板の第２の平面に入射するように角度
がつけられたミラーで反射される。蛍光体は、石英ガラ
スによって透過されたＵＶ光によって活性化され、可視
波長を再放射する。バインダは、ＵＶ波長に対して透明
であるものが選択され、その結果、第１の面に対する蛍
光体の本当に薄い層（１０乃至２０ミクロン）が、入射
ＵＶビームによって活性化される。基板の第１の面に対
する活性化された蛍光層が、非常に薄く、平らであるの
で、活性化された蛍光体は、入射ＵＶ光に精密に対応す
る可視光を作り出す。可視光は、次いで、ＵＶビームの
特性を判断するのに使用される。
スクリーンを提供する。 【解決手段】 本発明のある実施形態では、バインダ中
の蛍光パウダは、石英ガラス基板の第１の平らな面に堆
積される。レーザビームのＵＶ出力は、第１の面に対峙
する石英ガラス基板の第２の平面に入射するように角度
がつけられたミラーで反射される。蛍光体は、石英ガラ
スによって透過されたＵＶ光によって活性化され、可視
波長を再放射する。バインダは、ＵＶ波長に対して透明
であるものが選択され、その結果、第１の面に対する蛍
光体の本当に薄い層（１０乃至２０ミクロン）が、入射
ＵＶビームによって活性化される。基板の第１の面に対
する活性化された蛍光層が、非常に薄く、平らであるの
で、活性化された蛍光体は、入射ＵＶ光に精密に対応す
る可視光を作り出す。可視光は、次いで、ＵＶビームの
特性を判断するのに使用される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザによって生
成されたような紫外線（ＵＶ）の特性をカメラを使用し
て検知することに関する。
成されたような紫外線（ＵＶ）の特性をカメラを使用し
て検知することに関する。
【０００２】
【従来の技術】人間の目に見えない波長を有するエネル
ギビームを、可視の範囲内の異なる波長に変換すること
は良く知られている。この波長変換は、不可視エネルギ
ビームを蛍光スクリーンに入射させ、可視光としてこの
エネルギビームを再放射させる蛍光スクリーンの使用に
よってしばしば達成される。かかるスクリーンは、Ｘ線
系で最も一般的に使用される。
ギビームを、可視の範囲内の異なる波長に変換すること
は良く知られている。この波長変換は、不可視エネルギ
ビームを蛍光スクリーンに入射させ、可視光としてこの
エネルギビームを再放射させる蛍光スクリーンの使用に
よってしばしば達成される。かかるスクリーンは、Ｘ線
系で最も一般的に使用される。
【０００３】ＵＶレーザの所定の用途では、レーザビー
ムの断面形状、及び、ビームにわたる光強度の変化は、
非常に重要である。かかる用途の一つは、半導体ウェハ
上に集積回路を形成するときのフォトリソグラフィの分
野である。レーザの診断目的のためにＵＶレーザビーム
特性を検出するのが望ましい。これらのビーム特性を検
出するために要求される解像度は、数十ミクロンのオー
ダーである。
ムの断面形状、及び、ビームにわたる光強度の変化は、
非常に重要である。かかる用途の一つは、半導体ウェハ
上に集積回路を形成するときのフォトリソグラフィの分
野である。レーザの診断目的のためにＵＶレーザビーム
特性を検出するのが望ましい。これらのビーム特性を検
出するために要求される解像度は、数十ミクロンのオー
ダーである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明のある実施形態で
は、珪酸ナトリウム溶液のようなバインダ中の蛍光パウ
ダは、石英ガラス基板の第１の平らな面に堆積される。
石英ガラスはＵＶ放射に対して透明である。レーザビー
ムのＵＶ出力は、第１の面に対峙する石英ガラス基板の
第２の平面に入射するように角度がつけられたミラーで
反射される。蛍光体は、石英ガラスによって透過された
ＵＶ光によって活性化され、第２の面を介して可視波長
を再放射する。バインダは、ＵＶ波長に対して透明であ
るものが選択され、その結果、第１の面に対する蛍光体
