JP3836825B2 - 一体型研磨パッドおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
弾性支持層110は、図2に示されたように、研磨パッド100のプラトン(platen)3への取付けのためのものである。弾性支持層110が上記のような硬度を有する場合、プラトン3と対向するヘッド5に載置されている被研磨対象であるシリコンウェーハ7を加圧する下向き圧力に対して復元性を有するため、被研磨対象であるウェーハ7と直接接触する研磨層120をシリコンウェーハ7に対応して均一な弾性で支持することができる。即ち、体積圧縮の大きな弾性支持層110と体積圧縮の少ない研磨層120との相互作用で研磨平坦化の効率が増大する。
ポリエーテル系イソシアネート予備重合体(NCO含量16%)100gと、ポリプロピレングリコール100gを常温で混合して反応を開始させた。低粘度の維持される状態で反応液を厚さ1.5mmに鋳物加工し、これを30分間ゲル化させた後、100℃オーブンで20時間の間硬化させた。また、得られた硬化物を一定の大きさに裁断して支持層を製造した。支持層の製造と同様な方法で厚さ1mmのシートを作り、これを20mm×50mmの大きさに裁断して透明窓を形成した。
EXPANCELを使用せずに、KF−70 46gを使用した点のみが実験例1と相違している。他の工程は実験例1と同様にして研磨パッドが完成した。
実験例1と同様な方法で研磨層を製造した。得られた研磨層は、一定の部分を20mm×50mmの大きさにパンチングして空いた空間を形成した後、一定の大きさの鋳型に装着し、鋳型の温度を50℃に調整しておいた。
110、210…弾性支持層
120、220…研磨層
125、225…流動チャネル
222…透明領域
224…透明領域以外の領域
Claims (24)
- 被研磨対象の表面と接触して移動することで研磨工程を行うための研磨パッドにおいて、
弾性支持層と、
前記弾性支持層の上に形成され、前記弾性支持層の硬度より高い硬度を有する研磨層とを備え、
前記弾性支持層と前記研磨層とは、互いに化学的に相溶性のある材質で構成され、前記弾性支持層と前記研磨層との間に構造的な境界部が存在しない一体型研磨パッドにおいて、
前記弾性支持層の少なくとも一部が、前記被研磨対象表面の状態検出用光源に対して透明であり、前記研磨層の少なくとも一部が、前記被研磨対象表面の状態検出用光源に対して透明または半透明であり、前記弾性支持層は、非多孔性固体均一ポリマーで構成され、前記研磨層は、前記化学的に相溶性のある材質で構成されたポリマーマトリックスと、前記ポリマーマトリックス内に埋め込まれた液状マイクロエレメントとを備え、前記研磨層の表面には、前記液状マイクロエレメントによって定義され開孔された気孔が分布され、前記液状マイクロエレメントの材質は、前記ポリマーマトリックスと化学的に相溶性のない液状物質であることを特徴とする一体型研磨パッド。 - 前記弾性支持層は、硬度計Aタイプで40〜80の硬さを有することを特徴とする請求項1に記載の一体型研磨パッド。
- 前記研磨層は、硬度計Dタイプで40〜80の硬さを有することを特徴とする請求項1に記載の一体型研磨パッド。
- 前記弾性支持層および前記研磨層を構成する材質は、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリエステル、ポリスルホン、ポリアクリル、ポリカボネート、ポリエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニールアセテート、ポリビニールクロライド、ポリエチレンイミン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリケトン、メラミン、ナイロンおよびフッ化炭化水素からなる群より選ばれるいずれか1つまたはこれらの混合物であることを特徴とする請求項1に記載の一体型研磨パッド。
- 前記研磨層の表面が研磨工程によって摩耗または研削されると、前記埋め込まれた液状マイクロエレメントが表面に露出され、連続的に前記開孔された気孔を形成することを特徴とする請求項1に記載の一体型研磨パッド。
- 前記液状物質は、脂肪族鉱油、芳香族鉱油、分子鎖末端に水酸基のないシリコンオイル、大豆油、やし油、パーム油、コットン油、つばき油および硬化油からなる群より選ばれるいずれか1つまたはそれらの混合物であることを特徴とする請求項1に記載の一体型研磨パッド。
- 前記液状物質は、前記ポリマーマトリックス形成用物質の全重量に対して20〜50重量%で含まれることを特徴とする請求項6に記載の一体型研磨パッド。
- 前記研磨層は、前記化学的に相溶性のある材質で構成されたポリマーマトリックスと、前記ポリマーマトリックス内に埋め込まれた液状マイクロエレメントおよび中空のポリマーエレメントを有し、
前記研磨層の表面には、前記液状マイクロエレメントおよび前記中空のポリマーマイクロエレメントによって定義され開孔された気孔が分布されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1つに記載の一体型研磨パッド。 - 前記研磨層の表面には、研磨スラリーの移送を容易にするための流動チャネルを含む組織またはパターンがさらに形成されていることを特徴とする請求項1に記載の一体型研磨パッド。
- 被研磨対象の表面と接触して移動することで研磨工程を行うための研磨パッドにおいて、
少なくとも一部が前記被研磨対象表面の状態検出用光源に対して透明な弾性支持層と、
前記弾性支持層の透明部位と重複され、前記光源に対して透明な透明領域および前記弾性支持層の硬度より高い硬度を有する前記透明領域以外の領域を有する研磨層とを備え、
