JP3826253B2 - チップスタックパッケージ - Google Patents

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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、チップスタックパッケージに関し、特に複数の半導体チップが積層(stacking)されたチップスタックパッケージに関する。
【０００２】
【従来の技術】
最近、移動及び携帯用通信機器、並びに端末装置のサイズの低減に伴い、限定した面積内でより高いメモリ容量を持つチップスタックパッケージが使われている。
【０００３】
かかるチップスタックパッケージの典型的な一例を図１に示す。図１を参照すれば、チップスタックパッケージは、半導体チップをそれぞれ有するパッケージが２個以上の層で積層されていることが分かる。図１に示すスタックチップパッケージは、単位パッケージ１０、２０がこれらの側面部に接着されるガイド１５により互いに電気的に接続している構造からなる。単位パッケージ１０、２０間の電気的な接続のため、単位パッケージ１０、２０のアウタリード１１、２１とガイド１５との間に半田接合部(図示せず)が提供される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、図１に示すパッケージでは、単位パッケージ１０、２０を互いに電気的に接続する半田接合部の接合信頼性に問題がある。又、電気的信号伝達がチップサイズパッケージ(chip size package)より遅延されるという欠点がある。その他、パッケージ駆動時発生される熱を放出するため、従来のパッケージはヒートシンク(heat sink)を含むべきで、かつチップサイズパッケージの形態で積層することが不可能である。
【０００５】
前記の問題点を補完するため、図２（ａ）及び図２（ｂ）に示すようなチップスタックパッケージが開発された。図２（ａ）を参照すれば、チップスタックパッケージ３０は、積層されている半導体チップ３１、３２がＴＡＢ(Tape Automated Bonding)３３によりリードフレーム(lead frame)３５に接続した構造である。一方、図２（ｂ）には、前記半導体チップ３１、３２がボンディングワイヤ(bonding wire)３７によりリードフレーム３５に電気的に接続したチップスタックパッケージ３０ａを示している。図２（ａ）及び図２（ｂ）において符号２９は封止剤(epoxy compound)チップスタックパッケージ３０ａである。
【０００６】
このように、図２（ａ）及び図２（ｂ）に示すチップスタックパッケージは、複数の半導体チップとリードフレームとの間の電気的な接続のために、ＴＡＢまたはボンディングワイヤを利用するので、電気信号の経路が長くて電気的特性が悪いという欠点がある。また、従来のチップスタックパッケージは、放熱メカニズム(mechanism)が非常に複雑であるか、あるいは熱の発散が充分でないという欠点もある。このような欠点によって、図２（ａ）及び図２（ｂ）に示すチップスタックパッケージは実際への適用が非常に困難である。
【０００７】
従って、本発明は、前記問題点に着目してなされたもので、その目的は、半導体チップと外部ディバイスとの電気的な接続経路が短く、かつ半導体チップ間の接続長さも短いチップスタックパッケージを提供することにある。
また、本発明の別の目的は、放熱特性が優秀なチップスタックパッケージを提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するためになされた本発明によるチップスタックパッケージは、両側面にボンディングパッドを配置し、前記各ボンディングパッドに上下に貫通する溝を形成し、少なくとも２個以上を上下に配置した複数の半導体チップと、前記各半導体チップの溝に挿入し、各ボンディングパッドを電気的に接続する複数のリードフレームと、前記リードフレームの外部接続部分のみが露出するように、全体をモールドする封止剤とを含み、前記リードフレームは、前記各溝に挿入される垂直リードと、前記垂直リードの一端に接続した水平リードとを含むことを特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、発明の実施の形態１を図面を参照して詳細に説明する。図３は、発明の実施の形態１に係るチップスタックパッケージを示す断面図である。同図を参照すれば、発明の実施の形態１に係るチップスタックパッケージ１００は、接着剤層１０６により接着されて上下に積層された第１及び第２半導体チップ１０２、１０４を有する。