の本当に薄い層（１０乃至２０ミクロン）が、入射ＵＶ
ビームによって活性化される。基板の第１の面に対する
活性化された蛍光層が、（バインダが不透明であるた
め）非常に薄く、（石英基板の光学的表面品質のため）
平らであるので、活性化された蛍光体は、入射ＵＶ光に
精密に対応する可視光を作り出す。好ましい実施形態で
は、蛍光パウダのグレインサイズに依存して、１０ミク
ロンの解像度が得られる。
は、珪酸ナトリウム溶液のようなバインダ中の蛍光パウ
ダは、石英ガラス基板の第１の平らな面に堆積される。
石英ガラスはＵＶ放射に対して透明である。レーザビー
ムのＵＶ出力は、第１の面に対峙する石英ガラス基板の
第２の平面に入射するように角度がつけられたミラーで
反射される。蛍光体は、石英ガラスによって透過された
ＵＶ光によって活性化され、第２の面を介して可視波長
を再放射する。バインダは、ＵＶ波長に対して透明であ
るものが選択され、その結果、第１の面に対する蛍光体
の本当に薄い層（１０乃至２０ミクロン）が、入射ＵＶ
ビームによって活性化される。基板の第１の面に対する
活性化された蛍光層が、（バインダが不透明であるた
め）非常に薄く、（石英基板の光学的表面品質のため）
平らであるので、活性化された蛍光体は、入射ＵＶ光に
精密に対応する可視光を作り出す。好ましい実施形態で
は、蛍光パウダのグレインサイズに依存して、１０ミク
ロンの解像度が得られる。
【０００５】可視光に対して敏感であるカメラが、石英
ガラス基板の第２面及び第１面を介して、ＵＶミラーを
直接介して、検知するために位置決めされ焦点合わせさ
れる。カメラからのイメージは、レーザビームの望まし
くない特性を補正するためにレーザを制御し、他の診断
目的のために解析される。
ガラス基板の第２面及び第１面を介して、ＵＶミラーを
直接介して、検知するために位置決めされ焦点合わせさ
れる。カメラからのイメージは、レーザビームの望まし
くない特性を補正するためにレーザを制御し、他の診断
目的のために解析される。
【０００６】
【発明の実施の形態】図１は、レーザ診断、及び、レー
ザビームの特徴を検出し、レーザ光出力を調整するため
にこれらの特徴を使用する制御システム１０の概略図で
ある。
ザビームの特徴を検出し、レーザ光出力を調整するため
にこれらの特徴を使用する制御システム１０の概略図で
ある。
【０００７】レーザ１２はレーザビーム１４を出力す
る。ある実施形態では、レーザビーム１４は、４ｍｍ×
１５ｍｍの長方形の断面積を有する。レーザ１２は、約
２４８ｎｍ又は１９３ｎｍの波長を有するＵＶを出力す
るエキシマレーザである。
る。ある実施形態では、レーザビーム１４は、４ｍｍ×
１５ｍｍの長方形の断面積を有する。レーザ１２は、約
２４８ｎｍ又は１９３ｎｍの波長を有するＵＶを出力す
るエキシマレーザである。
【０００８】角度がついたＵＶスプリッタ１６は、入射
ビーム１４を受け、ビーム１４の小さな部分をスクリー
ン２４に反射する。スプリッタ１６は、可視光の波長に
変換し、かかるミラーは２色性ミラーとして当業者に周
知である。
ビーム１４を受け、ビーム１４の小さな部分をスクリー
ン２４に反射する。スプリッタ１６は、可視光の波長に
変換し、かかるミラーは２色性ミラーとして当業者に周
知である。
【０００９】ある特定の用途では、レーザビーム１４の
大部分がスプリッタ１６を介して光学素子のセット、及
び、ステッパ１８のレチクル、又は、半導体ウェハをレ
ーザ光に選択的に曝すためのスキャナに貫通する。ウェ
ハ表面を照射するレーザ光は、結果としての集積回路の
予定の特徴を保証するためにウェハにわたって非常に均
一でなければならない。
大部分がスプリッタ１６を介して光学素子のセット、及
び、ステッパ１８のレチクル、又は、半導体ウェハをレ
ーザ光に選択的に曝すためのスキャナに貫通する。ウェ
ハ表面を照射するレーザ光は、結果としての集積回路の
予定の特徴を保証するためにウェハにわたって非常に均
一でなければならない。
【００１０】ある実施形態では、スプリッタ１６によっ
