JP3983543B2 - ポリオキシプロピレン／ポリオキシエチレンテルペン化合物の、硬質表面用脱脂剤としての使用 - Google Patents

Description

【０００１】
（技術分野）
本発明は、オキシプロピレン及びオキシエチレン単位を含むテルペン化合物の、硬質表面、一層特に金属表面を脱脂し／清浄にするための剤としての使用に関する。
【０００２】
（従来技術）
金属表面を清浄にし／脱脂する分野は、特に採用する化合物の脱脂力、及びそれの非発泡能力に関して非常に良好な性能を要求する。また、たとえサービス条件が極めて困難であるとしても、そのような結果が通常要求されることにも留意すべきである。スプレー方法は、処理液が加圧下で塗布されることから、泡の外観を助長する。
【０００３】
この分野で現在使用されている化合物は、主にエトキシル化アルキルフェノールである。そのような化合物は、極めて満足すべき固有の脱脂性質を有する。しかし、それらは、相当の不利、すなわち泡形成を助長する不利がある。この適用のこの望ましくない現象は、線状アルコキシル化アルコールのような消泡剤を加えることによって低減される。しかし、そのタイプの化合物が存在すると、エトキシル化アルキルフェノールの脱脂活性を、無視し得ず、相当になり得る様式で低減させる。活性の初期レベルを回復する程の更なるアルキルフェノールを加えることによって活性の損失を補うことは可能でない。
【０００４】
国際特許出願ＷＯ−Ａ−９６／０１２４５は、アルコキシル化テルペン化合物を、泡形成を大きくは助長しない良好な脱脂剤として紹介することについて記載している。例の化合物は、ノポール又はアルバノール（ａｒｂａｎｏｌ）タイプテルペン化合物の誘導体であり、オキシプロピレン部分０〜２及びオキシエチレン部分３．３〜１０．３を含有する。
【０００５】
しかし、そのような化合物（それの重要性については、ここで議論しない）は、硬質表面、一層特に金属表面を処理する極めて特別の用途においては、良好な結果を生じない。それらは、この分野で要求される２つの基準、すなわち高い脱脂活性及び消泡作用を同時には満足しない。このことは、配合物中の化合物の量を増大させなければならない及び／又は消泡剤を加えなければならず、知られた不利を有することを意味する。また、そのような化合物を多量に加えるにもかかわらず、達成される脱脂レベルは、精々エトキシル化アルキルフェノールの脱脂レベルと均等であることも述べられている。
【０００６】
分かる通りに、多量の泡の出現を引き起こさない非常に高い脱脂能力を有する化合物は、入手可能でなければならない。そのような化合物を使用すると、この化合物を多量に使用することを必要とせずかつ消泡剤のような補足化合物を加えることを要しないことの二重の利点を有することになろう。
【０００７】
本発明の目的は、硬質表面、特に金属表面を低い濃度で清浄にし／脱脂する用途において、上に挙げた二重の基準を満足する特定のテルペン化合物を使用することを提案するにある。
【０００８】
発明の開示
本発明は、下記式（Ｉ）：
Ｚ−Ｘ−［ＣＨ（Ｒ³）−ＣＨ（Ｒ⁴）−Ｏ］_n−［ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｏ］_p−Ｒ⁵
（式中：
Ｚは、ビシクロ［ａ，ｂ，ｃ］ヘプテニル又はビシクロ［ａ，ｂ，ｃ］ヘプチルラジカルを表わし、ここで、
ａ＋ｂ＋ｃ＝５
ａ＝２、３又は４；
ｂ＝２又は１；
ｃ＝０又は１；
該ラジカルは、随意に少なくとも１つのＣ₁〜Ｃ₆アルキルラジカルで置換されかつ下記：
【化２】

