JP4016121B2

JP4016121B2 - 炭化水素部分酸化用触媒及び含酸素有機化合物の製造方法

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Publication number: JP4016121B2
Application number: JP24061297A
Authority: JP
Inventors: 正毅春田; ユーリ・アンゲロフ・カルヴァチェフ; 年坪田; 利生林
Original assignee: Nippon Shokubai Co Ltd; National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Current assignee: Nippon Shokubai Co Ltd; National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Priority date: 1997-09-05
Filing date: 1997-09-05
Publication date: 2007-12-05
Anticipated expiration: 2017-09-05
Also published as: JPH1176820A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、炭化水素部分酸化用触媒、及び該触媒を用いる含酸素有機化合物の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
酸素を用いて炭化水素を含酸素化合物に変換する方法は、極めて有益な技術であり、これまで近代化学産業に対して多くの恩恵を与えてきた。しかしながら、有用な化合物であるアルコールおよびケトンを飽和炭化水素から、また、エポキシドを不飽和炭化水素から、それぞれ直接得ることは、一部の例外を除いて一般に困難であるとされている。例えば、分子状酸素を酸化剤として用いて飽和炭化水素をアルコールおよびケトンへ転換する技術では、シクロヘキサンを原料とするシクロヘキサノールおよびシクロヘキサノンの製造が工業的に実施されているのみである。また、不飽和炭化水素のエポキシドへの転換についても、エチレンからのエチレンオキシドの製造が工業的に実施されているが、他の不飽和炭化水素からのエポキシドの製造、例えばプロピレンからのプロピレンオキシドの一段合成などは、非常に困難であるとされている。
【０００３】
分子状酸素を用いる酸化反応により、飽和炭化水素のアルコールおよびケトンへの転換、ならびに不飽和炭化水素のエポキシドへの転換に関して、文献上にいくつかの従来技術がみられるが、例えば、特開平８−１２７５５０号公報に示されているように、通常２００℃以上の反応温度を必要とし、部分酸化生成物がたとえ中間的に生成しても、さらに遂次酸化を受けてしまうなどの問題点を有しており、いずれも実用に適さないと考えられる。しかも、同公報に開示されている金−酸化チタン含有触媒は、分子状水素の共存下に炭化水素の酸素酸化反応によって、アルコール、ケトン、エポキシドなどの含酸素有機化合物を合成する選択率が高いものの、反応初期に比べて経時的に活性が劣化するという問題を抱えている。このため、該触媒を用いる炭化水素の部分酸化方法は、炭化水素類の含酸素有機化合物への転化率が時間の経過に伴って低下してしまうために、実用化するには、更なる改良を要するという問題が残されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記した問題点を解消するためになされたものであり、その主な目的は、炭化水素類から含酸素有機化合物を高い選択率で製造でき、しかも経時的劣化のない触媒を提供することであり、また、分子状酸素を用いる酸化反応によって転化率の経時的低下がなく良好な選択性で効率良く炭化水素を部分酸化できる方法を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、水素および酸素の存在下で炭化水素類を部分酸化する含酸素有機化合物の製造方法において、生産性の経時的低下を抑制できる方法について鋭意検討した。その結果、チタン含有珪酸塩に金微粒子を固定化した触媒は、酸素および水素の存在下で炭化水素類を部分酸化する反応に対する活性及び選択性に優れ、しかも安定性が良好であることを見出した。また、上記の部分酸化用触媒を用いて、酸素および水素の存在下に炭化水素類を部分酸化することによって、アルコール、ケトン、エポキシドなどの含酸素有機化合物を、高い選択率で長期間安定な転化率で得ることができることを見い出し、本発明を完成させるに至った。