て反射された光２０の強度は、合計のビーム１４の強度
の約１％である。従って、入射ビーム１４の約９９％
は、スプリッタ１６を介して透過され、ビーム２２とし
て称される。
て反射された光２０の強度は、合計のビーム１４の強度
の約１％である。従って、入射ビーム１４の約９９％
は、スプリッタ１６を介して透過され、ビーム２２とし
て称される。
【００１１】ある実施形態では、スクリーン２４は、石
英基板２６と、蛍光材料の堆積された層２８とからな
る。ある実施形態では、基板２６は、約１／４インチ厚
であり、その表面は、ひずみを実際に最小にするために
平らにするように形成される。かかる光学的に高品質な
基板は、知られており、市販されている。基板２６は円
形であっても良く、長方形であってもよい。
英基板２６と、蛍光材料の堆積された層２８とからな
る。ある実施形態では、基板２６は、約１／４インチ厚
であり、その表面は、ひずみを実際に最小にするために
平らにするように形成される。かかる光学的に高品質な
基板は、知られており、市販されている。基板２６は円
形であっても良く、長方形であってもよい。
【００１２】基板２６の一つの表面３０は、重要なＵＶ
波長に対して感度が高い蛍光材料が堆積される。ある市
販されている蛍光材料は、ＵＶ波長を緑色の波長に変換
するが、蛍光材料は、ＵＶ波長を他の波長に変換するた
めに市販されている。
波長に対して感度が高い蛍光材料が堆積される。ある市
販されている蛍光材料は、ＵＶ波長を緑色の波長に変換
するが、蛍光材料は、ＵＶ波長を他の波長に変換するた
めに市販されている。
【００１３】ある実施形態では、この蛍光材料は、バイ
ンダに蛍光パウダとして包含されており、ここでパウダ
は、１０ミクロンの所望の解像度を達成するために１０
ミクロンのグレインサイズを有する。５乃至５０ミクロ
ンのグレインが満足に使用される。かかる蛍光材料は、
United Mineral Supply Companyから市販されている。
蛍光材料及びバインダは水中で浮遊するので、容易に塗
装することができ、又は、基板２６の表面に散布するこ
とができる。次いで、混合物は水を蒸発させ、バインダ
を凝固させるために加熱される。ある実施形態では、結
果としてできた層２８は、０．５ｍｍ厚であるが、この
厚さは、ＵＶ光が層２８の非常に小さな距離しか貫通し
ないので、重要ではない。ある実施形態では、ＵＶ光
は、１０乃至２０ミクロンの距離だけ層２８に入る。こ
の短い貫通が、ビームの視覚的なイメージのにじみを取
り除くために、層２８における光散乱を最小にさせる。
ンダに蛍光パウダとして包含されており、ここでパウダ
は、１０ミクロンの所望の解像度を達成するために１０
ミクロンのグレインサイズを有する。５乃至５０ミクロ
ンのグレインが満足に使用される。かかる蛍光材料は、
United Mineral Supply Companyから市販されている。
蛍光材料及びバインダは水中で浮遊するので、容易に塗
装することができ、又は、基板２６の表面に散布するこ
とができる。次いで、混合物は水を蒸発させ、バインダ
を凝固させるために加熱される。ある実施形態では、結
果としてできた層２８は、０．５ｍｍ厚であるが、この
厚さは、ＵＶ光が層２８の非常に小さな距離しか貫通し
ないので、重要ではない。ある実施形態では、ＵＶ光
は、１０乃至２０ミクロンの距離だけ層２８に入る。こ
の短い貫通が、ビームの視覚的なイメージのにじみを取
り除くために、層２８における光散乱を最小にさせる。
【００１４】層２８内へのかかる短い貫通を得るため
に、蛍光材料を保持するのに使用されるバインダは、Ｕ
Ｖ放射に対して不透明であるように選択され、そのため
ＵＶ放射は散乱しない。このバインダは、珪酸ナトリウ
ム（NaSiO3）であってよく、可視光に対して透明であ
る。好ましくは、バインダは全て無機であり、その結
果，ＵＶ照射はバインダを劣化させない。ある実施形態
では、層２８は５％のバインダと９５％の蛍光材料から