に示す主鎖、又は二重結合の無い対応する主鎖から選ぶものを含み；
Ｘは、−ＣＨ₂−Ｃ（Ｒ¹）（Ｒ²）−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＨ（Ｒ^'1）−ＣＨ（Ｒ^'2）−Ｏ−を表わし、ここで、
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ^'1及びＲ^'2は、同一でも又は異なってもよく、水素又は線状、枝分れもしくは環状、飽和もしくは不飽和のＣ₁〜Ｃ₂₂炭化水素ラジカル、好ましくはＣ₁〜Ｃ₆を表わし；
Ｒ³及びＲ⁴は、同一でも又は異なってもよく、水素又は線状、枝分れもしくは環状、飽和もしくは不飽和のＣ₁〜Ｃ₂₂炭化水素ラジカルを表わし、但し、Ｒ³又はＲ⁴ラジカルの内の少なくとも１つは、水素以外のものであり；
Ｒ⁵は、水素、置換されてもよい線状、枝分れもしくは環状、飽和もしくは不飽和の、芳香族もしくは非芳香族Ｃ₁〜Ｃ₂₂炭化水素ラジカル、又は下記から選ぶ基を表わし；
−ＳＯ₃Ｍ
−ＯＰＯ₃（Ｍ）₂
−（ＣＨ₂）_r−ＣＯＯＭ
−（ＣＨ₂）_z−ＳＯ₃Ｍ
（式中：
Ｍは、水素、アルカリ金属又はアンモニウム機能Ｎ（Ｒ）₄ ⁺を表わし、ここで、Ｒは、同一であっても又は同一でなくてもよく、水素又は線状、枝分れもしくは環状、飽和もしくは不飽和のＣ₁〜Ｃ₂₂炭化水素ラジカルを表わし、該ラジカルは、ヒドロキシル化されてもよく；
ｒは、１〜６の範囲であり；
ｚは、１〜６の範囲である）；
ｎは、３〜５（３及び５を含む）の範囲の整数又は分数であり；
ｐは、６〜１０（境界を除く）の範囲の整数又は分数である）
を有する化合物を使用する間濃度０．０１〜１０ｇ／ｌの範囲で採用される少なくとも一種の化合物の、硬質表面を清浄にし／脱脂する際の使用に関する。
【０００９】
本発明のそれ以上の利点及び特徴は、下記の記述及び例から一層明らかになるものと思う。
【００１０】
発明の具体的な説明
初めに、本発明において用いる化合物について説明することにする。
第一のタイプの化合物は、（Ｉ）式において、Ｘが−ＣＨ₂−Ｃ（Ｒ¹）（Ｒ²）−Ｏ−に等しいことによって定義される。
【００１１】
この化合物を、本明細書以降（Ｉａ）と呼び、この化合物は下記式に一致する：
Ｚ−ＣＨ₂−Ｃ（Ｒ¹）（Ｒ²）−Ｏ−［ＣＨ（Ｒ³）−ＣＨ（Ｒ⁴）−Ｏ］_n−［ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｏ］_p−Ｒ⁵
式中：Ｚ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、ｎ及びｐは、上に挙げた意味を有する。
【００１２】
発明の一つの好適な実施では、ラジカルＺをｃ）〜ｇ）式を有するラジカルから選ぶ。
【００１３】
ラジカルＺは、一層特に炭素原子１〜６の内の一つを経て鎖の残りに結合され；炭素原子１、５及び６が好適であることに留意すべきである。
【００１４】
更に、ラジカルＺは、その炭素原子の内の少なくとも１つの上で２つのＣ₁〜Ｃ₆アルキルラジカル、好ましくは２つのメチルラジカルによって置換されることができる。
【００１５】
一層特に、７炭素が、これらの２つのアルキルラジカル、一層詳細には２つのメチルラジカルによって置換される。
【００１６】
従って、発明の一つの好適な化合物は、ラジカルＺが図ｃ）〜ｇ）に現れるもの、一層好ましくはラジカルｄ）及びｅ）の内の一つに一致し；ラジカルＺは、７炭素上に配置される２つのメチルラジカルによって置換される化合物によって構成される。
【００１７】
発明の一層有利な実施では、ラジカルＺは、５又は１炭素を経て鎖の残りに結合されかつ７炭素上に２つのメチル置換基を所有する、ｄ）又はｅ）式に一致する。
【００１８】
好ましくは、Ｒ¹、Ｒ²は、同一であっても又は同一でなくてもよく、水素又はメチルラジカルを表わす。Ｒ¹、Ｒ²は、水素を表わすのが好ましい。
【００１９】
上に示した通りに、Ｒ³及びＲ⁴は、同一でも又は異なってもよく、水素又は線状、枝分れもしくは環状、飽和もしくは不飽和のＣ₁〜Ｃ₂₂炭化水素ラジカルを表わし、但し、Ｒ³又はＲ⁴ラジカルの内の少なくとも１つは、水素以外のものである。
【００２０】