【０００６】
即ち、本発明は、以下に示す炭化水素部分酸化用触媒及び含酸素有機化合物の製造方法を提供するものである。
【０００７】
１．メソポーラスシリカの一部をチタン原子で置換した材料であって、ＴｉとＳｉの原子比がＴｉ／Ｓｉ＝１／１０００〜２０／１００であるチタン含有珪酸塩に金微粒子を固定化してなる、飽和炭化水素の部分酸化によるアルコールまたは／およびケトンの製造用触媒。
【０００８】
２．金微粒子が粒子径１０ｎｍ以下の超微粒子である項１に記載の触媒。
【０００９】
３．チタン含有珪酸塩が、支持体に固定化されたものである項１又は２に記載の触媒。
【００１０】
４．項１〜３のいずれかに記載の触媒と分子状水素の存在下に、飽和炭化水素を酸素酸化することを特徴とするアルコールまたは／およびケトンの製造方法。
【００１１】
５．２０〜２００℃で反応を行う項４に記載の方法。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を詳しく説明する。
【００１４】
本発明の炭化水素部分酸化用触媒（以下、単に「触媒」と記す）は、チタン含有珪酸塩に金微粒子を固定化したものである。
【００１５】
該触媒において、金は、粒子径１０ｎｍ（ナノメーター）以下の超微粒子であることが好ましく、この様な金超微粒子が、チタン含有珪酸塩を担体として強固に固定化されて、担持されていることが望ましい。
【００１６】
本発明触媒における金の含有量は、チタン含有珪酸塩に対して、０．００１重量％以上が好ましく、０．０１重量％〜２０重量％の範囲内がより好ましく、０．０５重量％〜１０重量％の範囲内がさらに好ましい。金の担持量が０．００１重量％より少ないと触媒の活性が低下するので好ましくない。一方、金の担持量を２０重量％より多くしても、金を上記の範囲内で担持させた場合と比較して、触媒の活性の更なる向上が望めず、金が無駄になるので好ましくない。
【００１７】
チタン含有珪酸塩の種類は、特に限定されるものではないが、シリカ骨格中にチタンを含有させた多孔体であることが好ましく、特に、高い比表面積を有し、チタン原子（Ｔｉ⁴⁺）が孤立して珪酸骨格中に高分散していることが望ましい。この様なチタン含有珪酸塩は公知であり、例えば、ゼオライト（Ｘ、Ｙ型、ＺＳＭ−５、ＺＳＭ−４８など）系材料のアルミニウムの一部がチタンで置き換わってチタンがゼオライト格子中に組み込まれた材料、大きな細孔（メソポア）を有するメソポーラスシリカ（ＭＣＭ−４１、ＭＣＭ−４８、ＭＣＭ−５０など）の一部をチタン原子で置換した材料、チタンとシリコンの複合酸化物でミクロポーラスなチタノシリカライト（いわゆるＴＳ−１、ＴＳ−２）等が望ましい。また、これらのチタン含有珪酸塩上に酸化チタンを微少量高分散担持させたものを用いることもできる。チタン含有珪酸塩の形状は、特に限定されるものではなく、粉体状で用いてもよく、他の各種の形状に成形して用いてもよい。
【００１８】
チタン含有珪酸塩におけるチタンの含有量は、ＴｉとＳｉの原子比率（Ｔｉ／Ｓｉと表わすことにする）に換算して、１／１０００〜２０／１００の範囲内が好ましく、１／１００〜１０／１００の範囲内がより好ましい。チタンの含有量がＴｉ／Ｓｉ＝１／１０００よりも少ないと、シリカ単独の担体を用いた場合と同様の触媒特性となり、炭化水素の選択酸化が全く起こらないので不適切である。一方、チタンの含有量をＴｉ／Ｓｉ＝２０／１００より多くすると、酸化チタンをシリカ上に担持した担体と同様の触媒特性となり、触媒活性の経時劣化を避けることができないので好ましくない。
【００１９】
