JP3966886B2 - 脱塩素化触媒の再生方法 - Google Patents
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1)有機塩素化合物を、アルカリ物質および水素供与体の存在下で分解処理するために用いられる脱塩素化触媒の再生処理方法であって、前記触媒が金属を担体に担持させた触媒であり、活性低下した前記触媒を有機溶剤および水で洗浄し、さらに有機溶剤および水を用いて100〜250℃で抽出処理した後、還元処理することを特徴とする脱塩素化触媒の再生方法、
2)有機溶剤による洗浄を行った後に、水による洗浄を行う請求項1に記載の脱塩素化触媒の再生方法、
3)前記洗浄用の有機溶剤および水を、それぞれ触媒に対して、5/1〜100/1(wt/wt)の比率で使用する前記1)又は2)に記載の脱塩素化触媒の再生方法、
4)前記還元処理を10〜700℃で行う前記1)〜3)のいずれかに記載の脱塩素化触媒の再生方法、
5)前記還元剤が、水素、窒素水素化物、アルミニウム水素化物、ホウ素水素化物、次亜リン酸塩、亜硫酸塩、チオ硫酸塩、亜鉛末又はスズである前記1)〜4)のいずれかに記載の脱塩素化触媒の再生方法、
6)前記分解処理が、絶縁油中の有機塩素化合物の分解処理である前記1)〜5)のいずれかに記載の脱塩素化触媒の再生方法、
7)前記有機塩素化合物が、PCB類又はダイオキシン類である前記1)〜6)のいずれかに記載の脱塩素化触媒の再生方法。
1種2号絶縁油100mlに、PCB(主成分:4塩化ビフェニール)を添加し、5ppmのPCB含有試験油を調製した。これに、水素供与体としてイソプロピルアルコール20ml及びアルカリ物質としてKOH0.6gを添加した。カラムに、新品のPd/C触媒(パラジウムを5%担持した0.425〜1.7mmの活性炭、小島化学製)24gを充填し、四国計測工業(株)製の簡易型マイクロ波反応装置(温度制御タイプZMW−024型)によりマイクロ波を照射しながら温度を60℃に維持し、毎分10mlの速度で試験油を流通させながら、8時間反応させた。反応後のPCB濃度を、DB5MSをキャピラリーカラムとする島津製作所製GC−MS(QP5050A)で分析した。その結果、PCB濃度は1.6ppmであった。
分解試験を繰り返し、分解率が半減したPd/C触媒600gを採取し、アセトン約600gで洗浄した後、水約2.4kgで洗浄した。洗浄後、風乾した。この触媒60gを採り、2.25Lのアセトンを添加して200℃で4時間抽出処理した後、2.25Lの亜臨界水を添加して200℃で4時間加圧抽出を行った後、触媒を回収、乾燥した。この触媒50gを採り、水素/窒素(1/10(vol))混合ガスを、毎分1100mlの流量で供給し、300℃で4時間還元処理した。
分解試験を繰り返し、分解率が半減したPd/C触媒600gを採取し、アセトン約600gで洗浄した後、水約2.4kgで洗浄した。洗浄後、風乾した。この触媒60gを採り、2.25Lのアセトンを添加して200℃で4時間抽出処理した後、2.25Lの亜臨界水を添加して200℃で4時間加圧抽出を行った後、触媒を回収、乾燥した。この触媒4gを採り、低温灰化(10分×2)した後、1.5mlのヒドラジンに25℃で30分間浸漬し、還元処理した。
分解試験を繰り返し、分解率が半減したPd/C触媒を、再生処理せずに使用して、上記と同様の方法で分解試験を実施した。反応後のPCB濃度をGC−MSで分析した。その結果を表1に示した。
Claims (7)
- 有機塩素化合物を、アルカリ物質および水素供与体の存在下で分解処理するために用いられる脱塩素化触媒の再生処理方法であって、前記触媒が金属を担体に担持させた触媒であり、活性低下した前記触媒を有機溶剤および水で洗浄し、さらに有機溶剤および水を用いて100〜250℃で抽出処理した後、還元処理することを特徴とする脱塩素化触媒の再生方法。
- 有機溶剤による洗浄を行った後に、水による洗浄を行う請求項1に記載の脱塩素化触媒の再生方法。
- 前記洗浄用の有機溶剤および水を、それぞれ触媒に対して、5/1〜100/1(wt/wt)の比率で使用する請求項1又は2に記載の脱塩素化触媒の再生方法。
- 前記還元処理を10〜700℃で行う請求項1〜3のいずれかに記載の脱塩素化触媒の再生方法。
- 前記還元剤が、水素、窒素水素化物、アルミニウム水素化物、ホウ素水素化物、次亜リン酸塩、亜硫酸塩、チオ硫酸塩、亜鉛末又はスズである請求項1〜4のいずれかに記載の脱塩素化触媒の再生方法。
- 前記分解処理が、絶縁油中の有機塩素化合物の分解処理である請求項1〜5のいずれかに記載の脱塩素化触媒の再生方法。
- 前記有機塩素化合物が、PCB類又はダイオキシン類である請求項1〜6のいずれかに記載の脱塩素化触媒の再生方法。
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