一層詳細には、該ラジカルは、水素又はＣ₁〜Ｃ₆アルキルラジカル、好ましくはメチルラジカル又はエチルラジカルを表わし、但し、これらの２つラジカルの内の少なくとも１つは、水素以外のものである。ラジカルの内の一方は水素を表わし、他方はメチルラジカルを表わすのが好ましい。
【００２１】
Ｒ⁵は、水素、置換されてもよい線状、枝分れもしくは環状、飽和もしくは不飽和の、芳香族もしくは非芳香族Ｃ₁〜Ｃ₂₂炭化水素ラジカル、又は下記から選ぶ基を表わす：−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＰＯ₃（Ｍ）₂、−（ＣＨ₂）_r−ＣＯＯＭ、−（ＣＨ₂）_z−ＳＯ₃Ｍ（式中：
Ｍは、水素、アルカリ金属又はアンモニウム機能Ｎ（Ｒ）₄ ⁺を表わし、ここで、Ｒは、同一であっても又は同一でなくてもよく、水素又は線状、枝分れもしくは環状、飽和もしくは不飽和のＣ₁〜Ｃ₂₂炭化水素ラジカルを表わし、該ラジカルは、ヒドロキシル化されてもよく；
ｒは、１〜６の範囲であり；
ｚは、１〜６の範囲である。
【００２２】
Ｒ⁵が炭化水素ラジカルである時は、Ｒ⁵は、一層特にＣ₁〜Ｃ₆アルキルラジカル又はアルキルフェニルラジカルであり、該ラジカルは、随意にハロゲン（例えば、塩素）で置換される。
Ｒ⁵は、水素原子であるのが好ましい。
【００２３】
最後に、ｎは、３〜５（３及び５を含む）の範囲の整数又は分数であり、ｐは、６〜１０（境界を除く）の範囲の整数又は分数である。
【００２４】
発明の第一の特定の実施では、ｎの値は、３である。
更に、ｐの値は、一層特に６．２〜７（境界を含む）の範囲である。ｐは、６．３〜７（境界を含む）の範囲であるのが好ましい。
【００２５】
発明の第二の特定の実施では、ｎは、４〜５（境界を含む）の範囲である。
更に、ｐの値は、好ましくは７（７を含む）〜１０（１０を除く）の範囲であり、８（８を含む）〜１０（１０を除く）の範囲であるのが好ましい。
【００２６】
第二のタイプの化合物は、（Ｉ）式において、Ｘが−Ｏ−ＣＨ（Ｒ^{’ 1}）−ＣＨ（Ｒ^{’ 2}）−Ｏ−を表わすことによって定義される。
【００２７】
これより、この化合物を、本明細書以降（Ｉｂ）と呼び、この化合物は下記式に一致する：
Ｚ−Ｏ−ＣＨ（Ｒ^{’ 1}）−ＣＨ（Ｒ^{’ 2}）−Ｏ−［ＣＨ（Ｒ³）−ＣＨ（Ｒ⁴）−Ｏ］_n−［ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｏ］_p−Ｒ⁵
式中：Ｚ、Ｒ^{’ 1}、Ｒ^{’ 2}、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、ｎ及びｐは、上に挙げた意味を有する。
【００２８】
発明の一つの好適な実施では、ラジカルＺは、二重結合を含有しない二環式化合物であるラジカルｃ）に一致する。
【００２９】
ここで再び、ラジカルＺは、一層特に炭素原子１〜６の内の一つを経て鎖の残りに結合され；炭素原子１、３、４又は６が好適であることに留意すべきである。
【００３０】
更に、ラジカルＺは、その炭素原子の内の少なくとも１つの上で２つのＣ₁〜Ｃ₆アルキルラジカル、好ましくは２つのメチルラジカルによって置換されることができる。
【００３１】
一層特に、７炭素が、これらの２つのアルキルラジカル、一層詳細には２つのメチルラジカルによって置換される。
【００３２】
更に、ラジカルＺの炭素原子２又は５が、Ｃ₁〜Ｃ₆置換基、好ましくはメチルラジカルを所有する。
【００３３】
一層特にかつ前述した通りに、Ｒ^{’ 1}及びＲ^{’ 2}ラジカルは、同一であっても又は異なってもよく、水素又は線状、枝分れもしくは環状、飽和もしくは不飽和のＣ₁〜Ｃ₂₂炭化水素ラジカルを表わし、但し、２つの１つは、水素以外のものである。
【００３４】
発明の特定の実施では、該ラジカルは、水素又はＣ₁〜Ｃ₆アルキルラジカル、好ましくはメチルラジカルを表わす。
【００３５】
Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵ラジカル、ｎ及びｐの値並びにこれらの値に関する好適な変更に関して前述したことは、またこの場合にも当てはまり、繰り返さないことにする。
【００３６】
発明の特に有利な実施の一つは、上記したタイプの化合物（Ｉａ）を使用することによって構成される。
【００３７】
発明の化合物は、
化合物（Ｉａ）を得るには、（ＩＩａ）式を有する反応体：
【化３】

