JP3879298B2 - 電界放出形表示装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、陰極から電界放出された電子を陽極の蛍光体に射突させて発光を得る蛍光体及びこの蛍光体を利用した電界放出形表示装置に関する。本発明は、特に、輝度と寿命特性に優れたYAG組成の蛍光体及びこの蛍光体を有する電界放出形表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
加速電圧が2kV以下で使用されるいわゆる低速電子線用蛍光体には、蛍光体自体の抵抗が低いことが求められる。現在この要件を満たす材料としてZnS:Agなどのいわゆる硫化物蛍光体があるが、この蛍光体は電子線照射により分解飛散し素子内のカソードの劣化を引き起こし、ひいては発光素子自体の寿命を低下させるなど信頼性の点で問題を抱えている。特に、電界放出形表示装置では、前記飛散物質によるエミッタの汚染が性能低下の大きな原因の一つになっている。
【0003】
このような問題を解決するために電子線により分解し難い組成の材料が求められるが、このような材料の殆どは絶縁物であることが多い。しかしながら最近では抵抗が低くて分解し難い蛍光体として、ZnGa2 4 :Mn,ZnGa2 4 などが提案されているが十分な輝度が得られていない。また絶縁性の蛍光体にIn2 3 などの導電物質を添加して蛍光体膜の抵抗を下げるという提案もある。しかし、このような材料は確かに蛍光体の抵抗は低いが輝度も低く、実用にはなりにくい。また、導電物質を添加する方法では、導電物質による無効電流が増えこれによる発熱などが信頼性低下の原因になる。
【0004】
そこで、本出願人は特願平8−293934号において、低抵抗で発光輝度の高い硫化物系以外の低速電子線用蛍光体として、Ln3 (Al1-x Gax 5 12:Re(Ln=Y,La,Gd、Re=Tb,Ce,Eu、0.4≦x<0.8)で表される蛍光体を提案した。
【0005】
通常3価以外に1価を有するGaの固溶量xを上記のような範囲に限定したことにより、前記蛍光体においては酸素欠陥が生じやすくなり、これによって発生した不対電子が導電性を向上させ、抵抗が小さくなったものと考えられていた。このように前記蛍光体には導電物質を添加する必要がないので、導電物質による無効電流が発熱を生じて信頼性や輝度の低下を招いてしまうことがなく、低速電子線によって実用的な発光輝度が得られるものとされていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前述した蛍光体には寿命が短いという問題があった。これは、本発明者等の知見によれば、AlとGaのイオン半径が異なるために結晶に歪みが生じるためと考えられる。従って、前述した従来の蛍光体を電界放出形表示装置の陽極に実装して評価すると、たとえ輝度が十分であっても、蛍光体自体の劣化を示す発光効率の低下が著しいため、発光素子としては実用に耐えないという問題があった。
【0007】
本発明は、前述した蛍光体を改良して輝度とともに寿命についても満足しうる性能を達成し、これを用いて輝度と寿命の双方について実用的な性能を有する蛍光体及びかかる蛍光体を備えた電界放出形表示装置を実現することを目的としている。
【0009】
【課題を解決するための手段】
請求項に記載された電界放出形表示装置は、内部が高真空状態に排気された外囲器と、前記外囲器の内部に設けられた電界放出形陰極と、前記外囲器の内部に前記電界放出形陰極に対面して設けられた蛍光体を有する陽極とを有する電界放出形表示装置において、前記蛍光体が、Ln3 (Al1-x Gax 5 12:Re(但しLn=Y,La,Gd、Re=Tb,Ce,Eu、0.8≦x≦1.0)で表される低速電子線用蛍光体であることを特徴としている。
【0010】
請求項に記載された電界放出形表示装置は、請求項記載の電界放出形表示装置において、前記陽極には2kV以下の陽極電圧が印加されることを特徴としている。
【0011】
【発明の実施の形態】