上記チタン含有珪酸塩は、触媒の活性をより向上させるために、予め成形された支持体に固定化した状態で用いることもできる。支持体としては、チタンを含まない金属酸化物や各種金属からなる材料を用いることができる。具体例としては、アルミナ（酸化アルミニウム：Ａｌ₂Ｏ₃）、シリカ（二酸化珪素：ＳｉＯ₂）、マグネシア（酸化マグネシウム：ＭｇＯ）、コージエライト、酸化ジルコニウム、これらの複合酸化物等からなるセラミックス、各種金属からなる発泡体、各種金属からなるハニカム担体、各種金属のペレット等が挙げられる。
【００２０】
上記支持体としては、アルミナ及びシリカの少なくとも一種を含有するものが好ましく、シリカを含有するものが特に好ましい。ここで、「アルミナおよびシリカを含有する」とは、ゼオライト（アルミノシリケート）やシリカアルミナを含有する場合も含むこととする。
【００２１】
上記支持体の結晶構造、形状、大きさ等は、特に限定されるものではないが、比表面積が５０ｍ²／ｇ以上であることが好ましく、１００ｍ²／ｇ以上であることがより好ましい。支持体の比表面積が５０ｍ²／ｇ以上である場合には、遂次酸化等の副反応がより一層抑制され、効率的に炭化水素類を部分酸化することができ、触媒性能がより一層向上する。
【００２２】
チタン含有珪酸塩を支持体に固定化して用いる場合には、チタン含有珪酸塩の量は、支持体を基準として１〜２０重量％程度であることが好ましい。チタン含有珪酸塩をシリカやアルミナ等の担体に担持させるには、例えば、アルコキシドを用いたゾル−ゲル法、混練法、コーティング法などの方法を適用することができ、これらの方法によって、いわゆる島状構造をなすように分散させて担持させることができる。
【００２３】
次に、本発明触媒の調製方法について説明する。
【００２４】
本発明触媒の製造方法としては、金微粒子をチタン含有珪酸塩に固定化できる方法であれば、特に限定なく採用できる。
【００２５】
該触媒の製造方法の具体例としては、例えば、特開平７−８７９７号公報に記載された金超微粒子固定化チタン系金属酸化物の製造方法に準じた析出沈殿法を挙げることができる。以下に、この方法を簡単に説明する。
【００２６】
（Ｉ）第１方法：
まず、チタン含有珪酸塩を含有する液のｐＨを７〜１１、好ましくは７．５〜１０とし、撹拌下にこの水溶液に金化合物の水溶液を滴下して、チタン含有珪酸塩上に金水酸化物を付着させる。次いで、この金水酸化物を付着したチタン含有珪酸塩を１００〜８００℃に加熱することにより、金超微粒子をチタン含有珪酸塩に析出させて固定化する。
【００２７】
チタン含有珪酸塩の水中への添加量は、特に限定はなく、例えば粉体状のチタン含有珪酸塩を用いる場合には、それを水中に均一に分散乃至縣濁できるような量であればよく、通常１０〜２００ｇ／ｌ程度が適当である。また、チタン含有珪酸塩を成形体として用いる場合には、成形体の形状に応じて、その表面に水溶液が充分に接触できる状態であれば、添加量は、特に限定されない。
【００２８】
水溶液の形態で使用する金化合物としては、塩化金酸（ＨＡｕＣｌ₄）、塩化金酸ナトリウム（ＮａＡｕＣｌ₄）、シアン化金（ＡｕＣＮ）、シアン化金カリウム｛Ｋ〔Ａｕ（ＣＮ）₂〕｝、三塩化ジエチルアミン金酸〔（Ｃ₂Ｈ₅）₂ ＮＨ・ＡｕＣｌ₃ 〕などの水溶性金塩が例示される。滴下に用いる金化合物水溶液の濃度は、特に限定されないが、通常０．１〜０．００１ｍｏｌ／ｌ程度が適当である。
【００２９】
チタン含有珪酸塩を含む縣濁液乃至分散液を所定のｐＨ範囲に調整するためには、通常、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、アンモニアなどのアルカリ化合物を用いればよい。
【００３０】
金化合物の水溶液は、急激な反応によって金の水酸化物の大きな沈殿が生じないように、撹拌下に上記の縣濁液乃至分散液に対し徐々に滴下することが必要であり、通常滴下量に応じて滴下時間を３〜６０分程度の範囲内とし、且つ水酸化物の大きな沈殿が生じないように滴下速度を適宜調節すればよい。
【００３１】
滴下時のチタン含有珪酸塩含有液の液温は、２０〜８０℃程度が適当である。
【００３２】
金化合物の水溶液の滴下量は、チタン含有珪酸塩上に担持させる金超粒子の量によって決定される。
【００３３】