なる。ある適当な混合物は、セメンティングガラスに関
して使用される水ガラスと一般に呼ばれる。
に、蛍光材料を保持するのに使用されるバインダは、Ｕ
Ｖ放射に対して不透明であるように選択され、そのため
ＵＶ放射は散乱しない。このバインダは、珪酸ナトリウ
ム（NaSiO3）であってよく、可視光に対して透明であ
る。好ましくは、バインダは全て無機であり、その結
果，ＵＶ照射はバインダを劣化させない。ある実施形態
では、層２８は５％のバインダと９５％の蛍光材料から
なる。ある適当な混合物は、セメンティングガラスに関
して使用される水ガラスと一般に呼ばれる。
【００１５】別の実施形態では、蛍光パウダは、石英表
面に対して単に機械的に圧力がかけられただけであり、
この場合、バインダの効果は望めない。
面に対して単に機械的に圧力がかけられただけであり、
この場合、バインダの効果は望めない。
【００１６】スクリーン２４は、比較的容易であり、材
料が市販されているので製造するのに高価でない。
料が市販されているので製造するのに高価でない。
【００１７】ビーム２０は、基板２６の裏面３２に入射
させられる。基板２６の裏面３２から層２８まで入射ビ
ームを適用することによって、光を再放射する蛍光材料
の部分が、ひずみを最小にするために非常に平坦となり
うる。利用される層の部分が、平坦な表面に対して１０
乃至２０ミクロンの層だけであるので、利用される部分
はまた、非常に均一であり、その結果、強度と、イメー
ジの形状のひずみが非常に小さくなる。
させられる。基板２６の裏面３２から層２８まで入射ビ
ームを適用することによって、光を再放射する蛍光材料
の部分が、ひずみを最小にするために非常に平坦となり
うる。利用される層の部分が、平坦な表面に対して１０
乃至２０ミクロンの層だけであるので、利用される部分
はまた、非常に均一であり、その結果、強度と、イメー
ジの形状のひずみが非常に小さくなる。
【００１８】ＣＣＤカメラのような従来のカメラが、ス
プリッタ１６、及び、基板２６の透明な表面３２を介し
て可視イメージ４１を見ることができ、このイメージを
電気信号に変換する。スプリッタ１６は、スクリーン２
４によって再放射された光の波長に対して透明である。
レンズ４２は、イメージを拡大することによって、アプ
リケーションに関するイメージをカメラ４０に適当に変
換するのに使用され、ビーム２０の特徴はよりよく検出
される。
プリッタ１６、及び、基板２６の透明な表面３２を介し
て可視イメージ４１を見ることができ、このイメージを
電気信号に変換する。スプリッタ１６は、スクリーン２
４によって再放射された光の波長に対して透明である。
レンズ４２は、イメージを拡大することによって、アプ
リケーションに関するイメージをカメラ４０に適当に変
換するのに使用され、ビーム２０の特徴はよりよく検出
される。
【００１９】いくつかのカメラがＵＶ放射を直接検出す
るので、これらのカメラは種々の障害を有し、ＵＶ放射
は典型的にはカメラのイメージセンサを劣化させる。ス
クリーン２４によって再放射された波長は、容易に検出
され、カメラ４０のイメージセンサを劣化させない。
るので、これらのカメラは種々の障害を有し、ＵＶ放射
は典型的にはカメラのイメージセンサを劣化させる。ス
クリーン２４によって再放射された波長は、容易に検出
され、カメラ４０のイメージセンサを劣化させない。
【００２０】カメラ４０の出力は、ビーム２０にわたっ
て光強度を解析し、ビーム形状を検出し、ビーム特性を
最適化かどうか判断するコントローラ４４に印加され
る。あるケースでは、コントローラ４４は、次いで、ビ
ームを適当に補正するためにレーザ１２に対するアプリ
ケーションに関する補正信号を生成する。レーザ出力を
調整するための技術は、周知であり、ここで議論する必
要はない。カメラ４０の処理された出力はまた、ビーム
特性の読み出しを提供するＣＲＴ又はプリンタ４６によ
って表示されうる。
て光強度を解析し、ビーム形状を検出し、ビーム特性を
最適化かどうか判断するコントローラ４４に印加され
