JPS6026493B2 - ポリエーテルカーボネート - Google Patents
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はポリェーテルカーボネート系界面活性物質ノ製
造方法に関する。
造方法に関する。
一般に、ポリェーテルカーポネートの製造については、
ジェチレングリコール等ポリェーテルをホスゲンで炭酸
ェステル化すれば、ポリェーテルカーボネート鎖が合成
できるはずであるが、有毒なホスゲンを使用するため工
業的価値はなく、またポリマー鎖の末端に炭化水素残基
を結合させることは極めて難しいので、界面活性物質製
造方法としては価値がない。
ジェチレングリコール等ポリェーテルをホスゲンで炭酸
ェステル化すれば、ポリェーテルカーボネート鎖が合成
できるはずであるが、有毒なホスゲンを使用するため工
業的価値はなく、またポリマー鎖の末端に炭化水素残基
を結合させることは極めて難しいので、界面活性物質製
造方法としては価値がない。
一方、五員環カーボネートと、アルコールフェノールな
どの活性水素を有する化合物とを、塩酸または酸を触媒
として加熱反応させると、脱炭酸反応してヒドロキシェ
ーテル化あるし、はポ利エーテルが生成されることは良
く知られている。
どの活性水素を有する化合物とを、塩酸または酸を触媒
として加熱反応させると、脱炭酸反応してヒドロキシェ
ーテル化あるし、はポ利エーテルが生成されることは良
く知られている。
ところで、本発明者は、炭酸エチレンの荷電中性鍔体〔
例(C4比)2Sn(OCは)2〕あるいはアート錆体
〔例皿aSn(OCは)5〕による重合が、従釆の炭酸
エチレンの重合で脱炭酸反応が著しく、ポリェーテルを
与えるにすぎないのに、脱炭酸反応が著しく抑制され、
ポリェーテルカーボネートfCOOC2日40C2日4
0ナnが生成されることを明らかにした。
例(C4比)2Sn(OCは)2〕あるいはアート錆体
〔例皿aSn(OCは)5〕による重合が、従釆の炭酸
エチレンの重合で脱炭酸反応が著しく、ポリェーテルを
与えるにすぎないのに、脱炭酸反応が著しく抑制され、
ポリェーテルカーボネートfCOOC2日40C2日4
0ナnが生成されることを明らかにした。
しかしながら、このような重合は著しく遅く、かつ末端
に炭化水素残基を有しないため、界面活性は示さなかっ
た。
に炭化水素残基を有しないため、界面活性は示さなかっ
た。
本発明は、上述の緒点に鑑みて、新規のポリェーテルカ
−ボネート系界面活性物質を効率よく製造する方法を提
供することを目的とする。
−ボネート系界面活性物質を効率よく製造する方法を提
供することを目的とする。
このため本発明のポリェーテルカーポネート系界面活性
物質の製造方法は、炭素数4以上の炭化水素残基を有す
る活性水素化合物と、五員環状炭酸ェステルとを、〔M
「〔M′(OR)2LK〕‐1で示される2個以上のア
ルコキシ基(ここで、Mはアルカリ金属イオン;M′は
Zn,B,AI,Q,SnあるいはP;ROはアルコキ
シ基:Lはアルコキシ基あるいはヒドリド基,炭化水素
残基,ハロゲン基,アミノ基またはオキソ基より選ばれ
た1種または1種以上の配位子;1あるいは2;kは1
,2,3あるいは4。
物質の製造方法は、炭素数4以上の炭化水素残基を有す
る活性水素化合物と、五員環状炭酸ェステルとを、〔M
「〔M′(OR)2LK〕‐1で示される2個以上のア
ルコキシ基(ここで、Mはアルカリ金属イオン;M′は
Zn,B,AI,Q,SnあるいはP;ROはアルコキ
シ基:Lはアルコキシ基あるいはヒドリド基,炭化水素
残基,ハロゲン基,アミノ基またはオキソ基より選ばれ
た1種または1種以上の配位子;1あるいは2;kは1
,2,3あるいは4。
)」基を有する周期律表第0,mあるいはN族金属のア
ート鎧体を触媒としてテロメル化重合させることを特徴
としている。上述の本発明の方法によれば、重合反応が
容易に進行し、しかもその収率は極めてよく、その上、
末端に炭化水素残基を有する新規のポリェ−テルカーボ
ネート系界面活性物質が製造されるのである。「ところ
で、本発明の製造方法により製造されるポリェーテルカ
ーボネート系界面活性物質は、比較的低重合度のもので
ある。」本発明の製造方法は次の一般式で代表的に示さ
上式において、RXH〔1〕は炭素数4以上の炭化水素
残基を有する活性水素化合物を示し、その例として、1
一,2一,イソーブタノール,ベンタノール,ヘキサノ
ール,オクタノール,ドデカノール等、直鎖または分枝
の最鎖または脂環式モノアルコールおよび1,2−オク
タンジオール,1,5−デカンジオール等多価アルコー
ル,ブトキシェタノール,ジオクチル酒石酸,4−フエ
ノキシブタノール,力ルバモイルオキシエタノール等特
性基を有するアルコール,カプロン酸,ラゥリン酸,2
ーメチルオクタン酸,オレィン酸、アルキル安息香酸,
メチルシクロヘキサンカルボン酸,アゼラィン酸等,飽
