JP3901961B2 - パターン修正装置およびパターン修正方法 - Google Patents
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【発明の属する技術分野】
この発明はパターン修正装置およびパターン修正方法に関し、特に、LCD,PDPなどのフラットパネルディスプレイやプリント基板などの電極パターン同士が短絡するような欠陥を修正するパターン修正装置およびパターン修正方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
フラットパネルディスプレイの用途拡大に伴って価格競争が激しくなり、製造現場では原価低減を図るために省人化やタクトタイムの短縮が行なわれている。
また、環境への配慮から廃棄物の低減を図るためにさらなる歩留まりの向上が期待され、パネル上に発生する欠陥を修正する必要性がますます高まっている。このような状況の中、修正工程においては主に省人化のための対策が取られている。
【0003】
図27は従来のパターン修正装置の外観図であり、特開2000−49442号公報に記載されているものである。パターン修正装置は、レーザや光学系を含む修正機構1と、欠陥修正用インクや導電性ペーストやインクを塗布するインク塗布機構2と、ワークを搭載するためのXYテーブル3と、XYテーブル3上でワークを保持するチャック台4と、修正機構1を上下に駆動するZ軸テーブル5と、ワークを照明するための透過照明6とを含む。
【0004】
さらに、パターン修正装置には、欠陥を認識するための画像処理装置7と、制御用コンピュータ8と、ホストコンピュータ9と、モニタ10などの電気的構成が設けられている。
【0005】
このようなパターン修正装置においての修正作業は、次のようにして行なわれる。図示しない修正パネルをチャック台4にローディングすると、画像処理機構7はパネル座標系とチャックテーブル座標系との関係式を求め、この関係式を使用してパネル上の欠陥座標をXYテーブル3上の座標に変換した後、欠陥箇所を修正位置に移動する。通常、パネル上の所定の位置に印(アライメントマーク)がマーキングされており、この印を画像処理装置7による画像処理により検出してパネル座標系を定義する。
【0006】
次に、アライメントマークや欠陥箇所を対物レンズの焦点に自動的に合わせる。焦点位置では画像のコントラストが極大になるので、この極大点を画像処理により検出する。このような焦点合わせについては、特開2000−56210号公報に記載されている。
【0007】
欠陥検出に際しては、アライメントにより欠陥箇所が観察できる範囲内に位置決めすることは可能であるが、XYテーブル3の位置決め精度の影響で修正位置に正確に位置決めすることができない場合がある。そこで、画像処理により欠陥箇所を検出し、修正位置に正確に位置合せする制御が行なわれる。
【0008】
このような位置合わせ後に修正作業が行なわれる。パターン同士が短絡しているような欠陥の修正は、修正機構1からレーザ光を欠陥箇所に照射し、短絡部を切断することにより行なわれる。パターンが欠如しているような欠陥は、インク塗布機構2により導電性のある粘性の高いペーストを針先に付着させてパターンが欠如している部分に塗布し、パターン同士を接続する。この修正作業によってパターン欠陥の修正が行なわれる。このような欠陥修正については、特開平08−114792号公報などで詳細に説明されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
上述のパターン修正方法において、レーザ光の種類や波長やパワーなどの修正条件によっては不良が発生する場合がある。これを監視するために熟練した作業者が必要となり、省人化に逆行することになる。
【0010】
それゆえに、この発明の主たる目的は、画像処理を利用して修正不良箇所を検出し、不良判定を自動化し得るパターン修正装置およびパターン修正方法を提供することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】
この発明に係るパターン修正装置は、基板上に形成されたパターンの欠陥を修正するパターン修正装置において、欠陥を含む所定の範囲の画像を撮像する第1の撮像手段と、第1の撮像手段によって撮像された画像を記録する記録手段と、欠陥を修正する修正手段と、修正手段によって欠陥が修正された修正部を含む所定の範囲の画像を撮像する第2の撮像手段と、記録手段に記録された画像のうちの欠陥の画像と第2の撮像手段によって撮像された画像のうちの修正部の画像との輝度の差分値を画素毎に求め、求めた差分値群としきい値とを比較し、比較結果に基づいて修正不良の有無を判定する画像処理手段と、記録手段に記録された画像の輝度と第2の撮像手段によって撮像された画像の輝度とに基づいてしきい値を補正するしきい値補正手段とを備えたことを特徴とする。
