JP3961739B2 - 転がり軸受 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、真空中やクリーン環境および貧潤滑状態等で使用される転がり軸受に関する。
【０００２】
【従来の技術】
軸受を真空中やクリーン環境および貧潤滑状態等で使用する場合、潤滑方法が問題となる。
【０００３】
従来、真空中やクリーン環境では潤滑のため、Ａｇ,ＭoＳ2,およびＰＴＦＥ(ポリテトラフルオロエチレン)などの固体潤滑剤が使用される。また、貧潤滑下では、耐摩耗性および耐焼付き性の向上のため、ＣｒＮ,ＴｉＮ等の硬質膜が用いられることが多かった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、固体潤滑剤を用いる場合には、固体潤滑剤自身の摩耗が大きく、硬質膜を用いる場合には、潤滑性に問題があるために寿命が短くなるケースが多かった。
【０００５】
この問題を解決するためには、低摩擦(潤滑性あり)で耐摩耗性および耐焼付き性に優れるＤＬＣ(ダイヤモンドライクカーボン)膜を金属上に形成する手法が有効であるが、転がり軸受に使用するには、従来の成膜方法では、基板−膜間の密着性が低いため、早期に剥離するという問題があった。
【０００６】
そこで、この発明の目的は、軌道面に形成されたＤＬＣ膜の密着性が高く、早期剥離が起こらない転がり軸受を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項１の発明の転がり軸受は、内,外輪、転動体および保持器を有し、この内,外輪、転動体および保持器のうちの少なくともいずれかの転がり接触する軌道部にダイヤモンドライクカーボン膜が形成された転がり軸受において、
上記ダイヤモンドライクカーボン膜が、硬質非晶質炭素−水素−珪素膜で、珪素含有量が３０ａｔ％以下であり、
上記ダイヤモンドライクカーボン膜が、上記軌道部上に形成した厚さ３０μｍ以上の窒化層上に形成されており、
上記窒化層が、１０〜１００ｎｍの高さで平均幅３００ｎｍ以下の凹凸を有していて、
上記窒化層の凹凸がイオン衝撃処理によって形成されていることを特徴としている。
【０００８】
この発明では、潤滑性,耐摩耗性,耐焼付き性に優れたダイヤモンドライクカーボン膜(ＤＬＣ膜)を、硬質非晶質炭素−水素−珪素膜であって、珪素含有量が３０ａｔ％以下としたから、特に耐摩耗性が優れる。
【０００９】
また、請求項２の発明の転がり軸受は、請求項１項記載の転がり軸受において、上記ダイヤモンドライクカーボン膜が、上記軌道部に対する３０Ｎ以上の密着力を有する。
【００１０】
また、上記ＤＬＣ膜を、１０〜１００ｎｍの高さで平均幅３００ｎｍ以下の凹凸を有している窒化層上に形成したことで、密着性が高く、早期剥離が起こらないことが実験で確かめられた。
【００１１】
上記窒化層は、イオン衝撃による凸部の形成が容易であり、凸部がより微細でかつ単位面積当たりの凸部の占有面積率が大きくなり、ＤＬＣ膜との接触面積が非常に増大し、密着性が向上する。なお、窒化層の凹凸が１００ｎｍを越えると、ＤＬＣ膜表面に凹凸が現れて平滑性が損なわれる一方、凹凸が１０ｎｍを下回ると接触面積の増大が不足する。また、上記凹凸の平均幅が３００ｎｍ以下であることにより、この凹凸による機械的な投錨(アンカー)効果により、窒化層とＤＬＣ膜との一層強固な結合が得られる。
【００１２】
