JPH08114792A - 欠陥修正用光学装置、欠陥修正装置および欠陥部位置合せ方法 - Google Patents
欠陥修正用光学装置、欠陥修正装置および欠陥部位置合せ方法Info
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- JPH08114792A JPH08114792A JP6247831A JP24783194A JPH08114792A JP H08114792 A JPH08114792 A JP H08114792A JP 6247831 A JP6247831 A JP 6247831A JP 24783194 A JP24783194 A JP 24783194A JP H08114792 A JPH08114792 A JP H08114792A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 この発明は、人手を介することなく、欠陥部
へのレーザ照射、欠陥部の認定および欠陥部のレーザ照
射位置への位置決めを可能とする欠陥修正用光学装置、
欠陥修正装置および欠陥部位置合せ方法を提供すること
を目的とする。 【構成】 欠陥修正装置は、Ｚ軸テーブル１４、欠陥修
正用光学装置１５、チャックテーブル１６、ＸＹステー
ジ８、モニタ１７、画像処理ユニット１８、制御用コン
ピュータ１９およびホストコンピュータ２０からなる。
欠陥修正用光学装置１５は、レーザ光を正常部と相似形
状の図示しないスリット（図１のスリット５に相当）を
介して欠陥部に照射し、欠陥を修正する。画像処理ユニ
ット１８、制御用コンピュータ１９およびホストコンピ
ュータ２０は、欠陥部の検出、欠陥部のレーザ照射位置
への位置合せを行なう。その結果、人手が不要となり、
作業効率および欠陥修正精度が向上し、人件費も少なく
てすむ。
へのレーザ照射、欠陥部の認定および欠陥部のレーザ照
射位置への位置決めを可能とする欠陥修正用光学装置、
欠陥修正装置および欠陥部位置合せ方法を提供すること
を目的とする。 【構成】 欠陥修正装置は、Ｚ軸テーブル１４、欠陥修
正用光学装置１５、チャックテーブル１６、ＸＹステー
ジ８、モニタ１７、画像処理ユニット１８、制御用コン
ピュータ１９およびホストコンピュータ２０からなる。
欠陥修正用光学装置１５は、レーザ光を正常部と相似形
状の図示しないスリット（図１のスリット５に相当）を
介して欠陥部に照射し、欠陥を修正する。画像処理ユニ
ット１８、制御用コンピュータ１９およびホストコンピ
ュータ２０は、欠陥部の検出、欠陥部のレーザ照射位置
への位置合せを行なう。その結果、人手が不要となり、
作業効率および欠陥修正精度が向上し、人件費も少なく
てすむ。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、欠陥修正用光学装置、
欠陥修正装置および欠陥部位置合せ方法に関し、特に、
液晶産業における液晶表示装置（ＬＣＤ）用ブラックマ
トリックス基板の欠陥を修正するための欠陥修正用光学
装置、欠陥修正装置および欠陥部位置合せ方法に関す
る。
欠陥修正装置および欠陥部位置合せ方法に関し、特に、
液晶産業における液晶表示装置（ＬＣＤ）用ブラックマ
トリックス基板の欠陥を修正するための欠陥修正用光学
装置、欠陥修正装置および欠陥部位置合せ方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＬＣＤ用ブラックマトリックス基
板の製造過程において、何らかの原因により正常形状を
有していない欠陥画素のような欠陥部が生じる場合があ
り、このような欠陥部の修正はレーザ光を照射すること
により行なわれていた。
板の製造過程において、何らかの原因により正常形状を
有していない欠陥画素のような欠陥部が生じる場合があ
り、このような欠陥部の修正はレーザ光を照射すること
により行なわれていた。
【０００３】図８は従来のＬＣＤ用ブラックマトリック
ス基板の欠陥修正装置の一例の構成を模式的に示す図で
ある。
ス基板の欠陥修正装置の一例の構成を模式的に示す図で
ある。
【０００４】図８において、欠陥修正装置は、レーザ源
２９から発生したレーザ光２を、出力コントロール機構
３０、ビームスプリッタ４ａ、スリット機構３１、ビー
ムスプリッタ４ｂ、結像レンズ６、ビームスプリッタ４
ｃ、および対物レンズ７を介して、光を透過する材質で
形成されたＸＹステージ８に固定されたブラックマトリ
