JP3781056B2 - 3次元磁気方位センサおよびマグネト・インピーダンス・センサ素子 - Google Patents
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Description
さらに、このように構成された磁気センサを、2組あるいは3組有する磁気方位センサがある。この磁気方位センサでは、各アモルファスワイヤの軸方向が相互に略直交するよう、各磁気センサを配置してある(例えば、特許文献2参照。)
上記第1センサ、上記第2センサ及び上記第3センサは、上記各感磁体の磁界検出感度が最大となる方向が相互に略直交するように配設されており、
また、上記第1センサ、上記第2センサ及び上記第3センサは、凹溝状の延在溝を設けた電極配線基板と、上記延在溝の溝方向と交差するように該延在溝の内周面に配設されていると共に上記電極配線基板の表面に両端部が延設された第1の導電パターンと、上記感磁体としてのアモルファスワイヤを貫通させた状態で上記延在溝に収容された上記絶縁体と、上記延在溝を跨ぐように上記絶縁体の外表面に配設された第2の導電パターンとを有しており、
上記電磁コイルは、上記第1の導電パターンよりなる一方のコイル部と、隣り合う上記第1の導電パターンの端部を電気的に接続する上記第2の導電パターンよりなる他方のコイル部とを組み合わせたものであることを特徴とする3次元磁気方位センサにある。
上記感磁体を保持するセンサ基板と、該感磁体を貫通させるように形成された絶縁体と、該絶縁体の外表面に隣接して配設された箔状の導電パターンよりなる電磁コイルとを有し、
上記センサ基板は、その外表面のうちの上記感磁体の軸方向に略直交する面に、上記電磁コイル及び上記感磁体からそれぞれ延設された電極を有し、
また、上記マグネト・インピーダンス・センサ素子は、凹溝状の延在溝を設けた上記センサ基板としての電極配線基板と、上記延在溝の溝方向と略直交するように該延在溝の内周面に配設されていると共に上記電極配線基板の表面に両端部が延設された第1の導電パターンと、上記感磁体としてのアモルファスワイヤを貫通させた状態で上記延在溝に収容された上記絶縁体と、上記延在溝を跨ぐように上記絶縁体の外表面に配設した第2の導電パターンとを有し、
上記電磁コイルは、上記第1の導電パターンよりなる一方のコイル部と、隣り合う上記第1の導電パターンの端部を電気的に接続する上記第2の導電パターンよりなる他方のコイル部とを組み合わせてなることを特徴とするマグネト・インピーダンス・センサ素子にある。
さらに、このマグネト・インピーダンス・センサ素子は、2次元プロセスにより作製することができる。それ故、高コストな3次元プロセスを不要にして、コストダウンが可能である。
11 延在溝
100 IC
101 第1センサ
102 第2センサ
103 第3センサ
2 感磁体(アモルファスワイヤ)
3 電磁コイル
31 第1の導電パターン
32 第2の導電パターン
4 絶縁体
この場合には、上記のような急激な通電電流の変化により、上記感磁体について、電子スピン変化の伝播速度に近い速度に見合う周回方向の磁場変化を生じさせることができ、それにより十分なMI現象を発現させることができる。
通電電流を立ち上げる場合に比べて、通電電流を急激に立ち下げる場合は、磁界の強さに対して上記磁気検出ヘッドの計測信号の直線性が良好になる。
上記電磁コイルは、上記第1の導電パターンよりなる一方のコイル部と、隣り合う上記第1の導電パターンの端部を電気的に接続する上記第2の導電パターンよりなる他方のコイル部とを組み合わせて構成する。
上記第3センサは、上記延在溝の溝方向が、上記ICの厚さ方向に略一致するように上記側壁面のいずれかに配設することができる。
直交する2面の側壁面に対して、それぞれ、延在溝の溝方向が他方の側壁面と略直交するように上記第1及び上記第2センサを配設する場合には、ICに略平行な面内における直交する2方向の磁界成分の検出が可能となる。さらに、例えば、上記第1及び上記第2センサとして同一のセンサを使用すれば、部品の種類を減らすことができる。
この場合には、第3センサにおける電極の配設面と、上記ICにおける電極を設けた表面とが、略同一方向を向くため、上記リード線を接続する作業を容易に実施することができる。
上記第1センサ及び上記第2センサは、上記ICの表面が面する側を向く表面に電極を形成してなり、かつ、この電極が、上記ICの表面に配設された電極とリード線を介して電気的に接続されていることが好ましい。
