JP4004143B2 - 炭素質固体−水スラリーの製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、低品位炭を原料とする炭素質固体−水スラリーの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
石炭を粉砕した石炭粉に水と分散剤等の添加剤を加えてスラリー化した石炭−水スラリー(Coal Water Mixture:以下「CWM」という)は、流体であるためハンドリングが容易であり、しかも重油などに比べて単位熱量当りの価格が低いため、石油に代わる燃料として注目されている。CWMは、熱分解やガス化が良好に行われ、また高い燃焼効率を得るためにも60〜75重量%(水分25〜40重量%)、好ましくは70重量%程度もしくはそれ以上の高濃度であることが要求される。さらにCWMは、輸送効率の観点から好ましい粘度、例えば1000cp(センチポイズ)程度の見掛粘度に調製される必要がある。
【0003】
図6には、低品位炭を用いた場合の従来のCWM製造方法のフローが示されている。この図によれば、改質前処理システム10にて粉砕炭スラリーを得、これを改質工程17にて改質し、改質後の粉砕炭スラリー(改質炭スラリー)を脱水工程18にて脱水処理して改質炭ケーキと濾液とに分離し、混練工程19にて改質炭ケーキに水と添加剤を加え混練して製品CWMを得るようになっている。
【0004】
改質前処理システム10では、原料炭として供給された低品位炭例えば褐炭や亜瀝青炭などが粗砕機11により粗砕され、その粗砕炭が水と共に湿式粉砕機12に供給されて所定の粒径以下になるように湿式粉砕される。得られた粉砕炭スラリーは粉砕炭スラリー貯槽13に貯留された後、ポンプP1により分級器14に送られ、ここでメッシュ体14aにより分級される。分級された粒径の大きい粉砕炭は、湿式粉砕機12に戻されて再度粉砕される。一方、所定の粒径以下の粉砕炭スラリーは、水が加えられて供給スラリー貯槽15に送られる。そして供給スラリー貯槽15に貯留された粉砕炭スラリーは、ポンプP2により改質工程17へ送られ、続く脱水工程18及び混練工程19に順次送られる。
【0005】
通常、湿式粉砕機12としてボールミルが使用されている。ボールミルは、水平な軸の周りに回転する容器内に粗砕炭とともに小球を入れ、これを回転させることにより粉砕を行うようになっている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
ところで高濃度のCWMを得るためには、スラリー中の石炭微粉炭の充填度を高くすることが必要である。そのためには、大径粒子同士の隙間に中径粒子が入り込み、中径粒子同士の隙間に小径粒子が入り込み、小径粒子同士の隙間に超微粒子が入り込み、超微粒子同士の隙間に水が入り込むように、石炭微粉炭の粒度分布はできるだけ広い方が好ましい。しかし最終製品であるCWMの燃焼時におけるバーナーの目詰まりや、CWM製造工程中におけるポンプの詰まりを避けるため、大径粒子は存在しない方がよい。従来用いられているボールミルではあまり広い粒度分布が得られないので、炭種を選ばなければCWMの濃度はせいぜい70%程度が限度である。またボールミルでは大径粒子も混じってしまうので、粉砕後のスラリーを分級器で選別し、大径粒子を再びボールミルに戻して再粉砕する必要がある。
【0007】
更に分級器を用いる場合には、分級器の目詰まりを避けるため、一旦石炭濃度が5〜25重量%以下になるように粉砕炭スラリーを水で薄める必要があり、工程が複雑である。また分級器は微粉砕工程を補ういわば付随的な設備であり、CWM製造設備の小型化を妨げる一因になっている。
【0008】
本発明はこのような事情の下になされたものであり、その目的は、CWM製造設備及び工程の簡素化を図るとともにCWMの高濃度化を図ることができるCWMの製造方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明は、粉砕した低品位炭からなる炭素質固体と水とを炭素質固体濃度が30〜50重量%の状態で、コランダルミルの第1の砥石部材及び第2の砥石部材の間に形成される1000μm〜3000μmの間隔の隙間の中に導き、第1の砥石部材を第2の砥石部材に対して相対的に平行に回転させて炭素質固体を擦り潰すことにより炭素質固体を微粉砕してスラリー原料を得る微粉砕工程と、