ックス基板９面上の欠陥部に照射し、欠陥を修正する。
２９から発生したレーザ光２を、出力コントロール機構
３０、ビームスプリッタ４ａ、スリット機構３１、ビー
ムスプリッタ４ｂ、結像レンズ６、ビームスプリッタ４
ｃ、および対物レンズ７を介して、光を透過する材質で
形成されたＸＹステージ８に固定されたブラックマトリ
ックス基板９面上の欠陥部に照射し、欠陥を修正する。
【０００５】欠陥部の認定および欠陥部へ照射するレー
ザ光の形状や位置決めは、ブラックマトリックス基板９
の下部に設置した透過照明光源１０からの照明により生
じるブラックマトリックス基板９の影と落射照明光源１
１からの照明により生じるブラックマトリックス基板表
面の像とをＣＣＤカメラ１２で撮像してモニタ（図示せ
ず）に映し出し、オペレータがモニタの像を肉眼で観察
しながら行なっていた。
ザ光の形状や位置決めは、ブラックマトリックス基板９
の下部に設置した透過照明光源１０からの照明により生
じるブラックマトリックス基板９の影と落射照明光源１
１からの照明により生じるブラックマトリックス基板表
面の像とをＣＣＤカメラ１２で撮像してモニタ（図示せ
ず）に映し出し、オペレータがモニタの像を肉眼で観察
しながら行なっていた。
【０００６】また、スリット照明光源１３は、スリット
機構３１のスリット形状をブラックマトリクス基板９上
に結像させ、オペレータがレーザ光２の照明寸法を確認
する。
機構３１のスリット形状をブラックマトリクス基板９上
に結像させ、オペレータがレーザ光２の照明寸法を確認
する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従来の欠陥修正装置で
は、欠陥部へレーザ光２を照射する場合、欠陥部より面
積の小さい照射エリア（方形あるいは丸形）のレーザ光
を数回に分けて照射することにより手動で欠陥の修正を
行なっていた。このため、修正に時間および人手がかか
るばかりではなく、修正の精度においても問題があっ
た。
は、欠陥部へレーザ光２を照射する場合、欠陥部より面
積の小さい照射エリア（方形あるいは丸形）のレーザ光
を数回に分けて照射することにより手動で欠陥の修正を
行なっていた。このため、修正に時間および人手がかか
るばかりではなく、修正の精度においても問題があっ
た。
【０００８】さらに、従来の欠陥修正装置では、欠陥部
の認定および欠陥部へ照射するレーザ光の位置決めを肉
眼で行なっていたため修正に時間および人手がかかるば
かりではなく、修正の精度においても問題があった。
の認定および欠陥部へ照射するレーザ光の位置決めを肉
眼で行なっていたため修正に時間および人手がかかるば
かりではなく、修正の精度においても問題があった。
【０００９】この発明は、以上のような問題点を解決す
るためになされたもので、人手を介することなく欠陥部
へのレーザ光照射、欠陥部の認定および欠陥部の照射位
置への位置決めを可能とする欠陥修正用光学装置、欠陥
修正装置、欠陥部位置合せ方法を提供することを目的と
する。
るためになされたもので、人手を介することなく欠陥部
へのレーザ光照射、欠陥部の認定および欠陥部の照射位
置への位置決めを可能とする欠陥修正用光学装置、欠陥
修正装置、欠陥部位置合せ方法を提供することを目的と
する。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１の欠陥
修正用光学装置は、ブラックマトリックス基板の欠陥部
にレーザ光線を照射するレーザ源と、レーザ源とブラッ
クマトリックス基板の欠陥部との間に配される、ブラッ
クマトリックス基板の正常部と相似形状のスリットとを
設けたものである。
修正用光学装置は、ブラックマトリックス基板の欠陥部
にレーザ光線を照射するレーザ源と、レーザ源とブラッ
クマトリックス基板の欠陥部との間に配される、ブラッ
クマトリックス基板の正常部と相似形状のスリットとを
設けたものである。
【００１１】本発明の請求項２の欠陥修正装置は、欠陥
修正用光学装置と、ブラックマトリックス基板が載置さ
れ、水平方向に移動自在なテーブルと、テーブル上にブ
ラックマトリックス基板を固定する固定手段とを備え、
欠陥修正用光学装置は、ブラックマトリックス基板の欠
陥部にレーザ光線を照射するレーザ源と、レーザ源とブ
ラックマトリックス基板の欠陥部との間に配される、ブ
ラックマトリックス基板の正常部と相似形状のスリット
とを設けたものである。
修正用光学装置と、ブラックマトリックス基板が載置さ
れ、水平方向に移動自在なテーブルと、テーブル上にブ
