JP3909915B2 - スピン処理装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明はワ−クを回転させながら洗浄処理したり乾燥処理するためのスピン処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
たとえば、半導体装置や液晶表示装置の製造過程においては、ワ−クとしての半導体ウエハや液晶用ガラス基板に回路パタ−ンを形成するための成膜プロセスやフォトプロセスがある。これらのプロセスでは、上記ワ−クの処理と洗浄とが繰り返し行われる。
【0003】
上記ワ−クの洗浄や乾燥を行うためにはスピン処理装置が用いられる。このスピン処理装置は、回転モ−タによって回転駆動される回転体を有し、この回転体の上面の周辺部には周方向に所定間隔で保持部材が回転自在に突設されている。この保持部材の上端にはワ−クの下面周辺部を支持する支持ピンと、上記保持部材の回転によって偏心回転して上記支持ピンに支持されたワ−クの周辺部に係合し、そのワ−クを保持するロックピンとが突設されている。
【0004】
上記保持部材は、ばねによって上記ロックピンがワ−クの外周面に係合する回転方向に付勢されていて、ワ−クを着脱するときには上記保持部材をばねの付勢力に抗して回転させることで、ロックピンによるロック状態が解除されるようになっている。
【0005】
上記ロックピンによるワ−クの保持状態を解除するためには、上記保持部材を上記回転体と一体的に設けられたリンク機構によって回転できるようにするとともに、上記回転体の周辺部に上記リンク機構を作動させてロックピンによるロック状態を解除するための解除機構を配置する。
【0006】
そして、ワ−クの洗浄や乾燥などの処理が終了して上記回転体の回転が停止したときに、上記解除機構によって上記リンク機構を作動させることで、上記ロックピンによるワ−クのロック状態を解除し、そのワ−クを搬出して未処理のワ−クを供給するということが行われる。
【0007】
上記リンク機構を作動させる場合、そのためのアクチュエ−タをまずリンク機構に係合させ、ついで解除方向へ駆動しなければならない。したがって、上記アクチュエ−タをリンク機構に係合させる方向へ駆動するための駆動源と、解除方向へ駆動するための駆動源とを必要とする。
【0008】
つまり、従来の構成によると、ロックピンによるワ−クのロック状態を解除するためには、リンク機構を作動させるための専用の2つの駆動源が必要となるから、部品点数の増大によるコストの上昇や構成の複雑化を招くということがあった。しかも、上記解除機構を回転体の周囲に配置しなければならないから、装置全体が大型化するということもあった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
このように、従来のスピン処理装置においては、ワ−クのロック状態を解除するために、それ専用の2つの駆動源を用いなければならなかったので、部品点数の増大によるコストアップや構成の複雑化、さらには装置の大型化を招くなどのことがあった。
【0010】
この発明は、回転体を駆動する駆動手段を利用してワ−クのロック状態を解除できるようにすることで、構成の簡略化を計ることができるようにしたスピン処理装置を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
請求項1の発明は、ワ−クを保持して回転させることでこのワークを洗浄処理或いは乾燥処理するスピン処理装置において、
カップ体と、
このカップ体内に配設された回転体と、
この回転体を回転駆動する駆動手段と、
上端の中心部に上記ワ−クの下面周辺部を支持する支持ピンおよび上端の偏心位置に上記ワ−クの周辺部を保持するロックピンが設けられていて、上記回転体の径方向周辺部に周方向に所定間隔で回転自在に立設された複数の保持部材と、
上記回転体の下面側にこの回転体に対して回転自在に設けられた親歯車と、
各保持部材の下端部に固定されて設けられそれぞれが上記親歯車と噛合した子歯車と、
一端が上記回転体に固定され他端が上記親歯車に固定されて設けられ上記ロックピンが上記ワ−クの周辺部を保持する回転方向に上記保持部材を上記親歯車および子歯車を介して弾性的に付勢した付勢手段と、