ダイヤモンドライクカーボン膜としては、１．０μｍ以上、好ましくは、１.５μｍ〜５μｍの厚みのものが転がり軸受としては有効である。さらに、母材の鋼としては、拡散層硬さがＨｖ５００以上であることが転がり軸受として望まれる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、この発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。
【００１４】
図１に、この発明の転がり軸受の実施形態の断面を示す。この転がり軸受１は、内輪２と外輪３の間に複数の玉４が円周方向に配列されている。この内輪２と外輪３は、ステンレス鋼(ＳＵＳ４４０)等の耐熱,耐食材料からなり、玉４は、窒化珪素(Ｓｉ3Ｎ4)を主体とするセラミックスからなる。
【００１５】
上記外輪３の表面には、厚さ３０μｍの窒化層１１が形成されている。この窒化層１１は、たとえば、ガス窒化処理によって形成される。また、この窒化層１１の表面には、１０〜１００ｎｍの高さで平均幅３００ｎｍ以下の凹凸が形成されている。この窒化層１１表面の凹凸は、たとえば、アルゴンガスを用いたイオン衝撃処理によって形成される。なお、ここで、この凹凸の高さとは、この凹凸の底から頂点までの距離をいう。また、この凹凸の幅とは、凸部が半球状の場合には底の最大径(凸部の底面形状が楕円の場合は長軸径)に相当する水平方向の距離をいう。また、ここで、上記凹凸の平均高さの範囲を１０〜１００ｎｍとしたのは、１０ｎｍ未満では機械的なアンカー効果が得られず密着性が不足する一方、１００ｎｍを越えると平滑な膜が得られないからである。さらに、上記凸部の大きさが所定のものであっても、凸部の面積が少なければ、膜の密着性には効果が得られない。凹凸面に占める凸部の面積割合は、凹凸面の面積を１００％とすると、凸部の占める面積は３０％以上であるのが好ましい。また、上記イオン衝撃処理では、密閉容器内の圧力を１０-3〜２０ｔｏｒｒ程度とする。圧力が１０-3ｔｏｒｒ未満では加熱が不十分になり、２０ｔｏｒｒを越えると微細な凹凸ができない。なお、このイオン衝撃処理で使用する処理用ガスとしては、アルゴンの他に、ヘリウム,ネオン,クリプトン,キセノン,ラドンの１種または２種以上からなる希ガスを利用できる。さらに、鉄系母材の場合、水素を加えて行うと被処理材表面の酸化を防ぐことができる。この状態でイオン衝撃を与える。イオン衝撃を与える手段としてはグロー放電またはイオンビームを利用できる。放電電圧２００〜１０００Ｖ，電流０.５〜３.０Ａで、処理時間３０〜６０分でイオン衝撃を行うと、均一で微細なナノオーダの凹凸ができる。イオン衝撃を与えている時に被処理材を硬さが低下しない温度（２００℃以上は必要）にまで加熱すると、さらに均一で微細なナノオーダの凹凸ができる。
【００１６】
そして、この外輪３の窒化層１１上に、硬質非晶質炭素−水素−珪素膜５が３μｍの厚さで形成されている。この硬質膜５は、例えば、プラズマＣＶＤによって、形成できる。より詳しくは、この硬質膜５は、珪素と水素および珪素と炭素を主要成分とした珪素化合物ガス(Ｓｉ(ＣＨ3)4：テトラメチルシラン)を主体としたガス中、１００〜５５０℃の雰囲気で放電処理を行って形成される。この雰囲気温度が、１００℃より低いと放電が不安定となり、５５０℃より高くなると、窒化拡散層を含めた母材の硬さの低下をもたらし、膜の密着力を低下させる。なお、上記プラズマＣＶＤで使用する珪素化合物ガスは、珪素と水素または珪素と炭素を主要成分としたものでもよい。
【００１７】
また、上記内輪２の表面にも、上記窒化層１１と同様にして形成された厚さ３０μｍの窒化層１２が形成され、この窒化層１２の表面にも、１０〜１００ｎｍの高さで平均幅３００ｎｍ以下の凹凸が形成されている。そして、この窒化層１２上に、硬質非晶質炭素−水素−珪素膜７が３μｍの厚さで形成されている。この硬質膜７は、前述の硬質膜５と同様の方法で形成されている。