ラックマトリックス基板を固定する固定手段とを備え、
欠陥修正用光学装置は、ブラックマトリックス基板の欠
陥部にレーザ光線を照射するレーザ源と、レーザ源とブ
ラックマトリックス基板の欠陥部との間に配される、ブ
ラックマトリックス基板の正常部と相似形状のスリット
とを設けたものである。
【００１２】本発明の請求項３の欠陥部位置合せ方法
は、ブラックマトリックス基板の正常部をレーザ照射位
置に位置決めするステップと、正常部の形状を登録する
ステップと、正常部と隣接する正常隣接部の位置を登録
するステップと、正常隣接部の形状を登録するステップ
と、ブラックマトリックス基板を移動させ、正常部の形
状と欠陥部の形状との相関により欠陥部を検出するステ
ップと、正常隣接部の形状と検出された欠陥部に隣接す
る欠陥隣接部の形状との相関により欠陥隣接部を検出す
るステップと、欠陥隣接部の位置を登録するステップ
と、欠陥隣接部の正常隣接部に対する相対的な位置を計
算するステップと、計算された相対的な位置に基づいて
欠陥隣接部を正常隣接部の位置に移動させ、欠陥部を正
常部の位置であるレーザ照射位置に設定させるステップ
とを含むものである。
は、ブラックマトリックス基板の正常部をレーザ照射位
置に位置決めするステップと、正常部の形状を登録する
ステップと、正常部と隣接する正常隣接部の位置を登録
するステップと、正常隣接部の形状を登録するステップ
と、ブラックマトリックス基板を移動させ、正常部の形
状と欠陥部の形状との相関により欠陥部を検出するステ
ップと、正常隣接部の形状と検出された欠陥部に隣接す
る欠陥隣接部の形状との相関により欠陥隣接部を検出す
るステップと、欠陥隣接部の位置を登録するステップ
と、欠陥隣接部の正常隣接部に対する相対的な位置を計
算するステップと、計算された相対的な位置に基づいて
欠陥隣接部を正常隣接部の位置に移動させ、欠陥部を正
常部の位置であるレーザ照射位置に設定させるステップ
とを含むものである。
【００１３】
【作用】請求項１の欠陥修正用光学装置においては、レ
ーザ光を、ブラックマトリックス基板の正常部と相似形
状のスリットを介して、欠陥部に照射するので、１回の
照射で欠陥の修正を完了できる。
ーザ光を、ブラックマトリックス基板の正常部と相似形
状のスリットを介して、欠陥部に照射するので、１回の
照射で欠陥の修正を完了できる。
【００１４】請求項２の欠陥修正装置においては、レー
ザ光をブラックマトリックス基板の正常部と相似形状の
スリットを介して、水平方向に移動自在なテーブルの上
に載置されたブラックマトリックス基板上の欠陥部に照
射するので、欠陥部を正確なレーザ照射位置に設置する
ことができ、１回の照射で欠陥の修正を完了できる。
ザ光をブラックマトリックス基板の正常部と相似形状の
スリットを介して、水平方向に移動自在なテーブルの上
に載置されたブラックマトリックス基板上の欠陥部に照
射するので、欠陥部を正確なレーザ照射位置に設置する
ことができ、１回の照射で欠陥の修正を完了できる。
【００１５】請求項３の欠陥部位置合せ方法において
は、正規化相関法によるパターン認識を用いて、欠陥部
を検出する。
は、正規化相関法によるパターン認識を用いて、欠陥部
を検出する。
【００１６】そして、欠陥隣接部の正常隣接部に対する
相対的位置を計算し、欠陥部をレーザ照射位置に設定す
るため、オペレータによる肉眼での位置決め作業が不要
となる。
相対的位置を計算し、欠陥部をレーザ照射位置に設定す
るため、オペレータによる肉眼での位置決め作業が不要
となる。
【００１７】
【実施例】以下、本発明による欠陥修正用光学装置、欠
陥修正装置および欠陥部位置合せ方法について、図面を
参照しながら説明する。
陥修正装置および欠陥部位置合せ方法について、図面を
参照しながら説明する。
【００１８】（実施例１）図１は、本発明の第１の実施
例による欠陥修正装置を示す概略図である。
例による欠陥修正装置を示す概略図である。
【００１９】図１において、欠陥修正装置は、ＹＡＧレ
ーザ源１から発生したレーザ光２を、ビーム拡大機構
３、ビームスプリッタ４ａ、スリット５、ビームスプリ
ッタ４ｂ、結像レンズ６、ビームスプリッタ４ｃおよび
対物レンズ７を介して、光を透過する材質で形成された
ＸＹステージ８にチャックテーブル（図示せず）で固定
されているブラックマトリックス基板９面上の欠陥画素
（欠陥部）に照射することにより欠陥を修正する。
ーザ源１から発生したレーザ光２を、ビーム拡大機構