和または不飽和のモノおよびポリカルボン酸,フェノー
ル,ブチルフエノール,メチルナフトール等のフェノー
ル類,ブチルアミン,直鎖またはシクロヘキシルアミン
,1−メチルヘプチルアミン,ドデシルアミン,Nーブ
チルアニリン,トルイルN−メチルアミン等,第1ある
いは第2級の飽和または不飽和アミン等がある。
ート鎧体を触媒としてテロメル化重合させることを特徴
としている。上述の本発明の方法によれば、重合反応が
容易に進行し、しかもその収率は極めてよく、その上、
末端に炭化水素残基を有する新規のポリェ−テルカーボ
ネート系界面活性物質が製造されるのである。「ところ
で、本発明の製造方法により製造されるポリェーテルカ
ーボネート系界面活性物質は、比較的低重合度のもので
ある。」本発明の製造方法は次の一般式で代表的に示さ
上式において、RXH〔1〕は炭素数4以上の炭化水素
残基を有する活性水素化合物を示し、その例として、1
一,2一,イソーブタノール,ベンタノール,ヘキサノ
ール,オクタノール,ドデカノール等、直鎖または分枝
の最鎖または脂環式モノアルコールおよび1,2−オク
タンジオール,1,5−デカンジオール等多価アルコー
ル,ブトキシェタノール,ジオクチル酒石酸,4−フエ
ノキシブタノール,力ルバモイルオキシエタノール等特
性基を有するアルコール,カプロン酸,ラゥリン酸,2
ーメチルオクタン酸,オレィン酸、アルキル安息香酸,
メチルシクロヘキサンカルボン酸,アゼラィン酸等,飽
和または不飽和のモノおよびポリカルボン酸,フェノー
ル,ブチルフエノール,メチルナフトール等のフェノー
ル類,ブチルアミン,直鎖またはシクロヘキシルアミン
,1−メチルヘプチルアミン,ドデシルアミン,Nーブ
チルアニリン,トルイルN−メチルアミン等,第1ある
いは第2級の飽和または不飽和アミン等がある。
また、R,,R2,R3,R4は水素原子またはメチル
基であるが、五員環状炭酸ェステル〔2〕の代表的な例
は炭酸エチレン,炭酸1,2ープロピレン等である。
基であるが、五員環状炭酸ェステル〔2〕の代表的な例
は炭酸エチレン,炭酸1,2ープロピレン等である。
上式においてiおよびiは1以上であるが、通常1〜1
0で、特にi=1,j=1が代表的である。
0で、特にi=1,j=1が代表的である。
nは生成物〔3〕に要求される性質により任意に選ぶこ
とができるが、通常は2以上である。
とができるが、通常は2以上である。
もっとも通常の用途には5〜3ぴ音モルが好ましく、n
があまり大きくても小さくても水溶性界面活性等のバラ
ンスが悪くなるので好ましくない。しかし、本発明の最
も重要な点は、活性水素化合物の共存下「M「〔M(O
R)2LK〕‐1で示されるアルコキシ基(ここで、M
はアルカリ金属イオン;M′はZn,B,N,CC,S
nあるいはPb;ROはアルコキシ基;Lはアルコキシ
基あるいはヒドリド基,炭化水素残基,ハロゲン基,ア
ミノ基またはオキソ基より選ばれた1種または1種以上
の配位子:夕は1あるいは2:kは1,2,3あるいは
4。)」2個以上を有する周期律表第ロ,皿あるいはW
族金属のアート錯体を触媒として、五員環カーボネート
をテロメル化することであり、そのアート触媒(Me)
の例としては、NaB((OCH3)4,KB(OC2
日5)4,NaB(OC4日9)4,NaBPh(OC
H3)3,NaA1(OCH3)4,NaGe(OCH
3)5,NaS肥り(OCH3)3,NaSn(OC2
公)5,LIPb(OC3日7)5等が使用されるが、
M旧(OR)4およびMSn(OR)5,M2Sn(O
R)6(Mはアルカリ金属,Rは脂肪族炭化水素残基)
0が特に重合速度および生成物の性能上良い。なお、反
応系でこれらの触媒を生ずるものなら良く、たとえば、
LiAIH4あるいはNaB日4とアルコール;SnC
12,またはSnC14とNaOR;B(OC瓜)3と
NaOCH3,BもSnOC3日7あるいはBu2Sn
(OMe)2とNaOC星,Sに14あるいはAIC1
3にジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシドトア
ルカリ塩基との組合せ触媒も、反応系で本発明のアート
鍔体を生ずれ条件では、使用できる。また生成物の構造
〔3〕は代表的構造式にすぎず、実際のテロメル化生成
物の構造は使用した活性水素化合物〔1〕の構造等によ
り変化するのは勿論である。本発明の方法において、テ
ロメル化重合の時の水分共存は、脱炭酸がおこりやすい
ので好ましくなく、乾燥雰囲気下で行なうのが好ましく
、通常N2,Ar,日2,C02,あるいは炭酸エチレ
ン等の雰囲気下でテロメル化反応する。
があまり大きくても小さくても水溶性界面活性等のバラ
ンスが悪くなるので好ましくない。しかし、本発明の最
も重要な点は、活性水素化合物の共存下「M「〔M(O
R)2LK〕‐1で示されるアルコキシ基(ここで、M
はアルカリ金属イオン;M′はZn,B,N,CC,S
nあるいはPb;ROはアルコキシ基;Lはアルコキシ