上記親歯車に係合する解除ピンを有し、この解除ピンを上記親歯車に係合させてこの親歯車が上記回転体と一緒に回転するのを阻止するとともに親歯車の回転を阻止した状態で上記駆動手段により上記回転体を上記保持部材に与えられた上記付勢手段による付勢力に抗して回転させることで上記ロックピンを偏心回転させてこのロックピンよる上記ワ−クの保持状態を解除する解除手段と
を具備したことを特徴とする。
【0012】
請求項2の発明は、請求項1の発明において、ブレーキシリンダによって作動されるブレーキシューを有し、上記ロックピンによるワ−クの保持状態が解除されているときに、上記ブレーキシューを作動させて上記回転体に設けられたブレーキディスクに圧接させることで、上記回転体が上記付勢手段の復元力で回転するのを阻止するブレ−キ手段が設けられていることを特徴とする。
【0013】
請求項3の発明は、請求項1の発明において、上記駆動手段は、中空状の固定子と、この固定子の内部に回転自在に設けられた中空軸状の回転子とからなり、上記回転体は上記回転子の上端に取付けれているとともに中心部に通孔が形成されていて、
この通孔には上記回転体の保持部材に保持されたワ−クの下面に向けて洗浄液を噴出する洗浄ノズルが配置されていることを特徴とする。
【0014】
請求項4の発明は、請求項1の発明において、上記回転体の上面側であって、上記保持部材に保持されるワ−クの下面側には、上記回転体の上面側を覆って上記回転体の回転に伴う乱流の発生を抑制する乱流防止カバ−が設けられていることを特徴とする。
【0015】
請求項1の発明によれば、解除手段を親歯車に係合させたなら、回転体を回転駆動するための駆動手段を作動させて回転体を所定角度回転させることで、上記保持手段を上記付勢手段の付勢力に抗して回転させることができるから、上記保持手段に設けられたロックピンによるワ−クのロック状態を解除することができる。
【0016】
請求項2の発明によれば、駆動手段を作動させて回転体を所定角度回転させ、ロックピンによるワ−クの保持状態を解除しているときに、上記駆動手段の駆動力が消失しても、上記回転体が付勢手段の復元力によって回転してロックピンがワ−クを保持する方向に偏心に回転するのが阻止される。
【0017】
請求項3の発明によれば、駆動手段の回転子を中空軸状とし、その上端に中心部に通孔が形成された回転体を取付けるようにしたから、上記通孔に洗浄ノズルを配置し、上記回転体に保持されたワ−クの下面を洗浄処理することができるばかりか、回転体と駆動手段とが同軸に設けられるから、これらをコンパクトに配置して装置の小型化が計れる。
【0018】
請求項4の発明によれば、回転体の上面側で、ワ−クの下面側に、回転体の上面の形状によって乱流が発生するのを防止する乱流防止カバ−を設けたことで、たとえば洗浄時に発生するミスト状となった洗浄液が舞い上がってワ−クの上面や下面に付着するのを防止できる。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の一実施の形態を図面を参照して説明する。
図2に示すこの発明のスピン処理装置はカップ体1を有する。このカップ体1は載置板2上に設けられた下カップ3と、この下カップ3の上側に図示しない上下駆動機構によって上下駆動自在に設けられた上カップ4とからなる。
【0020】
上記下カップ3の底壁の中心部と載置板2とにはこれらを貫通する通孔5が形成されており、また上記下カップ3の周壁3aは上記上カップ4の二重構造の周壁4aにスライド自在に嵌挿し、これら周壁によってラビリンス構造をなしている。
【0021】
上記上カップ4の上面は開口していて、この上カップ4が下降方向に駆動されることで、後述するようにカップ体1内で処理されたワ−クとしてのたとえば半導体ウエハUを取り出したり、未処理の半導体ウエハUを供給できるようになっている。さらに、上記下カップ3の底壁には周方向に所定間隔で複数の排出管6の一端が接続され、他端は図示しない吸引ポンプに連通している。それによって、上記半導体ウエハUを洗浄処理したり、乾燥処理することで上記カップ体1内で飛散する洗浄液が排出されるようになっている。
【0022】
上記カップ体1の下面側にはベ−ス7が配置されている。このベ−ス7には上記カップ体1の通孔5と対応する位置に取付孔8が形成されていて、この取付孔8には駆動手段を構成するパルス制御モ−タ9の固定子9aの上端部が嵌入固定されている。
【0023】