３、ビームスプリッタ４ａ、スリット５、ビームスプリ
ッタ４ｂ、結像レンズ６、ビームスプリッタ４ｃおよび
対物レンズ７を介して、光を透過する材質で形成された
ＸＹステージ８にチャックテーブル（図示せず）で固定
されているブラックマトリックス基板９面上の欠陥画素
（欠陥部）に照射することにより欠陥を修正する。
【００２０】なお、ＹＡＧレーザ源１、ビーム拡大機構
３、ビームスプリッタ４ａ、スリット５、ビームスプリ
ッタ４ｂ、結像レンズ６、ビームスプリッタ４ｃおよび
対物レンズ７は欠陥修正用光学装置１５を構成する。
３、ビームスプリッタ４ａ、スリット５、ビームスプリ
ッタ４ｂ、結像レンズ６、ビームスプリッタ４ｃおよび
対物レンズ７は欠陥修正用光学装置１５を構成する。
【００２１】また、透過照明光源１０からの照明により
生じる画素の影と落射照明光源１１からの照明により生
じる画素自体の像とを、ＣＣＤカメラ１２で撮像し、モ
ニタ（図示せず）に写す。
生じる画素の影と落射照明光源１１からの照明により生
じる画素自体の像とを、ＣＣＤカメラ１２で撮像し、モ
ニタ（図示せず）に写す。
【００２２】スリット照明光源１３は、スリット形状を
ブラックマトリックス基板９上に結像させるものであ
り、その結像位置に正常画素（正常部）を位置決めし、
欠陥画素のレーザ照射位置への位置合せの基準とする。
ブラックマトリックス基板９上に結像させるものであ
り、その結像位置に正常画素（正常部）を位置決めし、
欠陥画素のレーザ照射位置への位置合せの基準とする。
【００２３】本装置においては、大面積の欠陥を１回の
レーザ照射で修正するため、レーザ光のビームスポット
径が大きく、レーザ光エネルギ強度分布が均一であるこ
とが必要となる。
レーザ照射で修正するため、レーザ光のビームスポット
径が大きく、レーザ光エネルギ強度分布が均一であるこ
とが必要となる。
【００２４】そこで、複数のレンズの組合せであるビー
ム拡大機構３により、直径２ｍｍのビームスポット径を
直径１０ｍｍ程度まで拡大している。
ム拡大機構３により、直径２ｍｍのビームスポット径を
直径１０ｍｍ程度まで拡大している。
【００２５】図２は、縦軸をレーザ光のエネルギ強度、
横軸をビームスポット幅としたレーザ光のエネルギ強度
分布を表わす図である。
横軸をビームスポット幅としたレーザ光のエネルギ強度
分布を表わす図である。
【００２６】Ｏ点は、レーザ光のビームスポットの中心
点であり、ｃは、欠陥の修正に必要な最低エネルギであ
る。
点であり、ｃは、欠陥の修正に必要な最低エネルギであ
る。
【００２７】通常、レーザ光のエネルギ強度は、Ａのよ
うな分布をしているので、ビームスポットの中心Ｏ点で
のエネルギと、欠陥の修正に必要なエネルギｃとの差ａ
が問題となる。
うな分布をしているので、ビームスポットの中心Ｏ点で
のエネルギと、欠陥の修正に必要なエネルギｃとの差ａ
が問題となる。
【００２８】このため、ビーム拡大機構により、レーザ
光のエネルギをＢのような強度分布とし、ビームスポッ
トの中心Ｏ点と欠陥の修正に必要な最低のエネルギｃと
の差を小さくしている（ｂ）。
光のエネルギをＢのような強度分布とし、ビームスポッ
トの中心Ｏ点と欠陥の修正に必要な最低のエネルギｃと
の差を小さくしている（ｂ）。
【００２９】通常のレーザ光では欠陥修正可能なエネル
ギを持つビームスポット幅ｄは小さいが、ビーム拡大機
構により、欠陥修正可能なビームスポット幅は大きくな
る（ｅ）。また、レーザ光は、正常画素と相似形状のス
リット（図１のスリット５）を介して、欠陥画素に照射
する。
ギを持つビームスポット幅ｄは小さいが、ビーム拡大機
構により、欠陥修正可能なビームスポット幅は大きくな
る（ｅ）。また、レーザ光は、正常画素と相似形状のス
リット（図１のスリット５）を介して、欠陥画素に照射
する。
【００３０】図３は、スリット（図１のスリット５）の
取付部を示す外観斜視図である。図示しないスリット
は、手動によりＸ−Ｙ−θ方向に移動可能である。Ｘ−
Ｙ−θ移動機構は自動でもよい。また、複数のスリット
が必要な場合は、回転式でも左右揺動式でもよい。
取付部を示す外観斜視図である。図示しないスリット
は、手動によりＸ−Ｙ−θ方向に移動可能である。Ｘ−
Ｙ−θ移動機構は自動でもよい。また、複数のスリット
が必要な場合は、回転式でも左右揺動式でもよい。
【００３１】図４に、欠陥を修正するプロセスを示す。
欠陥画素Ｃに、スリット（図１のスリット５）を通過さ
せることによってレーザ照射形状が正常画素と同一にさ
