JP3760378B2 - 端面反射型表面波装置及びその製造方法 - Google Patents

端面反射型表面波装置及びその製造方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、共振子や帯域フィルタとして用いられる弾性表面波装置に関し、特に、対向二端面SHタイプの表面波を反射させる構造を備えた端面反射型表面波装置及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、BGS波やラブ波などのSH波を利用し、対向二端面間におけるSH波の反射を利用した端面反射型表面波装置が種々提案されている。
【0003】
端面反射型表面波装置では、対向二端面でSH波が反射されるが、この場合、SH波以外の不要波が端面で反射されると、特性上に所望でないリップルが現れたり、GDT(群遅延時間特性)の偏差が増大するという問題があった。
【0004】
特開平4−82315号公報には、端面反射型表面波装置において、不要スプリアスの原因となるバルク波を抑圧する構造が示されている。ここでは、反射端面として用いられる対向二端面に、圧電基板表面からSH波のエネルギーの80%が集中する圧電基板層以上の厚みの層を隔てられた高さ位置に、段差が設けられている。バルク波のエネルギーは圧電基板の厚みの全域に渡り、他方、SH波のエネルギーは圧電基板表面に近い層に集中している。従って、この先行技術では、上記SH波とバルク波のエネルギーの偏りの差を利用し、段差よりも圧電基板の表面側の圧電基板層においてSH波の共振が有効に利用され、他方、段差よりも下方の圧電基板層ではバルク波共振の影響が遮断され、それによって、バルク波によるスプリアスの抑圧が果たされる。
【0005】
また、この先行技術では、上記段差よりも下方の端面部分を粗面とすることにより、バルク波を乱反射して、バルク波の共振エネルギーを低減する旨も示されている。
【0006】
もっとも、この先行技術では、上記段差よりも下方の端面部分を粗面にする必要は必ずしもない旨が示されている。
また、上記先行技術の第5図では、圧電基板の電極が形成されている面側に設けられた端面部から下方に二段の段差を隔てて第2,第3の端面部が形成されている構造が示されており、ここでは、各段差の下方において、第2,第3の端面部を適宜粗面としてもよい旨が記載されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
特開平4−82315号公報に開示されているように、従来、端面反射型表面波装置において、端面におけるバルク波などの不要波の反射を抑制するために、端面を粗面とする方法が知られていた。しかしながら、端面が粗面となる条件で、圧電基板の対向二端面をブレードを用いて切断した場合、端面にクラックが生じたり、圧電基板の端面と裏面とのなす端縁部分のチッピングが生じやすいという問題があった。
【0008】
すなわち、不要波の端面における反射による所望でないリップルやスプリアスを十分に抑圧でき、かつクラックやチッピング等が生じ難い端面反射型表面波装置を得ることは非常に困難であった。
【0009】
本発明の目的は、上述した従来技術の欠点を解消し、不要波の端面における反射に起因する特性の劣化が生じ難く、かつ圧電基板におけるクラックやチッピングが生じ難い、端面反射型表面波装置の製造方法、並びにこのような製造方法により提供される該端面反射型表面波装置を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
第1の発明は、対向二端面を有する圧電基板と、前記圧電基板上に形成された少なくとも1つのIDTとを備え、SHタイプの表面波が対向二端面で反射される端面反射型表面波装置の製造方法であって、圧電基板を用意する工程と、前記圧電基板の上面に、少なくとも1つのIDTを形成する工程と、反射端面として機能する対向し合う二端面を形成するために、前記圧電基板の上面から、圧電基板の底面には至らないように第1のブレードを用いて圧電基板をハーフカットし、反射端面として機能する平滑な第1段の端面部を形成する第1のハーフカット工程と、前記第1のハーフカット工程後に、第1の端面部よりも表面波伝搬方向外側において、表面粗さRaが0.006λ以上である粗面により構成される第2の端面部を第1の端面部の下方に形成するように、第2のブレードを用いて前記圧電基板の底面には至らない深さまで圧電基板を切断し、粗面の第2の端面部を形成する第2のハーフカット工程と、前記第2の端面部よりも表面波伝搬方向外側において、前記圧電基板の下面に至る平滑な端面部が形成されるように、第3のブレードを用いて圧電基板を切断するフルカット工程とを備えることを特徴とする。