基あるいはヒドリド基,炭化水素残基,ハロゲン基,ア
ミノ基またはオキソ基より選ばれた1種または1種以上
の配位子:夕は1あるいは2:kは1,2,3あるいは
4。)」2個以上を有する周期律表第ロ,皿あるいはW
族金属のアート錯体を触媒として、五員環カーボネート
をテロメル化することであり、そのアート触媒(Me)
の例としては、NaB((OCH3)4,KB(OC2
日5)4,NaB(OC4日9)4,NaBPh(OC
H3)3,NaA1(OCH3)4,NaGe(OCH
3)5,NaS肥り(OCH3)3,NaSn(OC2
公)5,LIPb(OC3日7)5等が使用されるが、
M旧(OR)4およびMSn(OR)5,M2Sn(O
R)6(Mはアルカリ金属,Rは脂肪族炭化水素残基)
0が特に重合速度および生成物の性能上良い。なお、反
応系でこれらの触媒を生ずるものなら良く、たとえば、
LiAIH4あるいはNaB日4とアルコール;SnC
12,またはSnC14とNaOR;B(OC瓜)3と
NaOCH3,BもSnOC3日7あるいはBu2Sn
(OMe)2とNaOC星,Sに14あるいはAIC1
3にジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシドトア
ルカリ塩基との組合せ触媒も、反応系で本発明のアート
鍔体を生ずれ条件では、使用できる。また生成物の構造
〔3〕は代表的構造式にすぎず、実際のテロメル化生成
物の構造は使用した活性水素化合物〔1〕の構造等によ
り変化するのは勿論である。本発明の方法において、テ
ロメル化重合の時の水分共存は、脱炭酸がおこりやすい
ので好ましくなく、乾燥雰囲気下で行なうのが好ましく
、通常N2,Ar,日2,C02,あるいは炭酸エチレ
ン等の雰囲気下でテロメル化反応する。
なお、C02あるいは炭酸エチレン共存下の反応はこれ
らが重合体中に一部取りこまれる可能性があるが、何ら
本発明の効果に影響を与えるものではない。
らが重合体中に一部取りこまれる可能性があるが、何ら
本発明の効果に影響を与えるものではない。
また重合は通常常圧で行なわれるが、加圧しても何ら本
質的変化はない。
質的変化はない。
重合温度は60〜20ぴ0で行なわれるが、6び0以下
では重合が遅すぎ、200℃以上では脱炭化反応が厳し
く、目的生成物を与えない。
では重合が遅すぎ、200℃以上では脱炭化反応が厳し
く、目的生成物を与えない。
したがって100〜15000が本発明には最も適して
いる。
いる。
またテロメル化重合は通常無溶媒で行なわれるが、不活
性溶媒共存下で行なっても良い。
性溶媒共存下で行なっても良い。
重合生成物はそのまま界面活性物質として使用されるが
、必要に応じて未反応物を減圧蟹去、あるいは溶剤抽出
等で除去して使用してもよい。本発明の方法により得ら
れたポリェーテルカーボネート系界面活性物質は新規な
ものであり、従来の製品と直薮比較することはできない
が、本発明の効果は極めて広い。
、必要に応じて未反応物を減圧蟹去、あるいは溶剤抽出
等で除去して使用してもよい。本発明の方法により得ら
れたポリェーテルカーボネート系界面活性物質は新規な
ものであり、従来の製品と直薮比較することはできない
が、本発明の効果は極めて広い。
例えば従来のポリェーテル系非イオン界面活性剤および
その誘導体はポリオキシェチレン構造(C2HO)nを
持ち、この構造が生分解性も悪く、水質汚濁等、環境問
題の一因となっている上、この構造は毒性のある危倶も
ある。
その誘導体はポリオキシェチレン構造(C2HO)nを
持ち、この構造が生分解性も悪く、水質汚濁等、環境問
題の一因となっている上、この構造は毒性のある危倶も
ある。
これに対し、本発明の方法により得られる界面活性剤は
、ポリェーテルカーボネート構造(OC2日40COO
C2比)nを代表構造とし、一部C2比○構造とC2日
40COOC2日○構造とのランダム共重合体構造を含
まれているが、長いポリオキシェチレン構造を持たない
ため、界面活性物質として使用後、容易に加水分解して
、界面活性を失ない無毒なジェチレングリコールを主と
して生じ、環境問題改善の一助となる。
、ポリェーテルカーボネート構造(OC2日40COO
C2比)nを代表構造とし、一部C2比○構造とC2日
40COOC2日○構造とのランダム共重合体構造を含
まれているが、長いポリオキシェチレン構造を持たない
ため、界面活性物質として使用後、容易に加水分解して
、界面活性を失ない無毒なジェチレングリコールを主と
して生じ、環境問題改善の一助となる。
さらに本発明に用いられる主原料の炭酸エチレンは二酸
化炭素とオキシラン(酸化エチレン)より既存技術で容
易に合成できる。
化炭素とオキシラン(酸化エチレン)より既存技術で容
易に合成できる。
したがって本発明により得られた界面活性物質が工学的
に利用できれば、人類最終の炭素源であり、かつ今のと
ころ有害最終廃棄物である二酸化炭素を有効利用するも