れたレーザ光（Ｄ）を照射し（Ｅ）、欠陥を修正する
（Ｆ）。
欠陥画素Ｃに、スリット（図１のスリット５）を通過さ
せることによってレーザ照射形状が正常画素と同一にさ
れたレーザ光（Ｄ）を照射し（Ｅ）、欠陥を修正する
（Ｆ）。
【００３２】以上のように、実施例１では、レーザ光を
正常画素と相似形状のスリットを介して、欠陥画素に照
射して、欠陥を修正する。
正常画素と相似形状のスリットを介して、欠陥画素に照
射して、欠陥を修正する。
【００３３】その結果、１回の照射で欠陥の修正が完了
するため、作業効率および修正精度が向上する。
するため、作業効率および修正精度が向上する。
【００３４】（実施例２）図５は、本発明の第２の実施
例による欠陥修正装置の構成を示す外観斜視図である。
例による欠陥修正装置の構成を示す外観斜視図である。
【００３５】図５において欠陥修正装置は、Ｚ軸テーブ
ル１４、欠陥修正用光学装置１５、チャックテーブル１
６、ＸＹステージ８、モニタ１７、画像処理ユニット１
８、制御用コンピュータ１９およびホストコンピュータ
２０からなる。
ル１４、欠陥修正用光学装置１５、チャックテーブル１
６、ＸＹステージ８、モニタ１７、画像処理ユニット１
８、制御用コンピュータ１９およびホストコンピュータ
２０からなる。
【００３６】ここで、欠陥修正用光学装置１５は、図１
に示す第１実施例の欠陥修正用光学装置１５と同様の構
成をしており、同様の効果を奏する。
に示す第１実施例の欠陥修正用光学装置１５と同様の構
成をしており、同様の効果を奏する。
【００３７】また、画像処理ユニット１８は、画像デー
タにより、欠陥画素検出およびフォーカシングを行な
い、モニタ１７は、ブラックマトリックス基板（欠陥修
正対象物）の画像を映す。
タにより、欠陥画素検出およびフォーカシングを行な
い、モニタ１７は、ブラックマトリックス基板（欠陥修
正対象物）の画像を映す。
【００３８】制御用コンピュータ１９は、ＸＹステージ
８、Ｚ軸テーブル１４、欠陥修正用光学装置１５、チャ
ックテーブル１６の制御を行なう。
８、Ｚ軸テーブル１４、欠陥修正用光学装置１５、チャ
ックテーブル１６の制御を行なう。
【００３９】ホストコンピュータ２０は、装置全体の制
御を担う。図６に、欠陥画素のレーザ照射位置への位置
合せ工程の概略図を示す。
御を担う。図６に、欠陥画素のレーザ照射位置への位置
合せ工程の概略図を示す。
【００４０】図５の欠陥修正用光学装置１５中の図示し
ないスリット照明光源（図１の光源１３に相当）によ
り、正常画素と相似形状の図示しないスリットを、ブラ
ックマトリックス基板上のレーザ照射位置２１に結像さ
せる。そして正常画素２２の位置を決定し、正常画素２
２の形状および正常画素位置（レーザ照射位置）２１を
登録する（Ｇ）。なお、破線部ｆの範囲内が登録され
る。
ないスリット照明光源（図１の光源１３に相当）によ
り、正常画素と相似形状の図示しないスリットを、ブラ
ックマトリックス基板上のレーザ照射位置２１に結像さ
せる。そして正常画素２２の位置を決定し、正常画素２
２の形状および正常画素位置（レーザ照射位置）２１を
登録する（Ｇ）。なお、破線部ｆの範囲内が登録され
る。
【００４１】さらに、正常画素２２に隣接する正常隣接
画素形状２３および正常隣接画素位置２４を登録する
（Ｇ）。
画素形状２３および正常隣接画素位置２４を登録する
（Ｇ）。
【００４２】次に、ブラックマトリックス基板をＸＹス
テージ（図示せず）で位置を変えながら欠陥画素２５を
検出する。
テージ（図示せず）で位置を変えながら欠陥画素２５を
検出する。
【００４３】欠陥画素２５の検出は、正規化相関法によ
るパターン認識を用いて行なう。すなわち、欠陥画素２
５の形状と先に登録された正常画素２２の形状との相関
値を計算し、相関値があるしきい値よりも低いものを欠
陥画素２５と判断する。
るパターン認識を用いて行なう。すなわち、欠陥画素２
５の形状と先に登録された正常画素２２の形状との相関
値を計算し、相関値があるしきい値よりも低いものを欠
陥画素２５と判断する。
【００４４】さらに、欠陥画素２５と隣接する欠陥隣接
画素形状２６と先に登録された正常隣接画素形状２３と
の相関により、欠陥画素に隣接した欠陥隣接画素２７を
検出し、欠陥隣接画素位置２８を登録する（Ｈ）。
画素形状２６と先に登録された正常隣接画素形状２３と
の相関により、欠陥画素に隣接した欠陥隣接画素２７を
検出し、欠陥隣接画素位置２８を登録する（Ｈ）。
【００４５】次に、欠陥隣接画素位置２８の正常隣接画