【0012】
このように画像処理を利用して修正作業後のパターンを検出することにより不良箇所の判定を行なうことができ、熟練した作業者が常に監視する必要がなくなり、省人化やタクトタイムを短縮できる。
【0014】
また、撮像手段によりパターンを撮像することができるので、リアルタイムで修正作業後のパターンの画像を取得できる。
【0016】
また、記録手段に画像を保存することにより、保存した画像を参照して解析することができる。また、画像の輝度が変化する場合に、しきい値を補正することで誤検出を解消できる。
【0017】
好ましくは、欠陥はパターン同士が短絡した短絡欠陥であり、修正手段は短絡欠陥にレーザ光を照射して除去する。
また好ましくは、しきい値補正手段は、記録手段に記録された画像のうちの基準輝度算出エリアの平均輝度と第2の撮像手段によって撮像された画像のうちの基準輝度算出エリアの平均輝度との差分値に基づいてしきい値を補正する。
【0019】
また、この発明に係るパターン修正方法は、基板上に形成されたパターンの欠陥を修正するパターン修正方法において、欠陥を含む所定の範囲の画像を撮像する第1のステップと、第1のステップで撮像された画像を記録する第2のステップと、欠陥を修正する第3のステップと、第3のステップで欠陥が修正された修正部を含む所定の範囲の画像を撮像する第4のステップと、第2のステップで記録された画像のうちの欠陥の画像と第4のステップで撮像された画像のうちの修正部の画像との輝度の差分値を画素毎に求め、求めた差分値群としきい値とを比較し、比較結果に基づいて修正不良の有無を判定する第5のステップとを含むことを特徴とする。
【0020】
好ましくは、欠陥はパターン同士が短絡した短絡欠陥であり、第3のステップでは短絡欠陥にレーザ光を照射して除去する。
【0021】
【発明の実施の形態】
図1はこの発明の一実施形態のブロック図である。図1に示したパターン修正装置のブロック図は従来例の図27に示した外観図を電気的ブロック図で表したものである。
【0022】
図1において、修正機構1は撮像手段としてのCCDカメラ11と、レーザまたは塗布機構12と、顕微鏡筒13と、対物レンズ14と、照明装置15とを含み、位置決め装置20はXYテーブル3と、Z軸テーブル5と、テーブル制御装置21とを含む。CCDカメラ11はパターンの画像を撮像し、その画像信号を画像処理装置7に与える。画像処理装置7は画像を記録するための画像記録装置71を含み、CCDカメラ11で撮像された画像の画像処理を行ない、その画像出力を観察用として画像表示モニタ10に表示する。レーザまたは塗布機構12はレーザまたは塗布機構のいずれかを含むが両方を備えていてもよい。
【0023】
制御用コンピュータ8はホストコンピュータ9からの指令に応じて修正機構1と、位置決め装置20と、画像処理装置7を制御する。ホストコンピュータ9は製造ラインの他の装置との通信および修正作業の総合的な制御を行なう。
【0024】
図2は図1に示したレーザ照射機構の具体例を示す図である。図2において、レーザ501として一般にYAGレーザが用いられ、このレーザ501からのレーザ光はビーム拡大機構502で拡大された後、フィルタ503,ビームスプリッタ504,スリット機構505,ビームスプリッタ506,結像レンズ507,ビームスプリッタ508,対物レンズ509を通過し、パターン上に照射される。
【0025】
ビーム拡大機構502は十分なレーザビーム径と均一なエネルギ強度分布で大面積の欠陥を修正するために設けられている。レーザビーム径は通常2mm程度であり、これをビーム拡大機構502によって3〜5倍程度に拡大する。また、レーザビームを拡大することにより、ビームの中心と周囲とのエネルギ差が緩和され、上述の役目を果たす。ビームスプリッタ506に関連してCCDカメラ11が配置されており、パターンからの反射光が撮像される。
【0026】
図3はこの発明の一実施形態の動作を説明するためのフローチャートである。図3を参照して修正処理の概要について説明する。ホストコンピュータ9は制御用コンピュータ8にパネルのローディング指令を出力する。制御用コンピュータ8は位置決め装置20を制御してXYテーブル3の面にパネルをローディングして固定する。この際、パネル座標系とテーブル座標系との位置関係を求めるためにアライメント作業が行なわれる。
【0027】
制御用コンピュータ8は、パネル座標系とテーブル座標系との関係式を求め、この関係式を使用してパネル上の欠陥座標をXYテーブル3上の座標に変換した後、位置決め装置20を制御して対物レンズ14の真下に欠陥箇所を移動させる。その際、画像処理装置7を利用して欠陥部の焦点合わせと位置検出を行ない、修正位置に位置決めする。その後、レーザまたは塗布機構12により所定の修正処理を行なった後、画像処理装置7によって不良判定が行なわれる。不良があれば再度修正処理が行なわれ、不良を発見できなければ処理を終了する。
