JP4329498B2 - 柱上変圧器中pcbの脱塩素化方法 - Google Patents
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Description
モノクロロビフェニール 若干
ジクロロビフェニール 12.10%
トリクロロビフェニール 54.98%
テトラクロロビフェニール 27.05%
ペンタクロロビフェニール 4.72%
ヘキサクロロビフェニール 1.08%
ヘプタクロロビフェニール 若干
オクタクロロビフェニール 0
ノナクロロビフェニール 0
デカクロロビフェニール 0
PCB含有の絶縁油模擬油として、和光純薬製特級試薬のクメン100mlにKC−400(4塩化ビフェニール、鐘淵化学(株)製)を混ぜてPCB10ppmの溶液としたものを三角フラスコに用意した。そこに、アルカリ物質として、日本曹達製KOHフレーク(95%)を乳鉢ですりつぶして0.5gを、有機系水素供与体として和光純薬製イソプロピルアルコール20mlを、無機系触媒としてパラジウムを5wt%担持した80−100メッシュの活性炭(Pd/C:和光純薬製)0.2gを添加し、東京理化機械製の振とう機(EYELA3010型)で100rpmで24時間振とうさせた。実験は常温(約25℃)で実施した。評価結果を表1に示す。
モノクロロビフェニール 0.01%
ジクロロビフェニール 0.48%
トリクロロビフェニール 17.47%
テトラクロロビフェニール 51.43%
ペンタクロロビフェニール 27.92%
ヘキサクロロビフェニール 2.55%
ヘプタクロロビフェニール 0.14%
オクタクロロビフェニール 0%
ノナクロロビフェニール 0%
デカクロロビフェニール 0%
反応前後の溶液をDB1(J&Wサイエンティフィック製)をキャピラリーカラムとする(株)島津製作所製のガスクロマトグラフィー質量分析計QP5050(以下、「GC−MS」)にかけ、PCBのピーク面積の変化から脱塩素化(分解率)を確認した。同時に分解生成物であるビフェニールの量も計測した。絶縁油そのものを用いるときには、Sep−Pak前処理を施してからGC−MSにかけた。
○:良好(分解率90%以上)、×:不良(分解率90%未満)
KC−400を10ppm含有する絶縁油7種4号100mlを三角フラスコに用意した。そこに、アルカリ物質として、日本曹達製KOHフレーク(95%)を乳鉢ですりつぶして0.5gを、有機系水素供与体として和光純薬製イソプロピルアルコール20mlを、無機系触媒としてパラジウムを5wt%担持した80−100メッシュの活性炭(Pd/C:和光純薬製)0.2gを添加し、常温(約25℃)にて、東京理化機械製の振とう機(EYELA3010型)で100rpmで4日間振とうさせた後、16日間静置した。
KC−400を2ppm含有する絶縁油7種4号100mlを三角フラスコに用意した。そこに、アルカリ物質として、日本曹達製KOHフレーク(95%)を乳鉢ですりつぶして0.5gを、有機系水素供与体として和光純薬製イソプロピルアルコール20mlを、無機系触媒としてパラジウムを5wt%担持した80−100メッシュの活性炭(Pd/C:和光純薬製)0.2〜0.4gを添加し、東京理化機械製の振とう機(EYELA3010型)で100rpmで4日間振とうさせた後、16日間静置した。なお、実験は常温(約25℃〜40℃)で実施した。
KC−400を2ppm含有する絶縁油7種4号100mlに、実施例4と同様のアルカリ物質0.5g、有機系水素供与体20ml及び無機系触媒0.4gを添加し、常温(約25℃)にて、スターラーを用いて200rpmで4日間強攪拌した後、16日間静置した。
KC−400を2ppm含有する絶縁油7種4号100mlに、実施例3と同様のアルカリ物質0.5g、有機系水素供与体20ml及び無機系触媒0.2gを添加し、更に、水30mgを添加した。これを、常温(約25℃)にて、東京理化機械製の振とう機(EYELA3010型)で100rpmで4日間振とうさせた後、16日間静置した。
KC−400を2ppm含有する絶縁油7種4号100mlを三角フラスコに用意した。そこに、アルカリ物質として、日本曹達製KOHフレーク(95%)を乳鉢ですりつぶして0.5gを、有機系水素供与体として和光純薬製イソプロピルアルコール20mlを、無機系触媒としてパラジウムを5wt%担持した80−100メッシュの活性炭(Pd/C:和光純薬製)0.2gを添加し、更にトルエン18.75mlを添加した。これを、常温(約25℃)にて、東京理化機械製の振とう機(EYELA3010型)で100rpmで3日間振とうさせた。その後、上記の無機系触媒(Pd/C)0.2gを追添加して攪拌した後、17日間静置した。
KC−400を2ppm含有する絶縁油7種4号100mlを三角フラスコに用意した。そこに、アルカリ物質として、日本曹達製KOHフレーク(95%)を乳鉢ですりつぶして0.5gを、有機系水素供与体として和光純薬製イソプロピルアルコール20mlを、無機系触媒としてパラジウムを5wt%担持した80−100メッシュの活性炭(Pd/C:和光純薬製)0.2gを添加し、更に、水30mgとトルエン18.75mlを添加した。これを、常温(約25℃)にて、東京理化機械製の振とう機(EYELA3010型)で100rpmで3日間振とうさせた。その後、上記の無機系触媒(Pd/C)0.2gを追添加して攪拌した後、17日間静置した。
Claims (6)
- ポリ塩化ビフェニールを微量含有する柱上変圧器内の絶縁油に水素供与体、アルカリ化合物及び無機系触媒を、これらの合計添加量が前記絶縁油量の5〜30wt%で、かつ、柱上変圧器上部の隙間に収容可能な量添加し、該変圧器内にて絶縁油を常温(非加熱)で撹拌した後、放置する事により脱塩素化することを特徴とするポリ塩化ビフェニールの脱塩素化方法。
- 前記撹拌方法は、柱上変圧器容器の振とう又は内部の攪拌による方法であることを特徴とする請求項1に記載のポリ塩化ビフェニールの脱塩素化方法。
- 前記水素供与体が、複素環式化合物、アミン系化合物、アルコール系化合物、ケトン系化合物及び脂環式化合物からなる群から選ばれた少なくとも一つの化合物であることを特徴とする請求項1または2に記載のポリ塩化ビフェニールの脱塩素化方法。
- 前記アルカリ化合物が、苛性ソーダ、苛性カリ、ナトリウムアルコキシド、カリウムアルコキシド及び水酸化カルシウムからなる群から選ばれた少なくとも一つの化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のポリ塩化ビフェニールの脱塩素化方法。
- 前記無機系触媒が、炭素結晶化合物及び金属担持炭素化合物からなる群から選ばれた少なくとも一つの化合物であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のポリ塩化ビフェニールの脱塩素化方法。
- さらに、芳香族炭化水素を添加することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のポリ塩化ビフェニールの脱塩素化方法。
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