JP3880027B2 - はんだバンプの形成方法 - Google Patents

はんだバンプの形成方法 Download PDF

Info

Publication number
JP3880027B2
JP3880027B2 JP28047398A JP28047398A JP3880027B2 JP 3880027 B2 JP3880027 B2 JP 3880027B2 JP 28047398 A JP28047398 A JP 28047398A JP 28047398 A JP28047398 A JP 28047398A JP 3880027 B2 JP3880027 B2 JP 3880027B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solder
mask
workpiece
hole
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP28047398A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2000100863A (ja
Inventor
良平 桐田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Senju Metal Industry Co Ltd
Tokyo Electronic Industry Co Ltd
Original Assignee
Senju Metal Industry Co Ltd
Tokyo Electronic Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Senju Metal Industry Co Ltd, Tokyo Electronic Industry Co Ltd filed Critical Senju Metal Industry Co Ltd
Priority to JP28047398A priority Critical patent/JP3880027B2/ja
Publication of JP2000100863A publication Critical patent/JP2000100863A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3880027B2 publication Critical patent/JP3880027B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/11Manufacturing methods
    • H01L2224/113Manufacturing methods by local deposition of the material of the bump connector
    • H01L2224/1133Manufacturing methods by local deposition of the material of the bump connector in solid form
    • H01L2224/11334Manufacturing methods by local deposition of the material of the bump connector in solid form using preformed bumps
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/11Manufacturing methods
    • H01L2224/1147Manufacturing methods using a lift-off mask
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent

Landscapes

  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は電子部品の基板やパッケージ、チップ素子等のワークにはんだバンプを形成する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般にBGA(Ball Grid Arry)、CSP(Chip Size Package)、TAB(Tape Automated Bonding)、MCM(Multi Chip Module)等の多機能部品をプリント基板へ実装する際は、はんだバンプで行っている。つまり多機能部品では予め電極にはんだバンプを形成しておき、プリント基板への実装時、該はんだバンプをプリント基板の電極にあてがってからリフロー炉のような加熱装置で加熱してはんだバンプを溶融させるのである。すると多機能部品に形成されたはんだバンプが多機能部品の電極とプリント基板の電極とをはんだ付けして導通させるようになる。
【0003】
また前記多機能部品やQFP、SOIC等のチップ素子を搭載した電子部品では、チップ素子の電極とチップ素子を搭載するワークの電極間を極細の金線で接続するというワイヤーボンディングを行っている。現在のワイヤーボンディング技術は接続作業が非常に高速であり、一箇所の接続が0.1秒以下という短時間で行えるものである。しかしながら、ワイヤーボンディングは如何に高速作業が行えるといえども電極一箇所毎に接続を行うため、電極が多数設置された電子部品では全ての電極を接続するのに或る程度の時間がかかっていた。また金線は貴金属であるため材料自体が高価であるばかりでなく、数十μmの極細線に加工しなければならないため、その加工に多大な手間がかかって、やはり高価となるものであった。さらにワイヤーボンディングは、電極がワークの中央部に多数設置されたものに対しては、金線同士が接触してしまうため接続が不可能であった。
【0004】
そこで近時では、チップ素子とワークとの導通を金線を使わずに互いの電極同士を直接接続するというDCA(Direct Chip Attachment)方式も採り入れられるようになってきている。このDCA方式とは、チップ素子の電極に予めはんだバンプを形成しておき、チップ素子をワークに実装するときに、ワークの電極にはんだバンプをあてがって、はんだバンプを溶融させることにより両者間で導通をとるようにするものである。DCA方式は、金線を使わないため安価に製造でき、しかも一度の作業で全ての電極の接続ができるため生産性にも優れている。従って、最近では多機能部品の実装やDCA方式での電極の接続に、はんだバンプでの接続が多く採用されるようになってきた。このはんだバンプによる接続は、電極がワークの中央部に多数設置されていても、ワークと搭載物の電極を向かい合わせにして、この間をはんだバンプで接続するため、ワイヤーボンディングのように接続物同士が接触することは決して起こらない。
【0005】
ワークにはんだバンプを形成する方法としては、はんだボールやソルダペーストを使用するのが一般的である。
【0006】
はんだボールによるはんだバンプの形成方法としては、転写式、マスク式、キャリアテープ式がある。
【0007】
転写式とは、ワークの電極と一致したところにはんだボールよりも小さい穴が穿設された吸着ヘッドを用いるものである(参照:特開昭61−242759号、同64−73625号、特開平4−65130号、同5−10983号、同6−163550号、同7−169769号、同7−20400号、同7−20401号、同7−212023号、同7−302796号)。転写式では、先ず真空装置に接続された吸着ヘッドの穴を吸引状態にして、該穴にはんだボールを吸着させる。そして吸着ヘッドをワーク上に移動させ、粘着性のフラックスが塗布されたワークの電極にはんだボールを近接させてから吸着ヘッドの吸引状態を解いてはんだボールをワークの電極に落下させる。その後、電極にはんだボールが搭載されたワークをリフロー炉で加熱してはんだボールを溶融させることによりはんだバンプを形成する。
【0008】
マスク式とは、ワークの電極と一致したとこに穴が穿設された金属製マスク、または樹脂製マスクを用いるものである(参照:特開平7−202403号、同7−212021号、同8−300613号、同8−330716号、同9−162533号)。マスク式では、ワークの電極に粘着性フラックスを塗布しておき、マスクの穴とワークの電極を一致させた状態でマスクをワークに載置する。その後、はんだボールをマスクの穴に挿入してから、マスクをワーク上から外し、ワークをリフロー炉で加熱することによりワークの電極にはんだバンプを形成するものである。