上記固定子9aは筒状をなしていて、その内部には同じく筒状の回転子9bが回転自在に嵌挿されている。この回転子9bの上端面には筒状の連結体11が下端面を接合させて一体的に固定されている。この連結体11の下端面には上記固定子9aの内径寸法よりも大径な鍔部11aが形成されている。この鍔部11aは上記固定子9aの上端面に摺動自在に接合しており、それによって回転子9bの回転を阻止することなくこの回転子9bが固定子9aから抜けおちるのを規制している。
【0024】
上記連結体11は上記カップ体1の通孔5からその内部に突出し、上端面には円板状の回転体12が取付け固定されている。この回転体12は図1に示すように下板13aと上板13bとを接合させた二重板構造をなしていて、その中心部には通孔14が形成されている。
【0025】
上記下カップ3の通孔5の周辺部には環状壁3bが突設され、上記回転体12の外周面には上記環状壁3bの外周面に内周面を対向させた環状壁12aが垂設され、これら環状壁3b、12aに洗浄液が回転体12の下面側に回り込むのを防止するラビリンス構造をなしている。
【0026】
上記回転体12の上面には周方向に所定間隔、この実施の形態では60度間隔で6つのボス部15が突設されている。このボス部15には滑り軸受16が嵌挿されていて、この滑り軸受16には保持部材17が回転自在に挿入支持されている。
【0027】
上記保持部材17は図1に示すように上部が上記ボス部15の外径寸法とほぼ同径の大径部18に形成され、この大径部18の下面に上記滑り軸受16に支持される軸部19が一体形成されてなる。上記大径部18の上面には中心部に円錐状の支持ピン21が突設され、径方向周辺部である偏心位置には逆テ−パ状のロックピン22が突設されている。
【0028】
上記6本の保持部材17の支持ピン21上には上記半導体ウエハUが下面を支持されて載置される。その状態で図3に示すように上記ロックピン22が半導体ウエハUの外周面に当接することで、その半導体ウエハUは回転体12と一体的に保持されるようになっている。後述するように、回転体12が回転(公転)することで、上記保持部材17が同図にXで示す状態から鎖線で示すYの状態へ回転(自転)すると、上記ロックピン22が保持部材17の回転中心に対して偏心回転するから、上記ロックピン22による上記半導体ウエハUの保持状態が解除されるようになっている。
【0029】
図1に示すように上記保持部材17の各軸部19の下端部は回転体12の下面から突出し、その下端部にはセクタギヤからなる子歯車23が嵌合固定されている。各子歯車23は上記連結体11の外周面に軸受24によって回転自在に設けられた平歯車からなる親歯車25に噛合している。この親歯車25は図3に示すように、6つの子歯車23と対応する間隔で6つの凸部25aが周方向に所定間隔で形成されてなり、各凸部25aの先端外周面には上記子歯車23に噛合する歯が形成されている。
【0030】
上記連結体11の外周面には付勢手段としての捩じりコイルばね26が装着されている。この捩じりコイルばね26は一端を上記連結体11に係合させ、他端を上記親歯車25に係合させることで、上記親歯車25を図3に矢印Aで示す回転方向(反時計方向)に付勢している。それによって、上記子歯車23は同図に矢印Bで示す時計方向に付勢されるから、この子歯車23の回転に保持部材17が連動し、上記ロックピン22が回転体12の中心方向へ偏心回転して半導体ウエハUの外周面に当接するようになっている。
【0031】
上記ロックピン22による半導体ウエハUのロック状態は図2に示す解除機構31によって解除されるようになっている。この解除機構31はガイド付きの解除シリンダ32を有する。この解除シリンダ32は上記固定子9aの下端面に一端を固定したほぼL字状のブラケット33の他端に軸線を垂直にして取付けられている。
【0032】
上記解除シリンダ32の駆動軸34にはア−ム35の下端が連結されている。このア−ム35の上端部は上記ベ−ス7に形成された挿通孔7aを通されて上記親歯車25の下面側近傍まで延出され、その上端には解除ピン36が垂直に立設されている。
【0033】
図3に示すように上記保持部材17のロックピン22が半導体ウエハUの外周面に当接してこの半導体ウエハUが保持された状態において、上記解除シリンダ32が作動してその駆動軸34が突出方向に駆動され、その動きにア−ム35が連動すると、このア−ム35の上端に設けられた解除ピン36は上記親歯車25の1つの凸部25aの側面に係合し、上記親歯車25が矢印A方向に回転するのを阻止するようになっている。