る。あるケースでは、コントローラ４４は、次いで、ビ
ームを適当に補正するためにレーザ１２に対するアプリ
ケーションに関する補正信号を生成する。レーザ出力を
調整するための技術は、周知であり、ここで議論する必
要はない。カメラ４０の処理された出力はまた、ビーム
特性の読み出しを提供するＣＲＴ又はプリンタ４６によ
って表示されうる。
【００２１】レーザの作動特性を制御するために、図１
の全てのコンポーネントは、サブモジュール、又は、一
部のより複雑なビームを測定するサブモジュールとして
レーザ内に構築される。かかる構成によりその場測定が
可能になる。コンポーネントはまた、容易に搬送され、
レーザに一時的に取り付けられるセパレートモジュール
内に組み立てられ得る。この場合、構成は、フィールド
ツールと呼ばれ、レーザ特性は時折標準的に測定されう
る。かくして、その場合、コントローラ４４によるレー
ザの制御は実施されない。
の全てのコンポーネントは、サブモジュール、又は、一
部のより複雑なビームを測定するサブモジュールとして
レーザ内に構築される。かかる構成によりその場測定が
可能になる。コンポーネントはまた、容易に搬送され、
レーザに一時的に取り付けられるセパレートモジュール
内に組み立てられ得る。この場合、構成は、フィールド
ツールと呼ばれ、レーザ特性は時折標準的に測定されう
る。かくして、その場合、コントローラ４４によるレー
ザの制御は実施されない。
【００２２】入射ビームの正確なイメージを得るために
スクリーン２４の裏面３２を介して再放射されるイメー
ジを検知することは、不可視の入射光ビームの特性を正
確に検出するために他のアプリケーションに適用され
る。
スクリーン２４の裏面３２を介して再放射されるイメー
ジを検知することは、不可視の入射光ビームの特性を正
確に検出するために他のアプリケーションに適用され
る。
【００２３】他の実施形態では、ＵＶスプリッタ１６は
使用されず、ビーム１４がスクリーン２４に直接入射さ
れる。かかる実施形態では、カメラ４０は、表面３２を
介して発する活性化した蛍光材料の発光を正確に検出す
るように、ビーム１４から僅かにオフセットされる。
使用されず、ビーム１４がスクリーン２４に直接入射さ
れる。かかる実施形態では、カメラ４０は、表面３２を
介して発する活性化した蛍光材料の発光を正確に検出す
るように、ビーム１４から僅かにオフセットされる。
【００２４】本発明の特定の実施形態を示し、記載して
きたけれども、本発明の広い観点から逸脱することなく
変更及び修正をすることができるということは当業者に
明らかであり、それゆえ、本発明の精神及び範囲内にあ
るかかる全ての変更及び修正は特許請求の範囲に入る。
きたけれども、本発明の広い観点から逸脱することなく
変更及び修正をすることができるということは当業者に
明らかであり、それゆえ、本発明の精神及び範囲内にあ
るかかる全ての変更及び修正は特許請求の範囲に入る。
【図１】本発明の一つの実施形態に関するレーザ診断シ
ステムの概略図である。
ステムの概略図である。
１０ 制御システム １２ レーザ １４ レーザビーム １６ スプリッタ ２０ 光 ２２ ビーム ２４ スクリーン ２６ 石英基板 ２８ 蛍光材料の堆積された層 ４０ カメラ ４２ レンズ ４４ コントローラ
Claims (21)
- 【請求項１】人間の目に対して不可視である第１の波長
の光を生成する光源と、 前記第１の波長の前記光を第２の波長の光に変換するた
めのスクリーンと、を有し、 前記スクリーンは、対峙する滑らかな表面を備える基板
を有し、 前記基板は、前記第１の波長と前記第２の波長の前記光
に対して透明であり、 前記基板は、前記第１の波長の前記光によって活性化さ
れたとき、前記第２の波長の光を生成する材料を第１の
表面に堆積させ、 前記第１の波長の前記光は、前記第１の表面と対峙する
前記基板の第２の表面に当てられ、 前記第２の表面を介して発する前記第２の波長の光を検