【0011】
第1の発明の特定の局面では、前記第1のハーフカット工程、第2のハーフカット工程及びフルカット工程が、マザーの圧電ウエハーの状態で行われ、前記フルカット工程により、マザーの圧電体ウエハーが分割されて個々の弾性表面波装置が得られる。従って、圧電ウエハーから、本発明に従って、端面反射型表面波装置を効率よく量産することができる。
【0012】
第1の発明においては、上記第2のハーフカット工程は、フルカット工程の前に行なわれてもよく、後に行なわれてもよい。
第1の発明の他の特定の局面では、第2のハーフカット工程で用いられる第2のブレードの厚みが、フルカット工程で用いられる第3のブレードの厚みよりも大きい。従って、マザーの圧電体ウエハーに、第2のブレードを用いて第2のハーフカット工程を実施することにより形成された溝内に、第2のブレードよりも厚みが小さい第3のブレードを用いてフルカットすることにより、第2の端面部よりも下方において、隣り合う端面反射型表面波装置間を確実に切断することができる。
【0013】
第1の発明のさらに他の特定の局面では、第2のハーフカット工程において、第2のブレードの位置を表面波伝搬方向においてずらせて2度ハーフカットが行われ、前記フルカット工程においては、前記溝の中央において該溝の幅よりも薄い第3のブレードによりフルカットが行われる。この場合には、第2のハーフカット工程において第2のブレード厚みよりも大きな幅の溝が形成されるので、該溝の中央において、該溝の幅よりも薄い第3のブレードを用いて容易にフルカットすることができる。
【0014】
第1の発明のさらに他の特定の局面では、第1のハーフカット工程後に、フルカット工程が行われ、しかる後第2のハーフカット工程が行われる。このように、第1の発明に係る製造方法では、フルカット工程は、第2のハーフカット工程の後に行われる必要は必ずしもない。第2のハーフカット工程の前にフルカット工程を行った場合であっても、第2のハーフカット工程において、確実に第2の端面部を粗面とするように第2のハーフカットを行うことができる。なお、この場合、第2のハーフカットでは、第1の端面部の下方に連なる第2の端面部を、フルカット工程により形成された最終段の端面部よりも上方に形成することになる。
【0015】
第1の発明のさらに別の特定の局面では、前記マザーの圧電体ウエハーから個々の弾性表面波装置を切り出すために、前記反射端面と直交する方向にマザーの圧電体ウエハーをフルカットする第2のフルカット工程をさらに備え、前記第2のフルカット工程が、前記第1のハーフカット工程、第2のハーフカット工程及びフルカット工程よりも先に行われる。この場合には、第2のフルカット工程により、個々の弾性表面波装置が対向二端面側で連なった形状となるように切断され、しかる後、本発明に従って第1のハーフカット工程、第2のハーフカット工程及びフルカット工程が行われる。従って、該短冊状の圧電体ウエハー部分において第1,第2ハーフカット工程及びフルカット工程を実施することが望ましい。これは、ダイサーへの圧電体ウエハーの取付け及び取り外しの際に加わる圧力の影響を小さくし得るためである。
【0016】
また、上記第2のフルカット工程は、第1のハーフカット工程と、第2のハーフカット工程との間に行われてもよい。この場合においても、該短冊状の圧電体ウエハー部分において第1,第2ハーフカット工程及びフルカット工程を実施することが望ましい。これは、ダイサーへの圧電体ウエハーの取付け及び取り外しの際に加わる圧力の影響を小さくし得るためである。
【0017】
第1の発明によれば、本発明に従って、平滑な第1,第2の端面部及び最終段の端面部を有し、第2の端面部が粗面である端面反射型表面波装置が得られる。
本願の第2の発明は、対向二端面を有する圧電基板と、前記圧電基板上に形成された少なくとも1つのIDTと、前記対向二端面が反射端面とされている端面反射型の表面波装置であって、前記圧電基板の上面から下面に至らない位置に形成されており、反射端面として機能する平滑な第1の端面部と、前記第1の端面部よりも表面波伝搬方向外側に配置されており、圧電基板の下面から上方に延びる平滑な最終段の端面部と、前記第1の端面部と最終段の端面部との間に配置されており、JIS B0601に規定されている表面粗さRaを表面波の波長λで規格化した値が0.006λ以上である第2の端面部とを備えることを特徴とする。
【0018】
第2の発明に係る端面反射型表面波装置では、対向二端面が、それぞれ、平滑な第1の端面部及び最終段の端面部と、第1の端面部と最終段の端面部との間に配置された、表面粗さRaが0.006λ以上である粗面の第2の端面部とが備えられているので、該第2の端面部において不要波の所望でない反射が効果的に抑制される。従って、第1の端面部が反射端面として機能し、SH波が良好に反射されるが、不要波の対向二端面における反射に起因する特性の劣化を確実に抑制することができる。