又は化合物（Ｉｂ）を得るには、（ＩＩｂ）式を有する反応体：
【化４】

を、第一に、（ＩＩＩｏｐ）式を有する反応体と：
【化５】

次いで、第二に、（ＩＩＩｏｅ）式を有する反応体と：
【化６】

反応させることによって調製することができ、ここで、Ｚ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴については、上に定義している。
【００３８】
反応は、触媒の存在において実施することができる。
【００３９】
挙げることができる適した触媒は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属水酸化物或はＮ（Ｒ）₄ ⁺タイプ（ここで、Ｒは、同一であっても又は同一でなくてもよく、水素又はＣ₁〜Ｃ₆アルキルラジカル、好ましくはメチル又はエチルを表わす）の第四アンモニウム水酸化物のような強塩基である。ナトリウム、カリウム及びテトラメチルアンモニウム水酸化物が、この反応を実施するために適している。
【００４０】
また、ナトリウムもしくはカリウムメチレート、エチレート又はテリオ（ｔｅｒｉｏ）ブチレートのようなアルカリ金属又はアルカリ土類金属アルコキシドから選ぶ触媒を使用することも可能である。また、第一、第二又は第三アミンを触媒として使用することも可能であり、好ましくは脂肪族アミンを触媒として使用することも可能であり、そのようなアミンは、エーテル機能のような他の機能を含む可能性があることに留意すべきである。挙げることができるこのタイプの触媒の例は、Ｎ，Ｎ−ジメチルラウリルアミンである。
【００４１】
塩基性触媒の場合には、その量は、一層特に最終生成物重量に対して０．５〜４０ｍｇの範囲である。
【００４２】
この反応をＢＦ₃（ガス状又はエーテルに溶解した状態）、ＳｎＣｌ₄、又はＳｂＣｌ₅のようなルイス酸の存在において実施することが可能である。
【００４３】
一層特に、酸触媒の量は、反応体（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）１モル当たり０．１〜１０ｍモルの範囲である。
【００４４】
接触を、反応が起きる程の温度で実施する。指標として、温度は、１００℃よりも高く、一層特に１２０°〜２５０℃の範囲であり、１５０°〜２００℃の範囲であるのが好ましい。
【００４５】
反応は、窒素、或はアルゴン、又は一酸化炭素のような希ガスのような反応条件下で不活性な雰囲気で実施するのが有利である。窒素が好適である。
【００４６】
反応は、大気圧で、減圧下で又はわずかな過圧下で実施することができる。圧力は、１〜４バールの範囲である普通である。
【００４７】
反応体（ＩＩａ）及び（ＩＩｂ）の調製については、ＷＯ−Ａ−９６／０１２４５に記載されており、これを参照すべきである。
【００４８】
化合物（ＩＩＩｏｐ）及び（ＩＩＩｏｅ）の量は、（Ｉ）式の特性、一層特にｎ及びｐの所望の値の関数として計算する。これらの２つの化合物を引き続き導入して（Ｉ）式を有するブロック化合物を得る。
【００４９】
反応の終わりに、反応混合物を中和してｐＨ５〜８、好ましくは６〜７の範囲を得るのが好ましい。
【００５０】
中和は、反応において使用する触媒の性質に応じて、酢酸、水酸化物、ナトリウムカーボネートもしくはバイカーボネートを使用して実施する。
【００５１】
この反応の終わりに、化合物（Ｉ）は、Ｒ⁵ラジカルが水素であるようなものである。
【００５２】
該ラジカルの官能化工程、すなわち末端水素を上に定義した通りの別のＲ⁵ラジカルに転換しようと意図する工程を実施することが可能である。エーテル化又はエステル化作業を末端水素に関して実施することができ；この工程は、それ自体良く知られており；この工程は、中和した後に実施するのが好ましい。
【００５３】
下記を調製することができる：
英国特許ＧＢ−Ａ−１ １１１ ２０８又は米国特許ＵＳ−Ａ−３ ３９２ １８５に記載されている通りのエーテルスルフェート（Ｒ⁵＝−ＳＯ₃Ｍ）；
ＵＳ−Ａ−３ ３３１ ８９６に記載されている通りのエーテルホスフェート（Ｒ⁵＝−ＯＰＯ₃（Ｍ）₂）；
ＵＳ−Ａ−２ ６２３ ９００又はＵＳ−Ａ−２ ９８３ ７３８に記載されている通りのエーテルカルボキシレート（Ｒ⁵＝−（ＣＨ₂）−ＣＯＯＭ）；
ＵＳ−Ａ−２ １１５ １９２、ＵＳ−Ａ−４ ９７８ ７８０又はＫ．ＳＵＧＡ，Ａｕｓｔｒ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．，２１，２３３３（１９６８）に記載されている通りのエーテルスルホネート（Ｒ⁵＝−（ＣＨ₂）₂−ＳＯ₃Ｍ）；
ＵＳ−Ａ−２ ９１３ ４１６に記載されている通りのアルキルエーテル（Ｒ⁵＝炭化水素ラジカル）。
【００５４】
官能化モードに関するそれ以上の詳細については、ＷＯ−Ａ−９６／０１２４５に記載されている。
【００５５】
発明の化合物は、これより硬質表面、一層特に金属表面用脱脂剤として使用される。
【００５６】
発明の化合物は、金属処理産業において、かつまたそのような表面を脱脂する任意の用途、例えば油井又は産油プラットホームを脱脂する用途において使用することができる。
【００５７】
上に示した通りに、発明に従って採用する化合物は、使用する時に、０．０１〜１０ｇ／ｌの範囲の量で使用する。
【００５８】
一層特に、金属板又はシートを脱脂する時には、化合物濃度は、使用する間０．０１〜５ｇ／ｌの範囲である。
【００５９】
産油場、一層特にプラットホーム脱脂では、化合物の濃度は、発明に従って使用する化合物を使用する時に、０．０１〜１０ｇ／ｌの範囲である。
【００６０】
一層特に、井戸洗浄に関しては、発明の化合物を、好ましくは０．０１〜５ｇ／ｌの範囲の濃度で使用する。
【００６１】