【0009】
キャリアテープ式とは、前述吸着式とマスク式を併用したはんだバンプの形成方法である。(参照:特開2−295186号)。このキャリアテープ式は、表面の一部分にマスク、裏面全域に紫外線剥離性接着剤が塗布され、そこにカバーフィルムが接着された長尺のキャリアテープを用いるものである。キャリアテープはワークの電極と一致したところにはんだボールを挿入できる穴が穿設されており、該キャリアテープの表面にはんだボールよりも小さな穴が穿設されたマスクを設置してあって、キャリアテープの裏面には紫外線で粘着性を失う接着剤が塗布されている。このキャリアテープ式は、キャリアテープをはんだボールが収容された真空装置内に置いて、表面のマスクの小さな穴から吸引することによりキャリアテープの裏面から穴の中にはんだボールを吸引装着する。そして裏面のカバーフィルムを剥し、回路基板の電極とはんだボールを位置合わせしてからキャリアテープを紫外線剥離性接着剤で回路基板に貼り付け、吸引を解除する。その後、マスクの穴からフラックスを塗布し、キャリアテープの下側からホットプレートで加熱してはんだバンプを形成する。はんだバンプが形成されたならば、キャリアテープの上側から紫外線を照射して接着剤の接着力を弱め、その後キャリアテープを回路基板から剥す。
【0010】
従来のソルダペーストを用いたはんだバンプの形成方法は特開平8−264937号にあるように、既にワークの電極と一致したところに穴が穿設されたマスクを用いるものである。この方法は、先ずマスクの穴とワークの電極とを一致させて重ね合わせ、マスクの上にソルダペーストを置いてから該ソルダペーストをスキージーで掻いてマスクの穴の中にソルダペーストを充填する。その後、ワークをマスクとともにリフロー炉のような加熱装置で加熱してソルダペーストを溶融させることにより、ワークの電極にはんだバンプを形成する。そしてはんだバンプ形成後、マスクをワークから除去するものである。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
ところで前述転写式は、はんだボールを確実にワークの電極に載置することが困難であるという信頼性の面と、転写装置が非常に高価であるという経済性の面とにおいて問題のあるものであった。即ち転写式は、吸着ヘッドにはんだボールを吸着させた後、吸着ヘッドを移動させて吸着ヘッドのはんだボールをワークの電極と完全に一致させなければならないが、吸着ヘッドの移動を機械的に行うため、その位置合わせの精度を出すのが非常に難しいものであった。特に近時のようにワークや電極が非常に小さくなり、しかも隣り合った電極の間隔が非常に近接したものでは、ほんの少しの誤差でもはんだボールを正確に載置できなくなる。また転写式に用いる吸着ヘッドは金属製や樹脂製のブロックに微少で深い穴を正確に穿設しなければならないため、穴加工に多大な手間がかかり高価となるものであった。
【0012】
さらに転写式では、はんだボールを吸着ヘッドの穴に吸着させる際に、はんだボールを気体で吹き上げたり、振動で大きく移動させたりするため、はんだボールに静電気が帯電し、はんだボールが静電気で穴以外のところに付着することが往々にしてあった。その結果、はんだボールがワークの不要箇所に載置され、その箇所ではんだボールが溶融してしまい、それが近接した電極間で融合してブリッジを作るという問題もあった。
【0013】
前述マスク式は、高価な装置を必要としないため、経済的には転写式よりも優れているが、従来のマスク式は信頼性に問題があるものであった。つまり従来のマスク式は、電極と一致したところにはんだボールを挿入できる穴が穿設された金属製マスクや樹脂製マスクを、フラックスが塗布されたワークの電極と合わせて載置し、その後はんだボールをマスクの穴に挿入してフラックスで粘着させてからマスクを除去するものである。そのためマスクを除去した後に、少しの振動や衝撃が加わると、はんだボールが電極からずれてしまうことがあり、そのまま加熱装置で溶融されると所定の位置以外のところではんだボールが溶融してしまう。このようにはんだボールが所定の位置以外のところで溶融すると、不要な導通がおきて電子部品が不良となる。
【0014】
はんだボールを用いるキャリアテープ式は、キャリアテープを紫外線剥離性の接着剤でワークに固定したまま加熱するため、振動や衝撃が加わってもはんだボールがずれるようなことはない。しかしながら、キャリアテープの穴にはんだボールを挿入する際に、キャリアテープの上側から吸引しなければならないため、吸引用の高価な真空装置が必要であり、またキャリアテープをワークに接着した接着剤を剥がすのに高価な紫外線照射装置も必要である等、設備に多大な費用がかかるものであった。