【0034】
上記解除ピン36によって親歯車25の矢印A方向の回転が阻止された状態で、パルス制御モ−タ9を駆動してその回転子9bを図3に示す矢印C方向へ回転させると、上記回転体12が捩じりコイルばね26の付勢力に抗して連結体11とともに回転する。
【0035】
上記回転体12を矢印C方向へ角度θ回転させると、親歯車25は回転体12と一体的に回転せず、回転体12だけが回転子9bとともに角度θ回転する。
それによって、上記親歯車25に噛合した上記子歯車23は回転体12とともに公転しながら自転するから、この子歯車23と一体的に設けられた保持部材17は矢印B方向と逆方向である反時計方向に回転する。その結果、保持部材17は図3にXで示す状態からYで示す状態になり、ロックピン22は半導体ウエハUの外周面から離れる方向へ偏心回転するから、このロックピン22による半導体ウエハUの保持状態が解除されることになる。
【0036】
なお、上記回転子9bの下端面には図2に示すようにゲ−ジ37が設けられ、このゲ−ジ37は上記固定子9aの下端面に設けられたセンサ38によって検出される。センサ38がゲ−ジ37を検出した位置が上記回転子9bの回転角度の原点として認識され、その認識に基づいて上記回転子9bの回転角度が制御されるようになっている。
【0037】
上記回転子9bの内部には中空状の固定軸41が挿通されている。この固定軸41の下端部は上記パルス制御モ−タ9の下方に配置された支持部材42の取付孔42aに嵌入固定されている。上記支持部材42にはブレ−キシリンダ43が軸線を垂直にして取付けられている。このブレ−キシリンダ43の駆動軸44にはブレ−キシュ−45aが取付けられている。
【0038】
上記ブレ−キシリンダ43が作動してその駆動軸44が上昇方向に駆動されると、ブレ−キシュ−45aは上記回転子9bの下端面に設けられたブレ−キディスク45bに圧接してこの回転子9bの回転を阻止するようになっている。
【0039】
すなわち、回転子9bに上記捩じりコイルばね26の復元力が加わっているとき、つまり回転体12を捩じりコイルばね26の付勢力に抗してパルス制御モ−タ9により矢印C方向に角度θだけ回転させ、ロックピン22による半導体ウエハUのロック状態を解除しているときに、たとえば停電などでパルス制御モ−タ9の駆動力が消失しても、上記回転体12が捩じりコイルばね26の復元力によって矢印C方向と逆方向へ戻るのを阻止している。
【0040】
上記ロックピン22による半導体ウエハUのロック状態を解除した状態において、図示しないロボットにより、上記回転体12から処理された半導体ウエハUが搬出されたり、未処理の半導体ウエハUが供給される。
【0041】
そのため、ロボットによる半導体ウエハUの搬出、供給時に停電などが生じても、回転体12が捩じりコイルばね26の復元力によって矢印C方向と逆方向へ回転して戻ることがないから、回転体12に立設された保持部材17の位置が変化することもない。
【0042】
したがって、上記ブレ−キシリンダ43により、停電時などに、保持部材17の間から半導体ウエハUの下面側に導入されるロボットのア−ムが保持部材17にぶつかり、半導体ウエハUの搬出、供給作業が不能になるのを防止できるようになっている。
【0043】
上記固定軸41の上端部は上記回転体12の通孔14に通されている。この固定軸41の上端にはノズルヘッド46が嵌入固定されている。このノズルヘッド46は回転体12の上面側に突出していて、その外周部には上記通孔14の周辺部に突設された環状壁47を内部に収容した環状溝48が下面に開放して形成されている。つまり、環状壁47と環状溝48とでラビリンス構造を形成しており、回転体12の上面側で飛散する洗浄液などが通孔14を通り、固定軸41に沿ってカップ体1の外部へ流出するのを阻止している。
【0044】
上記ノズルヘッド46には中心部に第1のノズル孔51が穿設され、この第1のノズル孔51の周囲には3つの第2のノズル孔52が穿設されている。第1のノズル孔51の下端には窒素などの乾燥用の気体を供給するための第1の供給チュ−ブ53が接続され、上記第2のノズル孔52には洗浄液を供給するための第2の供給チュ−ブ54が接続されている。これらチュ−ブ53、54は上記固定軸41の内部を通されて外部に導出され、それぞれ図示しない供給源に接続されている。