【0028】
次に、図4〜図26を参照して、この発明の実施形態についてより具体的に説明する。図4に示すようにA電極パターンとB電極パターンとがC電極によって電気的に短絡しているものとする。前述の図3の説明にしたがって、レーザ光が照射される部分であるショット部の欠陥座標が取得されて対物レンズ14の真下に移動される。
【0029】
CCDカメラ11によって図5に示すレーザ照射前の画像が撮像されて画像処理装置7の画像記録装置71に記録される。画像処理装置7は図6に示すようにショット部をパターンマッチングにより求め、制御用コンピュータ8は図2に示すレーザ501を駆動してショット部にレーザ光を照射して切断する。
【0030】
次に、CCDカメラ11によって図7に示すレーザ照射後の画像Aを撮像して画像処理装置7に記録する。画像処理装置7は図7のショット後の画像Aから既に記録してある図5に示すショット前の画像Bを差し引く処理を行なう。このときショット前後において、ショット部のみ明るさが変化するので、図8に示す引き算後の画像Sはレーザ照射部分のみコントラストが付く。この画像Sは予め定めるしきい値により2値化される。2値化において、しきい値より大きい画素は白、小さい画素は黒とされる。
【0031】
図9〜図11は正常に修正できた場合を示し、図12〜図14は金属膜が残った場合を示す。
【0032】
図9に示した修正後のショット部の輝度ヒストグラムを取ると図11に示すようになる。図11は横軸に輝度(明るさ)を取り、縦軸にその頻度を取ったものであり、画像の明るさ分布を把握できる。レーザ照射後は金属膜が剥がれるため、ショット部は背景(図9の斜線部分)と同等の明るさとなる。したがって、画像Aから画像Bを引くと、図10に示すショット部の差分値は負の値を示す。このことから、正常に修正できた場合はヒストグラムにおいて分布が図11の差分値0より左側に現われる。
【0033】
これに対して、図12に示すように金属膜が残った場合は、その部分が図13に示す不良箇所としてショット前の明るさと同輝度の部分が残るため、図14に示すように差分値0の近傍に分布ができる。図14の左側のヒストグラムは図11と同様にしてショット部によるヒストグラムである。
【0034】
よって、図15に示すように分布Aと分布Bとの中間にしきい値を敷けばよいことが分かる。このように設定されたしきい値で2値化すると図16および図17のようになる。図16は不良箇所がない場合であり黒レベルで示されており、、図17は不良箇所がある場合であり不良箇所が白レベルとして示されている。
【0035】
次に、しきい値の補正方法について説明する。膜厚にばらつきがあり同一パネルでも画像のコントラストが変化する場合、しきい値を固定とすると誤検出を起こす可能性がある。そこで、予め指定したエリアの平均輝度を基準輝度とし、2値化の際に画像上の同一エリアの平均輝度を求め、これらの差分値をしきい値のシフト量とする。
【0036】
図18〜図20は通常の場合を示し、図21〜図23は背景が明るい場合を示す。図18に示す通常の場合と比較して、図21に示すように背景が明るくなると、図22に示すショット部のヒストグラムの分布は図20に比べて図23に示すように右の方向にシフトし、この状態で図15と同じしきい値を敷くとしきい値の右側にショット部が現われ、これを誤検出してしまう。
【0037】
そこで、図24に示すようにコントラストの変化する部分を基準輝度算出エリアとして設定し、2値化の際にこの内部の平均輝度と検査時の画像の同一エリア内の平均輝度との差分値dを取り、これをしきい値に加えることにより補正する。図25に示す通常の場合に比べて背景が明るくなった場合、dだけシフトすればよいことから、図26に示すように補正前のしきい値からdだけシフトして補正後のしきい値とすれば、図20と図23の分布のシフト量は背景のコントラスト変化とほぼ同量となる。
【0038】
不良箇所を求めるときは画像Sをしきい値により2値化した結果、白となった画素をカウントし、カウント値がある値以上となった場合に不良箇所が存在することとし、再度修正作業を行なう。
【0039】
上述のごとく、この発明の実施形態によれば、修正作業前後の電極パターンをCCDカメラ11で撮像して画像処理により不良判定を自動的に行なうことができ、熟練した作業者による監視を不要にできる。しかも、画像処理時に画像のコントラストが変化する場合において、しきい値補正することにより誤検出を解消できる。
【0040】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【0041】
【発明の効果】
以上のように、この発明によれば、基板上に形成されたパターンの欠陥を修正するパターン修正装置において、修正作業後のパターンを画像処理して検出することにより不良箇所の判定を行なうことができ、熟練した作業者が常に監視する必要がなくなり、省人化やタクトタイムを短縮できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の一実施形態のブロック図である。