【0015】
また従来のソルダペーストを用いたはんだバンプの形成方法は、マスクをワークに重ねる際にマスクの穴とワークの電極とを完全に一致させることが非常に難しく、しかもその作業に多大な手間がかかっていた。またこの方法は、マスクをワークに重ねてからソルダペーストをマスクの穴に充填するときに、ソルダペーストをスキージーで強く掻きならすとマスクの穴とワークの電極とがずれてしまうことがあった。
【0016】
本発明は、はんだを確実にワークの電極上に乗せてバンプを形成できるばりでなく、高価な装置を用いなくてもはんだを容易にワークの電極に載置できるというはんだバンプの形成方法を提供することにある。
【0017】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、紙や樹脂等と金属を張り合わせたものに紙や樹脂側からにレーザー光線を照射するとレーザー光線の光源、波長等を適宜選択することにより紙や樹脂だけに容易に穴をあけることができ、しかも金属に対しては反射して穴をあけないこと、そしてレーザー光線はコンピューター制御により微小な穴を正確な位置に、しかも高速で穿設することができ、さらに穴がはんだボールやソルダペーストを挿入しやすい形状になること等、レーザー光線の特性に着目して本発明を完成させた。
【0018】
本発明は、表面に多数の電極が設置され、その周囲がソルダーレジストで被覆されたワークに紙製または樹脂製のマスクを耐熱性の粘着剤で貼り付ける工程;ワークに貼り付けたマスクの上からワークの電極にレーザー光線を照射してマスクに穴を穿設する工程;マスクの穴にはんだを挿入する工程;穴にはんだが挿入されたワークを加熱装置で加熱してはんだを溶融させ、しかる後にはんだを凝固させる工程;ワークからマスクを剥し取る工程;からなることを特徴とするはんだバンプの形成方法である。
【0019】
【発明の実施の形態】
本発明において、はんだバンプを形成するワークとは、BGA、CSP、TAB、MCM等のパッケージ、これらを搭載する基板、或いはDCA方式で直接基板に搭載するチップ素子、ウエハー等である。
【0020】
本発明に使用するマスクは、紙や高分子樹脂のポリイミド、フェノール、エポキシ、ベークライト等、剥離しやすい可撓性のあるものであるが、価格、粘着剤の塗工性、穴の加工性においては紙が最適である。
【0021】
本発明に使用する粘着剤としては、はんだ付け温度に耐える耐熱性があって、はんだ付け後でも容易に剥がし取ることができるものであれば如何なるものでも採用できる。特に本発明に使用する粘着剤としては加熱することにより粘着性が向上するシリコン・アクリル樹脂系の粘着剤が適している。シリコン・アクリル樹脂系の粘着剤としては日本純薬製のARJ−1Aがある。
【0022】
本発明で使用するはんだは、はんだボールまたはソルダペーストである。
【0023】
本発明ではんだボールを使用する場合は、マスクの上に大量のはんだボールを置き、ワークをバイブレーターで微振動させたり、ワークを一定角度交互に傾斜させたり、或いは軟らかい刷毛でマスク上のはんだボールを掃いたりする方法が採用できる。
【0024】
このはんだボールの挿入工程では、はんだボールが0.3mm以下の極微小径である場合、はんだボールやワークに少しの静電気でも帯電すると、はんだボールが穴の中に挿入されないことがある。従って、微小径のはんだボールを使用するときには帯電防止が必要である。この帯電防止策としては、粘着剤やはんだ付けに使用するフラックスに予め少量の帯電防止剤を添加しておいたり、或いはワークにマスクを粘着後に帯電防止剤をマスクの上に塗布したりする手段を採用できる。
【0025】
マスクの穴にはんだボールを挿入後、加熱してはんだボールを溶融し、ワークの電極にはんだ付けするが、このときフラックスを用いた方がはんだ付け性は良好となる。フラックスの用い方としては、はんだボールをマスクの穴に挿入する前にマスクの穴の中に塗布しておいたり、或いははんだボールをマスクの穴に挿入後にはんだボールとマスクの穴の中に塗布したりしてもよい。
【0026】
はんだボールをマスクの穴に挿入する前にフラックスを塗布する場合、フラックスが粘着性のあるものでは、フラックスが穴以外のところに付いていると、該フラックスにはんだボールが付着して穴の中に挿入されなくなったり、或いははんだボールが穴以外のところに付着したまま加熱されて溶融したはんだが他のはんだボールに融合して部分的にはんだの量が多いバンプとなってしまう。そこでフラックスを使用する場合は、粘着性のないフラックス、例えば固形成分を極めて少なくした水溶性のフラックスがよい。