のである。なお、エチレンカーボネート系重合体を二酸
化炭素とオキシランとの共重合で作ることは良く知られ
ているが、この重合は水不溶性の高分子量重合体を生成
するほか、触媒として使用されるジェチル亜鉛等が界面
活性物質を作るとき使用するアルコール等活性水素化合
物と反応して失宿するので、本発明の主旨に合わない。
に利用できれば、人類最終の炭素源であり、かつ今のと
ころ有害最終廃棄物である二酸化炭素を有効利用するも
のである。なお、エチレンカーボネート系重合体を二酸
化炭素とオキシランとの共重合で作ることは良く知られ
ているが、この重合は水不溶性の高分子量重合体を生成
するほか、触媒として使用されるジェチル亜鉛等が界面
活性物質を作るとき使用するアルコール等活性水素化合
物と反応して失宿するので、本発明の主旨に合わない。
その上、従釆の石油からの工業製品が炭素および水素よ
り主として組成されているのに対し、本発明により得ら
れたポリェーテルカーボネート頭は含酸素率50%近く
となり、その部分燃焼熱も4・さく、新しい合成原料の
指針を与えるものである。さらに注目すべき効果は、従
来の非イオン界面活性剤は安定で、生分解性も悪く、一
且使用すると界面活性を失わず、産業廃水の汚濁の原因
となる場合が多いのに対し、本発明のものはpH9(石
鹸のHZ)で容易に加水分解し、界面活性を失うので、
機械油などの組成物に添加して使用後、加水分解して界
面活性を失わしめ、解乳化させて機械油を分離して廃水
汚濁を防ぐなど、広い工業的応用が期待される。
り主として組成されているのに対し、本発明により得ら
れたポリェーテルカーボネート頭は含酸素率50%近く
となり、その部分燃焼熱も4・さく、新しい合成原料の
指針を与えるものである。さらに注目すべき効果は、従
来の非イオン界面活性剤は安定で、生分解性も悪く、一
且使用すると界面活性を失わず、産業廃水の汚濁の原因
となる場合が多いのに対し、本発明のものはpH9(石
鹸のHZ)で容易に加水分解し、界面活性を失うので、
機械油などの組成物に添加して使用後、加水分解して界
面活性を失わしめ、解乳化させて機械油を分離して廃水
汚濁を防ぐなど、広い工業的応用が期待される。
本発明により得られる製品は、従来のポリオキシェチレ
ンまたはプロピレン系非イオン界面活性剤と同様、広く
非イオン界面活性剤としてそれ自身使用できるほか、他
の活性剤製造の原料あるいは組成物としても利用できる
。
ンまたはプロピレン系非イオン界面活性剤と同様、広く
非イオン界面活性剤としてそれ自身使用できるほか、他
の活性剤製造の原料あるいは組成物としても利用できる
。
本発明により得られる製品そのものが用いられる例をあ
げれば、乳化剤、可溶化剤、分散剤、洗浄剤として単独
あるいは組成物として利用できる。つぎに、本発明の実
施例につき説明するが、これらの実施例は本発明の代表
例を示すものにすぎない。
げれば、乳化剤、可溶化剤、分散剤、洗浄剤として単独
あるいは組成物として利用できる。つぎに、本発明の実
施例につき説明するが、これらの実施例は本発明の代表
例を示すものにすぎない。
実施例 1
ガラス製フラスコに、かきまぜ装置、窒素導入管および
排気管付コンデンサーを付けて、内部を乾燥窒素で置換
する。
排気管付コンデンサーを付けて、内部を乾燥窒素で置換
する。
これにnーオクタノール1(重量)部と、それに対しI
N音モルの炭酸エチレンを加え、さらに3モル%のナト
リウムベンタメトキシスタネートを触媒として加え、1
50℃で5時間反応させた。反応中、使用した炭酸エチ
レンの約50%モルに相当するC02ガスが発生した。
N音モルの炭酸エチレンを加え、さらに3モル%のナト
リウムベンタメトキシスタネートを触媒として加え、1
50℃で5時間反応させた。反応中、使用した炭酸エチ
レンの約50%モルに相当するC02ガスが発生した。
そしてC8日,70(COOC2日40CH2CQO)
mHは(mは平均で5)で示される化合物(粉)を定量
的に得た。
mHは(mは平均で5)で示される化合物(粉)を定量
的に得た。
この化合物(鱗)は赤外吸収スペクトルで1745弧‐
1にカルボニルの吸収を示し、1250伽‐1にエーテ
ルの吸収を示した。
1にカルボニルの吸収を示し、1250伽‐1にエーテ
ルの吸収を示した。
また、そのH−NMRスペクトルは0.90餌皿‘こメ
チル基,1.3脚‘こオクチル基のメチレン基、また3
.61pHにCH20基の、および4.23pHにCH
20C○【Bーの二種の三重線の吸収を示した。
チル基,1.3脚‘こオクチル基のメチレン基、また3
.61pHにCH20基の、および4.23pHにCH
20C○【Bーの二種の三重線の吸収を示した。
さらに化合物(筑)をシリカゲル坦体力ラムージクロロ
メタン展開液で吸着液体クロマト分離しても、未反応の
オクタ/ールは単離してこず、これにより使用したオク
タノールは重合体末端に結合していることが確立された
。