この微粉砕工程にて得られたスラリ−原料を加圧、加熱の下で熱水処理して改質スラリーを得る改質工程と、
この改質工程にて得られた改質スラリーを脱水して原料ケーキを得る脱水工程と、
次いで、脱水された原料ケーキに調整水と分散剤を添加して混練することにより炭素質固体の濃度が60〜75重量%の炭素質固体−水スラリーを得る混練工程と、を含むことを特徴とする。
【0010】
この発明によれば、炭素質固体粒子の粒径の大きさの上限が一定の値に制限されるので分級器を用いずに済み、また高濃度スラリ−を得るのに適した広い粒度分布が得られる。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の炭素質固体−水スラリーの製造方法をCWMの製造方法に適用した実施の形態について説明する。
【0012】
図1は本発明方法の実施に使用されるCWM製造装置の一例によるフローを示す説明図である。このCWM製造装置は、改質前処理システム2、改質システム3及びCWM化システム4からなる。先ずこの製造装置の全体フローについて簡単に述べると、炭素質固体例えば低品位炭を改質前処理システム2にて湿式粉砕して粉砕炭スラリーを得、これを改質システム3にて改質し、得られた粉砕炭スラリー(改質炭スラリー)をCWM化システム4にて脱水処理して改質炭ケーキを得、さらにその改質炭ケーキに水及び分散剤を加え混練して製品CWMを得る。なお改質システム3は瀝青炭等の改質が不要な高品位炭を用いる場合には省略される。またCWM化システム4で改質炭スラリーを脱水処理する前に、必要に応じて追加粉砕を行うようにしてもよい。
【0013】
次に各システムについて詳述する。
(改質前処理システム)
このシステム2では、原炭ホッパ21内に投入された低品位炭例えば褐炭や亜瀝青炭などをフィーダ22により粗砕機23に供給して粗砕し、その粗砕炭を、石炭濃度が30重量%以上50重量%以下となるような量の水とともにコランダムミル5に送り粒径3000μm以下、好ましくは1000μm以下に湿式粉砕するようになっている。この粉砕は出発原料の硬さに基づき、後述の落圧あるいは混練時の微粉砕効果を考慮して最終製品の粒度範囲に入るように調整する。
【0014】
得られた30〜50重量%の粉砕炭スラリーは改質前スラリータンク24に一旦貯留され、ポンプPにより改質システム3へ送られる。図2及び図3はそれぞれコランダムミル5の縦断面図及び要部斜視図である。コランダムミル5は、例えば円盤形状でモーター等の駆動源50により回転駆動される第1の砥石部材としての回転円盤51と、この回転円盤51の上に設けられ、回転円盤51と略等しい大きさの第2の砥石部材としての固定円盤52と、その固定円盤52の中央部に上方に臨んで開くように設けられた漏斗53と、両円盤51,52の少なくとも外周及び下側を覆い、両円盤51,52の間から流出する粉砕炭スラリーを受けるカバー部材54とを備えている。
【0015】
回転円盤51と固定円盤52との各対向面は、わずかな間隔をおいて平行に対向されている。その間隔は例えば30μm〜5mmの範囲で任意に調整可能であり、その間隔を調整することによって粉砕処理後の最も大きな粒子の径を調整することができる。回転円盤51と固定円盤52との各対向面間の間隔は、例えば低品位炭の場合には例えば1000μm〜3000μmに調整され、また瀝青炭の場合には例えば700μm以下に調整される。
【0016】
固定円盤52の中央部には、回転円盤51と固定円盤52との間の粉砕空間55内に連通する貫通孔56が形成されており、その貫通孔56の開口部に漏斗53の小径部が取り付けられている。カバー部材54には粉砕炭スラリーを外部に排出する排出口57が設けられている。
【0017】