上記3次元磁気方位センサを上記のように小型に構成した場合には、例えば、携帯電話やPDA等の携帯端末機器に対して上記3次元磁気方位センサを適用し易くなる。なお、上記3次元磁気方位センサが、縦2.5mm以内であって、かつ、横2.5mm以内であって、かつ、高さ1mm以内である場合には、携帯端末機器への搭載がさらに容易となる。
上記第3センサは、上記延在溝の溝方向が上記共通基板の厚さ方向に略一致するように配設されているのが良い。
この場合には、上記共通基板を利用して、上記ICと共に、上記各センサを効率良く配置することができる。
この場合には、上記感磁体を貫通、収容した上記絶縁体の外周面に、上記導電パターンを形成することで、極めて効率良く、精度の高い電磁コイルを形成することができる。また、上記絶縁体の外周面の導電パターンよりなる電磁コイルによれば、上記各センサを非常に小型に構成することができる。そして、このように構成した各センサを用いて3次元磁気方位センサを構成すれば、小型かつ高精度であって、生産効率が良好で低コストの優れた製品を実現することができる。
上記第3センサは、上記ICの表面と略直交する状態で上記側壁面のいずれかに配設されたドータ基板に表面実装されており、かつ、上記感磁体における磁界検出感度が最大となる方向が上記ICの厚さ方向に略一致しているのが良い。
磁界検出感度の方向を上記ICの厚さ方向に略一致させて上記第3センサを配設する場合には、該第3センサを用いて上記厚さ方向の磁界成分を計測することができる。なお、一般に、上記各センサは、上記感磁体の長手方向に上記磁界検出感度が最大となる方向を有している。さらに、上記ドータ基板は、ICの表面に立設することもできる。
上記ICの表面に上記第1センサ及び上記第2センサを配設すれば、上記3次元磁気方位センサ全体の体格をさらに小型化させることができる。
この場合には、上記ドータ基板と上記第3センサとの電気的に接続を確実性高く実現することができる。
上記第1センサ及び上記第2センサは、上記ICの表面に対面する電極を有し、かつ、この電極が、上記ICの電極と当接する状態で配設することができる。
この場合には、上記ICに対して、上記各センサを効率良く配置して、小型の3次元磁気方位センサを実現することができる。
上記3次元磁気方位センサを上記のように小型に構成した場合には、例えば、携帯電話やPDA等の携帯端末機器に対して上記3次元磁気方位センサを適用し易くなる。なお、上記3次元磁気方位センサが、縦2.5mm以内であって、かつ、横2.5mm以内であって、かつ、高さ1mm以内である場合には、携帯端末機器への搭載がさらに容易となる。
上記第3センサは、上記感磁体における磁界検出感度が最大となる方向が上記共通基板の厚さ方向に略一致するように配設するのが良い。
この場合には、上記共通基板を利用して、上記ICと共に、上記各センサを効率良く配置することができる。
上記電磁コイルは、上記第1の導電パターンよりなる一方のコイル部と、隣り合う上記第1の導電パターンの端部を電気的に接続する上記第2の導電パターンよりなる他方のコイル部とを組み合わせて構成する。
なお、電磁コイルをなす上記導電パターンを上記絶縁体の外周面に形成する方法としては、金属蒸着による方法や、蒸着した金属薄膜をエッチングにより除去する方法や、導電性インクを塗布する方法などがある。なお、上記絶縁体としては、エポキシ樹脂、シリコーン等のうちの少なくともいずれかよりなるものを適用することができる。
本例は、電磁コイル付のマグネト・インピーダンス・センサ素子10を利用した3次元磁気方位センサ10aに関する例である。この内容について、図1〜図14を用いて説明する。
本例の3次元磁気方位センサ10aは、図1〜図3に示すごとく、外部磁界に応じて特性が変化する感磁体2と、該感磁体2を貫通させるように形成された絶縁体4と、該絶縁体4の外表面に隣接して配設された箔状の導電パターン31、32よりなる電磁コイル3とを有するマグネト・インピーダンス・センサ素子10よりなる第1センサ101、第2センサ102及び第3センサ103を含むものである。
ここで、第1センサ101、第2センサ102及び第3センサ103は、各感磁体2の磁界検出感度が最大となる方向が相互に略直交するように配設されている。
以下に、この内容について詳しく説明する。
本例の電磁コイル3は、第1の導電パターン31よりなる一方のコイル部と、隣り合う第1の導電パターン31の端部を電気的に接続する第2の導電パターン32よりなる他方のコイル部とを組み合わせたものである。