素位置２４に対する相対的な位置を計算し、欠陥隣接画
素位置２８を正常隣接画素位置２４の座標に移動させ
る。
素位置２４に対する相対的な位置を計算し、欠陥隣接画
素位置２８を正常隣接画素位置２４の座標に移動させ
る。
【００４６】これにより、画素は周期的に配列されてい
るため、必然的に欠陥画素２５はレーザ照射位置（正常
画素位置）２１に移動したことになる（Ｉ）。これで、
欠陥画素の位置決めは完了し、次に、欠陥修正用光学装
置を用いてレーザ光が照射され、欠陥を修正する。
るため、必然的に欠陥画素２５はレーザ照射位置（正常
画素位置）２１に移動したことになる（Ｉ）。これで、
欠陥画素の位置決めは完了し、次に、欠陥修正用光学装
置を用いてレーザ光が照射され、欠陥を修正する。
【００４７】図７は、欠陥画素の位置合せ工程を示すフ
ローチャートである。図７において、Ｓ１では、前段検
査装置からの欠陥画素位置データに基づいて、欠陥位置
にテーブルを移動させる。
ローチャートである。図７において、Ｓ１では、前段検
査装置からの欠陥画素位置データに基づいて、欠陥位置
にテーブルを移動させる。
【００４８】Ｓ２で正常画素が存在するかどうかを判断
する。正常画素が存在したら、Ｓ３に進む。Ｓ２で正常
画素が存在しなかったらＳ６に進む。
する。正常画素が存在したら、Ｓ３に進む。Ｓ２で正常
画素が存在しなかったらＳ６に進む。
【００４９】ここで、正常画素が存在しない場合には、
欠陥画素が存在する場合と欠陥画素がなく、正常画素の
一部が視野内に存在する場合とがある。
欠陥画素が存在する場合と欠陥画素がなく、正常画素の
一部が視野内に存在する場合とがある。
【００５０】Ｓ６で、登録された隣接画素形状により近
傍にある画素をレーザ照射位置に位置合せをし、Ｓ７で
再度正常画素があるかどうかを判断する。正常画素が存
在したらＳ８に進む。Ｓ７で正常画素が存在しなかった
ら、現在位置が欠陥画素位置合せ終了位置と判断して、
欠陥画素の位置合せは終了とする。
傍にある画素をレーザ照射位置に位置合せをし、Ｓ７で
再度正常画素があるかどうかを判断する。正常画素が存
在したらＳ８に進む。Ｓ７で正常画素が存在しなかった
ら、現在位置が欠陥画素位置合せ終了位置と判断して、
欠陥画素の位置合せは終了とする。
【００５１】Ｓ３およびＳ８で正常画素を画面中央に移
動させ、Ｓ４で左右水平方向について欠陥画素があるか
どうかを判断する。欠陥画素が存在すればＳ５に進む。
Ｓ４で欠陥画素が存在しない場合はＳ９へ進む。
動させ、Ｓ４で左右水平方向について欠陥画素があるか
どうかを判断する。欠陥画素が存在すればＳ５に進む。
Ｓ４で欠陥画素が存在しない場合はＳ９へ進む。
【００５２】Ｓ５で、登録された隣接画素形状を用いて
欠陥画素をレーザ照射位置に合せ、欠陥画素位置合せは
終了する。
欠陥画素をレーザ照射位置に合せ、欠陥画素位置合せは
終了する。
【００５３】Ｓ９で現在サーチしている画素の１列上側
をサーチし、Ｓ１０で欠陥画素があるかどうかを判断す
る。欠陥画素が存在した場合は、Ｓ５へ進む。Ｓ９で欠
陥画素が存在しない場合はＳ１１へ進む。
をサーチし、Ｓ１０で欠陥画素があるかどうかを判断す
る。欠陥画素が存在した場合は、Ｓ５へ進む。Ｓ９で欠
陥画素が存在しない場合はＳ１１へ進む。
【００５４】Ｓ１１では、現在サーチしている画素の２
列下側をサーチし、Ｓ１２で欠陥画素があるかどうかを
判断する。欠陥画素が存在した場合は、Ｓ５へ進む。Ｓ
１２で欠陥画素が存在しない場合は、Ｓ１３で欠陥画素
検出不可能とする。
列下側をサーチし、Ｓ１２で欠陥画素があるかどうかを
判断する。欠陥画素が存在した場合は、Ｓ５へ進む。Ｓ
１２で欠陥画素が存在しない場合は、Ｓ１３で欠陥画素
検出不可能とする。
【００５５】以上のように実施例２では、正規化相関法
によるパターン認識を用いて、欠陥部を検出する。そし
て、欠陥隣接部の正常隣接部に対する相対的位置を計算
し、欠陥部をレーザ照射位置に設定するため、オペレー
タによる肉眼での位置決め作業は不要となり、作業効率
が向上し、人件費が少なくてすむ。
によるパターン認識を用いて、欠陥部を検出する。そし
て、欠陥隣接部の正常隣接部に対する相対的位置を計算
し、欠陥部をレーザ照射位置に設定するため、オペレー
タによる肉眼での位置決め作業は不要となり、作業効率
が向上し、人件費が少なくてすむ。
【００５６】また、欠陥修正用光学装置は、図１の実施
例１の欠陥修正用光学装置１５と同様の効果を奏する。
例１の欠陥修正用光学装置１５と同様の効果を奏する。