メタン展開液で吸着液体クロマト分離しても、未反応の
オクタ/ールは単離してこず、これにより使用したオク
タノールは重合体末端に結合していることが確立された
。
また、ピリジンー無水酢酸法で、末端水酸基価を測定し
た‐ところ上記化合物(粉)の分子量に使用する値とな
った。
た‐ところ上記化合物(粉)の分子量に使用する値とな
った。
なお、CH20基風およびC比OCO‘B’の面積より
、式の化合物の炭酸ェステル構造とエーテル構造(脱炭
酸ェステル構造)との比10m/(i+i)(以下「C
Q固定率」といい、この値は理想的なi=j=1のとき
に50である。)は49%であった。そこで、上記化合
物($)を希アルカリで加熱加水分解後、酸で中和し、
エーテル抽出すると、化合物(粉)の加水分解として予
想されるジェチレングリコールの80%に相当するジェ
チレングリコールを単離同定した。
、式の化合物の炭酸ェステル構造とエーテル構造(脱炭
酸ェステル構造)との比10m/(i+i)(以下「C
Q固定率」といい、この値は理想的なi=j=1のとき
に50である。)は49%であった。そこで、上記化合
物($)を希アルカリで加熱加水分解後、酸で中和し、
エーテル抽出すると、化合物(粉)の加水分解として予
想されるジェチレングリコールの80%に相当するジェ
チレングリコールを単離同定した。
さらに触媒を荷電中性なテトラヱトキシスタナンSn(
OC2日5)4とすると、150q0,2畑時間反応し
ても、68%しか反応せず、CQ%も45%と低下した
ので、触媒としては、NaSn(OC2日5)5の方が
よいことがわかった。
OC2日5)4とすると、150q0,2畑時間反応し
ても、68%しか反応せず、CQ%も45%と低下した
ので、触媒としては、NaSn(OC2日5)5の方が
よいことがわかった。
これらよりこの生成分が上記化合物($)であることが
実証された。次に、これらの希薄水溶液を作り、不溶物
を除いて調整した化合物(3)の水溶液(濃度0.2重
量%)は表面張力(40マ0)4W叩/仇を示した。
実証された。次に、これらの希薄水溶液を作り、不溶物
を除いて調整した化合物(3)の水溶液(濃度0.2重
量%)は表面張力(40マ0)4W叩/仇を示した。
濃度を変え、濃度・表面張力カーブを求め、これより見
掛の臨界ミセル濃度を求めたところ約0.1%であった
。なお、上記実施例でオクタノール等活性水素化合物を
共存させないと、150q02q時間反応させても、ポ
リマー収率は70%以下と反応速度が遅く、且つ、生成
ポリマーも界面活性館を示さなかった。
掛の臨界ミセル濃度を求めたところ約0.1%であった
。なお、上記実施例でオクタノール等活性水素化合物を
共存させないと、150q02q時間反応させても、ポ
リマー収率は70%以下と反応速度が遅く、且つ、生成
ポリマーも界面活性館を示さなかった。
0実施例 2
実施例1においてオクタノールの代わりにn−ブタノー
ルあるいはnードデカノールを用いると、前記一般式中
の構造〔3〕(RはC44あるいはC,2日25)に相
当するポリヱーテルカーボネートタ系テロマー「(平均
分子量は780および860であり、共にmは平均5で
あった)」が得られた。
ルあるいはnードデカノールを用いると、前記一般式中
の構造〔3〕(RはC44あるいはC,2日25)に相
当するポリヱーテルカーボネートタ系テロマー「(平均
分子量は780および860であり、共にmは平均5で
あった)」が得られた。
なお、0.3%水溶液の40qoの表面張力はそれぞれ
40および4紅yn/肌であった。実施例 3 0 実施例1において、使用する炭酸エチレンを5およ
び2“音モルにした場合生成したテロマ−の分子量はそ
れぞれm=2.5および10に相当したが、表面張力は
いずれも45±がyn/仇であった。
40および4紅yn/肌であった。実施例 3 0 実施例1において、使用する炭酸エチレンを5およ
び2“音モルにした場合生成したテロマ−の分子量はそ
れぞれm=2.5および10に相当したが、表面張力は
いずれも45±がyn/仇であった。
なお触媒NaSn(OCH3)5の使用量を3,4ある
いは10%と変えても、テロマ−収率は変わらなかった
。なお重合は10ぴ01畑時間反応では、10%以下し
か進まず、200℃2時間の重合では、C03%が15
%と低かった。実施例 4 実施例1において、重合装置をオートクレープとし、触
媒をZnC12とNaOCH3とを混合して得たNaZ
n(OCは)3とし、雰囲気を酸化エチレン5k9/肌
加圧下で行なうと、「平均分子量は790(m=5)で
、また、C03%は」34%であった。
いは10%と変えても、テロマ−収率は変わらなかった
。なお重合は10ぴ01畑時間反応では、10%以下し
か進まず、200℃2時間の重合では、C03%が15
%と低かった。実施例 4 実施例1において、重合装置をオートクレープとし、触
媒をZnC12とNaOCH3とを混合して得たNaZ
n(OCは)3とし、雰囲気を酸化エチレン5k9/肌