ここでコランダムミルで微粉砕を行う際のスラリーの石炭濃度が30〜50重量%である理由は、その上限を超えると回転円盤51と固定円盤52との隙間からスラリーがペースト状になって垂れるので、処理速度が遅すぎて量産に向かないからである。一方、下限に満たないと後の改質処理の際にスラリー中に沈殿が生じ易く、これを防ぐためにスラリーの流速を速くしなければならず、それによって装置が大型化してしまうという不都合が生じるか、あるいは改質処理を行わない場合にはCWM化システム4での脱水処理の負荷が大きくなり過ぎるからである。
【0018】
(改質システム)
このシステム3では、ポンプPを介して改質前スラリータンク24より供給された改質前スラリー(粉砕炭スラリー)を加熱器31により例えば250〜330℃に加熱し、それを改質反応器32にて例えば反応圧力120〜150気圧でもって高圧水中で通常10〜30分改質し、その改質されたスラリーを冷却器33により冷却した後に高圧タンク34にて溜めるようになっている。こうして得られた改質炭スラリーは落圧手段35を介して降圧された後、改質後スラリータンク36に貯留される。
【0019】
(CWM化システム)
このシステム4では、改質後スラリータンク36から供給された改質炭スラリーを脱水機41により脱水処理し、製品スラリーとほぼ同じ水分量、粒度のケーキとし、得られた改質炭ケーキを所定量の調整水及び分散剤等の添加剤とともに混練機42に供給し、ここで混練して60〜75重量%の高濃度のCWMを生成し、移送ポンプ43を介して製品CWMを生じる。
【0020】
次に上記構成のシステムを用いた本発明に係る製造方法の実施の形態を図1乃至図3を参照しながら説明する。まず低品位炭よりなる原料を水と共に粗砕機23に供給してここで粗砕する。ここで得られた石炭濃度30〜50重量%のスラリ−を、回転円盤51が回転した状態のコランダムミル5に漏斗53から例えば連続的に供給する。粗砕炭及び水よりなるスラリーは固定円盤52の貫通孔56を通過して粉砕空間55に至り、遠心力により次第に粉砕空間55の中央部から周縁部寄りの狭隘部に押しやられて回転円盤51と固定円盤52との対向面同士の問に挟持される。挟持された粗砕炭は円盤51の回転により擦り合わされながら、回転円盤51と固定円盤52との対向面同士の間隔以下の大きさに制限されて円盤51,52の外周側に移動される。
【0021】
こうして製造された微粉炭及び水よりなるスラリーは円盤51,52の隙間から外周方向に流出し、カバー部材54により捕集されて排出口57から排出される。コランダムミル5から排出された粉砕炭スラリー(石炭濃度30〜50重量%)は改質前スラリータンク24に貯留された後、ポンプPにより改質システム3へ送られる。改質前処理システム2から送られてきた粉砕炭スラリー(改質前スラリー)は改質システム3及びCWM化システム4において上述したように処理されて製品CWMとなる。
【0022】
上述実施の形態によれば、コランダムミル5の回転円盤51と固定円盤52の対向面同士の間を所望の間隔となるように調整し、回転円盤51を回転させた状態で石炭濃度が30〜50重量%となるように粗砕炭と水をコランダムミル5に供給することによって、粉砕された石炭微粉炭の最大粒径を所望の大きさに精度よく制御することができるので、分級器を設けずに済む。従って分級器が不要になり、また分級時の目づまり防止のための、スラリーを水で薄める工程も不要になり、CWM製造設備のコスト低減及び工程の簡素化を図ることができるとともに、動力費も低減でき、量産にも好適である。さらにまた後述の実験例からも分かるようにスラリー中の石炭微粉炭の高充填度を得るのに適した広い粒度分布が得られるので、高濃度のCWMが得られる。
【0023】
ここで分級器を設けなくて済むことの具体的な他の利点について述べておく。分級を行う場合には既述のように粗砕炭スラリ−を目づまり防止のために水で薄める工程が必要になる。従ってこの工程が不要になると、低品位炭を改質する場合に反応器内の流速を遅くすることができ(水分の多いスラリ−の場合には流速を早くしないと沈殿する)、このため装置の小型化が図れるし、また改質が不要な高品位炭を用いる場合には、その後の脱水処理の負荷が小さくなる。
【0024】