【００１８】
さらに、玉４の表面にも、同様に、厚さ３０μｍの窒化層１３が形成され、この窒化層１３の表面にも、１０〜１００ｎｍの高さで平均幅３００ｎｍ以下の凹凸が形成されている。そして、この窒化層１３上に、硬質非晶質炭素−水素−珪素膜６が３μｍの厚さで形成されている。
【００１９】
上記構成の転がり軸受１によれば、外輪３,内輪２,玉４を被覆する硬質膜５,７,６を、潤滑性,耐摩耗性,耐焼付き性に優れたダイヤモンドライクカーボン膜のうちでも、硬質非晶質炭素−水素−珪素膜であって、珪素含有量が３０ａｔ％以下としたから、特に耐摩耗性が優れる。
【００２０】
より詳しくは、図４に示すように、油潤滑,回転速度１２００ｒｐｍ,面圧３.４ＧＰａ,膜圧３μｍという条件下で、転がり寿命試験を行った結果、Ｓｉ含有量が１０〜３０ａｔ％の範囲内であれば、寿命に至るまでの繰り返し回数が１×１０8に達した。これに対し、Ｓｉ含有量が５ａｔ％,４０ａｔ％では、１×１０7未満であった。
【００２１】
また、上記硬質膜５,７,６を、１０〜１００ｎｍの高さで平均幅３００ｎｍ以下の凹凸を有している窒化層１１,１２,１３上に形成したことで、密着性が高く、早期剥離が起こらないことが実験で確かめられた。
【００２２】
上記窒化層１１,１２,１３は、イオン衝撃による凸部の形成が容易であり、凸部がより微細でかつ単位面積当たりの凸部の占有面積率が大きくなり、硬質膜５,７,６との接触面積が非常に増大し、密着性が向上する。なお、窒化層１１,１２,１３の凹凸が１００ｎｍを越えると、硬質膜５,７,６の表面に凹凸が現れて平滑性が損なわれる一方、凹凸が１０ｎｍを下回ると接触面積の増大が不足する。また、上記凹凸の平均幅が３００ｎｍ以下であることにより、この凹凸による機械的な投錨(アンカー)効果により、窒化層１１,１２,１３と硬質膜５,７,６との一層強固な結合が得られる。
【００２３】
この実施形態の転がり軸受によれば、(油潤滑、回転数１２００ｒｐｍ、繰り返し回数:１０8打切り)という試験条件下で、面圧３.４ＧＰａまで使用可能であった。より詳しくは、図２における膜Ｃ,膜Ｄ(本発明品)の実験結果を参照、なお、密着力が４Ｎ,１０Ｎである膜Ａ,膜Ｂ(従来品)は、面圧３.４ＧＰａでは、それぞれ、繰り返し回数１０6,１０7未満で剥離した。
【００２４】
また、従来のように、上記窒化膜を形成すること無しで、ダイヤモンドライクカーボン膜を形成した対比例では、面圧１.６ＧＰａ,２.１ＧＰａにおいてＤＬＣ膜の早期剥離が起こった。また、この実施形態の転がり軸受によれば、ＤＬＣ膜無しの転がり軸受に比較して、無潤滑下での軸受寿命が３倍以上であった。例えば、図３に示すように、本発明膜で内,外輪をコーティングし、玉をセラミック製とした場合の本発明サンプル１,２では、コーティング膜無しの場合のサンプル１に比べて、トルク寿命比が３倍以上になった。ここで、軸受のトルク値が上昇して初期の３倍に達した時点を、トルク寿命が尽きた時点とした。なお、従来膜で内,外輪をコーティングしたサンプル１,２では、本発明サンプル１,２の寿命比が３分の２以下となった。
【００２５】
尚、上記実施形態では、外輪３,内輪２の全面に、硬質膜５,７を形成したが、軌道部分だけに硬質膜５,７を形成してもよい。また、上記実施形態では、外輪３,玉４,内輪２のすべてに硬質膜５,６,７を形成したが、すくなくともいずれか１つだけに形成した場合であっても所定の耐摩耗性向上効果が得られる。また、上記実施形態では、玉４をセラミック製としたが、耐熱,耐食性のある金属材料(例えば、ＪＩＳ規格ＳＫＨ４,ＳＫＨ５１,ＳＵＳ４４０Ｃ,ＳＵＳ６３０,ＳＵＳ３０４あるいはＳＡＥ規格Ｍ５０等)を採用できる。内輪２,外輪３においても、ＳＵＳ４４０Ｃを使用しているが、上記他の鋼材を使用してもよい。しかしながら、鋼材としては、拡散層硬さがＨｖ５００以上であることが望ましい。