加圧下で行なうと、「平均分子量は790(m=5)で
、また、C03%は」34%であった。
このことは前記一般式中の〔3〕でi=1,j=2で代
表的に示される構造であることを示す。なおこのものの
0.2%水溶液の表面張力は3幻yn/肌であつた。実
施例 5 実施例1において用いる活性水素化合物を、オクチルア
ミンおよびオクタン酸に変えると、相当するテロマーを
ほぼ定量的に得た。
表的に示される構造であることを示す。なおこのものの
0.2%水溶液の表面張力は3幻yn/肌であつた。実
施例 5 実施例1において用いる活性水素化合物を、オクチルア
ミンおよびオクタン酸に変えると、相当するテロマーを
ほぼ定量的に得た。
なお平均分子量はそれぞれ820および750で、mは
平均5であった。またその0.3%における表面張力は
31および37dyn/肌であった。実施例 6 用いる触媒を水素化ホウ素ナトリウム(重合中アルコー
ルと反応してNaB(OR)4型アート触媒となる。
平均5であった。またその0.3%における表面張力は
31および37dyn/肌であった。実施例 6 用いる触媒を水素化ホウ素ナトリウム(重合中アルコー
ルと反応してNaB(OR)4型アート触媒となる。
)、トリメチルホウ酸とナトリウムメトキシドとの当量
混合物(両者よりNaB(OCH)4を生成する。)、
塩化アルミと4倍モルのナトリウムメトキシド,塩化第
1スズまたは第2スズと過剰のナトリウムイソプロポキ
シドとのく1:5)混合物,トリブチルスズモノメトキ
シドとカリウムメトキシドとの当量混合物(k(C4日
9)2Sn(OCH3)2を生成する。),ジブチルス
ズピスジヱチルアミドと当量のリチウムメトキシド,あ
るいはシプチルスズオキシドと2倍モルのナトリウムェ
トキシドとを加熱してアート触媒とし、この触媒3%を
用いてオクタノールと1ぴ音モル量の炭酸エチレンとを
150qoで1の時間加熱すると、相当するポリェーテ
ルカーボネートを、それぞれ水素化ホウ素ナトリウムの
場合は98%,トリメチルホウ酸とナトリウムメトキシ
ドとの当量混合物の場合は85%,塩化アルミと4倍モ
ルのナトリウムメトキシドの場合は筋%,塩化第1スズ
または第2スズと過剰のナトリウムィソプロポキシドと
の混合物の場合は75または斑%,トリブチルスズモノ
メトキシドとカリウムメトキシドとの当量混合物の場合
は92%,ジブチルスズビスジェチルアミドと当量のリ
チウムメトキシドの場合は92%あるいはジブチルスズ
オキシドと2倍モルのナトリウムェトキシドとの場合は
86%得た。なお、生成テロマーのmはいずれも約5で
あり、また、その水溶液は4のyn/伽以下の表面張力
を示した。実施例 7 C4は0(C2日40)2日で示されるアルコールに炭
酸1,2ープロピレン4倍モルを加え、ナトリウムテト
ラメトキシボレート触媒あるいはジメチルゲルミルジク
ロリトと3倍モルのナトリウムメトキシドの組合せ触媒
3モル%を加え、15ぴ010時間加熱し、「ポリェ−
テルカーボネートテロマー班%(平均分子量480)お
よび75%(平均分子量520)を得た。
混合物(両者よりNaB(OCH)4を生成する。)、
塩化アルミと4倍モルのナトリウムメトキシド,塩化第
1スズまたは第2スズと過剰のナトリウムイソプロポキ
シドとのく1:5)混合物,トリブチルスズモノメトキ
シドとカリウムメトキシドとの当量混合物(k(C4日
9)2Sn(OCH3)2を生成する。),ジブチルス
ズピスジヱチルアミドと当量のリチウムメトキシド,あ
るいはシプチルスズオキシドと2倍モルのナトリウムェ
トキシドとを加熱してアート触媒とし、この触媒3%を
用いてオクタノールと1ぴ音モル量の炭酸エチレンとを
150qoで1の時間加熱すると、相当するポリェーテ
ルカーボネートを、それぞれ水素化ホウ素ナトリウムの
場合は98%,トリメチルホウ酸とナトリウムメトキシ
ドとの当量混合物の場合は85%,塩化アルミと4倍モ
ルのナトリウムメトキシドの場合は筋%,塩化第1スズ
または第2スズと過剰のナトリウムィソプロポキシドと
の混合物の場合は75または斑%,トリブチルスズモノ
メトキシドとカリウムメトキシドとの当量混合物の場合
は92%,ジブチルスズビスジェチルアミドと当量のリ
チウムメトキシドの場合は92%あるいはジブチルスズ
オキシドと2倍モルのナトリウムェトキシドとの場合は
86%得た。なお、生成テロマーのmはいずれも約5で
あり、また、その水溶液は4のyn/伽以下の表面張力
を示した。実施例 7 C4は0(C2日40)2日で示されるアルコールに炭
酸1,2ープロピレン4倍モルを加え、ナトリウムテト
ラメトキシボレート触媒あるいはジメチルゲルミルジク
ロリトと3倍モルのナトリウムメトキシドの組合せ触媒
3モル%を加え、15ぴ010時間加熱し、「ポリェ−
テルカーボネートテロマー班%(平均分子量480)お
よび75%(平均分子量520)を得た。
生成物の0.5%水溶液の表面張力は4Myn/仇以下