以上において本発明は、コランダムミル5の回転円盤51及び固定円盤52の各対向面に例えば溝や突起等の凹凸部を形成してもよいし、それら2つの円盤の内の何れを回転円盤としてもよいし、2つの円盤を相反する方向に回転させるようにしてもよいし、回転円盤を偏心させながら回転させるようにしてもよい。また、コランダムミルは、互いに僅かな間隔をおいて対向する2枚の平板を摺動させたり、円筒部材にその内周面から僅かな間隔をあけて軸棒を貫通させるか、または円柱部材をその外周面からわずかな間隔を空けて凹部に収容させ、それらの一方または両方を回転させたり軸方向に摺動させたりするようにしてもよい。
【0025】
【実施例】
(実施例1)
原料炭として低品位炭であるアサムアサム炭(インドネシア産亜瀝青炭)を用い、これを石炭濃度35重量%となるように水とともにコランダムミルに供給して微粉砕した。その際コランダムミルの直径10インチの回転円盤と固定円盤の各対向面間の間隔は1000μmであり、回転円盤の回転数は1500rpmであった。得られた粉砕炭スラリー(改質前スラリー)に対して約320℃、140気圧で30分間の熱水処理(改質処理)を行った後、脱水処理を行い改質炭ケーキを得た。この改質炭ケーキを所定量の調整水を入れて混練し、その後に分散剤を加えて混練し、CWM化した。使用した分散剤はナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物(ハイコール21)であり、その添加割合は5g/kg-coal であった。最後に安定剤としてアタパルジャイトを2000ppm /CWM の割合で添加した。
【0026】
(比較例1)
図2及び図3に示す構成のコランダムミルの代わりに従来通りのボールミル(容積20リットル、スチール製ボール径5〜50mm)を用いて微粉砕を行った。その他の処理及び条件は実施例1と同じであった。
【0027】
(考察)
実施例1及び比較例1について、コランダムミル及びボールミルによる微粉砕後の粒度の累積分布を調べた。その結果を図4に示す。なお微粉砕を行う前の粗砕炭の粒度分布も図4に併せて示す。図4から分かるように実施例1及び比較例1は微粉砕前の粗砕炭よりもグラフが立っており、粗砕炭がコランダムミル及びボールミルによって微粉化されていることが分かる。また実施例1と比較例1とを比べると、実施例1よりも比較例1の方がグラフが立っているので、比較例1の粒度分布の方が実施例1よりも全体的に微細な方に片寄っていることが分かる。つまり比較例1の方が実施例1よりも粒度分布が狭く、換言すれば実施例1の方が比較例1よりも粒度分布が広い。具体的には図4より、実施例1及び比較例1の何れも最小粒径はおおよそ0.9μmであるが、最大粒径は実施例1がおおよそ500μmであるのに対して、比較例1ではおおよそ200μmしかないことが分かる。
【0028】
従って実施例1の方が比較例1よりも粒度分布が広いため、スラリー中の石炭微粉炭の充填度が高くなり、最終的な製品CWMにおける石炭濃度が高くなる。実際に実施例1において得られた微粉炭、比較例1において得られた微粉炭を用いて製造された最終的な製品CWMの石炭濃度(見掛粘度が1000cp)を調べたところ、それぞれ69.7重量%及び64.7重量%であった。
【0029】
また本発明者は、人為的に微粉炭を生成してlogP(粒度分布の広がり指数)と見掛粘度が1000cpに到達した時の石炭濃度とのおよその関係が図5に示す直線のようになることを把握しており、このグラフに実施例1及び比較例1の結果を載せておく。ここでlogPとは対数表示粒径の重量基準の分布の標準偏差値(1σ)で、粒径が広く分布する程1σの範囲が広がることを利用している。対数で扱うことにより粒径の絶対値に影響を受けない分布広がりを指すことができる尺度となる。図5から分かるようにlogPの値は実施例1ではおおよそ0.78であり、それに対して比較例1ではおおよそ0.67であり、実施例1の方が粒度分布の広がりが広い。このため見掛粘度が1000cpの時の石炭濃度は実施例1では69.7重量%もの高濃度が得られるが、それに対して比較例1では64.7重量%と低く、目標粘度である1000cpにおいては実施例1の方が比較例1よりも石炭濃度がおよそ5重量%高いCWMが得られる。