【００２６】
【発明の効果】
以上より明らかなように、請求項１の発明の転がり軸受は、内、外輪、転動体および保持器を有し、この内、外輪、転動体および保持器のうちの少なくともいずれかの転がり接触する軌道部にダイヤモンドライクカーボン膜が形成された転がり軸受において、上記ダイヤモンドライクカーボン膜が、硬質非晶質炭素−水素−珪素膜で、珪素含有量が３０ａｔ％以下であり、上記ダイヤモンドライクカーボン膜が、上記軌道部上に形成した厚さ３０μｍ以上の窒化層上に形成されており、上記窒化層が、１０〜１００ｎｍの高さで平均幅３００ｎｍ以下の凹凸を有していて、上記窒化層の凹凸がイオン衝撃処理によって形成されている。
【００２７】
この請求項１の発明では、潤滑性,耐摩耗性,耐焼付き性に優れたダイヤモンドライクカーボン膜(ＤＬＣ膜)を、硬質非晶質炭素−水素−珪素膜であって、珪素含有量が３０ａｔ％以下としたから、特に耐摩耗性が優れる。
【００２８】
また、請求項２の発明の転がり軸受は、請求項１項記載の転がり軸受において、上記ダイヤモンドライクカーボン膜が、上記軌道部に対する３０Ｎ以上の密着力を有する。
【００２９】
また、上記ＤＬＣ膜を、１０〜１００ｎｍの高さで平均幅３００ｎｍ以下の凹凸を有している窒化層上に形成したことで、密着性が高く、早期剥離が起こらないことが実験で確かめられた。
【００３０】
上記窒化層は、イオン衝撃による凸部の形成が容易であり、凸部がより微細でかつ単位面積当たりの凸部の占有面積率が大きくなり、ＤＬＣ膜との接触面積が非常に増大し、密着性が向上する。なお、窒化層の凹凸が１００ｎｍを越えると、ＤＬＣ膜表面に凹凸が現れて平滑性が損なわれる一方、凹凸が１０ｎｍを下回ると接触面積の増大が不足する。また、上記凹凸の平均幅が３００ｎｍ以下であることにより、この凹凸による機械的な投錨(アンカー)効果により、窒化層とＤＬＣ膜との一層強固な結合が得られる。
【００３１】
ダイヤモンドライクカーボン膜としては、１．０μｍ以上、好ましくは、１.５μｍ〜５μｍの厚みのものが転がり軸受としては有効である。さらに、母材の鋼としては、拡散層硬さがＨｖ５００以上であることが転がり軸受として望まれる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 この発明の転がり軸受の実施の形態の断面図である。
【図２】 本発明(膜密着力３０Ｎ,４５Ｎ)と従来例(膜密着力４Ｎ,１０Ｎ)との比較寿命試験結果を示す特性図である。
【図３】 トルク寿命比試験結果を示す特性図である。
【図４】 コーティング膜のＳｉ含有量と軸受寿命との関係を示す試験結果特性図である。
【符号の説明】
１…転がり軸受、２…内輪、３…外輪、４…玉、５,６,７…硬質膜、
１１,１２,１３…窒化層。
【発明の属する技術分野】
この発明は、真空中やクリーン環境および貧潤滑状態等で使用される転がり軸受に関する。
【０００２】
【従来の技術】
軸受を真空中やクリーン環境および貧潤滑状態等で使用する場合、潤滑方法が問題となる。
【０００３】