金の水酸化物が付着したチタン含有珪酸塩を１００〜８００℃に加熱することによって、付着した金の水酸化物が分解されて、チタン含有珪酸塩上に金が均一に超微粒子として析出し、強度に固定される。加熱時間は通常１〜２４時間程度とすればよい。
【００３４】
（II）第２方法：
金化合物を溶解し、チタン含有珪酸塩を含有するｐＨ７〜１１（好ましくはｐＨ７．５〜１０）の水溶液に、還元剤の水溶液を撹拌下に滴下し、チタン含有珪酸塩表面に金を還元析出させて、金の超微粒子を固定化する。
【００３５】
金化合物、チタン含有珪酸塩、ｐＨ調整用のアルカリ性化合物などは、上記第１方法と同様のものが使用できる。チタン含有珪酸塩の添加量も、上記第１方法と同様でよい。本第２方法では、液中の金化合物の濃度は、１×１０^-2〜１×１０^-5ｍｏｌ／ｌ程度とすることが適当である。チタン含有珪酸塩含有水溶液の反応時の液温は、０〜８０℃程度が適当である。
【００３６】
還元剤としては、ヒドラジン、ホルマリン、クエン酸ナトリウムなどが使用でき、その溶液としての濃度は、１×１０^-1〜１×１０^-3ｍｏｌ／ｌ程度である。還元剤水溶液の添加量は、化学量論的に必要な量の１．５〜１０倍程度とすることが適当である。還元剤水溶液は、反応液中で急激な金の析出が生じないように徐々に滴下することが必要であり、通常、３〜６０分程度の時間をかけて滴下すればよい。
【００３７】
なお、得られた金超微粒子固定化チタン含有珪酸塩はそのままでも常温で使用できるが、これを高温で使用する場合には、高温での安定性確保のために、使用に先立って、一旦使用温度付近の温度に該金超微粒子固定化チタン含有珪酸塩を加熱しておくことが好ましい。
【００３８】
（III ）第３方法：
金化合物を溶解し、チタン含有珪酸塩を含有するｐＨ１１以上（好ましくはｐＨ１１〜１２）の水溶液に、二酸化炭素ガスを吹き込むか、或いは撹拌下に酸性水溶液を徐々に滴下して、液のｐＨを７〜１１に低下させ、チタン含有珪酸塩の表面に金水酸化物を付着させる。次いで、このチタン含有珪酸塩を１００〜８００℃に加熱して、チタン含有珪酸塩表面に金超微粒子を析出させる。
【００３９】
金化合物、チタン含有珪酸塩、アルカリ性化合物の種類及び使用量などは、第１方法と同様でよい。チタン含有珪酸塩を含有する液の液温は、２０〜８０℃程度とすればよい。
【００４０】
この方法では、金化合物は、水酸基が過剰に結合した錯イオンとして、チタン含有珪酸塩を含有する液中に溶解した状態で存在することが必要である。従って、使用する金化合物に応じて、ｐＨ１１以上であって金化合物が水酸基含有錯イオンとして溶解する状態となるように、チタン含有珪酸塩含有液のｐＨを調整する。
【００４１】
この様な状態に調整した液中に二酸化炭素ガスを吹き込むか、または酸性水溶液を徐々に滴下して、溶液のｐＨを徐々に低下させて、ｐＨ７〜１１とすることにより、チタン含有珪酸塩を核として、金の水酸化物が析出し、チタン含有珪酸塩の表面に付着する。
【００４２】
二酸化炭素ガスの吹き込み速度は、特に限定されず、反応液が均一にバブリングされる状態であればよい。
【００４３】
酸性水溶液としては、硝酸、塩酸、硫酸、酢酸などの水溶液が使用でき、これらの酸水溶液は、１×１０^-1〜１×１０^-3ｍｏｌ／ｌ程度の濃度で用いればよい。滴下量は、チタン含有珪酸塩を含有する液のｐＨが７未満にならない範囲であればよい。滴下速度は、金の水酸化物の大きな沈殿が生じないように、滴下時間３〜６０分間程度の範囲で滴下量に応じて適宜決定すればよい。
【００４４】
次いで、金の水酸化物が付着したチタン含有珪酸塩を１００〜８００℃に加熱することによって、付着した金の水酸化物が分解され、チタン含有珪酸塩上に均一に金超微粒子が析出し、強固に固定化される。加熱時間は、通常１〜２４時間程度とすればよい。
【００４５】
なお、上記の各方法において、金化合物がチタン含有珪酸塩上に充分に付着するように、滴下または吹き込み終了後に３０分〜２時間程度の間チタン含有珪酸塩を含有する液の撹拌を行うことが好ましい。
【００４６】
又、本発明触媒は、特開平９−１２２４７８号公報に記載された有機金錯体の蒸気を用いる金超微粒子固定化物質の製造方法に準じた方法で製造することもできる。以下、この方法について簡単に説明する。
【００４７】