【００５７】
【発明の効果】以上のように、本発明の請求項１の欠陥
修正用光学装置は、レーザ光を正常部と相似形状のスリ
ットを介して、欠陥画素に照射し、欠陥を修正する。
修正用光学装置は、レーザ光を正常部と相似形状のスリ
ットを介して、欠陥画素に照射し、欠陥を修正する。
【００５８】その結果、１回の照射で欠陥修正が完了す
るため、作業効率および修正精度が向上する。
るため、作業効率および修正精度が向上する。
【００５９】本発明の請求項２の欠陥修正装置は、欠陥
修正用光学装置と水平方向に移動自在なテーブルを備え
ている。
修正用光学装置と水平方向に移動自在なテーブルを備え
ている。
【００６０】その結果、欠陥画素を正確なレーザ照射位
置に、設定することができ、欠陥修正の精度が向上す
る。
置に、設定することができ、欠陥修正の精度が向上す
る。
【００６１】欠陥修正用光学装置は、請求項１の欠陥修
正用光学装置と同様の効果を奏する。
正用光学装置と同様の効果を奏する。
【００６２】本発明の請求項３の欠陥部位置合せ方法に
おいては、正規化相関法によるパターン認識を用いて、
欠陥部を検出する。そして、欠陥隣接部の正常隣接部に
対する相対的位置を計算し、欠陥部をレーザ照射位置に
設定する。
おいては、正規化相関法によるパターン認識を用いて、
欠陥部を検出する。そして、欠陥隣接部の正常隣接部に
対する相対的位置を計算し、欠陥部をレーザ照射位置に
設定する。
【００６３】その結果、肉眼での作業を必要としなくな
り、作業効率が向上し、人件費が少なくてすむ。
り、作業効率が向上し、人件費が少なくてすむ。
【図１】本発明の第１の実施例による欠陥修正装置を示
す概略図である。
す概略図である。
【図２】第１実施例によるレーザ光のエネルギ強度分布
を表わす図である。
を表わす図である。
【図３】第１実施例によるスリット取付機構を示す外観
斜視図である。
斜視図である。
【図４】第１実施例による欠陥を修正するプロセスを示
す概略図である。
す概略図である。
【図５】本発明の第２の実施例による欠陥修正装置の構
成を示す外観斜視図である。
成を示す外観斜視図である。
【図６】実施例２における欠陥画素の位置合せ工程を示
す概略図である。
す概略図である。
【図７】実施例２における欠陥画素の位置合せ工程を示
すフローチャートである。
すフローチャートである。
【図８】従来の欠陥修正装置の一例の構成を模式的に示
す図である。
す図である。
１ ＹＡＧレーザ源 ２ レーザ光 ３ ビーム拡大機構 ４ａ、４ｂ、４ｃ ビームスプリッタ ５ スリット ６ 結像レンズ ７ 対物レンズ ８ ＸＹステージ ９ ブラックマトリックス基板 １０ 透過照明光源 １１ 落射照明光源 １２ ＣＣＤカメラ １３ スリット照明光源 １４ Ｚ軸テーブル １５ 欠陥修正用光学装置 １６ チャックテーブル １７ モニタ １８ 画像処理ユニット １９ 制御用コンピュータ ２０ ホストコンピュータ ２１ レーザ照射位置（正常画素位置） ２２ 正常画素 ２３ 正常隣接画素形状 ２４ 正常隣接画素位置 ２５ 欠陥画素 ２６ 欠陥隣接画素形状 ２７ 欠陥隣接画素 ２８ 欠陥隣接画素位置 ２９ レーザ源 ３０ 出力コントロール機構 ３１ スリット機構
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ２３Ｋ 26/08 Ｄ Ｇ０２Ｆ 1/13 １０１
Claims (3)
- 【請求項１】 ＬＣＤ用ブラックマトリックス基板の欠
陥を修正するための欠陥修正用光学装置であって、 前記ブラックマトリックス基板の欠陥部にレーザ光線を
照射するレーザ源と、 前記レーザ源と前記ブラックマトリックス基板の欠陥部
との間に配される、前記ブラックマトリックス基板の正
常部と相似形状のスリットとを備えた、欠陥修正用光学
装置。 - 【請求項２】 ＬＣＤ用ブラックマトリックス基板の欠
陥を修正するための欠陥修正装置であって、 欠陥修正用光学装置と、 前記ブラックマトリックス基板が載置され、水平方向に
移動自在なテーブルと、 前記テーブル上に前記ブラックマトリックス基板を固定
する固定手段とを備え、 前記欠陥修正用光学装置は、前記ブラックマトリックス
基板の欠陥部にレーザ光線を照射するレーザ源と、 前記レーザ源と前記ブラックマトリックス基板の欠陥部
との間に配される、前記ブラックマトリックス基板の正
常部と相似形状のスリットとを含む、欠陥修正装置。 - 【請求項３】 ＬＣＤ用ブラックマトリックス基板の欠