【0045】
上記第2のノズル孔52の上端には洗浄液の噴射方向や広がり角度を設定するための下部洗浄ノズル55が取付けられている。上記第1、第2のノズル孔51、52からは気体や液体が上記保持部材17に保持された半導体ウエハUの下面に向かって噴射される。それによって、半導体ウエハUの下面を洗浄したり、乾燥させることこができるようになっている。
【0046】
なお、半導体ウエハUの上面側には、図示しないがこの上面を乾燥したり、洗浄するための上部乾燥ノズルと上部洗浄ノズルとが配置されている。
さらに、上記回転体12の上面側には乱流防止カバ−56が設けられている。この乱流防止カバ−56は上記保持部材17に保持された半導体ウエハUの下面側に位置し、周辺部には上記保持部材17の上部を露出させる第1の開口57が形成され、中心部には上記ノズルヘッド46の各ノズル孔51、52を露出させる第2の開口58が形成されている。
【0047】
上記乱流防止カバ−56によって回転体12の凹凸状の上面が覆われている。それによって、回転体12の回転に伴う乱流の発生が抑制されるから、半導体ウエハUを洗浄した塵埃を含む洗浄液がカップ体1内であらゆる方向に飛散し、たとえば半導体ウエハUの下面側に舞い込んで付着するのを防止できるようになっている。とくに、上記乱流防止カバ−56の上面と半導体ウエハUの下面との間隔を所定の間隔に設定すると、乱流の抑制効果が高くなる。
【0048】
つぎに、上記構成のスピン処理装置によって半導体ウエハUを洗浄処理する場合について図1乃至図3を参照して説明する。
半導体ウエハUを回転体12に供給する前には、保持部材17のロックピン22はアンロック状態になっている。つまり、解除シリンダ32が作動して解除ピン36が親歯車25の凸部25aの側面に係合した状態で回転体12がパルス制御モ−タ9によって図3に矢印Cで示す方向に捩じりコイルばね26の付勢力に抗して角度θ回転させられている。それによって、保持部材17が回転するから、ロックピン22が偏心回転し、このロックピン22は支持ピン21に支持される半導体ウエハUの外周面よりも所定寸法径方向外方の離れた位置にある。
【0049】
ロックピン22がアンロック状態にあるとき、上記回転体12上に未処理の半導体ウエハUが図示しないロボットによってそのア−ムを保持部材17の間を通して供給される。つまり、半導体ウエハUを保持したア−ムは回転体12の上面へ進入してから下降し、半導体ウエハUをア−ムから支持ピン21に受け渡し、ついで後退することで上記半導体ウエハUの供給が完了する。
【0050】
半導体ウエハUの供給時にはブレ−キシリンダ43が作動してブレ−キシュ−45aがブレ−キディスク45bに圧接し、回転子9bの回転を阻止している。そのため、半導体ウエハUの供給時に停電などが生じても、上記回転子9bが捩じりコイルばね26の復元力によって矢印C方向と逆方向に回転するのが防止される。
【0051】
したがって、上記ブレ−キシリンダ43によって回転体12の回転角度が一定に維持されるから、停電等が生じてパルス制御モ−タ9の駆動力が消失しても、回転体12が回転してロボットのア−ムが保持部材17にぶつかり、半導体ウエハUの供給ができなくなるということがない。
【0052】
回転体12に半導体ウエハUが供給されたなら、解除シリンダ32の駆動を解除し、解除ピン36を親歯車25の凸部25aから外す。それによって、親歯車25は捩じりコイルばね26の付勢力によって矢印A方向へ回転するから、この親歯車25により子歯車23が保持部材17とともに矢印B方向に回転させられる。
【0053】
保持部材17が矢印B方向に回転すれば、この保持部材17に設けられたロックピン22が半導体ウエハUの外周面に当接する方向へ偏心回転するから、上記半導体ウエハUがロックピン22によって保持されることになる。
【0054】
半導体ウエハUをロックピン22によって保持したならば、ブレ−キシリンダ43の駆動を解除してブレ−キシュ−45aによる回転子9bの回転阻止状態も解除する。ついで、パルス制御モ−タ9を作動させて回転体12を高速回転させるとともに、半導体ウエハUの上面および必要に応じて下面とにそれぞれ洗浄液を供給することで、この半導体ウエハUの上下面を洗浄することができる。
【0055】