この方法では、気化した有機金錯体を、チタン含有珪酸塩に減圧下で吸着させた後、１００〜７００℃に加熱することにより金超微粒子を固定化したチタン含有珪酸塩を得ることができる。
【００４８】
有機金錯体としては、揮発性を有するものであれば特に制限されず用いることができ、例えば（ＣＨ₃）₂Ａｕ（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）、（ＣＨ₃）₂Ａｕ（ＣＦ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）、（ＣＨ₃）₂Ａｕ（ＣＦ₃ＣＯＣＨＣＯＣＦ₃）、（Ｃ₂Ｈ₅）₂Ａｕ（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）、（ＣＨ₃）₂Ａｕ（Ｃ₆Ｈ₅ＯＯＣＨＣＯＣＦ₃）、ＣＨ₃Ｃ₂ＡｕＰ（ＣＨ₃）₃及びＣＨ₃ＡｕＰ（ＣＨ₃）₃等の少なくとも１種を用いることができる。
【００４９】
なお、チタン含有珪酸塩は、予め２００℃程度で加熱処理することにより、表面にある水分等を除去して用いることもできる。
【００５０】
有機金錯体の気化は、加熱により行うことができる。加熱温度は、急激な気化と吸着或いは分解を起こさないようにすれば特に制限はなく、通常０〜９０℃程度とする。また、上記気化は、減圧下で行うこともでき、この場合に圧力としては通常１×１０^ー4〜２×１０^ー3Ｔｏｒｒ程度とすれば良い。
【００５１】
気化した有機金錯体は、減圧下でチタン含有珪酸塩に吸着させる。本発明でいう「減圧下」とは、大気圧よりも低ければ良いが、通常１×１０^ー4〜２００Ｔｏｒｒ程度の圧力をいう。有機金錯体の導入量は、用いる金錯体の種類により異なり、最終的に前記した固定化量となるように適宜調節すれば良い。また、圧力は、公知の真空ポンプ等で調節すれば良い。
【００５２】
次いで、有機金錯体が吸着したチタン含有珪酸塩を空気中で通常１００〜７００℃程度、好ましくは３００〜５００℃で加熱する。これにより、有機金錯体中の有機成分が分解・酸化されるとともに有機金錯体が金に還元され、チタン含有珪酸塩上に金超微粒子として析出して固定されることとなる。加熱時間は、有機金錯体の担持量、加熱温度等に応じて適宜設定することができるが、通常は１〜２４時間程度で良い。このようにして金微粒子を固定化したチタン含有珪酸塩が得られる。
【００５３】
上記製造方法では、有機金錯体の吸着に先立って、通常１００〜７００℃程度で加熱することによりチタン含有珪酸塩を表面処理することもできる。さらに、この表面処理は、酸化性ガス又は還元性ガス雰囲気下で行うこともできる。これにより、チタン含有珪酸塩表面の欠陥量と状態の制御がより容易となり、金の粒径及び担持量をより細かく制御することができる。
【００５４】
酸化性ガスとしては、公知のものが使用でき、例えば酸素ガス、一酸化窒素ガス等が挙げられる。また、還元性ガスとしては、公知のものが使用でき、例えば水素ガス、一酸化炭素ガス等が挙げられる。
【００５５】
以上説明した金を析出沈殿させる方法、及び有機金錯体の蒸気を用いる方法によれば、金超微粒子を比較的均一な分布でチタン含有珪酸塩上に強固に固定化することができる。
【００５６】
本発明触媒を支持体に担持させて用いる場合には、チタン含有珪酸塩を支持体に担持させた後、金を固定化する方法が好適である。支持体に担持させたチタン含有珪酸塩に金を固定化するには、上記した金を析出沈殿させる方法、及び有機金錯体の蒸気を用いる方法において、チタン含有珪酸塩に代えて、チタン含有珪酸塩を担持した支持体を使用すればよい。特に、金を析出沈殿させる方法によって製造すれば、金超微粒子は、支持体上にはほとんど析出せず、チタン含有珪酸塩上（特に、チタンイオンの存在する場所）にのみ固定化される点で有利である。又、シリカ単独の支持体又はシリカを含む支持体を用いる場合には、金を析出沈殿させる方法によれば、特に高い選択性をもってチタン含有珪酸塩上にのみ金超微粒子を固定化することができる点で非常に有利である。
【００５７】
次に、本発明触媒を用いて炭化水素を部分酸化させる方法について説明する。
【００５８】
