JP3760619B2

JP3760619B2 - 液晶装置及びそれを用いた電子機器

Info

Publication number: JP3760619B2
Application number: JP2625598A
Authority: JP
Inventors: 善夫山口; 義雄横内; 千浩田中
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 1998-02-06
Filing date: 1998-02-06
Publication date: 2006-03-29
Anticipated expiration: 2018-02-06
Also published as: JPH11223841A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一対の基板間に封入された液晶に印加する電圧を制御することによって光を変調する液晶装置に関する。また本発明は、その液晶装置を用いて構成される電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、デジタルスチルカメラ、携帯電話機、携帯情報端末器等といった各種の電子機器において液晶装置が広く用いられている。例えば、数字、文字、その他の可視像を表示するために液晶装置が用いられている。従来の液晶装置は、一般に、一対の基板を環状のシール材によって互いに貼り合せた構造を有している。液晶装置は長方形状に形成されることが多く、その場合には、上記シール材は４つの直線状の辺を有する長方形の環状に形成されて一対の基板を互いに接合する。
【０００３】
また従来、アクティブマトリクス方式の液晶装置として、一対の基板の一方にＴＦＤ（Thin Film Diode：薄膜ダイオード）素子等といった非線形素子及び画素電極をドットマトリクス状に並べて形成し、他方の基板にストライプ状の対向電極を形成した構造の液晶装置が知られている。この液晶装置では、各画素電極と各対向電極とが重なり合う所に可視像を表示するための１個の画素が形成される。
【０００４】
液晶装置を構成する一対の基板の両方又は一方には、液晶へ印加する電圧を制御するための液晶駆動用ＩＣが、基板上に直接に又はヒートシール、ＦＰＣ（Flexible Printed Circuit：可撓性プリント基板）、ＴＣＰ（Tape Carrier Package）等を介して基板に接続される。
【０００５】
対向側基板上に形成されるストライプ状の対向電極は、液晶駆動用ＩＣと接続をとるためにシール材を横切って可視像表示領域の外側へ延びる必要がある。また素子側基板上には、ＴＦＤ素子等に信号を伝送するための配線がストライプ状に形成され、その配線は、液晶駆動用ＩＣと接続をとるためにシール材を横切って可視像表示領域の外側へ延びる必要がある。
【０００６】
素子側基板上の信号伝送用の配線がシール材を横切る位置は、そのシール材の４辺のうちの特定の１辺である。また、対向側基板上のストライプ状電極がシール材を横切る位置も、そのシール材の４辺のうちの特定の１辺である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように液晶装置においては、素子側基板上の信号伝送用配線や対向側基板上の対向電極等がシール材を横切って可視像表示領域の内側から外側へと延びるのであるが、その横切る部分はシール材の一部分に設定されている。そのため、シール材のうち配線等が横切る部分は膜厚が厚くなり、その他の部分は膜厚が薄いままである。一般にシール材の中には円筒状スペーサが混入されており、一対の基板間の間隙、いわゆるセルギャップの寸法がその円筒状スペーサによって維持されることが多いが、従来のようにシール材の所の間隙が不均一であると、円筒状スペーサが有効に働かず、その結果、可視像表示領域内においてセルギャップの寸法が不均一になるという問題があった。
【０００８】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、液晶装置のうちシール材が設けられる外周部分の膜厚を調節することによって液晶装置のセルギャップの寸法を可視像表示領域の全域にわたって均一にすることを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明に係る液晶装置は、ストライプ状の配線が形成されると共に非線形素子を備えた素子側基板と、前記配線と交差するストライプ状の対向電極を備えると共に前記素子側基板に対向する対向側基板と、その対向側基板と前記素子側基板とを所定のセルギャップを隔てて互いに接合するシール材とを有し、前記素子側基板上に、前記セルギャップの寸法ムラを少なくするためのギャップ調整用パターンを設けた液晶装置であって、前記配線は、複数層が積層されると共に前記シール材の４辺のうち２辺を横切って外部へ導き出されており、前記シール材の前記配線が横切っていない他の２辺の一方の辺において、前記シール材が形成された領域に前記対向側基板上の前記対向電極が導き出され、前記導き出された対向電極の先端部分に対向して前記素子側基板上の前記配線を構成する一部の層で島状に形成される第１ギャップ調整用パターンが設けられてなり、前記シール材の前記配線が横切っていない他の２辺の他方の辺において、前記シール材が形成された領域に前記対向側基板上の前記対向電極が導き出され、前記導き出された対向電極の端子部分に対向して前記素子側基板上の前記配線を構成する一部の層で島状に形成される第２ギャップ調整用パターンが設けられてなり、前記導き出された対向電極及び前記第１ギャップ調整用パターンの合計の厚みと、前記配線の厚みが互いにほぼ等しくなるように形成され、前記導き出された対向電極及び前記第２ギャップ調整用パターンの合計の厚みと、前記配線の厚みが互いにほぼ等しくなるように形成されてなることを特徴とする。
【００１０】
この液晶装置によれば、液晶装置においてシール材が設けられる部分、すなわち液晶装置の外周部分の適所に第１および第２ギャップ調整用パターンを設けることにより、その液晶装置の外周部分に形成される膜の膜厚寸法をその外周部分において、均一に調節することができ、それ故、シール材の内部に混入させた円筒状スペーサを有効に活用して液晶装置のセルギャップの寸法を可視像表示領域の全域にわたって均一にすることができる。
【００１１】
上記構成において、非線形素子とは、印加電圧が変化するときにそれを流れる電流量が直線的ではなくて非直線的に変化する性質を有する素子のことであり、例えば、絶縁層を挟んで一対の電極を対向させた構造のＴＦＤ（Thin Film Diode）素子や、ＴＦＴ（Thin Film Transistor：薄膜トランジスタ）等が考えられる。また、素子側基板及び対向側基板は、例えば、ガラス、プラスチック等といった透光性材料によって形成できる。
【００１４】
対向電極の膜厚寸法は３０００Å、２２００Å又は１５００Å程度に設定されることが多く、ブラックマスクの膜厚寸法は１０００Å程度に設定されることが多い。よって、これらの膜材料を用いてギャップ調整用パターンを形成すれば、それらの各膜厚寸法を基準にしてセルギャップを調節できる。
【００１５】
また、前記第１及び第２ギャップ調整用パターンは、前記素子側基板上に形成される前記非線形素子のための膜によって形成されることを特徴とする。
また、前記非線形素子は第１電極、絶縁層及び第２電極を順次に積層した構造の薄膜ダイオードであり、前記第１及び第２ギャップ調整用パターンは前記第１電極、前記絶縁層及び前記第２電極の少なくともいずれか１つ以上によって形成されることを特徴とする。
第１電極及びその上に形成される絶縁層としては、例えばＴａ＋ＴａＯ_X（タンタル及びタンタル酸化物の積層構造）が考えられ、この膜厚は１８００Å程度に設定されることが多い。また、第２電極としては、例えばＣｒが考えられ、この膜厚は１６００Å程度に設定されることが多い。よって、これらの膜材料を用いてギャップ調整用パターンを形成すれば、それらの各膜厚寸法を基準にしてセルギャップを調節できる。
なお、素子側基板上に形成されるドットマトリクス状の画素電極はＴＦＤ素子の第２電極に重ねて形成されるが、そのとき、ＴＦＤ素子に信号を伝送するための配線の上にも画素電極と同じ構成材料を積層することがある。これは、いわゆる冗長設計のためのものであり、配線を形成する金属に断線が発生しても全体的な導通を確保できるようにするためのものである。この画素電極及び配線被覆層はＩＴＯによって膜厚５００Å程度に形成されることが多い。よって、この膜材料を用いてギャップ調整用パターンを形成すれば、その膜厚寸法を基準にしてセルギャップを調節できる。
【００１６】
次に、本発明に係る電子機器は、以上に記載した構成の液晶装置を含んで構成されることを特徴とする電子機器である。多くの場合は、その電子機器の可視像表示部、すなわち数字、文字その他の情報を表示するための部分として用いられることになるであろうが、使用形態はそのような可視像表示部に限定されるものではない。このような電子機器としては、例えば、デジタルスチルカメラ、携帯電話機、携帯情報端末器等が考えられる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
（第１実施形態）
図１は、本発明に係る液晶装置の一実施形態を平面図によって示している。この図は、本発明に係る液晶装置の特長部分を分かり易く示すために模式的に示されており、従って、各要素の寸法比率は実際の液晶装置と異なっている。
【００１８】
ここに示す液晶装置１は、長方形の環状に形成されたシール材２によって互いに接合された一対の透光性基板３ａ及び３ｂを有する。図の奥側の基板３ａは素子基板用の透光性基板であり、図の手前側の基板３ｂは対向基板用の透光性基板である。
【００１９】
素子側基板３ａの表面には、図３に示すように、互いに平行に並べられた直線状の配線、すなわちストライプ状の配線４が形成され、さらにそれらの配線４の間に複数の画素電極６がドットマトリクス状に形成され、さらに各画素電極６がＴＦＤ素子７を介して各配線４に接続される。素子側基板３ａのＩＣ実装辺には液晶駆動用ＩＣ９ａが実装され、そのＩＣ９ａの出力端子に各配線４が接続される。
【００２０】
ＴＦＤ素子７は、図１０に示すように、基板３ａ上に形成された第１電極７ａと、その第１電極７ａの上に積層された絶縁層としての陽極酸化膜７ｂと、そしてその陽極酸化膜７ｂの上に積層された第２電極７ｃとによって構成される。画素電極６は、第２電極７ｃに重なるようにして形成される。本実施形態の場合、第１電極７ａはＴａ（タンタル）によって形成され、従って陽極酸化膜７ｂはＴａＯ_X（タンタル酸化物）によって形成され、そして第２電極７ｃはＣｒ（クロム）によって形成される。
【００２１】
一方、ＴＦＤ素子７に信号を伝送するための配線４は、基板３ａ上に形成された第１層４ａと、その第１層４ａの上に形成された第２層４ｂと、その第２層４ｂの上に形成された第３層４ｃとを含んで構成される。第１層４ａは、ＴＦＤ素子７の第１電極７ａ及び陽極酸化膜７ｂを形成するときにそれらのダミーパターンとして同時にパターニングされる。従って、第１層４ａはＴａ＋ＴａＯ_X（タンタルとタンタル酸化物の積層構造）によって形成され、その厚さは１８００Å程度である。
【００２２】
第２層４ｂは、ＴＦＤ素子７の第２電極７ｃを形成するときにそのダミーパターンとして同時にパターニングされる。従って、第２層４ｂはＣｒによって形成され、その厚さは１６００Å程度である。また、第３層４ｃは、画素電極６を形成するときにそのダミーパターンとして同時にパターニングされる。従って、第３層４ｃはＩＴＯによって形成され、その厚さは５００Å程度である。この第３層４ｃは、第２層４ｂに断線が発生したときでも配線４の全体としては通電を確保できるようにするための、いわゆる冗長設計のために用いられる。
【００２３】
図１の対向側基板３ｂの表面には、図２に示すように、ストライプ状の対向電極８が形成される。対向側基板３ｂのＩＣ実装辺には液晶駆動用ＩＣ９ｂが実装され、そのＩＣ９ｂの出力端子に各対向電極８が接続される。図１において、素子側基板３ａ上の画素電極６と対向側基板３ｂ上の対向電極８とが対向する部分に可視像を表示するための１画素が形成される。
【００２４】
なお、図２では対向側基板３ｂ上にシール材２が図示され、図３では素子側基板３ａ上にもシール材２が図示されているが、これらは両基板のそれぞれにシール材２が形成されるということを示しているのではなく、シール材２の位置関係を分かり易くするために図示されている。実際には、シール材２は素子側基板３ａ又は対向側基板３ｂのいずれか一方に形成される。
【００２５】
図３に示す素子側基板３ａと図２に示す対向側基板３ｂとを貼り合せる際には、素子側基板３ａのＡ部、Ｂ部、Ｃ部、Ｄ部の各部が、それぞれ、対向側基板３ｂのＥ部、Ｆ部、Ｇ部、Ｈ部の各部に重ね合わされる。図４は、図２のＥ部に関する拡大図であって対向側基板３ｂを省略した状態で該部を拡大して示している。図示の通り、対向電極８の先端はシール材２の中に入り込んでいる。
【００２６】
図５は、図３のＡ部を拡大して示している。図示の通り、配線４、画素電極６及びＴＦＤ素子７はシール材２によって囲まれる領域に形成され、さらに各配線４の端子部分４ｄはシール材２を横切って外部へ導き出される。また、シール材２のうち配線４の端子部分４ｄが存在しない辺領域の内部には第１ギャップ調整用パターン１１が形成される。
【００２７】
このパターン１１は、素子側基板３ａ上に配線４の第１層４ａ（図１０参照）を形成するときにそれと同時にパターニングされる。すなわち、その第１層４ａのダミーパターンとして形成される。従って、パターン１１は、厚さ１８００Å程度のＴａ＋ＴａＯ_Xによって形成される。さらに、このパターン１１は、素子側基板３ａと対向側基板３ｂ（図４参照）とを互いに貼り合せるときに、対向電極８の先端部分に重なり合うような位置に形成される。
【００２８】
図６は、図２のＦ部に関する拡大図であって対向側基板３ｂを省略した状態で該部を拡大して示している。図示の通り、対向電極８の端子部分８ａはシール材２を横切って外部へ導き出されている。
【００２９】
図７は、図３のＢ部を拡大して示している。図示の通り、シール材２のうち配線４の端子部分４ｄが存在しない辺領域の内部には第２ギャップ調整用パターン１２が形成される。このパターン１２も、素子側基板３ａ上に配線４の第１層４ａ（図１０参照）を形成するときにそのダミーパターンとしてそれと同時にパターニングされ、従って、厚さ１８００Å程度のＴａ＋ＴａＯ_Xによって形成される。さらに、このパターン１２は、素子側基板３ａと対向側基板３ｂ（図６参照）とを互いに貼り合せるときに、シール材２の内部において対向電極８の端子部分８ａと重なり合うような位置に形成される。
【００３０】
図１に示す液晶装置１をＸ−Ｘ線の所で切断して示すと図８に示す通りである。図８において、Ａ，Ｄ，Ｅ，Ｈで示す各部分は、図２及び図３で同じ符号を用いて示す部分を示している。図８からも明らかなように、シール材２のＩＣ実装辺及びそれと反対側の辺において、シール材２と素子側基板３ａとの間に配線４が存在している。また、対向側基板３ｂに関しては、対向電極８と基板３ｂとの間にカラーフィルタ１３が形成される。このカラーフィルタ１３は、周知の通り、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色透光部分と、それらの透光部分を取り囲んで配置されるブラックマトリクスとによって構成される。ブラックマトリクスは、例えばＣｒ膜によって形成される。
【００３１】
図１に示す液晶装置１をＹ−Ｙの所で切断して示すと図９に示す通りである。図９において、Ａ，Ｂ，Ｅ，Ｆで示す各部分は、図２及び図３で同じ符号を用いて示す部分を示している。図９において、素子側基板３ａに関しては、シール材２の右側部分と基板３ａとの間に第１ギャップ調整パターン１１が形成され、さらにシール材２の左側部分と基板３ａとの間に第２ギャップ調整パターン１２が形成されている。そして、対向側基板３ｂに関しては、シール材２の左右両側部分と基板３ｂとの間に対向電極８が存在している。
【００３２】
素子側基板３ａと対向側基板３ｂとの間に形成される間隙、すなわちセルギャップ内には液晶Ｌが封入される。ＴＦＤ素子７によるＯＮ／ＯＦＦ電圧制御に従って各画素を構成する画素電極６及び対向電極８に印加される電圧を変化させることにより、該画素部分の液晶Ｌの配向を制御し、もって、該画素部分を通過する光を変調し、その結果、対向側基板３ｂ又は素子側基板３ａの外部に希望の可視像を表示できる。この可視像が表示される領域が可視像表示領域であり、通常は、画素電極６及びカラーフィルタ１３の両方が互いに対向して存在する領域よりもわずかに狭い領域になることが多い。
【００３３】
以上の構成から成る液晶装置１に関しては、図３に示すように、素子側基板３ａに環状に形成されるシール材２のＩＣ非実装部分の一方に第１ギャップ調整用パターン１１を形成し、ＩＣ非実装部分の他方に第２ギャップ調整用パターン１２を形成した。そしてさらに、図４及び図５に関連して説明したように、第１ギャップ調整用パターン１１は対向する対向電極８の先端部分に重なり合う位置に形成する。また、図６及び図７に関連して説明したように、第２ギャップ調整用パターン１２は対向する対向電極８の端子部分８ａに重なり合う位置に形成する。
【００３４】
以上の結果、図９において、液晶装置１のＹ−Ｙ断面に関するシール材２部分の膜厚寸法を考えると、右側のシール材２部分に存在する膜は、膜厚１８００Åの第１ギャップ調整用パターン１１及び膜厚２２００Åの対向電極８であるので、膜厚合計は
１８００Å＋２２００Å＝４０００Å
となる。
【００３５】
一方、図８において、液晶装置１のＸ−Ｘ断面に関するシール材２部分の膜厚寸法を考えると、右側及び左側の両方のシール材２部分に存在する膜は配線４であり、この膜４は、膜厚１８００Åの第１層４ａと、膜厚１６００Åの第２層４ｂと、そして膜厚５００Åの第３層４ｃとによって構成されるので、膜厚合計は
１８００Å＋１６００Å＋５００Å＝３９００Å
となる。
【００３６】
以上の結果、図１において、液晶装置１においてシール材２が形成されている外周部分の膜厚寸法は、Ｘ−Ｘ断面によって切断される辺部分が３９００Åとなり、Ｙ−Ｙ断面によって切断される辺部分が４０００Åとなり、両者の間でほとんど差が無くなる。一般に、シール材２の中には円筒状スペーサが混入され、この円筒状スペーサによってセルギャップが維持される。この場合、円筒状スペーサを挟む間隔が不均一であると、可視像表示領域のセルギャップも不均一になって表示品質が劣化する。これに対し上記のように、シール材２が設けられる部分の膜厚を全体にわたって均一に調整すれば、円筒状スペーサによるセル厚制御を適正に行うことができ、その結果、液晶装置１の可視像表示領域の全域にわたってセルギャップの寸法を均一にすることができる。それ故、液晶装置１に関して高品質の表示特性を実現できる。
【００３７】
従来の液晶装置では、図９において、シール材２の所に第１ギャップ調整用パターン１１及び第２ギャップ調整用パターン１２を設けていなかったので、液晶装置１のうちシール材２を設けた外周部分の間隙寸法が不均一になって、その結果、可視像表示領域内のセルギャップの寸法が不均一になるという問題があった。これに対して本実施形態のように、液晶装置１の外周部分にギャップ調整用パターン１１及び１２を設けることによって該外周部分の膜厚を調節すれば、セルギャップの寸法を均一にすることができる。
【００３８】
以上、液晶装置に関して好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明に係る液晶装置はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
【００３９】
例えば、上記実施形態では第１ギャップ調整用パターン１１及び第２ギャップ調整用パターン１２の両方を、素子側基板３ａ上に配線４の第１層４ａ、すなわち（Ｔａ＋ＴａＯ_X）膜を形成するときに、それと同時にパターニングすることにした。しかしながら、それらのギャップ調整用パターンは、素子側基板３ａ上に形成されるその他の各種の膜材料、例えば、配線４の第２層４ｂ又は第３層４ｃ等によって形成することもできる。また、対向側基板３ｂ上に形成される膜材料、例えば、カラーフィルタのブラックマスク等によって形成することもできる。
【００４０】
また、図５に示す第１ギャップ調整用パターン１１及び図７に示す第２ギャップ調整用パターン１２は対向電極８の形状に合わせて島状に分断して形成したが、これは、それらのパターン１１及び１２を導電性のＴａを用いて形成したからであり、仮にそれらのパターン１１及び１２を絶縁性の材料によって形成するのであれば、それらのパターンは分断状態でない単一のパターンとして形成することもできる。
【００４１】
また、上記の実施形態では、液晶駆動用ＩＣを透光性基板上に直接に搭載する構造の、いわゆるＣＯＧ（Chip On Glass）方式の液晶装置に本発明を適用したが、その他の各種構造の液晶装置、例えばＴＡＢ（Tape Automated Bonding）方式の液晶装置に対して本発明を適用できることはもちろんである。
【００４２】
また、上記の実施形態では、ＴＦＤ素子を非線形素子として用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置に対して本発明を適用したが、ＴＦＴその他の非線形素子を用いるアクティブマトリクス方式の液晶装置に本発明を適用することもできる。
【００４３】
（第２実施形態）
図１１は、本発明に係る電子機器の一実施形態を示している。この実施形態は、本発明に係る液晶装置を電子機器としてのデジタルスチルカメラのファインダ部として使用した場合の実施形態である。通常のカメラが被写体の光像によって感光フィルムを感光するのに対し、このデジタルスチルカメラは、被写体の光像をＣＣＤ（Charge Coupled Device）等といった撮像素子を用いて光電変換して撮像信号を生成する。
【００４４】
このデジタルスチルカメラは、ケーシング２６の前面側に配設した受光ユニット２７と、ケーシング２６の上面に設けたシャッタボタン２８と、そしてケーシング２６の背面に配設した液晶装置１とを含んで構成される。この液晶装置１は、被写体を表示するためのファインダとして作用するものであり、例えば図１に示した構造の液晶装置を用いて構成できる。受光ユニット２７内には、シャッタボタン２８に連動して開閉するシャッタや、光学レンズや、ＣＣＤカメラ等といった撮像素子等が含まれる。
【００４５】
このデジタルカメラには、ビデオ信号出力用端子３１及びデータ通信用入出力端子３２が設けられ、必要に応じて、ビデオ信号出力用端子３１にテレビモニタ３３が接続され、また、信号端子３２にパーソナルコンピュータ３４が接続される。カメラ撮影者が受光ユニット２７を被写体に向けると、その被写体像が液晶装置１に表示され、その表示像を確認しながらシャッタボタン２８を押圧操作すると、ＣＣＤカメラを内蔵した受光ユニット２７の出力端子に被写体に対応した撮像信号が出力され、その出力信号が回路基板２９上のメモリ内に格納され、必要に応じて、パーソナルコンピュータ３４やテレビモニタ３３へ出力される。
【００４６】
液晶装置１として図１に示すような液晶装置を用いれば、液晶装置１の外周部分にギャップ調整用パターンを設けることによって該外周部分の膜厚を調節し、もって、セルギャップの寸法を可視像表示領域の全体にわたって均一に保持しているので、常に良好な被写体像を映し出すことができる。
【００４７】
【発明の効果】
本発明に係る液晶装置及び電子機器によれば、液晶装置のうちシール材が設けられる外周部分の適所にギャップ調整用パターンを設けることにより、その液晶装置の外周部分に形成される膜の膜厚寸法を該外周部分の全域にわたって均一に調節することができ、それ故、液晶装置のセルギャップの寸法を可視像表示領域の全域にわたって均一にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る液晶装置の一実施形態を一部破断して示す平面図である。
【図２】図１に示す液晶装置の対向側基板を示す平面図である。
【図３】図１に示す液晶装置の素子側基板を示す平面図である。
【図４】図２のＥ部を拡大して示す図である。
【図５】図３のＡ部を拡大して示す図である。
【図６】図２のＦ部を拡大して示す図である。
【図７】図３のＢ部を拡大して示す図である。
【図８】図１のＸ−Ｘ線に従った断面図である。
【図９】図１のＹ−Ｙ線に従った断面図である。
【図１０】非線形素子の一例を示す斜視図である。
【図１１】本発明に係る電子機器の一実施形態を示す斜視図である。
【符号の説明】
１液晶装置
２シール材
３ａ素子側基板用透光性基板
３ｂ対向基板用透光性基板
４配線
４ａ配線の第１層
４ｂ配線の第２層
４ｃ配線の第３層
４ｄ配線の端子部分
６画素電極
７ＴＦＤ素子
８対向電極
８ａ対向電極の端子部分
９ａ，９ｂ液晶駆動用ＩＣ
１１第１ギャップ調整用パターン
１２第２ギャップ調整用パターン
１３カラーフィルタ
Ｌ液晶

Claims

ストライプ状の配線が形成されると共に非線形素子を備えた素子側基板と、前記配線と交差するストライプ状の対向電極を備えると共に前記素子側基板に対向する対向側基板と、その対向側基板と前記素子側基板とを所定のセルギャップを隔てて互いに接合するシール材とを有し、前記素子側基板上に、前記セルギャップの寸法ムラを少なくするためのギャップ調整用パターンを設けた液晶装置であって、
前記配線は、複数層が積層されると共に前記シール材の４辺のうち２辺を横切って外部へ導き出されており、
前記シール材の前記配線が横切っていない他の２辺の一方の辺において、前記シール材が形成された領域に前記対向側基板上の前記対向電極が導き出され、前記導き出された対向電極の先端部分に対向して前記素子側基板上の前記配線を構成する一部の層で島状に形成される第１ギャップ調整用パターンが設けられてなり、
前記シール材の前記配線が横切っていない他の２辺の他方の辺において、前記シール材が形成された領域に前記対向側基板上の前記対向電極が導き出され、前記導き出された対向電極の端子部分に対向して前記素子側基板上の前記配線を構成する一部の層で島状に形成される第２ギャップ調整用パターンが設けられてなり、
前記導き出された対向電極及び前記第１ギャップ調整用パターンの合計の厚みと、前記配線の厚みが互いにほぼ等しくなるように形成され、前記導き出された対向電極及び前記第２ギャップ調整用パターンの合計の厚みと、前記配線の厚みが互いにほぼ等しくなるように形成されてなることを特徴とする液晶装置。
請求項１に記載の液晶装置において、前記第１及び第２ギャップ調整用パターンは、前記素子側基板上に形成される前記非線形素子のための膜によって形成されることを特徴とする液晶装置。
請求項１又は請求項２に記載の液晶装置において、
前記非線形素子は第１電極、絶縁層及び第２電極を順次に積層した構造の薄膜ダイオードであり、
前記第１及び第２ギャップ調整用パターンは前記第１電極、前記絶縁層及び前記第２電極の少なくともいずれか１つ以上によって形成されることを特徴とする液晶装置。
請求項１から請求項３のうちの少なくともいずれか１つに記載の液晶装置を含んで構成されることを特徴とする電子機器。