上記半導体ウエハUの下面側には乱流防止カバ−56が設けられ、回転体12が高速回転しても、その上面の凹凸形状によって乱流が発生するのを防止する。そのため、半導体ウエハUを洗浄して塵埃を含んだ洗浄液は、排出管6から円滑に排出されるから、カップ体1内で舞い上がって半導体ウエハUに再付着するのが防止される。
【0056】
半導体ウエハUの洗浄が終了したならば、その上下面に乾燥用の気体を供給しながら高速回転させることで乾燥処理する。
乾燥処理が終了したならば、回転体12の回転を停止し、ついでセンサ38がゲ−ジ37を検出する原点位置まで上記回転体12をパルス駆動する。回転体12を原点位置まで回転させたなら、解除シリンダ32を作動させて解除ピン36を親歯車25の凸部25aの側面に係合させる。
【0057】
ついで、パルス制御モ−タ9の回転子9bを所定のパルス数だけ回転させ、回転体12を捩じりコイルばね26の付勢力に抗して矢印C方向へ角度θ回転させる。つまり、親歯車25の回転を解除ピン36で阻止して回転体12だけを回転させることで、この回転体12を捩じりコイルばね26の付勢力に抗して回転させることができる。
【0058】
それによって、上記親歯車25に噛合した子歯車23が回転体12とともに公転しながら自転し、その自転に保持部材17が連動して矢印Bと逆方向に回転するから、ロックピン22による半導体ウエハUのロック状態が解除される。
【0059】
半導体ウエハUのロック状態が解除されたならば、ブレ−キシリンダ43を作動させて回転子9bを固定し、回転体12が捩じりコイルばね26の復元力で矢印C方向と逆方向に回転するのを阻止したならば、図示しないロボットによってカップ体1内の処理された半導体ウエハUを回転体12から取り出す。
【0060】
処理された半導体ウエハUを回転体12から取り出したならば、未処理の半導体ウエハUを供給し、上述した工程を繰り返すことで、その半導体ウエハUの洗浄処理および乾燥処理を行うことができる。
【0061】
上記構成のスピン処理装置によれば、回転体12に供給されてロックピン22により保持された半導体ウエハUのロック状態の解除は、解除ピン36を解除シリンダ32によって駆動して親歯車25に係合させたならば、回転体12を回転駆動するパルス制御モ−タ9によって上記回転体12を捩じりコイルばね26の付勢力に抗して回転させることで行える。
【0062】
つまり、回転体12を回転駆動するパルス制御モ−タ9を利用して半導体ウエハUのロック状態を解除できるようにしたから、その分、部品点数を少なくすることができ、それによって装置全体の小型化やコストダウンが計れる。
【0063】
上記パルス制御モ−タ9は固定子9aと回転子9bとが筒状に形成されているものを用いたので、回転体12と同軸に設けることができる。そのため、パルス制御モ−タ9を回転体12の径方向外方に突出させることなく配置できるから、そのことによっても装置の小型化を計ることができる。
【0064】
しかも、固定子9aと回転子9bとが筒状であることにより、回転子9bの内部に固定軸41を通し、その上端に回転体12の通孔14からその上面側に突出したノズルヘッド46を取付けることができる。このノズルヘッド46は半導体ウエハUの下面に対向する。
【0065】
そのため、上記ノズルヘッド46に下部洗浄ノズル55を設けたり、乾燥用気体を供給するための第1のノズル孔51を形成することで、半導体ウエハUの下面に洗浄液や乾燥用の気体を噴射させることができる。
【0066】
【発明の効果】
請求項1の発明によれば、解除手段を親歯車に係合させ、この親歯車の回転を阻止したならば、回転体を回転駆動するための駆動手段を作動させて回転体を所定角度回転させることで、ワ−クを保持した保持手段を、ワ−クを保持する方向に付勢した付勢手段の付勢力に抗して回転させることができるようにした。
【0067】
そのため、上記保持手段に設けられたロックピンによるワ−クのロック状態を回転体を回転駆動するための駆動手段を利用して解除できるから、従来に比べて部品点数の減少や構成の簡略化を計ることができる。
【0068】
請求項2の発明によれば、ロックピンによるワ−クのロック状態を解除し、上記回転体に対してロボットなどにより未処理のワ−クを供給したり、処理されたワ−クを取り出しているときに、停電などが生じて駆動手段の駆動力が消失しても、ブレ−キ手段によって回転体が付勢手段の復元力で回転するのを阻止できるようにしたから、ロボットが回転体に設けられた保持部材にぶつかってこのロボットによるワ−クの供給や取り出し作業ができなくなるのを防止できる。