原料として用いる炭化水素としては、炭素数３〜１２程度の飽和炭化水素および炭素数２〜１２程度の不飽和炭化水素を用いることができる。また、気相で反応を行なう場合には、生成物が１００℃前後の低温においても容易に触媒層から脱離しうる炭素数が６程度までのものが、原料として適している。飽和炭化水素としては、例えば、プロパン、ｎ−ブタン、イソブタン、シクロブタン、ｎ−ペンタン、２−メチルブタン、シクロペンタン、ｎ−ヘキサン、２−メチルペンタン、３−メチルペンタン、シクロヘキサンなどが挙げられ、また不飽和炭化水素としては、２重結合を有する化合物、例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテン、２−ブテン、イソブテン、１−ペンテン、２−ペンテン、２−メチル−１−ブテン、３−メチル−１−ブテン、シクロペンテン、１−ヘキセン、２−ヘキセン、３−ヘキセン、２−メチル−１−ペンテン、３−メチル−１−ペンテン、シクロヘキセン、１−メチル−１−シクロペンテン、３−メチル−１−シクペンテン、４−メチル−１−ペンテンなどが挙げられる。
【００５９】
飽和炭化水素を原料とする場合には、２級炭素−水素結合が酸化される際には、主としてケトンが生成され、３級炭素−水素結合が酸化される際には、主としてアルコールが生成される。炭素−水素結合の反応性の順序は、３級＞２級＞１級であり、１級炭素−水素結合は、ほとんど反応しない。
【００６０】
又、不飽和炭化水素を原料とする場合には、高い選択性でエポキシドが生成される。
【００６１】
本発明方法で使用する触媒は、上記したチタン含有珪酸塩に金微粒子を固定化した触媒である。触媒の使用量は、特に限定されるものではないが、実用的には、空間速度（ＳＶ）が１００〜１００００ｈｒ^-1・ｍｌ／ｇ・ｃａｔ程度の範囲内となる量とすることが適している。
【００６２】
本発明においては、水素の存在が必須である。仮に水素が共存しない状態で、すなわち酸素、炭化水素そして場合により希釈ガスからなる混合ガスを上記触媒下の存在下に反応させたとしても、２００℃以上で反応が起こりはじめるものの、二酸化炭素の生成が主に認められるのみで、上記の部分酸化生成物の生成は、全く認められない。しかるに、水素を反応系内に存在させると、反応の様相は一変し、５０℃程度の低温においてさえ、上記の部分酸化生成物の生成が認められるようになる。水素の存在量は、特に限定されるものではないが、通常水素／原料の体積比で、１／１０〜１００／１程度の範囲内で実用可能であるが、一般に水素の割合が大きい程反応速度が上昇するので、この範囲内で高目の値を採用することが好ましい。
【００６３】
酸素の存在量は、特に限定されるものではないが、通常、酸素／原料の体積比で、１／１０〜１０／１程度の範囲が適当である。この範囲より酸素の存在量が少ないと、得られる部分酸化生成物の量が少なくなるので好ましくなく、一方、この範囲より酸素の存在量を多くしても、得られる部分酸化生成物の量は増加せず、かえって、部分酸化生成物の選択率の低下（二酸化炭素の生成量の増加）を生じるので好ましくない。
【００６４】
本発明における反応温度は、通常０〜３００℃程度、より好ましくは２０〜２００℃程度の範囲が適している。気相で反応を行なう場合には、触媒層からの生成物の脱離が容易に行われる様に、採用する反応圧（通常０．０１〜１ＭＰａ程度）下で生成物が充分に揮発性を示す温度を選ぶ必要がある。一方、反応温度をあまり高温にすると、二酸化炭素への燃焼反応が起こり易くなると同時に、水素の水への酸化による消費が増大するため、好ましくない。従って、用いる原料の相違により、最適反応温度があるものの、好適な反応温度は、ほぼ２０〜２００℃の範囲に入ると思われる。
【００６５】
気相反応は、本発明触媒を充填した反応装置に炭化水素、水素、酸素および必要ならば希釈ガス（例えば、窒素、アルゴン、ヘリウム、二酸化炭素など）を含む混合ガスを供給し、所定の反応条件で反応させればよい。
【００６６】
本発明における反応を液相で行なう場合には、上記の様な触媒層からの脱離を考慮する必要がないので、多くの場合１００℃以下で行い得る。また、液相で反応を行う場合には、原料を液体状態を保持させるような反応圧と反応温度とを選ぶか、或いは溶媒（例えば、ベンゼンなどの炭化水素系溶媒、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒など）を用いて、懸濁した触媒の存在下に原料、水素、酸素、場合によっては希釈ガスの混合ガスをバブリングさせることにより反応を行なうことができる。