【００１０】
接着剤層１０６としては、ＴＡＢ、熱硬化性樹脂、ＡＣＦ(Anistropic Conductive Film)またはＡＣＡ(Anistropic Conductive Adhesive)が用いられる。このうちのＴＡＢは、内部に導電回路があり、後述する半導体チップのボンディングパッドに半田(solder)をリフロー(reflow)する際、半田と電気的に接着することにより、電気的なノイズを減少させる接地面(ground plane)の作用を行い、パッケージの電気的な特性向上を図ることができるので、より望ましい。
【００１１】
かかるＴＡＢは３個以上の層からなる。接着性物質で形成される最上層及び最下層は各半導体チップ１０２、１０４を接着する役割を果たす。導電物質で形成される中間層は各半導体チップ１０２、１０４と電気的に接続することにより、パワーあるいは接地面の作用を行う。ＴＡＢの最上層及び最下層を形成する接着性物質としては、エポキシ系の熱可塑性樹脂、接着性ガラスまたは接着性テープが用いられ、接着性テープの場合は１０〜１００μｍの厚さを有し、絶縁性ポリマーからなるのが望ましい。ＴＡＢの中間層を形成する導電性層は、平板または網状の平面構造を有しながら単層または多層構造からなる。
【００１２】
また、導電性層は、Ｃｕ/Ｎｉ/Ａｕ、Ｃｕ/Ｎｉ/Ｃｒ/Ａｕ、Ｃｕ/Ｎｉ/Ｃｏ/Ａｕ、Ｃｕ/Ｎｉ/Ｓｎ/Ａｕ、Ｃｕ/Ｎｉ/Ｃｒ/Ａｕ/ＡｎまたはＣｕ/Ｎｉ/Ｃｏ/Ａｕ/Ｓｎからなる群で選択される材料のメタルラインで形成されるのが望ましい。この様な導電性層のメタルラインは１mil〜４milの厚さを有するのが望ましい。そして、導電性層には周辺回路との接着及び電気的な導通のために、導電性粒子を含む接着性物質の異方性導電体が、ステンシル(stencil)、スクリーンプリント(screen print)、ディスペンス(dispense)、スタンプ(stamp)またはラミネーション(lamination)等の方式にて塗布されるのが望ましい。
なお、接着性物質としては、エポキシ樹脂 (epoxy resin)、ポリエステル(polyester)、アクリル酸エステル(acrylicester)、エステル、シリコン樹脂(silicon resin)、フェノキシ樹脂(phenoxy resin)、ポリウレタン(polyurethane)、ポリスルフィド(polysulfide)及び、その他熱硬化性重合体が用いられる。又、導電性粒子としては、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｉｎ、ＳｎまたはＩＴＯ(Indium Tin Oxide)等が用いられる。導電性粒子は、３〜２０μｍの粒度を有し、球形、四角形、三角形、六面体、四角錐、三角錐などの形状を有する。導電性粒子は、内部のポリマーを導電性金属が外部で塗布する構造からなる。
【００１３】
一方、第１及び第２半導体チップ１０２、１０４の各両側面には、図４に示すボンディングパッド１６０を形成する。ボンディングパッド１６０はアルミ材質からなり、最小１５μｍ×１５μｍ乃至最大５００μｍ×５００μｍのサイズを持つ。ボンディングパッド１６０には上下に開口した形状の溝１１２を形成するが、発明の実施の形態１に係る溝１１２は直方体形状で形成される。
【００１４】
各溝１１２にリードフレーム１０８を挿入し、前記リードフレーム１０８によって各ボンディングパッド１６０が電気的に接続する。前記リードフレーム１０８は、各溝１１２に挿入される垂直リード１０８ａと、垂直リード１０８ａの下端に形成されて外部ディバイス、例えば印刷回路基板に電気的に接続する水平リード１０８ｂとを含む。前記リードフレーム１０８の垂直リード１０８ａが、溝１１２の全体内壁に密着されるように、溝１１２の形状と対応する形状からなる。すなわち、垂直リード１０８ａは幅より高さの方が相対的に非常に長い直方体形状として、その幅が溝１１２の幅とほぼ同様である。また、溝１１２と垂直リード１０８ａとの間の接着力強化のために、溝１１２の内壁と、この内壁に接触される垂直リード１０８ａとの表面に半田１１８ａ、１１８ｂを塗布する。