従来、真空中やクリーン環境では潤滑のため、Ａｇ,ＭoＳ2,およびＰＴＦＥ(ポリテトラフルオロエチレン)などの固体潤滑剤が使用される。また、貧潤滑下では、耐摩耗性および耐焼付き性の向上のため、ＣｒＮ,ＴｉＮ等の硬質膜が用いられることが多かった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、固体潤滑剤を用いる場合には、固体潤滑剤自身の摩耗が大きく、硬質膜を用いる場合には、潤滑性に問題があるために寿命が短くなるケースが多かった。
【０００５】
この問題を解決するためには、低摩擦(潤滑性あり)で耐摩耗性および耐焼付き性に優れるＤＬＣ(ダイヤモンドライクカーボン)膜を金属上に形成する手法が有効であるが、転がり軸受に使用するには、従来の成膜方法では、基板−膜間の密着性が低いため、早期に剥離するという問題があった。
【０００６】
そこで、この発明の目的は、軌道面に形成されたＤＬＣ膜の密着性が高く、早期剥離が起こらない転がり軸受を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項１の発明の転がり軸受は、内,外輪、転動体および保持器を有し、この内,外輪、転動体および保持器のうちの少なくともいずれかの転がり接触する軌道部にダイヤモンドライクカーボン膜が形成された転がり軸受において、
上記ダイヤモンドライクカーボン膜が、硬質非晶質炭素−水素−珪素膜で、珪素含有量が３０ａｔ％以下であり、
上記ダイヤモンドライクカーボン膜が、上記軌道部上に形成した厚さ３０μｍ以上の窒化層上に形成されており、
上記窒化層が、１０〜１００ｎｍの高さで平均幅３００ｎｍ以下の凹凸を有していて、
上記窒化層の凹凸がイオン衝撃処理によって形成されていることを特徴としている。
【０００８】
この発明では、潤滑性,耐摩耗性,耐焼付き性に優れたダイヤモンドライクカーボン膜(ＤＬＣ膜)を、硬質非晶質炭素−水素−珪素膜であって、珪素含有量が３０ａｔ％以下としたから、特に耐摩耗性が優れる。
【０００９】
また、請求項２の発明の転がり軸受は、請求項１項記載の転がり軸受において、上記ダイヤモンドライクカーボン膜が、上記軌道部に対する３０Ｎ以上の密着力を有する。
【００１０】
また、上記ＤＬＣ膜を、１０〜１００ｎｍの高さで平均幅３００ｎｍ以下の凹凸を有している窒化層上に形成したことで、密着性が高く、早期剥離が起こらないことが実験で確かめられた。
【００１１】
上記窒化層は、イオン衝撃による凸部の形成が容易であり、凸部がより微細でかつ単位面積当たりの凸部の占有面積率が大きくなり、ＤＬＣ膜との接触面積が非常に増大し、密着性が向上する。なお、窒化層の凹凸が１００ｎｍを越えると、ＤＬＣ膜表面に凹凸が現れて平滑性が損なわれる一方、凹凸が１０ｎｍを下回ると接触面積の増大が不足する。また、上記凹凸の平均幅が３００ｎｍ以下であることにより、この凹凸による機械的な投錨(アンカー)効果により、窒化層とＤＬＣ膜との一層強固な結合が得られる。
【００１２】
ダイヤモンドライクカーボン膜としては、１．０μｍ以上、好ましくは、１.５μｍ〜５μｍの厚みのものが転がり軸受としては有効である。さらに、母材の鋼としては、拡散層硬さがＨｖ５００以上であることが転がり軸受として望まれる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、この発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。
【００１４】
図１に、この発明の転がり軸受の実施形態の断面を示す。この転がり軸受１は、内輪２と外輪３の間に複数の玉４が円周方向に配列されている。この内輪２と外輪３は、ステンレス鋼(ＳＵＳ４４０)等の耐熱,耐食材料からなり、玉４は、窒化珪素(Ｓｉ3Ｎ4)を主体とするセラミックスからなる。
【００１５】