【００６７】
【発明の効果】
本発明触媒は、酸素および水素の存在下で炭化水素類を部分酸化する反応に対する活性や選択性に優れ、かつ長い寿命を有する炭化水素部分酸化用触媒である。
【００６８】
本発明触媒を用いて酸素および水素の存在下に炭化水素類を部分酸化する方法によれば、該触媒に含まれる金およびチタン含有珪酸塩の相乗効果により、簡単かつ効率的に炭化水素類を部分酸化することができる。これにより、炭化水素類から一段階でアルコール、ケトン、エポキシド等の含酸素有機化合物を高い選択率で、長期間安定な転化率で製造することができる。
【００６９】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。
【００７０】
参考例１プロピレンの部分酸化
蒸留水１２００ｍｌに塩化金酸・４水和物（ＨＡｕＣｌ・４Ｈ₂Ｏ）１．０ｇ（２．４３ｍｍｏｌ）を溶解し、７０℃に加温し、０．１ＮＮａＯＨ水溶液によりｐＨを７．５とした後、激しく撹拌しながら、チタン含有珪酸塩６ｇを一度に加え、同温度で１時間撹拌を続け、該チタン含有珪酸塩上に水酸化金Ａｕ（ＯＨ）₃を析出沈殿させた。チタン含有珪酸塩としては、メソポーラスシリカの一部をチタン原子に置換した材料（Ｔｉ−ＭＣＭ−４１）（Ｔｉ／Ｓｉ（原子比）＝１／１００）を用いた。この懸濁液を静置し、室温まで放冷した後、上澄液を除去し、新たに蒸留水３０００ｍｌを加え、室温で５分間撹拌し、再び静置後上澄液を除去した。この洗浄操作を数回繰り返した後、ろ過し、得られたペーストを室温で１２時間真空乾燥し、空気中４００℃で４時間焼成することにより、金超微粒子が担持されたチタン含有珪酸塩触媒を得た。使用した塩化金酸の量は、チタン含有珪酸塩（Ｔｉ−ＭＣＭ−４１）に対して８重量％であったが、分析の結果、実際に担持された金の量は１．２重量％であった。
【００７１】
この様にして得た触媒を使用し、固定床流通式触媒反応装置を用いてプロピレンの部分酸化反応を行った。反応条件は下記の通りである。
【００７２】
触媒反応セル：石英製内径６ｍｍ
触媒量：０．５ｇ
触媒前処理：３００℃にて、アルゴン／Ｏ₂＝７／１ガスを１時間流通
反応ガス：容量比アルゴン／Ｏ₂／Ｈ₂／プロピレン＝７／１／１／１
空間速度：４０００ｈ^-1・ｍｌ／ｇ・ｃａｔ
反応温度：１００℃
その結果、反応開始より６０分後には、プロピレシオキシドの収率１．２％、プロピレシオキシドの選択率９７．０％となり、その後、同じ反応を継続して行ったところ、１２０分後と２００分後には、それぞれ、収率と選択率は、上記した値と同じであった。
【００７３】
以上の結果より、チタン含有珪酸塩に金を担持した触媒では、プロピレンオキシドを９５％以上の極めて高い選択率で得ることができ、且つ経時的安定性が高いことが判明した。
【００７４】
参考例２プロピレンの部分酸化
チタン含有珪酸塩として、メソポーラスシリカの一部をチタン原子に置換した材料（Ｔｉ−ＭＣＭ−４１）であって、Ｔｉ／Ｓｉ（原子比）＝３／１００の材料を用いる以外は、参考例１と同様にして、金超微粒子が担持されたチタン含有珪酸塩触媒を得た。この触媒の金の担持量は参考例１と同様に１．２重量％であった。
【００７５】
この触媒を用いて、参考例１と同様の条件でプロピレンの部分酸化反応を行った。プロピレンオキシドの収率及び選択率の時間変化を下記表１に示す。
【００７６】
【表１】

【００７７】
この結果から、上記チタン含有珪酸塩に金を担持した触媒では、プロピレンオキシドを９５％以上の極めて高い選択率で得ることができ、且つ経時的安定性が高いことが判明した。
【００７８】
比較例１プロピレンの部分酸化
参考例１で用いたチタン含有珪酸塩（Ｔｉ−ＭＣＭ−４１）に代えて、チタンを含有しないメソポーラスシリカ（ＭＣＭ−４１）を用いる他は、参考例１と同様にして、ＭＣＭ−４１に金超微粒子を担持させた。金の担持量は、１重量％であった。
【００７９】
この触媒を用いて参考例１と同様の条件でプロピレンの部分酸化反応を行ったが、反応温度を２００℃に上げてもプロピレンオキサイドはまったく生成せず、僅かに水素酸化が起こるだけであった。