陥を修正するための欠陥部位置合せ方法であって、 前記ブラックマトリックス基板の正常部をレーザ照射位
置に位置決めするステップと、 前記正常部の形状を登録するステップと、 前記正常部と隣接する正常隣接部の位置を登録するステ
ップと、 前記正常隣接部の形状を登録するステップと、 前記ブラックマトリックス基板を移動させ、前記正常部
の形状と欠陥部の形状との相関により前記欠陥部を検出
するステップと、 前記正常隣接部の形状と検出された前記欠陥部に隣接す
る欠陥隣接部の形状との相関により前記欠陥隣接部を検
出するステップと、 前記欠陥隣接部の位置を登録するステップと、 前記欠陥隣接部の前記正常隣接部に対する相対的な位置
を計算するステップと、 計算された前記相対的な位置に基づいて前記欠陥隣接部
を前記正常隣接部の位置に移動させ、前記欠陥部を前記
正常部の位置である前記レーザ照射位置に設定させるス
テップとを含む、欠陥部位置合せ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24783194A JP3396548B2 (ja) | 1994-10-13 | 1994-10-13 | 欠陥部位置合せ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24783194A JP3396548B2 (ja) | 1994-10-13 | 1994-10-13 | 欠陥部位置合せ方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08114792A true JPH08114792A (ja) | 1996-05-07 |
| JP3396548B2 JP3396548B2 (ja) | 2003-04-14 |
Family
ID=17169328
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24783194A Expired - Fee Related JP3396548B2 (ja) | 1994-10-13 | 1994-10-13 | 欠陥部位置合せ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3396548B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008058352A (ja) * | 2006-08-29 | 2008-03-13 | Shimadzu Corp | リペア装置 |
| CN100395586C (zh) * | 2003-05-09 | 2008-06-18 | 奥林巴斯株式会社 | 缺陷修正装置及其缺陷修正方法 |
| JP2009262191A (ja) * | 2008-04-24 | 2009-11-12 | V Technology Co Ltd | パターンの欠陥修正方法 |
| US8290239B2 (en) | 2005-10-21 | 2012-10-16 | Orbotech Ltd. | Automatic repair of electric circuits |
-
1994
- 1994-10-13 JP JP24783194A patent/JP3396548B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100395586C (zh) * | 2003-05-09 | 2008-06-18 | 奥林巴斯株式会社 | 缺陷修正装置及其缺陷修正方法 |
| US8290239B2 (en) | 2005-10-21 | 2012-10-16 | Orbotech Ltd. | Automatic repair of electric circuits |
| JP2008058352A (ja) * | 2006-08-29 | 2008-03-13 | Shimadzu Corp | リペア装置 |
| JP2009262191A (ja) * | 2008-04-24 | 2009-11-12 | V Technology Co Ltd | パターンの欠陥修正方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3396548B2 (ja) | 2003-04-14 |
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