【図2】 図1に示したレーザ照射機構の具体例を示す図である。
【図3】 この発明の一実施形態の動作を説明するためのフローチャートである。
【図4】 パネルの電極パターンの一部を示す図である。
【図5】 図4の電極パターンを撮像した画像を示す図である。
【図6】 レーザが照射されるショット部を示す図である。
【図7】 ショット後の画像を示す図である。
【図8】 ショット後の画像からショット前の画像を差し引いた画像を示す図である。
【図9】 正常に修正できたショット部の画像を示す図である。
【図10】 正常に修正できたショット部の差分画像を示す図である。
【図11】 正常に修正できたショット部のヒストグラムを示す図である。
【図12】 金属が残った場合のショット部の画像を示す図である。
【図13】 金属が残った場合のショット部の差分画像を示す図である。
【図14】 金属が残った場合のショット部のヒストグラムを示す図である。
【図15】 分布Aと分布Bとの間にしきい値を設定して例を示す図である。
【図16】 不良箇所がない場合の2値化後のパターンの画像を示す図である。
【図17】 不良箇所がある場合の2値化後のパターンの画像を示す図である。
【図18】 通常のパターン画像を示す図である。
【図19】 通常のショット部の差分画像を示す図である。
【図20】 通常のショット部のヒストグラムを示す図である。
【図21】 背景が明るい場合のショット部の画像を示す図である。
【図22】 背景が明るい場合の差分画像を示す図である。
【図23】 背景が明るい場合のショット部のヒストグラムを示す図である。
【図24】 基準算出エリアを示す図である。
【図25】 通常の場合と背景が明るくなった場合の輝度値の変化を示す図である。
【図26】 補正前のしきい値と補正後のしきい値とを示す図である。
【図27】 従来のパターン修正装置の外観図である。
【符号の説明】
1 修正機構、3 XYテーブル、5 Z軸テーブル、7 画像処理装置、8制御用コンピュータ、9 ホストコンピュータ、10 画像表示モニタ、11CCDカメラ、12 レーザまたは塗布機構、13 顕微鏡筒、14 対物レンズ、15 照明装置、21 テーブル制御装置、71 画像記録装置、501レーザ。
Claims (5)
- 基板上に形成されたパターンの欠陥を修正するパターン修正装置において、
前記欠陥を含む所定の範囲の画像を撮像する第1の撮像手段と、
前記第1の撮像手段によって撮像された画像を記録する記録手段と、
前記欠陥を修正する修正手段と、
前記修正手段によって前記欠陥が修正された修正部を含む前記所定の範囲の画像を撮像する第2の撮像手段と、
前記記録手段に記録された画像のうちの前記欠陥の画像と前記第2の撮像手段によって撮像された画像のうちの前記修正部の画像との輝度の差分値を画素毎に求め、求めた差分値群としきい値とを比較し、比較結果に基づいて修正不良の有無を判定する画像処理手段と、
前記記録手段に記録された画像の輝度と前記第2の撮像手段によって撮像された画像の輝度とに基づいて前記しきい値を補正するしきい値補正手段とを備えたことを特徴とする、パターン修正装置。 - 前記欠陥はパターン同士が短絡した短絡欠陥であり、
前記修正手段は前記短絡欠陥にレーザ光を照射して除去することを特徴とする、請求項1に記載のパターン修正装置。 - 前記しきい値補正手段は、前記記録手段に記録された画像のうちの基準輝度算出エリアの平均輝度と前記第2の撮像手段によって撮像された画像のうちの前記基準輝度算出エリアの平均輝度との差分値に基づいて前記しきい値を補正することを特徴とする、請求項1または請求項2に記載のパターン修正装置。
- 基板上に形成されたパターンの欠陥を修正するパターン修正方法において、
前記欠陥を含む所定の範囲の画像を撮像する第1のステップと、
前記第1のステップで撮像された画像を記録する第2のステップと、
前記欠陥を修正する第3のステップと、
前記第3のステップで前記欠陥が修正された修正部を含む前記所定の範囲の画像を撮像する第4のステップと、
前記第2のステップで記録された画像のうちの前記欠陥の画像と前記第4のステップで撮像された画像のうちの前記修正部の画像との輝度の差分値を画素毎に求め、求めた差分値群としきい値とを比較し、比較結果に基づいて修正不良の有無を判定する第5のステップとを含むことを特徴とする、パターン修正方法。 - 前記欠陥はパターン同士が短絡した短絡欠陥であり、
前記第3のステップでは前記短絡欠陥にレーザ光を照射して除去することを特徴とする、請求項4に記載のパターン修正方法。
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