【0069】
請求項3の発明によれば、駆動手段の回転子を中空軸状とし、その上端の中心部に通孔が形成された回転体を取付けることで、上記通孔に洗浄ノズルを配置することが可能となるから、上記回転体に保持されたワ−クの下面を洗浄処理することができる。
【0070】
しかも、回転体と駆動手段とを同軸に設けることができるから、駆動手段を回転体の径方向外方に配置する場合に比べて装置全体を小型化することが可能となる。
【0071】
請求項4の発明によれば、回転体の上面側であって、しかもワ−クの下面側には、回転体の上面を覆う乱流防止カバ−を設けたから、この乱流防止カバ−によって回転体の上面が凹凸形状であっても、その形状により回転体が高速回転したときに乱流が発生するのを防止することができる。
【0072】
そのため、たとえば上記ワ−クの洗浄時に、塵埃を含む洗浄液がカップ体内であらゆる方向に不規則に飛散してワ−クの上面や裏面に再付着するのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施の形態を示す回転体の部分の拡大断面図。
【図2】同じく全体構成を示す縦断面図。
【図3】同じく乱流防止カバ−を除去した回転体の平面図。
【符号の説明】
1…カップ体
9…パルス制御モ−タ(駆動手段、解除手段)
9a…固定子
9b…回転子
12…回転体
14…通孔
17…保持部材
21…支持ピン
22…ロックピン
23…子歯車
25…親歯車
26…捩じりコイルばね(付勢手段)
31…解除機構(解除手段)
43…ブレ−キシリンダ(ブレ−キ手段)
45a…ブレ−キシュ−(ブレ−キ手段)
45b…ブレ−キディスク(ブレ−キ手段)
56…乱流防止カバ−
Claims (4)
- ワ−クを保持して回転させることでこのワークを洗浄処理或いは乾燥処理するスピン処理装置において、
カップ体と、
このカップ体内に配設された回転体と、
この回転体を回転駆動する駆動手段と、
上端の中心部に上記ワ−クの下面周辺部を支持する支持ピンおよび上端の偏心位置に上記ワ−クの周辺部を保持するロックピンが設けられていて、上記回転体の径方向周辺部に周方向に所定間隔で回転自在に立設された複数の保持部材と、
上記回転体の下面側にこの回転体に対して回転自在に設けられた親歯車と、
各保持部材の下端部に固定されて設けられそれぞれが上記親歯車と噛合した子歯車と、
一端が上記回転体に固定され他端が上記親歯車に固定されて設けられ上記ロックピンが上記ワ−クの周辺部を保持する回転方向に上記保持部材を上記親歯車および子歯車を介して弾性的に付勢した付勢手段と、
上記親歯車に係合する解除ピンを有し、この解除ピンを上記親歯車に係合させてこの親歯車が上記回転体と一緒に回転するのを阻止するとともに親歯車の回転を阻止した状態で上記駆動手段により上記回転体を上記保持部材に与えられた上記付勢手段による付勢力に抗して回転させることで上記ロックピンを偏心回転させてこのロックピンよる上記ワ−クの保持状態を解除する解除手段と
を具備したことを特徴とするスピン処理装置。 - ブレーキシリンダによって作動されるブレーキシューを有し、上記ロックピンによるワ−クの保持状態が解除されているときに、上記ブレーキシューを作動させて上記回転体に設けられたブレーキディスクに圧接させることで、上記回転体が上記付勢手段の復元力で回転するのを阻止するブレ−キ手段が設けられていることを特徴とする請求項1記載のスピン処理装置。
- 上記駆動手段は、中空状の固定子と、この固定子の内部に回転自在に設けられた中空軸状の回転子とからなり、
上記回転体は上記回転子の上端に取付けれているとともに中心部に通孔が形成されていて、
この通孔には上記回転体の保持部材に保持されたワ−クの下面に向けて洗浄液を噴出する洗浄ノズルが配置されていることを特徴とする請求項1記載のスピン処理装置。 - 上記回転体の上面側であって、上記保持部材に保持されるワ−クの下面側には、上記回転体の上面側を覆って上記回転体の回転に伴う乱流の発生を抑制する乱流防止カバ−が設けられていることを特徴とする請求項1記載のスピン処理装置。
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