【0019】
第2の発明の端面反射型表面波装置の特定の局面では、前記第1の端面部の深さ方向寸法をd1としたとき、1.8λ≦d1≦3.5λであり、この場合には、後述の実施例から明らかなように、不要波に基づく反射を効果的に抑圧することができる。
【0020】
また、第2の発明に係る端面反射型表面波装置の別の特定の局面では、前記第2の端面部の深さ方向寸法をd2としたとき、d2≧0.5λであり、この場合においても、対向二端面における不要波の反射に基づく特性の劣化をより効果的に抑制することができる。
【0021】
第3の発明に係る端面反射型表面波装置は、対向二端面を有する圧電基板と、前記圧電基板上に形成された少なくとも1つのIDTと、前記対向二端面が反射端面とされている端面反射型の弾性表面波装置であって、前記圧電基板の上面から下面に至らない位置に形成されており、前記反射端面として機能する平滑な第1の端面部と、前記第1の端面部よりも表面波伝搬方向外側に配置されており、圧電基板の下面から上方に延びる平滑な最終段の端面部と、前記第1の端面部と最終段の端面部との間に配置されており、表面粗さRaが0.006λ以上である粗面からなる第2の端面部とを備え、前記第1の端面部の深さ方向寸法をd1としたとき、1.8λ≦d1≦3.5λの範囲とされていることを特徴とする。
【0022】
第4の発明に係る端面反射型表面波装置は、対向二端面を有する圧電基板と、前記圧電基板上に形成された少なくとも1つのIDTと、前記対向二端面が反射端面とされている端面反射型の弾性表面波装置であって、前記圧電基板の上面から下面に至らない位置に形成されており、前記反射端面として機能する平滑な第1の端面部と、前記第1の端面部よりも表面波伝搬方向外側に配置されており、圧電基板の下面から上方に延びる平滑な最終段の端面部と、前記第1の端面部と最終段の端面部との間に配置されており、表面粗さRaが0.006λ以上である粗面からなる第2の端面部とを備え、前記第2の端面部の深さ方向寸法をd2としたとき、d2≧0.5λとされていることを特徴とする。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施例を説明することにより、本発明を明らかにする。
【0024】
図1(a),(b)は、本発明の一実施例に係る端面反射型表面波装置の製造方法により得られる端面反射型表面波装置の平面図及び(a)中のA−A線に沿う部分拡大正面断面図である。
【0025】
端面反射型表面波装置1は、圧電基板2を有する。圧電基板2は、矩形板状の形状で、対向し合う端面2a,2bを有する。
圧電基板2は、LiTaO3、LiNbO3、水晶などの圧電単結晶、あるいは、チタン酸ジルコン酸鉛セラミックスのような圧電セラミックスにより構成されている。圧電基板2の上面には、IDT3,4が形成されている。IDT3,4は、互いに間挿し合う複数本の電極指を有する。IDT3,4は表面波伝搬方向に隔てられており、本実施例では、IDT3,4の電極指の延びる方向と直交する方向に表面波としてのSH波が伝搬する。従って、SH波は、端面2a,2bで反射される。
【0026】
本実施例では、対向二端面2a,2b間でSH波が反射される、縦結合共振子型弾性表面波フィルタが構成される。
本実施例の端面反射型表面波装置の特徴は、端面2a,2bの構造にある。図1(b)に示すように、端面2aでは、圧電基板2の上面2cから下方に延びる平滑な第1の端面部2a1と、第1の端面部2a1の下方において段差5aを隔てて下方に延びるように配置された第2の端面部2a2と、第2の端面部2a2の下方に、段差5bを隔てて形成された第3の端面部2a3とを有する。第3の端面部2a3は平滑な端面部とされており、第2の端面部2a2は、粗面とされている。より具体的には、第2の端面部2a2は、JIS B0601に規定されている表面粗さRaが0.006λ以上とされており、それによって、後述の実施例から明らかなように不要波の反射に起因する特性の影響を効果的に抑制することができる。
【0027】
このように、中間に位置する第2の端面部2a2を上記特定の範囲の表面粗さの粗面とすることにより、不要波の反射に起因する特性の劣化を抑制し得ることを、具体的な実験例に基づいて説明する。
【0028】
上記実施例の端面反射型表面波装置1として、1.5×2.5×厚み0.4(mm)の圧電基板上にIDT3,4を形成し、第1の端面部2a1の深さ方向寸法d1を3λ、第2の端面部2a2の深さ方向寸法を3λとし、第2の端面部2a2の表面粗さRaを種々変化させた場合の特性の変化を調べた。結果を図2に示す。なお、他方の端面2bにおいても、端面2a側と同様に第1,第2の端面部2b1,2b2及び第3の端面部2b3を構成した。