このMI素子10は、図1および図2に示すごとく、延在溝11を設けた電極配線基板1と、作用する磁界により特性が変化するアモルファスワイヤ2と、絶縁体4を介してアモルファスワイヤ2の外周に巻回した電磁コイル3と、アモルファスワイヤ2、電磁コイル3から延設された端子である電極52、51とを有している。
なお、図6に示される垂直パターン311および水平パターン312の溝方向の幅は、50μm、10μm等に設定し、上記間隙部の同幅は、それぞれ、その半分の25μm、5μm等に設定することができる。また、これに代えて、各パターン311、312の溝方向の幅を25μmとし、間隙部の同幅を同等の25μmとすることもできる。
そして、本例では、電磁コイル3の円相当内径(高さと幅で形成される溝断面積と同一面積となる円の直径。)を66μmと、非常に小径に形成してある。
そして、以上のような構成を採用したことにより、本例では、第1センサ101〜第3センサ103を、それぞれ、0.5mm×0.4mm×1.0mmの大きさで実現している。
第1センサ101および第2センサ102の上面1011、1021には、図7に示すごとく、アモルファスワイヤ2の両端から延設された電極52と、電磁コイル3の両端から延設された電極51とを配設してある。なお、本例では、電極52を各センサ101、102の両端付近に設け、電極51は一対の電極52の間に配置した。そして、電極51、52は、それぞれ、リード線6を介して、IC100上に形成された図示しない電極パッドと電気的に接続可能なように構成してある(図3参照。)。
さらに、この第3センサ103をIC100に接合するに当たっては、第3センサ103の側面1032のパッド部をIC100の側壁面1003に当接させて接合する。
第2センサは、長手方向に沿う上面1021に、その長手方向に沿って延在溝11を有している。そして、この第2センサ102は、長手方向の稜線を介して上面1021と隣り合う側壁面1022を上記側壁面1002に当接させた状態で取り付けされている。
さらに、第3センサは、長手方向に沿う側壁面1032に、その長手方向に略直交して延在溝11を有している。そして、この第3センサ103は、延在溝11を設けた側壁面1032を上記側壁面1003に当接させた状態で取り付けされている。
なお、本例では、IC100の側壁面のうち、側壁面1001に沿ってX方向を規定し、側壁面1002に沿ってY方向を規定し、X方向及びY方向と直交してZ方向を規定してある。
本例の3次元磁気方位センサ10aは、図10に示す電子回路を一体的に有している。そして、この電子回路を用いてアモルファスワイヤ2に高周波数領域の電流変化を作用して、このときに電磁コイル3に発生する誘起電圧を計測することで、作用する磁界強度を計測するように構成してある。
なお、本例では、第3センサ103として、第1および第2センサ101、102と異なる形状および寸法諸元のものを用いたが、これに代えて、第1〜第3センサ101〜103を同一の形状および寸法諸元のものを用いることもできる。
本例は、実施例1の3次元磁気方位センサを構成した各センサ101〜103(図3参照。以下、新構造センサと記載する。)の特性を評価した例である。この内容について、図15及び図16を用いて説明する。
本例では、実施例1と同様の電子回路を用いて新構造センサの評価を実施した。
すなわち、本例の新構造センサは、ボビン素子9よりなる上記従来センサに比較し、約50分の1という桁違いに小型化されているにも関わらず、図15に示すごとく、±3Gの磁場領域で優れた直線性を得ることができる優れた特性を有している。
なお、その他の構成及び作用効果については、実施例1と同様である。
本例は、実施例1の3次元磁気方位センサを構成する各センサ101〜103について、地磁気の検出特性を評価した例である。この内容について、図3、図7〜図9及び表1〜表4を用いて説明する。
図3及び図7におけるD5は、第1センサ101の幅であり、D4は、第1センサ101の長手方向の長さであり、D6は、第1センサ101の高さである。
また、図3及び図7におけるD7は、第2センサ102の幅であり、D8は、第2センサ102の長手方向の長さであり、D9は、第2センサ102の高さである。
さらに、図3及び図8におけるD1は、第3センサ103の幅であり、D2は、第3センサ103の長手方向の長さであり、D3は、第3センサ103の高さである。
図8における各部の寸法D1〜D3、W34及びW35の設計値、センサの実測値、許容値(寸法許容範囲)については、表2に単位mmでそれぞれ示されるようになる。
図7における各部の寸法D4〜D6、W14及びW15(D7〜D9、W24及びW25)の設計値、センサの実測値、許容値(寸法許容範囲)については、表3に単位mmでそれぞれ示されるようになる。
図9における各部の寸法M1、M2及びM53の設計値、センサの実測値、許容値(寸法許容範囲)については、表4に単位mmで示されるようになる。
本例は、実施例1を基にして、MI素子10の構成を変更した例である。この内容について、図17〜図21を用いて説明する。
本例のMI素子10は、図17に示すごとく、アモルファスワイヤ2の外周側に配設した絶縁体4の外周面に、電磁コイル3を形成したものである。この電磁コイル3は、絶縁体4の外周面に配設した導電パターン33より形成してある。
その後、中間の金属薄膜30aについて、選択エッチング処理を実施して、電磁コイル3をなす導電パターン33と、その両端から延設された電極51を形成した。
なお、両端部の金属薄膜30bは、絶縁体4を貫通するアモルファスワイヤ2の端部と電気的に接続され、アモルファスワイヤ2の電極52として機能する。
さらになお、本例のアモルファスワイヤ2に代えて薄膜状を呈する磁気異方性薄膜を採用することもできる。この場合には、磁気異方性薄膜の外周を絶縁体4により覆って、断面略矩形状を呈するように形成すると共に、上記と同様の手順により、電磁コイル33及び電極51、52を形成することができる。
本例は、実施例1あるいは実施例4の3次元磁気方位センサを基にして、各センサ101〜103の配設方法を変更した例である。この内容について、図22及び図23を用いて説明する。
本例の3次元磁気方位センサ10aは、IC100及び各センサ101〜103を配設するための共通基板109を有している。
また、図23の3次元磁気方位センサ10aは、実施例4の3次元磁気方位センサを基にして、共通基板109の実装表面にIC100を実装すると共に、側壁面に第1センサ101、第2センサ102及び第3センサ103を配設したものである。
なお、その他の構成及び作用効果については、実施例1あるいは実施例4と同様である。
Claims (16)
- 外部磁界に応じて特性が変化する感磁体と、該感磁体を貫通させるように形成した絶縁体と、該絶縁体の外表面に隣接する箔状の導電パターンよりなる電磁コイルとを有するマグネト・インピーダンス・センサ素子よりなる第1センサ、第2センサ及び第3センサを含み、
上記第1センサ、上記第2センサ及び上記第3センサは、上記各感磁体の磁界検出感度が最大となる方向が相互に略直交するように配設されており、
また、上記第1センサ、上記第2センサ及び上記第3センサは、凹溝状の延在溝を設けた電極配線基板と、上記延在溝の溝方向と交差するように該延在溝の内周面に配設されていると共に上記電極配線基板の表面に両端部が延設された第1の導電パターンと、上記感磁体としてのアモルファスワイヤを貫通させた状態で上記延在溝に収容された上記絶縁体と、上記延在溝を跨ぐように上記絶縁体の外表面に配設された第2の導電パターンとを有しており、
上記電磁コイルは、上記第1の導電パターンよりなる一方のコイル部と、隣り合う上記第1の導電パターンの端部を電気的に接続する上記第2の導電パターンよりなる他方のコイル部とを組み合わせたものであることを特徴とする3次元磁気方位センサ。 - 請求項1において、上記3次元磁気方位センサは、4面の側壁面を備えた略矩形状をなし、その内部に電子回路を形成したICを有し、上記第1センサ、上記第2センサ及び上記第3センサを上記ICに配設してなり、
上記第3センサは、上記延在溝の溝方向が上記ICの厚さ方向に略一致するように上記側壁面のいずれかに配設されていることを特徴とする3次元磁気方位センサ。 - 請求項2において、上記第1センサ及び上記第2センサは、上記ICの互いに直交する2面の上記側壁面にそれぞれ配設してあり、上記各センサの上記延在溝の溝方向が、それぞれ、他方の上記センサを配設した上記側壁面と略直交していることを特徴とする3次元磁気方位センサ。
- 請求項2において、上記第3センサは、上記ICの表面が面する側を向く表面に電極を形成してなり、かつ、この電極が、上記ICの表面に配設された電極とリード線を介して電気的に接続されていることを特徴とする3次元磁気方位センサ。
- 請求項3において、上記第3センサは、上記ICの表面が面する側を向く表面に電極を形成してなり、かつ、この電極が、上記ICの表面に配設された電極とリード線を介して電気的に接続されており、
上記第1センサ及び上記第2センサは、上記ICの表面が面する側を向く表面に電極を形成してなり、かつ、この電極が、上記ICの表面に配設された電極とリード線を介して電気的に接続されていることを特徴とする3次元磁気方位センサ。 - 請求項5において、上記3次元磁気方位センサは、縦3mm以内であって、かつ、横3mm以内であって、かつ、高さ1.5mm以内であることを特徴とする3次元磁気方位センサ。
- 請求項1において、上記3次元磁気方位センサは、電子回路を形成してなるICと、該ICを実装する共通基板とを有し、上記第1センサ、上記第2センサ及び上記第3センサを上記共通基板に配設してなり、
上記第3センサは、上記延在溝の溝方向が上記共通基板の厚さ方向に略一致するように配設されていることを特徴とする3次元磁気方位センサ。 - 請求項1において、上記第1センサ、上記第2センサ及び上記第3センサでは、上記感磁体としてのアモルファスワイヤあるいは磁気異方性薄膜の外周に上記絶縁体を形成してあり、上記電磁コイルが、上記絶縁体の外周面に配設した上記導電パターンよりなることを特徴とする3次元磁気方位センサ。
- 請求項8において、上記3次元磁気方位センサは、4面の側壁面を備えた略矩形状をなし、その内部に電子回路を形成したICを有し、上記第1センサ、上記第2センサ及び上記第3センサを上記ICに配設してなり、
上記第3センサは、上記ICの表面と略直交する状態で上記側壁面のいずれかに配設されたドータ基板に表面実装されており、かつ、上記感磁体における磁界検出感度が最大となる方向が上記ICの厚さ方向に略一致していることを特徴とする3次元磁気方位センサ。 - 請求項9において、上記第1センサ及び上記第2センサは、上記ICの表面に配設されていることを特徴とする3次元磁気方位センサ
- 請求項9において、上記第3センサは、上記ドータ基板の実装表面に対面する電極を有し、かつ、この電極が、上記ドータ基板の電極と当接する状態で表面実装されていることを特徴とする3次元磁気方位センサ。
- 請求項10において、上記第3センサは、上記ドータ基板の実装表面に対面する電極を有し、かつ、この電極が、上記ドータ基板の電極と当接する状態で表面実装されており、
上記第1センサ及び上記第2センサは、上記ICの表面に対面する電極を有し、かつ、この電極が、上記ICの電極と当接する状態で配設されていることを特徴とする3次元磁気方位センサ。 - 請求項12において、上記3次元磁気方位センサは、縦3mm以内であって、かつ、横3mm以内であって、かつ、高さ1.5mm以内であることを特徴とする3次元磁気方位センサ。
- 請求項8において、上記3次元磁気方位センサは、電子回路を形成してなるICと、該ICを実装する共通基板とを有し、上記第1センサ、上記第2センサ及び上記第3センサを上記共通基板に配設してなり、
上記第3センサは、上記感磁体における磁界検出感度が最大となる方向が上記共通基板の厚さ方向に略一致するように配設されていることを特徴とする3次元磁気方位センサ。 - 外部磁界に応じて特性が変化する感磁体の外周に電磁コイルを巻回してなるマグネト・インピーダンス・センサ素子であって、
上記感磁体を保持するセンサ基板と、該感磁体を貫通させるように形成された絶縁体と、該絶縁体の外表面に隣接して配設された箔状の導電パターンよりなる電磁コイルとを有し、
上記センサ基板は、その外表面のうちの上記感磁体の軸方向に略直交する面に、上記電磁コイル及び上記感磁体からそれぞれ延設された電極を有し、
また、上記マグネト・インピーダンス・センサ素子は、凹溝状の延在溝を設けた上記センサ基板としての電極配線基板と、上記延在溝の溝方向と略直交するように該延在溝の内周面に配設されていると共に上記電極配線基板の表面に両端部が延設された第1の導電パターンと、上記感磁体としてのアモルファスワイヤを貫通させた状態で上記延在溝に収容された上記絶縁体と、上記延在溝を跨ぐように上記絶縁体の外表面に配設した第2の導電パターンとを有し、
上記電磁コイルは、上記第1の導電パターンよりなる一方のコイル部と、隣り合う上記第1の導電パターンの端部を電気的に接続する上記第2の導電パターンよりなる他方のコイル部とを組み合わせてなることを特徴とするマグネト・インピーダンス・センサ素子。 - 請求項15において、上記マグネト・インピーダンス・センサ素子は、上記感磁体としてのアモルファスワイヤあるいは磁気異方性薄膜の外周を被う絶縁体と、該絶縁体の外周面に配設した上記導電パターンよりなる上記電磁コイルと、上記感磁体を収容した上記絶縁体を配設する上記センサ基板としてのドータ基板とを有することを特徴とするマグネト・インピーダンス・センサ素子。
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