【００８０】
比較例２プロピレンの部分酸化
参考例１で用いたチタン含有珪酸塩（Ｔｉ−ＭＣＭ−４１）に代えて、比表面積５０ｍ²／ｇのアナターゼ型酸化チタンを用いる他は、参考例１と同様にして、金超微粒子を担持させた。金の担持量は、３重量％であった。
【００８１】
この触媒を用いて、参考例１と同様の条件でプロピレンの部分酸化反応を行った。プロピレンオキシドの収率及び選択率の時間変化を下記表２に示す。
【００８２】
【表２】

【００８３】
この結果から、アナターゼ型酸化チタンを用いた触媒では、プロピレンオキシドの生成選択率が低く、しかも１時間の間に収率が大きく低下することが判る。
【００８４】
参考例３
チタニルアセチルアセトナート（titanyl acetyl acetonate）をメソポーラスシリカ（ＭＣＭ−４１）に１重量％含浸担持させ、乾燥後、空気中５００℃にて４時間焼成して、メソポーラスシリカ（ＭＣＭ−４１）にＴｉＯ₂を含浸担持したチタン含有珪酸塩を得た。
【００８５】
このチタン含有珪酸塩を用いる他は、参考例１と同様にして、金超微粒子が担持されたチタン含有珪酸塩触媒を得た。この触媒の金の担持量は１．２重量％であった。
【００８６】
得られた触媒を用いて、参考例１と同様の条件でプロピレンの部分酸化反応を行った。その結果、反応開始より６０分後に、プロピレシオキシドの収率０．５５％、プロピレシオキシドの選択率８５．０％となり、１２０分後には、プロピレシオキシドの収率０．７４３％、プロピレシオキシドの選択率８９．０％となった。
【００８７】
以上の結果より、チタンを含有しないメソポーラスシリカ（ＭＣＭ−４１）上にＴｉＯ₂を高分散担持したものをチタン含有珪酸塩として用いた場合には、Ｔｉ−ＭＣＭ−４１を用いた場合と比べて、プロピレシオキシドの選択率が１０％程度低くなるものの、経時的な活性劣化は認められず、安定性が高いことが判明した。このような選択率の若干の低下は、Ｔｉ−ＭＣＭ−４１においてＴｉ／Ｓｉの比率を６／１００以上にした場合にも見られた。これは、Ｔｉ／Ｓｉ＝６／１００以上の比率ではＴｉの一部はシリカ骨格中ではなく外表面に高分散担持されていることによるものと考えられる。
【００８８】
実施例１プロパンの部分酸化
参考例２と同様にして得た触媒を用い、反応ガスとして、アルゴン/Ｏ₂/Ｈ₂/プロパン（容量比）＝７／１／１／１の混合ガスを用い、反応温度を１２０℃とすること以外は、参考例１と同様の条件でプロパンの部分酸化反応を行った。
【００８９】
その結果、反応開始より４０分後に、アセトンの収率０．１４％、アセトンの選択率４７．０％（他はＣＯ₂）となり、１１０分後にアセトンの収率０．１１％、アセトンの選択率４２．０％となった。
【００９０】
この結果から、チタン含有珪酸塩に金を担持した触媒によれば、プロパンからアセトンを比較的高い選択率で得ることができ、かつ経時的安定性が高いことが判明した。
【００９１】
実施例２ソブタンの部分酸化
参考例２と同様にして得た触媒を用い、反応ガスとして、アルゴン／Ｏ₂／Ｈ_２／イソブタン（容量比）＝７／１／１／１の混合ガスを用い、反応温度を１２０℃とすること以外は、参考例１と同様の条件でイソブタンの部分酸化反応を行った。ｔ−ブタノールの収率及び選択率の時間変化を下記表３に示す。
【００９２】
【表３】

【００９３】
この結果から、チタン含有珪酸塩に金を担持した触媒によれば、ｔ−ブタノールを高い選択率で得ることができ、かつ経時的安定性が高いことが判明した。

Claims

メソポーラスシリカの一部をチタン原子で置換した材料であって、ＴｉとＳｉの原子比がＴｉ／Ｓｉ＝１／１０００〜２０／１００であるチタン含有珪酸塩に金微粒子を固定化してなる、飽和炭化水素の部分酸化によるアルコールまたは／およびケトンの製造用触媒。
金微粒子が粒子径１０ｎｍ以下の超微粒子である請求項１に記載の触媒。
チタン含有珪酸塩が、支持体に固定化されたものである請求項１又は２に記載の触媒。
請求項１〜３のいずれかに記載の触媒と分子状水素の存在下に、飽和炭化水素を酸素酸化することを特徴とするアルコールまたは／およびケトンの製造方法。
２０〜２００℃で反応を行う請求項４に記載の方法。