【００１５】
また、図３から、第１半導体チップ１０２が露出した表面すなわち下面に、第１及び第２半導体チップ１０２、１０４から発生される熱を外部へ放出するためのヒートシンク１１４を取り付ける。第１及び第２半導体チップ１０２、１０４とリードフレーム１０８を保護しかつ外部と電気的に絶縁させるために、リードフレーム１０８の水平リード１０８ｂの下面とヒートシンク１１４の下面だけが露出するように、全体を封止剤１１６でモールドする。
【００１６】
前記構成からなる発明の実施の形態１に係るチップスタックパッケージは、第１及び第２半導体チップ１０２、１０４の両側に配置されたボンディングパッド１６０が一直線のリードフレーム１０８により電気的に接続するので、各半導体チップ１０２、１０４と外部デバイスを電気的に接続する経路と、各半導体チップ１０２、１０４間の経路とが非常に短くなる。また、第１半導体チップ１０２が露出した表面にヒートシンク１１４を取り付けるので、半導体チップから発生される高熱を外部へ容易に放出させることができる。
【００１７】
図５は、発明の実施の形態２に係るチップスタックパッケージ２００を示す。同図に示すチップスタックパッケージ２００は、第２半導体チップ１０４の上部表面が封止剤１１６から露出する。これにより、パッケージ２００は各半導体チップ１０２、１０４から発生される熱をより容易に外部へ放出させることができる利点を有する。ただし、垂直リード１０８ａの上端が、外部に露出しないように、第２半導体チップ１０４の表面及び封止剤１１６の表面と同様に位置するようになる。
【００１８】
図６は、発明の実施の形態３に係るチップスタックパッケージ３００を示す。同図に示すチップスタックパッケージ３００は、図５に示す２個のパッケージが向かい合う状態で積層される。すなわち、上部に配置した第１単位パッケージ３００ａの第２半導体チップ１０４が、下部に配置した第２単位パッケージ３００ｂの第２半導体チップ１０４ａと対向配置される。よって、第１及び第２単位パッケージ３００ａ、３００ｂの各垂直リード１０８ｃ、１０８ａも対向配置される。
このように配置した各垂直リード１０８ｃ、１０８ａが、半田ボール(solder ball)１１８により電気的に接続することにより、計４個の半導体チップ１０２、１０４、１０４ａ、１０２ａが電気的に接続した状態で積層される。ここで、符号１０８ｄは、第１単位パッケージ３００ａの水平リードである。
【００１９】
図７は、発明の実施の形態４に係るチップスタックパッケージ４００を示す。同図に示すチップスタックパッケージ４００は、図３に示すチップスタックパッケージ１００において、水平リードだけを一部変形したものである。すなわち、水平リード１０８ｂはその外側端部が封止剤１１６の側面へ延長された構造からなり、この様な水平リード１０８ｂは、ＰＣＢに接触される面積を増加させるので、パッケージの実装性が向上できるという利点を有する。
【００２０】
図８は、発明の実施の形態５に係るチップスタックパッケージ５００を示す。同図に示すチップスタックパッケージ５００は、ヒートシンクを有しない点で図３に示すチップスタックパッケージ１００と相違する。ヒートシンクを省略すると、ヒートシンクの厚さだけパッケージ５００の厚さを軽薄短小化させることができるという利点がある。また、パッケージ５００は、封止剤１１６から露出した水平リード１０８ｂの下面に、半田ボール１１８をマウントすることにより、ＰＣＢに直接実装されるか、あるいはＭＣＭやセラミックパッケージに挿入されるフリップチップの形態を有することになる。
【００２１】
一方、前述した発明の実施の形態５では、２個の半導体チップを積層したものを例に挙げたが、３個以上の半導体チップを積層してパッケージが構成できることは勿論である。
【００２２】
発明の実施の形態１に係るパッケージは、次の様な方法にて製造される。まず、図９（ａ）に示すように、ボンディングパッドを配置した第１半導体チップ１０２の一側上部に、ダイアモンド材質の切削ホイール１５０を配置し、切削ホイール１５０を利用して、図９（ｂ）のように、ボンディングパッド厚さの半分を除去して半溝を形成する。