発明の化合物を含有する水性脱脂用又は洗浄剤媒体を、少なくともそれらの曇り点程度の温度で使用するのが好ましい。
【００６２】
アルカリ媒体中の金属板又はシート用脱脂用配合物は、発明の化合物に加えて、下記の化合物の内の少なくとも一種を含むアルカリ液を含む：
水酸化物、カーボネート、セスキカーボネート、或はアルカリ金属又はアルカリ土類金属バイカーボネートのような少なくとも一種のｐＨ調整剤；
アルカリ金属、アルカリ土類金属、Ｎ（Ｒ）₄ ⁺タイプアンモニウム（ここで、Ｒは、水素、随意に酸素原子を含有することができるＣ₁〜Ｃ₄アルキルラジカルを表わす）のトリポリホスフェート、ピロホスフェート、オルトホスフェート又はヘキサメタホスフェートのような少なくとも一種のポリホスフェート；
無水の又はその反対のアルカリ金属メタシリケートのような少なくとも一種のアルカリ金属シリケート、或はそれらの混合物。
【００６３】
使用する間のアルカリ液の濃度は、１〜１００ｇ／ｌの範囲、一層特に５〜２０ｇ／ｌの範囲である。
【００６４】
配合物は、また、下記を含むことができる：
ベンゼンスルホネート、モノ−もしくはジ−アルキル（Ｃ₁〜Ｃ₄）ベンゼンスルホネート、トルエン−、キシレン−、もしくはクメン−スルホネート、アルコール又はグリコールのような少なくとも一種のヒドロトロピー性（ｈｙｄｒｏｔｒｏｐｉｃ）電解質；
ニトリロ酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、エチレンジアミンテトラメチルホスホン酸、ニトリロメチレンホスホン酸又はこれらの塩のような少なくとも一種の金属イオン封鎖剤；
アルカノールアミン、エチレンジアミンのような緩衝剤；
金属腐食抑制剤。
【００６５】
これらの化合物の濃度は、この分野についての通常の範囲内に在ることができる。しかし、例示として、化合物の各々の量は、使用する時に、０〜１．５ｇ／ｌである。
【００６６】
油プラットホームを脱脂するのに使用する水性組成物は、発明の化合物に加えて、下記を含むことができる：
ベンゼンスルホネート、モノ−もしくはジ−アルキル（Ｃ₁〜Ｃ₄）ベンゼンスルホネート、トルエン−、キシレン−、もしくはクメン−スルホネート、アルコール及びグリコールのような少なくとも一種のヒドロトロピー性電解質；
アルカリ金属カーボネート、セスキカーボネートもしくはバイカーボネートのような少なくとも一種のｐＨ調整剤；
酵素、金属腐食抑制剤のような添加剤。
【００６７】
ここで再び、これらの化合物の濃度は、その分野についての通常の範囲内である。しかし、化合物の各々についての具体的な濃度は、使用する時に、０〜１．５ｇ／ｌである。
【００６８】
油井を清浄にするのに使用する水性媒体は、発明の化合物に加えて、下記を含むことができる：
アルカリ金属カーボネート、セスキカーボネートもしくはバイカーボネート、又はアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属水酸化物のような少なくとも一種のｐＨ調整剤；
全水性組成物重量の５％までの量の酵素、又は金属腐食抑制剤のような添加剤；
必要ならば、井戸内に満足すべき静水圧を保つための増量（ｗｅｉｇｈｔｉｎｇ）剤。
挙げることができるそのような化合物の例は、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属ハロゲン化物のような可溶性の又は少なくとも一部可溶性の塩である。また、アルカリもしくはアルカリ土類金属スルフェート、カーボネート、バイカーボネート、シリケート、もしくはホスフェートを単独で又は混合物として使用することも可能である。また、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属ホルメート又はアセテートのような有機酸塩を使用することも可能である。アルカリ土類金属スルフェート、シリケートもしくはカーボネート；又はアルカリ土類金属もしくは亜鉛ブロミドのような不溶性塩を使用することが可能であるが、好適とは言えない；
ポリガラクトマンナン、セルロース、デンプン及びそれらの誘導体のような植物源の多糖；或はキサンタンガム又は脱アセチル化誘導体のような細菌源の多糖のようなヒドロコロイド。
【００６９】
発明の範囲は、界面活性剤（アニオン系、カチオン系、双生イオン系、両性系）、好ましくは低発泡性界面活性剤及びその他の添加剤を上記した配合物に加えることを包含するが、好適とは言えない。
【００７０】
今、発明を例示する例を挙げることにするが、例は、制限するものではない。
【００７１】
例１
本例は、異なる数のオキシプロピレン（ＯＰ）単位及びオキシエチレン（ＯＥ）単位を含有する６，６−ジメチルビシクロ［３．１．１］ヘプタ−２−エン−２−エタノールの合成に関する。
【００７２】
オキシプロピレン（ＯＰ）単位ｘ及びオキシエチレン（ＯＥ）単位ｙを含む６，６−ジメチルビシクロ［３．１．１］ヘプタ−２−エン−２−エタノールを下記の通りにして合成した：
使用した６，６−ジメチルビシクロ［３．１．１］ヘプタ−２−エン−２−エタノール（ノポール）は、Ｆｌｕｋａによって販売されている。
【００７３】
ノポール（６モル）及び水酸化カリウム水溶液（５０％、３．１ｇ）を５リットルエトキシル化反応装置の中に導入した。
【００７４】
反応媒体を窒素の流れ中で１２０℃で脱水した。
【００７５】
次いで、それを加熱して１７０℃にし、プロピレンオキシド（ｘモル当量）を導入した。一旦プロピレンオキシドを導入したら、エチレンオキシドを加えた（ｙモル当量）。
【００７６】
次いで、反応媒体を冷却し、酢酸を加えることによって中和してｐＨ７にした。得られた液体を吸収性クレー（Ｃｌａｒｃｅｌ ＤＩＣ）を通してろ過した。
【００７７】
上記の方法を用いて合成した化合物の表：
【表１】