上記外輪３の表面には、厚さ３０μｍの窒化層１１が形成されている。この窒化層１１は、たとえば、ガス窒化処理によって形成される。また、この窒化層１１の表面には、１０〜１００ｎｍの高さで平均幅３００ｎｍ以下の凹凸が形成されている。この窒化層１１表面の凹凸は、たとえば、アルゴンガスを用いたイオン衝撃処理によって形成される。なお、ここで、この凹凸の高さとは、この凹凸の底から頂点までの距離をいう。また、この凹凸の幅とは、凸部が半球状の場合には底の最大径(凸部の底面形状が楕円の場合は長軸径)に相当する水平方向の距離をいう。また、ここで、上記凹凸の平均高さの範囲を１０〜１００ｎｍとしたのは、１０ｎｍ未満では機械的なアンカー効果が得られず密着性が不足する一方、１００ｎｍを越えると平滑な膜が得られないからである。さらに、上記凸部の大きさが所定のものであっても、凸部の面積が少なければ、膜の密着性には効果が得られない。凹凸面に占める凸部の面積割合は、凹凸面の面積を１００％とすると、凸部の占める面積は３０％以上であるのが好ましい。また、上記イオン衝撃処理では、密閉容器内の圧力を１０-3〜２０ｔｏｒｒ程度とする。圧力が１０-3ｔｏｒｒ未満では加熱が不十分になり、２０ｔｏｒｒを越えると微細な凹凸ができない。なお、このイオン衝撃処理で使用する処理用ガスとしては、アルゴンの他に、ヘリウム,ネオン,クリプトン,キセノン,ラドンの１種または２種以上からなる希ガスを利用できる。さらに、鉄系母材の場合、水素を加えて行うと被処理材表面の酸化を防ぐことができる。この状態でイオン衝撃を与える。イオン衝撃を与える手段としてはグロー放電またはイオンビームを利用できる。放電電圧２００〜１０００Ｖ，電流０.５〜３.０Ａで、処理時間３０〜６０分でイオン衝撃を行うと、均一で微細なナノオーダの凹凸ができる。イオン衝撃を与えている時に被処理材を硬さが低下しない温度（２００℃以上は必要）にまで加熱すると、さらに均一で微細なナノオーダの凹凸ができる。
【００１６】
そして、この外輪３の窒化層１１上に、硬質非晶質炭素−水素−珪素膜５が３μｍの厚さで形成されている。この硬質膜５は、例えば、プラズマＣＶＤによって、形成できる。より詳しくは、この硬質膜５は、珪素と水素および珪素と炭素を主要成分とした珪素化合物ガス(Ｓｉ(ＣＨ3)4：テトラメチルシラン)を主体としたガス中、１００〜５５０℃の雰囲気で放電処理を行って形成される。この雰囲気温度が、１００℃より低いと放電が不安定となり、５５０℃より高くなると、窒化拡散層を含めた母材の硬さの低下をもたらし、膜の密着力を低下させる。なお、上記プラズマＣＶＤで使用する珪素化合物ガスは、珪素と水素または珪素と炭素を主要成分としたものでもよい。
【００１７】
また、上記内輪２の表面にも、上記窒化層１１と同様にして形成された厚さ３０μｍの窒化層１２が形成され、この窒化層１２の表面にも、１０〜１００ｎｍの高さで平均幅３００ｎｍ以下の凹凸が形成されている。そして、この窒化層１２上に、硬質非晶質炭素−水素−珪素膜７が３μｍの厚さで形成されている。この硬質膜７は、前述の硬質膜５と同様の方法で形成されている。
【００１８】
さらに、玉４の表面にも、同様に、厚さ３０μｍの窒化層１３が形成され、この窒化層１３の表面にも、１０〜１００ｎｍの高さで平均幅３００ｎｍ以下の凹凸が形成されている。そして、この窒化層１３上に、硬質非晶質炭素−水素−珪素膜６が３μｍの厚さで形成されている。
【００１９】
上記構成の転がり軸受１によれば、外輪３,内輪２,玉４を被覆する硬質膜５,７,６を、潤滑性,耐摩耗性,耐焼付き性に優れたダイヤモンドライクカーボン膜のうちでも、硬質非晶質炭素−水素−珪素膜であって、珪素含有量が３０ａｔ％以下としたから、特に耐摩耗性が優れる。