であった。実施例 8 オクタン酸のシュガーェステル1部,ジメチルホルムア
ミド1礎部および炭酸エチレン3部を混合し、ナトリウ
ムテトラメトキシポレート4モル%を加え14ぴ05時
間加熱するとポリェーテルテロマー87%を得た。
であった。実施例 8 オクタン酸のシュガーェステル1部,ジメチルホルムア
ミド1礎部および炭酸エチレン3部を混合し、ナトリウ
ムテトラメトキシポレート4モル%を加え14ぴ05時
間加熱するとポリェーテルテロマー87%を得た。
このものの0.1%水溶液の表面張力は茂めyn/功で
あった。実施例 9 ブタノールに酸化エチレン5モルを常法で付加して得た
平均組成C4日9(OC2日4)50日のアルコ−ルに
、4倍モルの炭酸ィソブチレン(炭酸1ーメチル−1,
3ープロピレン)を加え、ナトリウムテトラメトキシボ
レート2モル%を触媒として155℃8時間重合すると
、相当するボリェーテルカーボネートテロマーを90%
収率で得た。
あった。実施例 9 ブタノールに酸化エチレン5モルを常法で付加して得た
平均組成C4日9(OC2日4)50日のアルコ−ルに
、4倍モルの炭酸ィソブチレン(炭酸1ーメチル−1,
3ープロピレン)を加え、ナトリウムテトラメトキシボ
レート2モル%を触媒として155℃8時間重合すると
、相当するボリェーテルカーボネートテロマーを90%
収率で得た。
このものの0.1%水溶液の表面張力は37dyn/伽
であった。実施例 10 ドデカノールに対し5倍モルの炭酸エチレンを加え、ナ
トリウムテトラメトキシスタネート3%を触媒とし、ア
ルゴン下140℃2独時間加熱後、0.1脚Hgの減圧
で未反応炭酸エチレンを回収し、相当するポリェーテル
カーボネートテロマー86%(平均分子量530)を得
た。
であった。実施例 10 ドデカノールに対し5倍モルの炭酸エチレンを加え、ナ
トリウムテトラメトキシスタネート3%を触媒とし、ア
ルゴン下140℃2独時間加熱後、0.1脚Hgの減圧
で未反応炭酸エチレンを回収し、相当するポリェーテル
カーボネートテロマー86%(平均分子量530)を得
た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 炭素数4以上の炭化水素残基を有する活性水素化合
物と、五員環状炭酸エステルとを、次式で示される2個
以上のアルコキシ基を有する周期律表第II,IIIあるい
はIV族金属のアート錯体を触媒としてテロメル化重合さ
せることを特徴とする、ポリエーテルカーボネート系界
面活性物質の製造方法。 M^+_1〔M′(OR)_2L_K〕^−^1ここで
、Mはアルカリ金属イオン;M′はZn,B,Al,G
e,SnあるいはPb;ROはアルコキシ基;Lはアル
コキシ基あるいはヒドリド基,炭化水素残基,ハロゲン
基,アミノ基またはオキソ基より選ばれた1種または1
種以上の配位子;1は1あるいは2;kは1,2,3あ
るいは4。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP55008930A JPS6026493B2 (ja) | 1980-01-29 | 1980-01-29 | ポリエーテルカーボネート |
US06/191,411 US4382014A (en) | 1980-01-29 | 1980-09-29 | Process for producing a polyether carbonate surface active material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP55008930A JPS6026493B2 (ja) | 1980-01-29 | 1980-01-29 | ポリエーテルカーボネート |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS56106919A JPS56106919A (en) | 1981-08-25 |
JPS6026493B2 true JPS6026493B2 (ja) | 1985-06-24 |
Family
ID=11706371
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP55008930A Expired JPS6026493B2 (ja) | 1980-01-29 | 1980-01-29 | ポリエーテルカーボネート |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4382014A (ja) |
JP (1) | JPS6026493B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60186599A (ja) * | 1984-03-05 | 1985-09-24 | 新日本理化株式会社 | 新規洗浄剤組成物 |