【００７８】
例２
本例は、発明の化合物１及び３、比較化合物１０、１１及び１２、並びに脱泡されたＩｇｅｐａｌ ＮＰ１０を用いて得られた化合物の脱脂特性を比較する。
【００７９】
グリースを塗る
予備脱脂された“Ｑ−Ｐａｎｅｌ”Ｓｔｏｃｋ ｎ⁰ Ｒ−３６タイプ“Ｄｕｌｌ ｍａｔｔ ｆｉｎｉｓｈ”０．８×７６×１５２ｍｍスチール板を、Ｑｕａｋｅｒ ＣｈｅｍｉｃａｌｓによりＱＵＡＫＥＲ ６１３０Ｎとして販売されている、自動車用スチールシートを圧延するために配合された全潤滑油中に２分間浸漬し、次いで２４時間懸濁して排水した。
【００８０】
洗浄及びすすぎ
グリースを塗った板をＣＩＥＭＭＥ ＬＡＲＯ ３５０脱脂用スプレー機の中に導入した。脱脂温度は４５℃であり、圧力は２バールであった。
【００８１】
脱脂品質を記録する前に、板の各々の面を２ｍｌ／分で流れる水の流れ中で５秒間すすいだ。
【００８２】
脱脂用媒体
等しい量の水酸化カリウム、ナトリウムメタシリケート（ＳＩＭＥＴ ＧＡ５、Ｒｈｏｄｉａ Ｃｈｍｉｅにより販売されている無水のメタシリケート及び５水和メタシリケートの顆粒）及びピロ燐酸４カリウムによって構成される活性物質４５重量％を含有する水性液２０ｇ／ｌを希釈しかつテスト化合物１ｇ／ｌを加えることによって、塩基性脱脂用媒体（ｐＨ１２〜１３）を調製した。
【００８３】
結果を下記の表に示す：
【表２】