【００２０】
より詳しくは、図４に示すように、油潤滑,回転速度１２００ｒｐｍ,面圧３.４ＧＰａ,膜圧３μｍという条件下で、転がり寿命試験を行った結果、Ｓｉ含有量が１０〜３０ａｔ％の範囲内であれば、寿命に至るまでの繰り返し回数が１×１０8に達した。これに対し、Ｓｉ含有量が５ａｔ％,４０ａｔ％では、１×１０7未満であった。
【００２１】
また、上記硬質膜５,７,６を、１０〜１００ｎｍの高さで平均幅３００ｎｍ以下の凹凸を有している窒化層１１,１２,１３上に形成したことで、密着性が高く、早期剥離が起こらないことが実験で確かめられた。
【００２２】
上記窒化層１１,１２,１３は、イオン衝撃による凸部の形成が容易であり、凸部がより微細でかつ単位面積当たりの凸部の占有面積率が大きくなり、硬質膜５,７,６との接触面積が非常に増大し、密着性が向上する。なお、窒化層１１,１２,１３の凹凸が１００ｎｍを越えると、硬質膜５,７,６の表面に凹凸が現れて平滑性が損なわれる一方、凹凸が１０ｎｍを下回ると接触面積の増大が不足する。また、上記凹凸の平均幅が３００ｎｍ以下であることにより、この凹凸による機械的な投錨(アンカー)効果により、窒化層１１,１２,１３と硬質膜５,７,６との一層強固な結合が得られる。
【００２３】
この実施形態の転がり軸受によれば、(油潤滑、回転数１２００ｒｐｍ、繰り返し回数:１０8打切り)という試験条件下で、面圧３.４ＧＰａまで使用可能であった。より詳しくは、図２における膜Ｃ,膜Ｄ(本発明品)の実験結果を参照、なお、密着力が４Ｎ,１０Ｎである膜Ａ,膜Ｂ(従来品)は、面圧３.４ＧＰａでは、それぞれ、繰り返し回数１０6,１０7未満で剥離した。
【００２４】
また、従来のように、上記窒化膜を形成すること無しで、ダイヤモンドライクカーボン膜を形成した対比例では、面圧１.６ＧＰａ,２.１ＧＰａにおいてＤＬＣ膜の早期剥離が起こった。また、この実施形態の転がり軸受によれば、ＤＬＣ膜無しの転がり軸受に比較して、無潤滑下での軸受寿命が３倍以上であった。例えば、図３に示すように、本発明膜で内,外輪をコーティングし、玉をセラミック製とした場合の本発明サンプル１,２では、コーティング膜無しの場合のサンプル１に比べて、トルク寿命比が３倍以上になった。ここで、軸受のトルク値が上昇して初期の３倍に達した時点を、トルク寿命が尽きた時点とした。なお、従来膜で内,外輪をコーティングしたサンプル１,２では、本発明サンプル１,２の寿命比が３分の２以下となった。
【００２５】
尚、上記実施形態では、外輪３,内輪２の全面に、硬質膜５,７を形成したが、軌道部分だけに硬質膜５,７を形成してもよい。また、上記実施形態では、外輪３,玉４,内輪２のすべてに硬質膜５,６,７を形成したが、すくなくともいずれか１つだけに形成した場合であっても所定の耐摩耗性向上効果が得られる。また、上記実施形態では、玉４をセラミック製としたが、耐熱,耐食性のある金属材料(例えば、ＪＩＳ規格ＳＫＨ４,ＳＫＨ５１,ＳＵＳ４４０Ｃ,ＳＵＳ６３０,ＳＵＳ３０４あるいはＳＡＥ規格Ｍ５０等)を採用できる。内輪２,外輪３においても、ＳＵＳ４４０Ｃを使用しているが、上記他の鋼材を使用してもよい。しかしながら、鋼材としては、拡散層硬さがＨｖ５００以上であることが望ましい。
【００２６】
【発明の効果】