本発明は電界放出形表示装置(FED)に関する。図1に示すように、この電界放出形表示装置1は、所定間隔をおいて対面する陰極基板2と陽極基板3を有している。図1には示されていないが、陰極基板2と陽極基板3の外周部の間にはスペーサ部材が設けられて両基板を封着しており、全体として薄型パネル状(略板状)の外囲器4が構成されている。外囲器4の内部は高真空状態に排気されている。
【0012】
陰極基板2の内面には、電界放出形陰極5が形成されている。陰極基板2の内面には、陰極導体6が形成されている。陰極導体6の上には絶縁層7が形成されている。絶縁層7の上にはゲート電極8が形成されている。ゲート電極8と絶縁層7には、陰極導体6に達する孔9が形成されている。孔9の底に露出した陰極導体6の上にはコーン形状のエミッタ10が形成されている。本例では、陰極導体6とゲート電極8はそれぞれストライプ状であり、互いに交差してマトリクスを構成している。
【0013】
陽極基板3の内面には、陽極11が形成されている。陽極基板3の内面には透光性と導電性をを有する陽極導体12が形成されている。陽極導体12は、例えばITOによって構成することができる。陽極導体12の上には、蛍光体層13が形成されている。本例では、陽極導体12及び蛍光体層13はべた状に形成されている。
【0014】
本発明の蛍光体は、Ln3 (Al1-x Gax 5 12:Re(Ln=Y,La,Gd、Re=Tb,Ce,Eu、0.8≦x≦1)で表される蛍光体である。xの範囲をこのように限定したことにより、この蛍光体は、低抵抗で、発光輝度が高く、しかも十分な寿命を有するものとなった。
【0015】
この電界放出形表示装置1を駆動するには、陰極導体6とゲート電極8の一方を走査し、これに同期して他方に表示信号を入力する。陽極11には常時表示電圧を与えておく。陰極導体6とゲート電極8で構成されるマトリクスの選択された箇所から電子が放出され、これに対応する陽極11の一部に電子が射突して蛍光体層13の一部を発光させる。これによって陽極11において任意のグラフィック表示を行うことができる。
【0016】
【実施例】
高速ではAl/Ga比でGa比が大きくなると寿命が悪くなると従来言われている。しかしながら、所謂2kV以下の低速電子線の場合は、蛍光体塗布層の電気伝導が重要である。すなわち、抵抗値が高いと電流が蛍光体層の極表面に集中し、また、抵抗による発熱で蛍光体の温度が上がり寿命特性が悪くなると考えられる。
【0017】
また、一般式Ln3 (AL1-x Gax 5 12:Re(Ln=Y,La,Gd、Re=Tb,Ce,Eu)の蛍光体において、Gaは通常3価であるが、1価状態も存在するため、Ga比率を増せば導電性が改善されると考えられる。
【0018】
(1)実施例1
2 3 38.5g、Al2 3 18.3g、Ga2 3 22.5g、Tb4 7 3.3gをそれぞれ秤量してエタノール中で分散後乾燥し、さらにこれにフラックスとしてBaCl2 を0.3mol/YAG1mol添加しよく混合した。これをアルミナルツボに充填し1500℃で2時間焼成すると、組成式Y3 (Al0.6 Ga0.4 5 12:Tb(Tb=5mol%/Y1mol)で表される蛍光体が作製できる。
【0019】
このような方法により、上記一般式においてX=0から1までのいくつかの値について上記蛍光体の試料を作製した。また、この時、焼成は窒素中で行った。
【0020】
この蛍光体を硝酸で洗浄後分球乾燥した後、この蛍光体にエチルセルロースバインダーを含むビークルを用いペーストにし、ITO電極からなるアノード基板上にスクリーン印刷法で塗布し、500℃大気中で焼成しバインダーを除去し、蛍光体を塗布したアノード基板を蛍光体の各試料ごとに作製した。このアノード基板を用い、前述したような構造のFEDを蛍光体の各試料ごとに作製して評価用の素子とした。
【0021】
図2はアノード電圧600Vの時のGa含有率X(Al/Ga比)と相対輝度の関係を示したものである。図3は同様に発光開始アノード電圧と相対輝度の関係を示したものである。図3において発光開始電圧が低くなるということは、蛍光体表面でのチャージアップが低い電圧で解消されることを意味し、蛍光体自体の抵抗値が小さくなっていることを示す。
【0022】