【0027】
この水溶性のフラックスにシリコンオイルを添加しておくと、はんだボールの転がりを良好にして穴への挿入をより一層容易にすることができる。また、微小はんだボールを用いる場合、マスクの上ではんだボールを転がすと微小はんだボールが帯電して、穴への挿入が円滑にならないため、水溶性フラックスに帯電防止剤を添加しておくことも微小はんだボール使用上の対策の一つである。
【0028】
また本発明でソルダペーストを使用する場合は、マスクの上にソルダペーストを置き、該ソルダペーストをスキージーで掻いてマスクの穴にソルダペーストを充填する。
【0029】
本発明でマスクに穴を穿設するレーザー照射装置としては、炭酸ガスレーザー照射装置が紙や樹脂への精度のよい穿設、高作業性等の点において好適である。
【0030】
本発明でマスクの穴にはんだを挿入後、はんだを溶融させるには、リフロー炉、赤外線照射装置、レーザー照射装置、ヒーターブロック等の加熱装置を使用する。BGA、CSPのような電子部品にはんだバンプを形成する場合は電子部品全体を加熱するリフロー炉が大量生産に適しているが、電子部品を搭載する基板では、はんだバンプ形成後、電子部品をはんだ付けするために再度加熱しなければならないため、度重なる加熱によりはんだバンプ形成箇所以外の箇所が酸化や劣化する恐れが出てくる。このような場合には、はんだバンプ形成箇所だけが加熱のできる赤外線照射装置、レーザー照射装置、ヒーターブロック等の局部加熱可能な装置が適している。
【0031】
【実施例】
以下図面に基づいて本発明のはんだバンプの形成方法を説明する。図1〜5は、はんだボールを用いた本発明のはんだバンプ形成方法の各工程を説明する図である。図6は図1〜5のうち図3と置き換えることによりソルダペーストを用いたはんだバンプの形成方法の各工程となる。先ず図1〜5に基づいてはんだボールを用いたときのはんだバンプの形成方法について説明する。
【0032】
○ワークにマスクを貼り付ける工程(図1)
マスク1に耐熱性の粘着剤2を塗工しておく。またワーク3の表面には多数の電極4・・・が設置されており、その周囲はソルダーレジスト5で被覆されている。マスク1を矢印Aのように載置して粘着剤2でワーク3の表面に貼り付ける。このとき粘着剤が熱圧着性のものであれば、マスク1の上から加熱されたブロックや鏝等で押圧してマスクをワークに強固に熱圧着する。
【0033】
○マスクの穿設工程(図2)
マスク1の上から電極4に焦点を合わせたレーザー光線6を照射し、電極4上のマスク1および粘着剤2が貫通された穴7を穿設する。本発明で使用するレーザー光線は、紙や樹脂等を容易に貫通するが、金属である電極に当たると反射して、電極に対しては何の損傷も与えないものである。
【0034】
○マスクの穴へのはんだボールの挿入工程(図3)
マスク1に穿設された穴7・・・にはんだボール8を挿入する。マスク1の穴7は、はんだボールの直径よりも僅かに大きい状態で穿設されており、各穴にははんだボールが一個しか入らないようになっている。ところで、はんだボールと電極とをはんだ付けするためにはフラックスが必要であるが、フラックスの塗布時期ははんだボールの挿入前、或いは後となる。
【0035】
○はんだの溶融工程(図4)
マスクの穴にはんだが挿入されたワークを図示しないリフロー炉のような加熱装置で加熱してはんだを溶融させる。溶融したはんだがワークの電極と金属的に接合したならば、はんだの溶融温度以下に冷却してはんだを凝固させ、はんだバンプ9を形成させる。
【0036】
○マスクの剥離工程(図5)
はんだが凝固してワーク3の電極4にはんだバンプ9が形成されたならば、マスク1を矢印Bのように引っ張ってワーク3から剥離する。
【0037】
続いてはんだボールを用いたはんだバンプ形成方法の具体例について説明する。
【0038】