【0029】
図2の横軸は、第2の端面部2a2,2b2の表面粗さを示し、縦軸は得られた表面波装置における帯域内のGDTの偏差を示す。
図2から明らかなように、第2の端面部の表面粗さRaが0.006λ以上になれば、帯域内におけるGDTの偏差が非常に小さくなることがわかる。
【0030】
従って、第2の端面部端面部2a2,2b2の表面粗さRaを0.006λ以上とすることにより、良好な特性を有する端面反射型表面波装置1の得られることがわかる。
【0031】
次に、上記実験例と同様の圧電基板を用い、但し第1の端面部2a1,2b1の深さ方向寸法d1を種々変化させ、第2の端面部2a2,2b2の深さ方向寸法を3λとした種々の端面反射型表面波装置を作製し、挿入損失及び帯域内GDT偏差を測定した。結果を図3及び図4に示す。図3及び図4から明らかなように、第1の端面部の深さ方向寸法d1が、1.8λ未満の場合には、挿入損失が大きくなることがわかる。従って、挿入損失の低減を図るには、d1が1.8λ以上であることが望ましい。
【0032】
また、図4から明らかなように、d1が1.8λ〜3.5λの範囲では、帯域内GDT偏差が200n秒以下であることがわかる。従って、好ましくは、1.8λ≦d1≦3.5λとすれば、低損失であり、かつGDT偏差の少ない良好なフィルタ特性を得られることがわかる。
【0033】
次に、第1の端面部2a1,2b1の寸法を、3λとし、第2の端面部2a2,2b2の深さ方向寸法d2を変化させた場合の帯域内GDT特性の偏差を調べた。結果を図5に示す。
【0034】
図5から明らかなように、第2の端面部2a2,2b2の深さ方向寸法d2が0.5λ未満では、帯域内GDT偏差が大きくなることがわかる。従って、d2を0.5λ以上とすることにより、帯域内GDT偏差を小さくし得ることがわかる。よって、本発明に係る端面反射型表面波装置では、まず、図2の結果から明らかなように、第2の端面部2a2,2b2の表面粗さRaを0.006λ以上とすることにより、帯域内GDT偏差を小さくすることができる。
【0035】
また、第2の端面2a2が粗面である場合、第1の端面部2a1,2b1の深さd1を、1.8λ〜3.5λの範囲とすることにより、低損失化及びGDT偏差の低減を果たし得ることがわかる。この場合、第2の端面部2a2,2b2の表面粗さRaは、必ずしも0.006λ以上でなくともよいことが本願発明者により実験的に確かめられている。
【0036】
また、端面反射型表面波装置1では、好ましくは、第2の端面2a2,2b2の深さ方向寸法d2は、図5から明らかなように、0.5λ以上とされ、それによって帯域内GDT偏差の低減が果たされる。この場合、本願発明者により第2の2a2,2b2の表面粗さRaは、必ずしも0.006λ以上でなくとも、帯域内GDT偏差を低減し得ることが確かめられている。
【0037】
次に、端面反射型表面波装置1の製造方法を、図6〜図10を参照して説明する。
図6(a)〜(d)は、本発明の製造方法の第1の例を示す各部分切欠断面図である。
【0038】
第1の方法では、マザーの圧電体ウエハー11上に複数の端面反射型表面波装置1を構成するためのIDT3,4をマトリックス状に形成する。図6(a)では、隣り合う端面反射型表面波装置1,1の該隣り合っている部分が模式的に示されている。−点鎖線Zは、隣り合う端面反射型表面波装置1,1間の境界を示す。
【0039】
上記圧電体ウエハー11の上面において、まず、第1のブレード21,21(想像線で示す)を用いて、圧電体ウエハー11をハーフカットする(図6(a))。この第1のハーフカット工程においては、隣り合う端面反射型表面波装置1,1の反射端面を形成するために、すなわち第1の端面部を形成するために、上記ハーフカットが行われる。その結果図6(b)に示すように、第1の溝11a,11bが形成される。この第1の溝11a,11bの一方の側面が、前述した第1の端面部2a1,2b1を構成することになる。従って、第1のブレード21を用いた第1のハーフカット工程では、溝11a,11bの側面が平滑になるような条件でハーフカットが行われる。
【0040】
また、当然のことながら、第1のハーフカット工程においては、ブレード21による切断は、圧電体ウエハー11の下面には至らないように行われる。
