JP2009262191A - パターンの欠陥修正方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】マトリクス状に配置された複数のマイクロミラーにより、光源から入射するレーザ光を加工形状に合わせて整形して被加工物に照射し、該被加工物に形成されたパターンの欠陥部を修正するパターンの欠陥修正方法であって、前記レーザ光を照射する照射光学系と前記被加工物とを該被加工物の表面に平行な面内を相対的に所定方向に所定量だけステップ移動させながら、その都度、前記被加工物表面に形成されたパターンを撮像手段により撮像する段階と、前記撮像されたパターンを正常なパターンと比較して欠陥部を検出する段階と、前記欠陥部に対応する前記複数のマイクロミラーをオン駆動し、前記レーザ光を前記欠陥部に対応した形状に整形して前記被加工物に照射する段階と、を行うものである。
【選択図】図3
Description
先ず、ステップS1においては、被加工物9を位置決めして載置したステージ1がX軸及びY軸方向に移動して、被加工物9上のパターン形成領域に設定された欠陥探索開始位置を上記光学系本体部14の対物レンズ4の真下に位置付ける。このとき、対物レンズ4は、低倍率の対物レンズ4a〜4cのいずれかが選択されている。
2…レーザ光源
3…レーザ光整形手段
9…被加工物
10…マイクロミラー
14…光学系本体部(照射光学系)
20a…正常パターン
20b…撮像パターン
20c…修正パターン
21…欠陥部
L1…レーザ光
Claims (4)
- マトリクス状に配置された複数のマイクロミラーにより、光源から入射するレーザ光を加工形状に合わせて整形して被加工物に照射し、該被加工物に形成されたパターンの欠陥部を修正するパターンの欠陥修正方法であって、
前記レーザ光を照射する照射光学系と前記被加工物とを該被加工物の表面に平行な面内を相対的に所定方向に所定量だけステップ移動させながら、その都度、前記被加工物表面に形成されたパターンを撮像手段により撮像する段階と、
前記撮像されたパターンを正常なパターンと比較して欠陥部を検出する段階と、
前記欠陥部に対応する前記複数のマイクロミラーをオン駆動し、前記レーザ光を前記欠陥部に対応した形状に整形して前記被加工物に照射する段階と、
を行うことを特徴とするパターンの欠陥修正方法。 - 前記パターンは、同一のパターンが繰り返し形成されたものであり、
前記正常なパターンは、前記撮像手段により撮像された複数のパターンのうち互いに一致したパターンであることを特徴とする請求項1記載のパターンの欠陥修正方法。 - 前記正常なパターンは、予め記憶部に記憶されたCADデータのうち前記撮像手段による撮像領域に対応した領域のCADデータのパターンであることを特徴とする請求項1記載のパターンの欠陥修正方法。
- マトリクス状に配置された複数のマイクロミラーにより、光源から入射するレーザ光を加工形状に整形して被加工物に照射し、該被加工物に形成されたパターンの欠陥部を修正するパターンの欠陥修正方法であって、
前記レーザ光を照射する照射光学系と前記被加工物とを該被加工物の表面に平行な面内を相対的に所定方向に所定量だけステップ移動させながら、その都度、前記複数のマイクロミラーをCADデータにより生成された正常なパターンに基づいてオン駆動し、前記レーザ光を前記正常なパターンに対応した形状に整形する段階と、
前記整形されたレーザ光を前記被加工物に照射する段階と、
を行うことを特徴とするパターンの欠陥修正方法。
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