【００８４】
発明の生成物が、比較用に用いた剤のいずれよりも一層活性であるのは明らかである。
【００８５】
例３
本例は、発明の化合物４〜７及び非脱泡のＩｇｅｐａｌ ＮＰ１０を用いて得られた化合物の脱脂特性を比較する。
【００８６】
グリースを塗る
Ｐｅｎｎｚｏｉｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ Ｃｏｍｐａｎｙ（テキサス、ヒューストン）により販売されている商品名Ｐｅｎｎｚｏｉｌ ８０Ｗ−９０を有する油を予備脱脂された０．８×２４×１０１ｍｍスチール板に、はけを使用して塗布して油コーティング約０．０１５ｇ／ｃｍ²を得た。それらを、次いで空気中で２４時間貯蔵した。
【００８７】
油の品質を、板を、油を塗布する前と後とで秤量することによって測定した。
【００８８】
洗浄及びすすぎ
板を１リットルの脱脂用媒体中に５０℃で磁気攪拌（１００ｒｐｍ）しながら１０分間浸漬した。
【００８９】
脱脂品質を読む前に、板の各々の面を２ｍｌ／分で流れる水の流れ中で５秒間すすぎ、次いで８０℃で乾燥させた。
【００９０】
作業の効能を、板を脱脂用媒体で処理する前と後とで秤量することによって計算した。
【００９１】
脱脂用媒体
ピロ燐酸４カリウム１．５ｇ／ｌを含有する水性液２０ｇ／ｌを希釈しかつテスト化合物１ｇ／ｌを加えることによって、塩基性脱脂用媒体（ｐＨ１２〜１３）を調製した。
【００９２】
結果を下記の表に示す：
【表３】

【００９３】
発明の生成物が、比較用に用いた剤よりも一層活性であるのは明らかである。
【００９４】
例４
本例は、例１〜９で得られた化合物の発泡特性を、比較化合物、すなわち脱泡されたＩｇｅｐａｌ及びＩｇｅｐａｌ単独で得られた発泡特性と比較する。
【００９５】
泡テスト：
等しい量の水酸化カリウム、ナトリウムメタシリケート（ＳＩＭＥＴ ＧＡ５、Ｒｈｏｄｉａ Ｃｈｍｉｅにより販売されている無水のメタシリケート及び５水和メタシリケートの顆粒）及びピロ燐酸４カリウムによって構成される活性物質４５重量％を含有する水性液２０ｇ／ｌを希釈しかつテスト化合物１ｇ／ｌを加えることによって、塩基性脱脂用媒体（ｐＨ１２〜１３）を調製した。
【００９６】
テストを５０℃で実施した。
【００９７】
ターボミキサー（４０ｍｍタービン、速度２０００ｒｐｍ）を使用して溶液９００ｇを５分間攪拌することによって、泡が得られた。
【００９８】
サンプルについて、５分間静置させた後に、泡レベルを記録した。
【００９９】
結果を下記の表に示す：
【表４】

【０１００】
上記の表は、先の例からの脱脂結果と組み合わさって、発明の化合物だけが、金属板を脱脂する際の使用に適合する高い脱脂力及び発泡レベルの二重の基準を満足することを示す。

Claims (17)

1. 下記式（Ｉ）：
   Ｚ−Ｘ−［ＣＨ（Ｒ³）−ＣＨ（Ｒ⁴）−Ｏ］_n−［ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｏ］_p−Ｒ⁵
   （式中：
   Ｚは、ビシクロ［ａ，ｂ，ｃ］ヘプテニル又はビシクロ［ａ，ｂ，ｃ］ヘプチルラジカルを表わし、ここで、
   ａ＋ｂ＋ｃ＝５
   ａ＝２、３又は４；
   ｂ＝２又は１；
   ｃ＝０又は１；
   該ラジカルは、随意に少なくとも１つのＣ₁〜Ｃ₆アルキルラジカルで置換されかつ下記：
   

   

