JP3902768B2 - 半導体ウェーハ移送装置 - Google Patents
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Description
移送部130は、連結部140と結合されて連結部140を移送できるようにするベルト133と、ベルト133と結合される複数のプーリ135と、プーリ135を駆動する駆動モータ137と、を含む。また、移送部130は、ケーシング110の底面に装着された移送支持台139により支持される。
図3乃至図5に示すように、本発明の実施形態による半導体ウェーハ移送装置1は、半導体ウェーハを支持するウェーハ支持ブロック20と、ウェーハ支持ブロック20の移送経路に沿って形成され、ウェーハ支持ブロック20の一部領域が通過するガイドスロット13を有するケーシング10と、ケーシング10の内に収容されてウェーハ支持ブロック20を移送できるようにする移送部30と、移送部30とウェーハ支持ブロック20を連結する連結部40と、ケーシング10の内に設けられウェーハ支持ブロック20及び連結部40と締付けられてウェーハ支持ブロック20の移送を案内するガイド装置50と、ケーシング10の内に設けられて連結部40の一部領域を除いて移送部30をガイドスロット13に対して遮蔽する遮蔽部60と、を含む。
10 ケーシング
13 ガイドスロット
15 ケーシングカバー
20 ウェーハ支持ブロック
23 ウェーハ支持部
25 固定部
30 移送部
33 ベルト
35 プーリ
37 駆動モータ
40 連結部
43 ベルト締付け部
45 ガイド締付け部
47 連結部貫通孔
50 ガイド装置
53 ガイド部材
55 ガイドレール
57 離隔部
60 遮蔽部
63 遮蔽部ブラケット
70 第1補助遮蔽部
73 第1補助ブラケット
80 第2補助遮蔽部
83 第2補助ブラケット
Claims (6)
- 半導体ウェーハを支持するウェーハ支持ブロックを有する半導体ウェーハ移送装置において、
前記ウェーハ支持ブロックの移送経路に沿って形成され、前記ウェーハ支持ブロックの一部領域が通過するガイドスロットを有するケーシングと;
前記ケーシングの内に収容されて前記ウェーハ支持ブロックを移送できるようにする移送部と;
前記移送部と前記ウェーハ支持ブロックを連結する連結部と;
前記連結部及び前記ウェーハ支持ブロックと連結されていて、前記ウェーハ支持ブロックの移送を案内するガイド装置と;
前記ケーシング内であって前記ガイド装置と前記移送部との間に設けられて前記移送部を前記ガイドスロットに対して遮蔽する遮蔽部と;
前記ガイドスロットの下部に設けられて、前記ガイド装置を前記ガイドスロットに対して遮蔽する第2補助遮蔽部と;
を含むことを特徴とする半導体ウェーハ移送装置。 - 前記ガイド装置は、一側が前記連結部に結合され、他側が前記ウェーハ支持ブロックと結合されるガイド部材と、前記ケーシングの内の底面に設けられて前記ガイド部材を案内するガイドレールを有することを特徴とする請求項1に記載の半導体ウェーハ移送装置。
- 前記ケーシングの内に設けられて、前記連結部を前記ガイドスロットに対して遮蔽する第1補助遮蔽部を含むことを特徴とする請求項2に記載の半導体ウェーハ移送装置。
- 前記移送部は、
前記連結部と結合されて前記連結部を移送できるようにするベルトと;
前記ベルトと結合する複数のプーリと;
前記プーリを駆動する駆動モータと;
を含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体ウェーハ移送装置。 - 前記ベルトは、タイミングベルトであり、
前記プーリは、前記タイミングベルトと噛み合って結合できるように設けられることを特徴とする請求項4に記載の半導体ウェーハ移送装置。 - 前記遮蔽部は、板形状に設けられることを特徴とする請求項1に記載の半導体ウェーハ移送装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2002-0064648A KR100482009B1 (ko) | 2002-10-22 | 2002-10-22 | 반도체 웨이퍼 이송장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004146794A JP2004146794A (ja) | 2004-05-20 |
JP3902768B2 true JP3902768B2 (ja) | 2007-04-11 |
Family
ID=32089756
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003277862A Expired - Fee Related JP3902768B2 (ja) | 2002-10-22 | 2003-07-22 | 半導体ウェーハ移送装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6997670B2 (ja) |
JP (1) | JP3902768B2 (ja) |
KR (1) | KR100482009B1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006191039A (ja) * | 2005-01-05 | 2006-07-20 | Samsung Sdi Co Ltd | トレイ移送装置 |
US9305815B2 (en) | 2012-03-01 | 2016-04-05 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Automated material handling system and method for semiconductor manufacturing |