次に、第１半導体チップ１０２の下面全体を残存のボンディンパッド厚さだけ研磨して、半溝の底面を露出させることにより、ボンディングパッドに上下に開口した溝１１２を形成する。図示してはないが、前記のような方式にて、第１半導体チップ１０２の他側に配置したボンディングパッドにも溝を形成し、また第２半導体チップの各ボンディングパッドにも溝を形成する。
【００２３】
ボンディングパッドに溝を形成する方法としては、前記方法の他に図１０（ａ）〜図１０（ｄ）に示した方法が用いられる。図１０（ａ）及び図１０（ｂ）までの工程は、図９（ａ）及び図９（ｂ）と同様で、図１０（ｃ）のように、半溝のみが露出するように、第１半導体チップ１０２の表面上に食刻マスク１５２を形成する。続いて、食刻マスク１５２を利用して半溝を食刻し、図１０（ｄ）のように、ボンディングパッドに溝１１２を形成する。
【００２４】
前記二つの方法のいずれか一つにて溝１１２を形成した後、溝１１２が露出するように、第１半導体チップ１０２の表面上にスプレーマスク(spray mask)１５４を形成する。次に、スプレーマスク１５４を利用して、溝１１２の内壁全体にスプレー、ＰＶＤまたはＣＶＤ方式にて半田を形成する。第２半導体チップにも、前記のような工程を行う。
【００２５】
続いて、図１２のように、接着剤１０６を利用して、第１及び第２半導体チップ１０２、１０４を接着させ、２個の半導体チップ１０２、１０４を積層する。
【００２６】
その後、第２半導体チップ１０４が露出した表面上に、エポキシ１５６を利用してヒートシンク１１４を取り付ける。ここで、ヒートシンク１１４は第１半導体チップ１０２が露出した面の下方に取り付けることもある。図３は、ヒートシンク１１４が第１半導体チップ１０２の下面に取り付けられたパッケージを示す。
【００２７】
次に、図１４に示すように、前記したような形状を持つリードフレーム１０８の垂直リード１０８ａを、各溝１１２に挿入することにより、各半導体チップ１０２、１０４のボンディングパッドが電気的に接続する。垂直リード１０８ａには、溝１１２の内壁との接着信頼性の向上のために、溝１１２のようにあらかじめ半田を塗布する。図１５は、左右対称の複数個のリードフレーム１０８のうち、一側のみを示す斜視図である。一方、図１４及び図１５において符号１２２は、リードフレーム１０８の水平リード１０８ｂを固定する接着テープである。
【００２８】
続いて、図１４に示す全体構造物をヒータブロック２５０上に安置させ、ヒーターブロック２５０から全体構造物へ熱を加える。これと同時に、溝１１２の内壁と垂直リード１０８ａとの間へ、半田ペーストやＡＣＡのような導電性物質を注入する。この様な注入方法としては、真空下で溝の内部に導電性物質を注入した後、大気圧に露出させ、圧力差によって導電性物質が溝の内部へ完全に入り込むようにする方法が用いられる。
【００２９】
その後、約１７５℃程度の温度下で、リフロー工程を行い、第１及び第２半導体チップ１０２、１０４のボンディングパッドとリードフレーム１０８とを電気的かつ機械的に完全に接合させる。
【００３０】
最後に、リードフレーム１０８の水平リード１０８ｂの下面とヒートシンク１１４の下面だけが露出するように、全体を封止剤１１６でモールドした後、シンギュレーション(singulation)工程を行って個々に分離することにより、図３に示すチップスタックパッケージを製造する。
【００３１】
以上では、図３に示す発明の実施の形態１に係るパッケージの製造方法を説明した。しかし、当業者であれば、図４〜図８に示す発明の実施の形態２〜５に係るパッケージを製造する方法が、上記の説明から容易に理解して実施できるので、発明の実施の形態２〜５に係るパッケージを製造する方法に関する説明は省略する。
【００３２】
【発明の効果】
以上で説明したように、本発明に係るチップスタックパッケージは、半導体チップの両側に配置した直線のリードフレームにより、半導体チップと外部デバイスが電気的に接続するので、半導体チップと外部ディバイスとの間の電気的接続経路と、各半導体チップ間の電気的接続経路とが非常に短くなる。結果的に、スタックパッケージの電気的特性が向上する。