出する光学検出器と、を有する、システム。 - 【請求項２】前記第１の表面に堆積される前記材料が蛍
光材料である、請求項１に記載のシステム。 - 【請求項３】前記第１の表面に堆積される前記材料がバ
インダの蛍光材料であり、 前記バインダが前記第１の波長の前記光に対して透明で
ある、請求項２に記載のシステム。 - 【請求項４】前記基板が石英ガラスである、請求項１に
記載のシステム。 - 【請求項５】前記第１の波長の前記光が、レーザから発
する紫外光である、請求項１に記載のシステム。 - 【請求項６】前記レーザからのビーム出力が、ビームス
プリッタから反射され、前記スクリーンの前記第２の表
面を介して前記材料に反射される、請求項５に記載のシ
ステム。 - 【請求項７】前記検出器が、前記スプリッタを介して前
記基板の前記第２の表面を検知し、前記スプリッタは前
記第２の波長に対して透明である、請求項６に記載のシ
ステム。 - 【請求項８】前記検出器が、前記スクリーンによって生
成された前記第２の波長の検出された光に応じて信号を
出力し、前記システムが、 前記光源を調節するために前記信号を制御信号に変換す
るためのコントローラを更に有する、 請求項１に記載のシステム。 - 【請求項９】前記材料が、おおよそ５ミクロン乃至５０
ミクロンの範囲内のグレインサイズを有する蛍光パウダ
からなる、 請求項１に記載のシステム。 - 【請求項１０】前記第２の表面に入射する前記第１の波
長の前記光が、おおよそ２０ミクロンの最大深度で前記
材料に入る、請求項１に記載のシステム。 - 【請求項１１】前記材料が、珪酸ナトリウムのバインダ
に蛍光パウダを有する、請求項１に記載のシステム。 - 【請求項１２】人間の目に対して不可視の第１の波長の
光を生成させ、 前記第１の波長の前記光を第２の波長の光に変換するた
めのスクリーンを提供し、 前記スクリーンが対峙する滑らかな表面を有する基板を
備え、 前記基板が前記第１の波長及び前記第２の波長の前記光
に対して透明であり、 前記基板は、前記第１の波長の前記光によって活性化さ
れたとき、前記第２の波長の光を生成する材料を第１の
表面に堆積させ、 前記第１の波長の前記光を、前記第１の表面と対峙する
前記基板の第２の表面に当て、 前記第２の表面を介して発する前記第２の波長の光を検
出する、方法。 - 【請求項１３】前記第１の表面に堆積された前記材料が
バインダ中の蛍光材料であり、前記バインダが前記第１
の波長の前記光に対して透明である、請求項１２に記載
の方法。 - 【請求項１４】前記基板が石英ガラスである、請求項１
２に記載の方法。 - 【請求項１５】前記第１の波長の光がレーザから出る紫
外光である、請求項１２に記載の方法。 - 【請求項１６】前記レーザからのビーム出力をビームス
プリッタで反射し、前記スクリーンの前記第２の表面を
介して前記材料に反射させることを更に含む、請求項１
５に記載の方法。 - 【請求項１７】前記検出器が前記スプリッタを介して前
記基板の前記第２の表面を検知することができ、前記ス
プリッタが前記第２の波長に対して透明である、請求項
１６に記載の方法。 - 【請求項１８】検出器が、前記第２の表面を介して発す
る前記光を検出し、前記方法が、 前記スクリーンによって生成された前記第２の波長の検
出された光に対応して前記検出器によって信号を生成
し、 前記信号を前記光源を調節するための制御信号に変換す
ることを更に含む、請求項１２に記載の方法。 - 【請求項１９】前記材料が、おおよそ５ミクロン乃至５
０ミクロンの範囲内のグレインサイズを有する蛍光パウ
ダからなる、請求項１２に記載の方法。 - 【請求項２０】前記第２の表面に入射する前記第１の波
長の前記光が、おおよそ２０ミクロンの最大深度で前記
材料に入る、請求項１２に記載の方法。 - 【請求項２１】前記材料が、珪酸ナトリウムのバインダ
中に蛍光パウダを有する、請求項１２に記載の方法。
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