Gaリッチの方が抵抗値が低い傾向が見えるが、これはGaは通常の3価以外に1価を持つため、Gaの固溶により容易に酸素欠陥ができやすくなるためこれが導電性に関与しているものと思われる。これら試料について寿命試験を行った結果を図4に示す。このようにGa組成比が大きくなるにつれ寿命特性が改善されることが分かる。
【0023】
以上の実験結果又は各試料の比較から、前記一般式の蛍光体においてXの数値範囲を0.8以上1以下とすれば、本発明の目的は達成されるものと考えられる。即ち、特にFED用の蛍光体に用途を限定して考えれば、前記一般式の蛍光体においてはXの範囲は0.8≦x≦1が好ましい。これに対して、従来のXの数値範囲では、初期輝度は高いが寿命が良くないのでFEDに用いる蛍光体としては好ましくないのである。
【0024】
(2)実施例2
同様にして、Y2 3 の代わりにGd2 3 を用いGa2 3 量を変えて、X=0.95の試料Gd3 (Al0.05Ga0.95)O12:Tbと、X=0.45の比較試料Gd3 (Al0.55Ga0.455 12:Tbを作製し、同様にそれぞれFEDに実装して寿命特性を比較評価した。寿命試験時間500時間で評価したところ、X=0.45の比較試料が初期輝度の30%に低下したのに対し、本発明の実施例であるX=0.95の試料は初期輝度の85%と良好な値を示した。
【0025】
(3)実施例3
発光中心にEu2 3 を用いGa2 3 量がX=1の試料Y3 Ga5 12:Euと、X=0.45の比較試料Y3 (Al0 55Ga0.455 12:Euをそれぞれ作製し、同様にFEDにそれぞれ実装して比較評価した。なおEuの濃度は3mol%/Yとした。結果は、X=0.45の比較試料の輝度100に対し、本発明の実施例であるX=1の試料は170の赤色の輝度を示した。発光開始電圧もX=0.45の比較試料の200Vに対し、本実施例の試料は100Vと低く、蛍光体の抵抗が小さくなっていることを示した。同様にして寿命試験を行った結果、比較試料が当初輝度の20%に低下しているのに対し、本実施例の試料は75%の残存率であった。
【0026】
(4)その他の実施例
なお、前記一般式におけるLnがLaである場合には、原料物質としてはLa2 3 を用いる。前記一般式におけるReがCeである場合には、原料物質としてはCeO2 を用いる。これらの物質を用いた蛍光体の合成の方法は前記第1〜第3実施例と略同様である。
【0027】
以上説明した各実施例に示したように、Ga組成を多くしたYAG蛍光体を使用することにより寿命が改善されたFEDを得ることができる。また、今回の蛍光体はフラックスを用いて作製したものを使用したが、作製方法にはよらず組成比が今回の範囲に入っていれば同様の効果が得られることは言うまでもない。
【0028】
【発明の効果】
本発明によれば、Ln3 (Al1-x Gax 5 12:Re(Ln=Y,La,Gd、Re=Tb,Ce,Eu)蛍光体において、Gaの量を0.8≦x≦1で限定した低速電子線用蛍光体としたので、これを用いた電界放出形表示装置においては十分な輝度とともに寿命も改善されて素子としての実用化が可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態の一例である電界放出形表示装置の断面図である。
【図2】Ga含有率Xと相対輝度の関係を示したグラフである。
【図3】発光開始アノード電圧と相対輝度の関係を示したグラフである。
【図4】Ga含有率Xと輝度残存率(寿命)の関係を示したグラフである。
【符号の説明】
外囲器
1 電界放出形表示装置
5 電界放出形陰極
11 陽極
13 蛍光体層

Claims (2)

  1. 内部が高真空状態に排気された外囲器と、前記外囲器の内部に設けられた電界放出形陰極と、前記外囲器の内部に前記電界放出形陰極に対面して設けられた蛍光体を有する陽極とを有する電界放出形表示装置において、
    前記蛍光体が、Ln3 (Al1-x Gax 5 12:Re(但しLn=Y,La,Gd、Re=Tb,Ce,Eu、0.8≦x≦1.0)で表される低速電子線用蛍光体であることを特徴とする電界放出形表示装置。
  2. 前記陽極には、2kV以下の陽極電圧が印加されることを特徴とする請求項記載の電界放出形表示装置。
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