【００３３】
また、半導体チップの露出した面にヒートシンクを取り付けることにより、半導体チップから発生される熱を外部へ容易に放出させることができる。
【００３４】
尚、本発明は、上述した好適な実施の形態について説明したが、本発明は前記発明の実施の形態に限らず、当該発明の属する分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載した本発明の要旨から逸脱しない範囲で多様に実施・変更ができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 従来のチップスタックパッケージの一例を示す断面図である。
【図２】 （２ａ）及び（２ｂ）は、従来のチップスタックパッケージの他の例を示す断面図である。
【図３】発明の実施の形態１に係るチップスタックパッケージを示す断面図である。
【図４】図３に係るパッケージにおけるリードフレームの付着を説明するための部分斜視図である。
【図５】発明の実施の形態２に係るチップスタックパッケージを示す断面図である。
【図６】発明の実施の形態３に係るチップスタックパッケージを示す断面図である。
【図７】発明の実施の形態４に係るチップスタックパッケージを示す断面図である。
【図８】発明の実施の形態５に係るチップスタックパッケージを示す断面図である。
【図９】図３に係るパッケージの製造工程を示す図である。
【図１０】図３に係るパッケージの製造工程を示す図である。
【図１１】図３に係るパッケージの製造工程を示す図である。
【図１２】図３に係るパッケージの製造工程を示す図である。
【図１３】図３に係るパッケージの製造工程を示す図である。
【図１４】図３に係るパッケージの製造工程を示す図である。
【図１５】図３に係るパッケージの製造工程を示す図である。
【符号の説明】
１００〜５００ チップスタックパッケージ
１０２、１０４ 半導体チップ
１０６ 接着剤
１０８ リードフレーム
１１２ 溝
１１４ ヒートシンク
１１６ 封止剤
１１８ 半田ボール

Claims (8)

  1. 両側面にボンディングパッドを配置し、前記各ボンディングパッドに上下に貫通する溝を形成し、少なくとも２個以上を上下に配置した複数の半導体チップと、
    前記各半導体チップの溝に挿入し、各ボンディングパッドを電気的に接続する複数のリードフレームと、
    前記リードフレームの外部接続部分のみが露出するように、全体をモールドする封止剤とを含み、
    前記リードフレームは、前記各溝に挿入される垂直リードと、前記垂直リードの一端に接続した水平リードとを含むことを特徴とするチップスタックパッケージ。
  2. 前記複数の半導体チップの表面の最上部または最下部面にヒートシンクを取り付け、前記ヒートシンクは封止剤から露出したことを特徴とする請求項１記載のチップスタックパッケージ。
  3. 前記複数の半導体チップの表面の最上部または最下部面は、前記封止剤から露出したことを特徴とする請求項１記載のチップスタックパッケージ。
  4. 前記垂直リードの他端が封止剤から露出し、このような垂直リードを持つ２個の半導体チップの積層された２個の単位パッケージが、封止剤から露出した各垂直リードが対向するように配置され、前記対向する垂直リードが、半田ボールにより電気的に接続したことを特徴とする請求項１記載のチップスタックパッケージ。
  5. 前記水平リードは封止剤の外側面まで延長されたことを特徴とする請求項１記載のチップスタックパッケージ。
  6. 前記水平リードの外部と接続する部分に半田ボールをマウントしたことを特徴とする請求項１記載のチップスタックパッケージ。
  7. 前記各半導体チップは、ＴＡＢ、熱硬化性樹脂、ＡＣＦ及びＡＣＡからなる群で選択した接着剤により取り付けられることを特徴とする請求項１記載のチップスタックパッケージ。
  8. 前記各半導体チップの溝と前記リードフレームとが接続される前処理として、あらかじめ、前記半導体チップの溝の内壁と、前記溝の内壁に接触する前記リードフレーム部分とに、半田が塗布されていることを特徴とする請求項１記載のチップスタックパッケージ。
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