ワークは、直径0.18mmの円形の電極が150個格子状に設置されたCSP基板である。マスクは厚さが0.2mmの紙であり、片面に熱圧着性の粘着剤が塗工されている。CSP基板の電極設置面にマスクの粘着剤塗工面を押し当て、100℃に加熱されたヒーターブロックで熱圧着する。マスクを圧着したCSP基板に対し、マスクの上からワークの電極に向けて炭酸ガスレーザー照射装置でレーザー光線を照射してマスクに穴を穿設する。炭酸ガスレーザー照射装置は、予め電極位置を入力したコンピューター制御により電極上部に正確に穴が穿設できるようになっている。穴の断面は逆台形であり、上部の直径が0.3mm、下部の直径が0.27mmである。穴が穿設されたマスクの上から帯電防止剤とシリコンオイルが添加された水溶性フラックス(溶剤はアルコール)をスプレーで塗布し、溶剤を乾燥させる。その後、直径が0.2mmのはんだボールをマスクの穴に挿入する。はんだボールの挿入作業は、CSP基板の周囲を囲いで囲い、マスクの上に大量に載置してから刷毛ではんだボールを掃きならし、全ての穴にはんだボールを挿入する。マスクの全ての穴にはんだボールを挿入したならば、CSP基板をリフロー炉の中で加熱してはんだボールを溶融し、電極にはんだバンプを形成する。はんだが凝固後、マスクを剥がしたところ全ての電極には、はんだバンプが形成されていた。
【0039】
次に図1、2、6、4、5に基づいてソルダペーストを用いたはんだバンプの形成方法について説明する。
【0040】
○ワークにマスクを貼り付ける工程(図1)
粘着剤2が塗工されたマスク1を多数の電極4・・・が設置されたワーク3の表面に貼り付ける。
【0041】
○マスクの穿設工程(図2)
マスク1の上方からレーザー光線6を照射し、電極4上に穴7を穿設する。
【0042】
○マスクの穴へのソルダペーストの挿入工程(図6)
穴7が穿設されたマスク1の上の一側にソルダペースト10を載置し、該ソルダペーストをスキージー11で矢印C方向に掻いて穴7に挿入する。ソルダペーストは、粉末はんだとペースト状フラックスとを混練したものであるため、別途フラックスを塗布する必要がない。
【0043】
○はんだの溶融工程(図4)
マスクの穴にはんだが挿入されたワークを図示しないリフロー炉のような加熱装置で加熱してはんだを溶融させる。溶融したはんだがワークの電極と金属的に接合したならば、はんだの溶融温度以下に冷却してはんだを凝固させ、はんだバンプ9を形成させる。
【0044】
○マスクの剥離工程(図5)
はんだが凝固してワーク3の電極4にはんだバンプ9が形成されたならば、マスク1を矢印Bのように引っ張ってワーク3から剥離する。
【0045】
さらに続いてソルダペーストを用いたはんだバンプ形成方法の具体例について説明する。
【0046】
ワークは、直径0.18mmの円形の電極が150個格子状に設置されたCSP基板である。マスクは厚さが0.3mmの紙であり、片面に熱圧着性の粘着剤が塗工されている。CSP基板の電極設置面にマスクの粘着剤塗工面を押し当て100℃のヒーターブロックで熱圧着する。マスクを圧着したCSP基板に対し、マスクの上から炭酸ガスレーザー照射装置でレーザー光線を照射して電極上のマスクに穴を穿設する。穴の断面は逆台形であり、上部の直径が0.32mm、下部の直径が0.28mmである。穴が穿設されたマスクの上にソルダペースト(63Sn−Pb)を載置し、該ソルダペーストをスキージーで掻いて、穴の中にソルダペーストを挿入する。マスクの全ての穴にソルダペーストを挿入したならば、CSP基板をリフロー炉の中で加熱してはんだボールを溶融し、電極にはんだバンプを形成する。はんだが凝固後、マスクを剥がしたところ全ての電極には、はんだバンプが形成されていた。
【0047】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば微少で多数の電極を有するワークへのはんだバンプの形成が真空装置、搭載装置、紫外線照射装置のような高価な設備を必要とせず安価に行えるばかりでなく、マスクへの穴の穿設をレーザー光線で行うため、ワークの電極上だけに正確に、しかもきれいな穴となって、はんだボールやソルダペーストの挿入を確実に行うことができるものであり、さらにはワークとマスクを粘着剤で付着させておくため、はんだの挿入時、特にソルダペーストの挿入時にスキージーの強い力で掻いてもマスクがずれないことから、はんだの未挿入が皆無となって全ての電極にはんだバンプが必ず形成できるという経済性、信頼性において従来にない優れた効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】ワークにマスクを貼り付ける工程
【図2】マスクの穿設工程
【図3】マスクの穴へのはんだボールの挿入工程
【図4】はんだの溶融工程
【図5】マスクの剥離工程
【図6】マスクの穴へのソルダペーストの挿入工程
【符号の説明】
1 マスク
2 粘着剤
3 ワーク
4 電極
5 ソルダーレジスト
6 レーザー光線
7 穴
8 はんだボール
9 はんだバンプ
10 ソルダペースト
11 スキージー