DE102017106373A1 (de) * | 2017-03-24 | 2018-09-27 | Nexwafe Gmbh | Prozesskammerführung, Prozesskammer und Verfahren zum Führen eines Substratträgers in eine Prozessposition |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SE419709B (sv) * | 1979-02-21 | 1981-08-24 | Roland Kaufeldt | Sett och anordning for att astadkomma snabb gang och mjuk inbromsning samt ett noggrant bestemt slutlege hos en rorlig robotram |
JP2614660B2 (ja) | 1989-06-19 | 1997-05-28 | 株式会社日立製作所 | 熱転写記録装置 |
JPH0661328A (ja) | 1992-08-06 | 1994-03-04 | Nec Yamaguchi Ltd | 半導体ウェハー搬送装置 |
JP3146673B2 (ja) * | 1992-09-17 | 2001-03-19 | 日本電気株式会社 | Fsk受信機 |
JP2961480B2 (ja) | 1993-07-13 | 1999-10-12 | 東芝セラミックス株式会社 | 半導体ウエハ移載用フォーク |
KR970001884A (ko) | 1995-06-29 | 1997-01-24 | 김태구 | 자동차의 엔진 냉각장치 |
KR0131997Y1 (ko) | 1995-12-26 | 1999-02-01 | 김광호 | 반도체 웨이퍼 이송용 페취아암 |
KR200234725Y1 (ko) | 1996-01-23 | 2001-11-30 | 윤종용 | 반도체웨이퍼이송기구 |
KR100203747B1 (ko) | 1996-06-04 | 1999-06-15 | 윤종용 | 웨이퍼 이송 장치 |
KR200247698Y1 (ko) | 1997-06-04 | 2001-12-28 | 이구택 | 코크스가이드의 낙코크스 발생방지장치 |
KR200163916Y1 (ko) | 1997-06-11 | 2000-01-15 | 원백희 | 황토흙 침대 |
KR200163545Y1 (ko) | 1997-07-25 | 2000-01-15 | 우천용 | 동파 방지용 밸브관 유니트 |
KR100457339B1 (ko) | 1997-09-30 | 2005-01-17 | 삼성전자주식회사 | 반도체 웨이퍼 이송암 |
JPH11254378A (ja) * | 1998-03-13 | 1999-09-21 | Ebara Corp | 基板ハンドリングロボット |
KR100284553B1 (ko) * | 1998-09-03 | 2001-04-02 | 윤종용 | 웨이퍼 이송 장치 |
KR20000030950A (ko) | 1998-10-20 | 2000-06-05 | 윤종용 | 반도체 웨이퍼 이송장치 |
KR20010081843A (ko) | 2000-02-19 | 2001-08-29 | 윤종용 | 반도체 웨이퍼를 수용하기 위한 카세트 |
JP2003072944A (ja) * | 2001-09-03 | 2003-03-12 | Hirata Corp | ワーク搬送装置およびワーク搬送装置における走行路のシール構造 |
-
2002
- 2002-10-22 KR KR10-2002-0064648A patent/KR100482009B1/ko active IP Right Grant
-
2003
- 2003-07-22 JP JP2003277862A patent/JP3902768B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-07-29 US US10/628,244 patent/US6997670B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100482009B1 (ko) | 2005-04-14 |
JP2004146794A (ja) | 2004-05-20 |
KR20040035485A (ko) | 2004-04-29 |
US6997670B2 (en) | 2006-02-14 |
US20040076506A1 (en) | 2004-04-22 |
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Legal Events
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050930 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110112 Year of fee payment: 4 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130112 Year of fee payment: 6 |
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