【0030】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、石炭微粉炭の最大粒径を所望の大きさに精度よく制御することができるので、分級器を設けずに済み、CWM製造設備のコスト低減及び工程の簡素化を図ることができるとともに、量産にも好適であり、またスラリー中の石炭微粉炭の高充填度を得るのに適した広い粒度分布が得られるので、高濃度のCWMが得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明方法の実施に使用されるCWM製造装置の一例によるフローを示す説明図である。
【図2】そのCWM製造装置において使用されるコランダムミルの縦断面図である。
【図3】そのCWM製造装置において使用されるコランダムミルの要部斜視図である。
【図4】実施例及び比較例について微粉砕後の粒度の累積分布を示す特性図である。
【図5】実施例及び比較例についてlogP(粒度分布の広がり指数)と1000cpの粘度に到達した時の石炭濃度との関係を示す特性図である。
【図6】従来のCWM製造方法のフローを示す説明図である。
【符号の説明】
P ポンプ
2 改質前処理システム
21 原炭ホッパ
22 フィーダ
23 粗砕機
24 改質前スラリータンク
3 改質システム
4 CWM化システム
5 コランダムミル
50 駆動源
51 回転円盤(第1の砥石部材)
52 固定円盤(第2の砥石部材)
53 漏斗
54 カバー部材
55 粉砕空間
56 貫通孔
57 排出口
Claims (1)
- 粉砕した低品位炭からなる炭素質固体と水とを炭素質固体濃度が30〜50重量%の状態で、コランダルミルの第1の砥石部材及び第2の砥石部材の間に形成される1000μm〜3000μmの間隔の隙間の中に導き、第1の砥石部材を第2の砥石部材に対して相対的に平行に回転させて炭素質固体を擦り潰すことにより炭素質固体を微粉砕してスラリー原料を得る微粉砕工程と、
この微粉砕工程にて得られたスラリ−原料を加圧、加熱の下で熱水処理して改質スラリーを得る改質工程と、
この改質工程にて得られた改質スラリーを脱水して原料ケーキを得る脱水工程と、
次いで、脱水された原料ケーキに調整水と分散剤を添加して混練することにより炭素質固体の濃度が60〜75重量%の炭素質固体−水スラリーを得る混練工程と、を含むことを特徴とする炭素質固体−水スラリ−の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15834998A JP4004143B2 (ja) | 1998-05-22 | 1998-05-22 | 炭素質固体−水スラリーの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP15834998A JP4004143B2 (ja) | 1998-05-22 | 1998-05-22 | 炭素質固体−水スラリーの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH11335679A JPH11335679A (ja) | 1999-12-07 |
JP4004143B2 true JP4004143B2 (ja) | 2007-11-07 |
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JP15834998A Expired - Lifetime JP4004143B2 (ja) | 1998-05-22 | 1998-05-22 | 炭素質固体−水スラリーの製造方法 |
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1998
- 1998-05-22 JP JP15834998A patent/JP4004143B2/ja not_active Expired - Lifetime
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