以上より明らかなように、請求項１の発明の転がり軸受は、内、外輪、転動体および保持器を有し、この内、外輪、転動体および保持器のうちの少なくともいずれかの転がり接触する軌道部にダイヤモンドライクカーボン膜が形成された転がり軸受において、上記ダイヤモンドライクカーボン膜が、硬質非晶質炭素−水素−珪素膜で、珪素含有量が３０ａｔ％以下であり、上記ダイヤモンドライクカーボン膜が、上記軌道部上に形成した厚さ３０μｍ以上の窒化層上に形成されており、上記窒化層が、１０〜１００ｎｍの高さで平均幅３００ｎｍ以下の凹凸を有していて、上記窒化層の凹凸がイオン衝撃処理によって形成されている。
【００２７】
この請求項１の発明では、潤滑性,耐摩耗性,耐焼付き性に優れたダイヤモンドライクカーボン膜(ＤＬＣ膜)を、硬質非晶質炭素−水素−珪素膜であって、珪素含有量が３０ａｔ％以下としたから、特に耐摩耗性が優れる。
【００２８】
また、請求項２の発明の転がり軸受は、請求項１項記載の転がり軸受において、上記ダイヤモンドライクカーボン膜が、上記軌道部に対する３０Ｎ以上の密着力を有する。
【００２９】
また、上記ＤＬＣ膜を、１０〜１００ｎｍの高さで平均幅３００ｎｍ以下の凹凸を有している窒化層上に形成したことで、密着性が高く、早期剥離が起こらないことが実験で確かめられた。
【００３０】
上記窒化層は、イオン衝撃による凸部の形成が容易であり、凸部がより微細でかつ単位面積当たりの凸部の占有面積率が大きくなり、ＤＬＣ膜との接触面積が非常に増大し、密着性が向上する。なお、窒化層の凹凸が１００ｎｍを越えると、ＤＬＣ膜表面に凹凸が現れて平滑性が損なわれる一方、凹凸が１０ｎｍを下回ると接触面積の増大が不足する。また、上記凹凸の平均幅が３００ｎｍ以下であることにより、この凹凸による機械的な投錨(アンカー)効果により、窒化層とＤＬＣ膜との一層強固な結合が得られる。
【００３１】
ダイヤモンドライクカーボン膜としては、１．０μｍ以上、好ましくは、１.５μｍ〜５μｍの厚みのものが転がり軸受としては有効である。さらに、母材の鋼としては、拡散層硬さがＨｖ５００以上であることが転がり軸受として望まれる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 この発明の転がり軸受の実施の形態の断面図である。
【図２】 本発明(膜密着力３０Ｎ,４５Ｎ)と従来例(膜密着力４Ｎ,１０Ｎ)との比較寿命試験結果を示す特性図である。
【図３】 トルク寿命比試験結果を示す特性図である。
【図４】 コーティング膜のＳｉ含有量と軸受寿命との関係を示す試験結果特性図である。
【符号の説明】
１…転がり軸受、２…内輪、３…外輪、４…玉、５,６,７…硬質膜、
１１,１２,１３…窒化層。
Claims (4)
- 内,外輪、転動体および保持器を有し、この内,外輪、転動体および保持器のうちの少なくともいずれかの転がり接触する軌道部にダイヤモンドライクカーボン膜が形成された転がり軸受において、
上記ダイヤモンドライクカーボン膜が、硬質非晶質炭素−水素−珪素膜で、珪素含有量が３０ａｔ％以下であり、
上記ダイヤモンドライクカーボン膜が、上記軌道部上に形成した厚さ３０μｍ以上の窒化層上に形成されており、
上記窒化層が、１０〜１００ｎｍの高さで平均幅３００ｎｍ以下の凹凸を有していて、
上記窒化層の凹凸がイオン衝撃処理によって形成されていることを特徴とする転がり軸受。 - 上記ダイヤモンドライクカーボン膜が、上記軌道部に対する３０Ｎ以上の密着力を有することを特徴とする請求項１項記載の転がり軸受。
- 上記ダイヤモンドライクカーボン膜が、１.０μｍ以上の厚みを有することを特徴とする請求項１項記載の転がり軸受。
- 上記ダイヤモンドライクカーボン膜が形成される軌道部が、拡散層硬さがＨｖ５００以上の鋼であることを特徴とする請求項１項記載の転がり軸受。
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