Claims (3)

  1. 表面に多数の電極が設置され、その周囲がソルダーレジストで被覆されたワークに紙製または樹脂製のマスクを耐熱性の粘着剤で貼り付ける工程;ワークに貼り付けたマスクの上からワークの電極にレーザー光線を照射してマスクに穴を穿設する工程;マスクの穴にはんだを挿入する工程;穴にはんだが挿入されたワークを加熱装置で加熱してはんだを溶融させ、しかる後にはんだを凝固させる工程;ワークからマスクを剥し取る工程;からなることを特徴とするはんだバンプの形成方法。
  2. 前記はんだは、はんだボールであることを特徴とする請求項1記載のはんだバンプの形成方法。
  3. 前記はんだは、ソルダペーストであることを特徴とする請求項1記載のはんだバンプの形成方法。
JP28047398A 1998-09-17 1998-09-17 はんだバンプの形成方法 Expired - Fee Related JP3880027B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28047398A JP3880027B2 (ja) 1998-09-17 1998-09-17 はんだバンプの形成方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28047398A JP3880027B2 (ja) 1998-09-17 1998-09-17 はんだバンプの形成方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000100863A JP2000100863A (ja) 2000-04-07
JP3880027B2 true JP3880027B2 (ja) 2007-02-14

Family

ID=17625575

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28047398A Expired - Fee Related JP3880027B2 (ja) 1998-09-17 1998-09-17 はんだバンプの形成方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3880027B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102909156A (zh) * 2012-10-17 2013-02-06 日月光半导体制造股份有限公司 芯片点胶治具构造及其点胶方法
TWI579096B (zh) * 2011-03-29 2017-04-21 松下知識產權經營股份有限公司 焊料轉印基材、焊料轉印基材之製造方法、及焊料轉印方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI463582B (zh) * 2007-09-25 2014-12-01 Ngk Spark Plug Co 具有焊接凸塊之配線基板的製造方法
JP5462712B2 (ja) * 2010-05-24 2014-04-02 株式会社日立製作所 マイクロバンプ形成装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI579096B (zh) * 2011-03-29 2017-04-21 松下知識產權經營股份有限公司 焊料轉印基材、焊料轉印基材之製造方法、及焊料轉印方法
CN102909156A (zh) * 2012-10-17 2013-02-06 日月光半导体制造股份有限公司 芯片点胶治具构造及其点胶方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2000100863A (ja) 2000-04-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3927759B2 (ja) 回路基板への電子部品の実装方法
JP3625646B2 (ja) フリップチップ実装方法
US6454159B1 (en) Method for forming electrical connecting structure
JPH09237963A (ja) はんだ供給法およびはんだ供給装置並びにはんだ接合法
TW200937547A (en) Methods of fluxless micro-piercing of solder balls, and resulting devices
JPWO2006101155A1 (ja) 電子部品の実装方法および電子回路装置
JP4631851B2 (ja) はんだプリコート方法および電子機器用ワーク
JP2004193334A (ja) バンプ形成用シートおよびその製造方法
JP3867284B2 (ja) はんだバンプの形成方法
JP2010118534A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP3880027B2 (ja) はんだバンプの形成方法
JP2009010302A (ja) ソルダペースト層形成方法
JP2000208547A (ja) 半導体装置におけるバンプ補強構造およびその形成方法
JPH06168982A (ja) フリップチップ実装構造
JPH11243274A (ja) はんだバンプの形成方法およびはんだバンプ形成用マスク
JP3385943B2 (ja) 金バンプ付電子部品の実装方法
JP2828069B2 (ja) バンプ付きワークの半田付け方法
JP3923248B2 (ja) 回路基板への電子部品の実装方法及び回路基板
JP2000077838A (ja) はんだバンプの形成方法
JP3672702B2 (ja) 部品実装方法
JP3001053B2 (ja) バンプの形成方法及び電子装置
JPH0737890A (ja) 半田ボール接合装置およびその接合方法
JP4102538B2 (ja) 電子回路基板補修方法
JP2000101013A (ja) ベアチップ部品を含む混載部品の実装方法および混載回路基板
JP2000332373A (ja) 電子部品実装体およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050706

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20061006

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132

Effective date: 20061011

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20061016

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20061106

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20061106

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101117

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111117

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees