JP4017198B2 - スパッタリングターゲットとバッキングプレートの接合方法 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は、スパッタリングターゲットとバッキングプレートの接合方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
スパッタリングターゲット(以下ターゲットと云う)は、スパッタリングにより各種半導体デバイスの電極、ゲート、配線、素子、保護膜等を基板上に形成するためのスパッタリング源となる、通常は円盤状の板である。加速された粒子がターゲット表面に衝突するとき運動量の交換によりターゲットを構成する原子が空間に放出されて対向する基板上に堆積する。ターゲットとしては、Al乃至Al合金ターゲット、高融点金属及び合金(W、Mo、Ti、Ta、Zr、Nb等及びその合金)ターゲット、高融点シリサイド(MoSiX 、WSix 等)ターゲット、白金族ターゲット等が代表的に使用されている。
【0003】
ターゲットは通常、支持及び冷却目的でバッキングプレート(BP)と呼ばれる裏当材とボンディングした組立体の状態で使用される。スパッタリング装置にターゲット組立体が組付けられ、バッキングプレートの裏面が冷却されてスパッタリング動作時ターゲット中で発生する熱を奪い取る。バッキングプレートとしては、OFC(無酸素銅)、Cu合金、Al合金、SUS(ステンレス鋼)若しくはTi乃至Ti合金等の熱伝導性の良い金属及び合金が使用されている。
【0004】
従来、ターゲットとバッキングプレートの接合にはIn若しくはSn合金系等の低融点ロウ材を用いたロウ付け法が主として採用されてきた。また、特開平4−143268号及び特開平4−143269号には、爆発接合法、ホットプレス等によるターゲットとバッキングプレートの一体化が記載されている。
【0005】
更に、本件出願人は、ターゲットとバッキングプレートとを必要に応じインサート材を使用してターゲットの大きな変形や結晶特性の劣化を伴うことなく両者間を固相接合することを提唱している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
ターゲットとバッキングプレートの組立体は、スパッタリング時にバッキングプレート側より冷却され、ターゲット面はイオンボンバートメントにより温度が上昇する。この結果、ターゲットとバッキングプレートの接合界面には熱膨張差による剪断応力が発生する。また、ターゲットとバッキングプレートの接合工程においては、ロウ材を使うにせよ、ホットプレス、固相接合等の設備を利用するにせよ接合時にターゲットとバッキングプレートの温度が室温以上に高くなることがほとんどである。この場合、ターゲットとバッキングプレートの材質が異なれば熱膨張差により接合面に剪断応力が生じる。
【0007】
ターゲットとバッキングプレート接合面は熱的及び電気的に確実なコンタクトが必要であり、確固とした接合が要求される。しかしながら、上述した剪断力の存在は、スパッタリングの条件によってはターゲットとバッキングプレートとの部分的な剥離等の原因となることが予想される。
【0008】
本発明の課題は、ターゲットとバッキングプレートの接合において、ターゲットの品質を低下することなく、上記剪断応力の存在下での接合強度(接合界面の剪断強度)を改善する接合方法を確立することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
この課題を解決するべく、本発明者は、接合面積を増加させることにより単位面積あたりの剪断応力を低減するとともに、剪断による剥離の拘束点となる効果を有する凹凸を接合されるターゲットとバッキングプレートの双方の接合面に互いに隙間なく嵌合するように形成することを想到し、試行の結果好成績を得た。この知見に基づいて、本発明は、スパッタリングターゲットとバッキングプレートの接合を行うに際して、接合されるスパッタリングターゲットとバッキングプレートとの双方の接合面に互いに隙間なく嵌合しうる凹凸を形成し、接合面において該凹凸を互いに嵌合した状態で接合工程を実施することを特徴とするスパッタリングターゲットとバッキングプレートの接合方法を提供する。少なくとも1本のリング状凹凸を形成することが好ましい。本発明においては、接合工程は、ホットプレス法、HIP法、固相接合法のいずれをも採用することができる。上述した従来技術はいずれの場合も、ターゲットとバッキングプレートの接合面はフラットに仕上げられるか、一方の面のみに凹凸を設けるものであり、本発明のような、スパッタリングターゲットとバッキングプレートとの双方の接合面に互いに隙間なく組み合わさる凹凸を設けるような工夫はなされていない。
【0010】
【作用】
ターゲットとバッキングプレートのそれぞれの接合面に存在する凹凸は互いに隙間なく組み合わされる寸法と位置関係を有している。これらの凹凸は、接合面積を増加させることにより単位面積あたりの剪断応力を低減するとともに、凹凸自体が剪断による剥離の拘束点となる効果も持ち合わせている。凹凸は可能な限り互いに隙間なく組み合わされる寸法と位置関係を有しているため、接合に際して、金属の流動は実質上生じないから、ターゲットの変形や結晶組織と関連する品質低下は起こらない。
【0011】
【実施例】
形成される凹凸の形状や個数、位置は特に限られるものではなく、予想される剪断応力や、ターゲットとバッキングプレートの形状、接合方法等により決定される。例えば、図1は長方形の断面を持つリング状の凹凸を外周部近くに一つ形成した例であり、図2は同様のリング状凹凸を外周部近くと1/4直径位置に計二つつけた例である。また、図3に示すように同心円状に多数の凹凸をつけることもできる。ここでは、いずれもターゲットに凸部を形成しそしてバッキングプレートに凹部を形成してある。図1〜3はいずれも円盤状のターゲットを想定しているが、矩形のターゲットでも同様であり、また、リング状でなく直線状、あるいは部分的な凹凸も同様の効果を持つ。大切なことはターゲットとバッキングプレートのそれぞれの接合面に存在する凹凸が可能な限り互いに隙間なくぴったりと組み合わさる寸法と位置関係を有していることである。これらの凹凸は、接合面積を増加させることにより単位面積あたりの剪断応力を低減するとともに、凹凸自体が剪断による剥離の拘束点となって剥離の発生を抑制する効果も持ち合わせる。こうした効果を奏するためには、凹凸の深さ(高さ)は少なくとも0.2mm以上とすることが望ましい。一般には、凹凸の形成部位が多数であるほど、凹凸の深さ(高さ)を小さくすることができる。
【0012】
接合工程は、特に限られるものではなく、低融点ロウ材による接合や、あるいは、ホットプレスやHIPを使った圧着などが用いられる。また、ターゲットとバッキングプレートの材質も特に制限されるものではない。ターゲット材質としては、Al乃至Al合金、高融点金属及び合金(W、Mo、Ti、Ta、Zr、Nb等及びW−Ti等のその合金)、高融点シリサイド(MoSiX 、WSix 等)、白金族金属、ニッケルその他を使用することができ、バッキングプレートの材質としては、Ti乃至Ti合金、OFC(無酸素銅)、Cu合金、Al及びAl合金、SUS(ステンレス鋼)等を使用することができる。更に、ターゲットやバッキングプレートの接合面の接合前の表面処理の有無や種類、インサート材の有無等に関しても特に制限のあるものではない。
【0013】
特に、本件出願人が先に提唱した固相接合方法も有効に使用することができる。この固相接合方法は、ターゲット材の結晶組織の不均一化を抑えつつしかもターゲット材の大きな変形や変質等の悪影響なく、バッキングプレートに高強度で接合することを目的として、ターゲット材とバッキングプレートの間に1種以上のインサート材を挿入して或いはインサート材を使用せずに、ターゲットとバッキングプレートを溶融せしめることなく固相状態に維持したまま、真空中で軽度の加熱及び加圧条件(150〜350℃×1〜15kg/mm2 )下で最終寸法形状に仕上げたターゲット材を接合するものである。
【0014】
こうして、接合されたターゲット−バッキングプレート組立体は、スパッタリング装置に組込まれ、スパッタリング操作の下に置かれる。近時、成膜速度の増大等を目的として投入パワーがハイパワー化される傾向にあり、それだけ剥離が生じやすいが、本発明に従って製造されたターゲット−バッキングプレート組立体は投入パワーのハイパワー化に対応することができる。
【0015】
(実施例1、2、3、4及び比較例)
直径340mmそして厚さ16mmのTi及びTaターゲットと直径340mmそして厚さ17mmのAl、Ti及びCu製バッキングプレートの接合を実施した。実施例1では、図2に示した型式の幅5mmそして深さ(高さ)4mmの凹凸を加工した。Tiターゲット側の接合面に凸部を設けそしてAl製バッキングプレートの接合面に凹部を設けた。凹凸の位置は、外周から10mm内側の位置と1/4直径位置とした。実施例2では、図3に示したように同心円状に凹凸を多数加工した。実施例1と同様に、TiターゲットとAl製バッキングプレートの接合面に凹部を設けた。凹凸の幅は3mm、そして深さ(高さ)は1mmとし、20mm間隔で加工した。実施例3では直径340mmそして厚さ16mmのTaターゲットを実施例1と同じ方法でTi製バッキングプレートに接合した。実施例4では直径340mmそして厚さ16mmのTiターゲットと直径340mmそして厚さ17mmのCu製バッキングプレートの接合を実施した。接合面は実施例2と同様図3に示す同心円状の凹凸を多数加工した。比較例として、接合面を凹凸なくフラットに機械加工したTi及びTaターゲットとAl、Ti及びCu製バッキングプレートを用意した。実施例1、2及び3では凹凸部を含め接合面を密着するように組み立てそして比較例ではフラットな接合面が密着するように組み立てた後、HIPにより接合を行った。HIP処理は525℃×1000気圧で実施した。また実施例4では接合面を密着するように組み立てた後真空ホットプレスにより接合を行った。ホットプレス条件は525℃×15kg/mm2 で実施した。
【0016】
接合後、ターゲット側から超音波探傷を行い、バッキングプレート側からのエコーの有無を確認した。接合面に剥離があれば、接合面でほとんどが反射され、バッキングプレート側底面からのエコーは観察されなくなる。結果を表1に示す。実施例1、2、3、4とも全域からバッキングプレート側底面エコーが確認された。比較例では約半分の領域でバッキングプレート側底面エコーが確認されなかった。また接合面外周には、一部剥離が目視でも確認された。
【0017】
【表1】
【0018】
【発明の効果】
ターゲットの品質を低下することなく、上記熱膨張の差異による剪断応力の存在下での接合強度を改善し、ターゲットとバッキングプレートとの剥離を防止する。投入パワーのハイパワー化に対応することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】長方形の断面を持つリング状の凹凸を外周部近くに一つ形成した具体例の、中心線からの半部分の接合前及び接合後の断面を示す断面図である。
【図2】長方形の断面を持つリング状の凹凸を外周部近く及び1/4直径部ににおいて二つ形成した具体例の、中心線からの半部分の接合前及び接合後の断面を示す断面図である。
【図3】多数の同心状凹凸を形成した具体例の、中心線からの半部分の接合前及び接合後の断面を示す断面図である。
Claims (1)
- 円盤状のスパッタリングターゲットと円盤状のバッキングプレートの接合を行うに際して、接合されるスパッタリングターゲットとバッキングプレートとの双方の接合面に互いに隙間なく嵌合しうる少なくとも1本の同心円状のリング状凹凸を形成し、接合面において該凹凸を互いに嵌合した状態で、HIP、ホットプレス及び固相接合法のいずれかによる接合工程を実施することを特徴とするスパッタリングターゲットとバッキングプレートの接合方法。
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Families Citing this family (7)
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9062371B2 (en) | 2009-11-20 | 2015-06-23 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Sputtering target-backing plate assembly, and its production method |
WO2014007151A1 (ja) | 2012-07-04 | 2014-01-09 | Jx日鉱日石金属株式会社 | スパッタリングターゲット |
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