前記弾性支持層、前記透明領域および前記透明領域以外の領域は、化学的に相溶性のある材質で構成され、前記弾性支持層と、前記透明領域および前記透明領域以外の領域は、相互間に構造的な境界部が存在しない一体型研磨パッドにおいて、
前記透明領域以外の領域は、化学的に相溶性のある材質で構成されたポリマーマトリックスと、前記ポリマーマトリックス内に埋め込まれた液状マイクロエレメントおよび/または中空のポリマーマイクロエレメンとを備え、
前記研磨層の表面には、前記液状マイクロエレメントおよび/または前記中空のポリマーマイクロエレメントによって定義され開孔された気孔が分布され、
前記液状マイクロエレメントの材質は、前記ポリマーマトリックスと化学的に相溶性のない液状物質であることを特徴とする一体型研磨パッド。 - 前記弾性支持層は、硬度計Aタイプで40〜80の硬さを有することを特徴とする請求項10に記載の一体型研磨パッド。
- 前記研磨層の透明領域以外の領域は、硬度計Dタイプで40〜80の硬さを有することを特徴とする請求項10に記載の一体型研磨パッド。
- 前記弾性支持層および前記透明領域以外の領域を構成する材質は、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリエステル、ポリスルホン、ポリアクリル、ポリカボネート、ポリエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニールアセテート、ポリビニールクロライド、ポリエチレンイミン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリケトン、メラミン、ナイロンおよびフッ化炭化水素からなる群より選ばれるいずれか1つまたはこれらの混合物であることを特徴とする請求項10に記載の一体型研磨パッド。
- 前記透明領域の材質は、有機ポリマーまたは前記有機ポリマーでコーティングされた無機質材料であることを特徴とする請求項10乃至13のいずれか1つに記載の一体型研磨パッド。
- 前記有機ポリマーは、ポリウレタン、ポリエステル、ナイロン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリビニールクロライド、ポリテトラフルオロエチレン、フッ化ポリビニリデンおよびポリエーテルスルホンからなる群より選ばれるいずれか1つまたはこれらの混合物であることを特徴とする請求項14に記載の一体型研磨パッド。
- 前記弾性支持層は、非多孔性固体均一ポリマー弾性体材質で構成されることを特徴とする請求項15に記載の一体型研磨パッド。
- 前記研磨層の表面が研磨工程において摩耗または研削されると、前記埋め込まれた液状マイクロエレメントおよび/または中空のポリマーマイクロエレメントが表面に露出され、連続的に前記開孔された気孔を形成することを特徴とする請求項10に記載の一体型研磨パッド。
- 前記液状物質は、脂肪族鉱油、芳香族鉱油、分子鎖末端にに水酸基のないシリコンオイル、大豆油、やし油、パーム油、コットン油、つばき油および硬化油からなる群より選ばれるいずれか1つまたはそれらの混合物であることを特徴とする請求項17に記載の一体型研磨パッド。
- 前記液状物質は、前記ポリマーマトリックス形成用物質の全重量に対して20〜50重量%で含まれることを特徴とする請求項10に記載の一体型研磨パッド。
- 前記研磨層の表面には、研磨スラリーの移動を容易にするための流動チャネルを含む組織またはパターンがさらに形成されていることを特徴とする請求項10に記載の一体型研磨パッド。
- 弾性支持層を提供するステップと、
前記弾性支持層の一部領域上に被研磨対象表面の状態検出用光源に対して透明な透明部材を提供するステップと
前記弾性支持層の上部に前記弾性支持層の材質と化学的に相溶性を有し、前記弾性支持層より硬度の高い研磨層材料を提供するステップと、
ゲル化および硬化を通じて前記弾性支持層と一体化された前記研磨層を形成するステップとを含む研磨パッドの製造方法であって、
前記研磨層材料提供のステップは、前記弾性支持層の他の領域上に前記研磨層の材料を提供するステップであり、
前記一体化のステップは、ゲル化および硬化を通じて前記弾性支持層と一体化された前記透明部材および前記研磨層を形成するステップであり、
前記弾性支持層の材質、前記透明部材および前記研磨層の材料は、互いに化学的に相溶性を有し、
前記透明領域の材質は、有機ポリマーまたは前記有機ポリマーでコーティングされた無機質材料であることを特徴とする研磨パッドの製造方法。 - 前記弾性支持層の少なくとも一部が、前記光源に対して透明であり、
前記透明部材は、前記光源に対して透明な前記少なくとも一部の領域上に提供することを特徴とする請求項21に記載の研磨パッドの製造方法。 - 一部領域が空いた空間である研磨層を提供するステップと、
前記研磨層の上に前記研磨層材質と化学的に相溶性を有し、前記研磨層より硬度が低く、被研磨対象表面の状態検出用光源に対して透明な弾性支持層の材料を提供するステップと、
ゲル化および硬化を通じて前記研磨層と一体化された前記弾性支持層を形成するステップと、
を含むことを特徴とする研磨パッドの製造方法。 - 前記弾性支持層の材料を提供するステップに先立って、
前記研磨層の空いた空間に前記光源に対して透明な透明部材を提供するステップをさらに含み、
前記一体化のステップは、ゲル化および硬化を通じて前記研磨層と一体化された前記透明部材および前記弾性支持層を形成するステップであり、
前記研磨層の材質、前記透明部材および前記弾性支持層の材料は、互いに化学的に相溶性を有することを特徴とする請求項23に記載の研磨パッドの製造方法。
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