US4895970A (en) * | 1986-07-14 | 1990-01-23 | The Dow Chemical Company | Poly(alkylene carbonate) monoahls and polyahls useful as surfactants |
US5015753A (en) * | 1986-07-14 | 1991-05-14 | The Dow Chemical Company | Process for preparing poly(alkylene carbonate) monoahls and polyahls useful as surfactants |
US4745162A (en) * | 1986-09-22 | 1988-05-17 | The Dow Chemical Company | Poly(alkylene carbonate) polyahls having on the average up to one acid-terminal moiety and salts thereof |
US4879357A (en) * | 1986-10-02 | 1989-11-07 | The Dow Chemical Company | Novel poly(alkylene carbonate) polyahls having more than one pendant acid group |
US4956424A (en) * | 1986-10-02 | 1990-09-11 | The Dow Chemical Company | Novel poly (alkylene carbonate) polyahls having more than one pendant acid group |
WO1989007976A1 (en) * | 1988-02-24 | 1989-09-08 | The Dow Chemical Company | Poly(alkylene carbonate) polyahls having on the average up to one acid-terminal moiety and salts thereof |
WO1990014153A1 (en) * | 1989-05-17 | 1990-11-29 | The Dow Chemical Company | Poly(alkylene carbonate) polyahls having more than one pendant acid group |
JP2651643B2 (ja) * | 1992-08-28 | 1997-09-10 | 花王株式会社 | 洗浄剤組成物 |
EP0667366B1 (en) * | 1994-02-10 | 2002-06-26 | Teijin Limited | Process for the production of aromatic polycarbonate |
GB202115335D0 (en) * | 2021-10-25 | 2021-12-08 | Econic Tech Ltd | Surface-active agent |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3865542A (en) * | 1968-11-29 | 1975-02-11 | Oreal | Hair dyeing compositions containing polyhydroxylated polyether nonionic surfactants |
US3459731A (en) * | 1966-12-16 | 1969-08-05 | Corn Products Co | Cyclodextrin polyethers and their production |
US3546321A (en) * | 1967-02-08 | 1970-12-08 | Hercules Inc | Polyether graft copolymers |
CH584246A5 (ja) * | 1973-02-14 | 1977-01-31 | Ciba Geigy Ag |
-
1980
- 1980-01-29 JP JP55008930A patent/JPS6026493B2/ja not_active Expired
- 1980-09-29 US US06/191,411 patent/US4382014A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS56106919A (en) | 1981-08-25 |
US4382014A (en) | 1983-05-03 |
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