   に示す主鎖、又は二重結合の無い対応する主鎖から選ぶものを含み；
   Ｘは、−ＣＨ₂−Ｃ（Ｒ¹）（Ｒ²）−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＨ（Ｒ^'1）−ＣＨ（Ｒ^'2）−Ｏ−を表わし、ここで、
   Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ^'1及びＲ^'2は、同一であっても又は異なってもよく、水素又は線状、枝分れもしくは環状、飽和もしくは不飽和のＣ₁〜Ｃ₂₂炭化水素ラジカルを表わし；
   Ｒ³及びＲ⁴は、同一であっても又は異なってもよく、水素又は線状、枝分れもしくは環状、飽和もしくは不飽和のＣ₁〜Ｃ₂₂炭化水素ラジカルを表わし、但し、Ｒ³又はＲ⁴ラジカルの内の少なくとも１つは、水素以外のものであり；
   Ｒ⁵は、水素、置換されてもよい線状、枝分れもしくは環状、飽和もしくは不飽和の、芳香族もしくは非芳香族Ｃ₁〜Ｃ₂₂炭化水素ラジカル、又は下記から選ぶ基を表わし；
   −ＳＯ₃Ｍ
   −ＯＰＯ₃（Ｍ）₂
   −（ＣＨ₂）_r−ＣＯＯＭ
   −（ＣＨ₂）_z−ＳＯ₃Ｍ
   （式中：
   Ｍは、水素、アルカリ金属又はアンモニウム機能Ｎ（Ｒ）₄ ⁺を表わし、ここで、Ｒは、同一であっても又は同一でなくてもよく、水素又は線状、枝分れもしくは環状、飽和もしくは不飽和のＣ₁〜Ｃ₂₂炭化水素ラジカルを表わし、該ラジカルは、ヒドロキシル化されてもよく；
   ｒは、１〜６の範囲であり；
   ｚは、１〜６の範囲である）；
   ｎは、３〜５（３及び５を含む）の範囲の整数又は分数であり；
   ｐは、６〜１０（境界を除く）の範囲の整数又は分数である）
   を有する少なくとも一種の化合物を濃度０．０１〜１０ｇ／ｌの範囲で含む、金属表面のような硬質表面を脱脂し／清浄にするための薬剤。
2. Ｒ ¹ 、Ｒ ² 、Ｒ ' ¹ 及びＲ ' ² が、同一であっても又は異なってもよく、水素又は線状、枝分れもしくは環状、飽和もしくは不飽和のＣ ₁ 〜Ｃ ₆ 炭化水素ラジカルを表わす請求項１記載の薬剤。
3. 化合物が、（Ｉ）式において、ｎが３に等しいことを特徴とする請求項１記載の薬剤。
4. 化合物が、（Ｉ）式において、ｐが６．２〜７（境界を含む）の範囲であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一に記載の薬剤。
5. （Ｉ）式において、ｐが６．３〜７（境界を含む）の範囲である請求項４記載の薬剤。
6. 化合物が、（Ｉ）式において、ｎが４〜５の範囲であることを特徴とする請求項１記載の薬剤。
7. 化合物が、（Ｉ）式において、ｐが７（７を含む）〜１０（１０を除く）の範囲であることを特徴とする請求項１又は６記載の薬剤。
8. （Ｉ）式において、ｐが８（８を含む）〜１０（１０を除く）の範囲である請求項７記載の薬剤。
9. 化合物が、（Ｉ）式において、ラジカルＺがその炭素原子の内の少なくとも１つの上で２つのＣ₁〜Ｃ₆アルキルラジカルで置換されることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一に記載の薬剤。
10. 化合物が、（Ｉ）式において、Ｘが−ＣＨ₂−Ｃ（Ｒ¹）（Ｒ²）−Ｏ−を表わしかつ主鎖Ｚをｃ）〜ｇ）式から選ぶことを特徴とする請求項１〜９のいずれか一に記載の薬剤。
11. 化合物が、（Ｉ）式において、主鎖Ｚをｄ）及びｅ）式から選ぶことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一に記載の薬剤。
12. 化合物が、（Ｉ）式において、Ｘが−Ｏ−ＣＨ（Ｒ^'1）−ＣＨ（Ｒ^'2）−Ｏ−を表わし、かつラジカルＺが主鎖ｃ）に相当し、二環式主鎖に二重結合が存在しないことを特徴とする請求項１〜７のいずれか一に記載の薬剤。
13. 化合物が、（Ｉ）式において、ラジカルＺが二環の炭素２又は炭素５の上でＣ₁〜Ｃ₆アルキルラジカルで置換されることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか一に記載の薬剤。
14. （Ｉ）式において、ラジカルＺが二環の炭素２又は炭素５の上でメチルラジカルで置換される請求項１３に記載の薬剤。
15. 金属板を脱脂し／清浄にするための薬剤であって、化合物の濃度が０．０１〜５ｇ／ｌの範囲であることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか一に記載の薬剤。
16. プラットホームを脱脂し／清浄にするための薬剤であって、化合物の濃度が０．０１〜１０ｇ／ｌの範囲であることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか一に記載の薬剤。
17. 産油井戸を脱脂し／清浄にするための薬剤であって、化合物の濃度が０．０１〜５ｇ／ｌの範囲であることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか一に記載の薬剤。