次に、図6(b)に想像線で示されている第2のブレード22を用いて、第2のハーフカット工程が行われる。この第2のハーフカット工程では、ブレード22により、第2の溝11cが形成される。第2の溝11cは、粗面の第2の端面部2a2,2b2を形成するために行われる。従って、第2のブレード22による第2のハーフカット工程は、溝11cの底面及び側面が粗面となるような条件で行われる。また、第2の端面部2a2,2b2を形成するために、第2のブレード22の厚みは、前述した第1の溝11a,11b間の圧電体ウエハー部分11dよりも厚くされている。
【0041】
上記のようにして、第2の溝11cが形成され、第2の端面部2a2,2b2が形成される。
しかる後、第2の溝11cの幅方向寸法よりも厚みの薄い第3のブレード23を用いてフルカット工程が行われる。このフルカット工程では、第2の溝11c内において、隣り合う端面反射型表面波装置1,1が分断されるように、切断が行われる。そして、この切断により、平滑な第3の端面部2a3,2b3が形成される。
【0042】
この製造方法では、第1の溝11a,11bを形成する第1のハーフカット工程及び最後のフルカット工程では、切り出された面が平滑な面となるように、ハーフカット及び切断が行われる。このような平滑な面は、例えば、第1,第3のブレード21,23として砥粒が細かいブレードを用いることにより容易に形成され得る。また、第2の端面部2a2,2b2を形成するための第2のブレード22としては、粗面を形成するために砥粒の粗いブレードを用いればよい。
【0043】
ハーフカット加工では、フルカットに比べて、同一のブレード及び同一加工速度を採用したとしても、圧電体ウエハーにおけるクラックやチッピングが生じ難い。従って、クラックやウエハーの割れが起こらない範囲で、確実に粗面の第2の端面部2a2,2b2を形成することができる。そして、このような粗面の第2の端面部2a2,2b2を形成した後に、個々の弾性表面波装置1,1間を分離ずるフルカット工程が行われる。このフルカット工程では、切り出された面を粗面とする必要がないため、チッピングやウエハーの欠けが生じ難い。よって、上述したように、特性が良好な端面反射型表面波装置1を圧電体ウエハー1から製造するにあたり、チッピングやウエハーの割れを確実に抑制することができる。
【0044】
図7(a)〜(e)は、本発明の製造方法の実施例としての第2の方法を説明するための各部分切欠断面図である。
第2の方法では、まず、圧電体ウエハー11において、第1の方法と同様に、第1のブレード21を用いて、第1の溝11a,11bが形成される。(図7(a),(b)参照)。
【0045】
次に、図7(b)に示されているように、第2のブレード22Aを用いて、第2のハーフカット工程が行われる。この方法では、図7(b),(c)に示すように、同一の第2のブレード22Aを用いて、但しハーフカット位置をずらせて2度ハーフカットが行われる。この場合、2度のハーフカットにより、図7(d)に示されている第2の溝11cが形成されるように、第2のブレード22Aの位置がずらされて2度のハーフカットが行われる。図7(d)では、第2の溝11cとして、ブレード22Aの厚みよりも幅方向寸法が大きい1つの溝11cが形成されていたが、第2のブレード22Aの厚みと等しい幅の第2の溝が独立に形成されていてもよい。
【0046】
次に、第2の溝11cの中央において、第2の溝11cの幅方向寸法よりも狭い幅の第3のブレード23を用いてフルカット工程が行われる。この場合においても、第2の溝11cを形成するための第2のハーフカット工程において、切り出される面が粗面となるような条件を採用することにより、図6を参照して説明した第1の製造方法の場合と同様に、チッピングや割れを生じさせることなく、第2の端面部2a2,2b2を形成することができる。
【0047】
なお、前述したように、第2の溝11cを第2のハーフカット工程において2本形成した場合には、第3のブレード23として、2本の第2の溝間の間隔よりも厚く、但し、第1の溝11a,11bの第1の端面部2a1,2b1を構成している側面間の距離よりも薄いブレードを用いればよい。
【0048】
第2の製造方法では、第2,第3のブレード22A,23として、同じブレードを用いることができる。すなわち、粗面を形成するための第2のブレード22Aによるハーフカットに際し、加工速度を速くし、ブレードの回転数を小さくすればよい。さらに、フルカット工程においては、平滑な面を得るために、加工速度を遅く、かつブレードの回転数を大きくすればよい。従って、第2の製造方法では、第2,第3のブレードとして同じブレードを用いることにより、ブレードの交換作業を軽減することができる。
【0049】
図8(a)〜(d)は、本発明の製造方法の実施例としての第3の製造方法を説明するための各部分切欠断面図である。
第3の製造方法では、図8(a)に示すように、第1の製造方法と同様に、まず第1のハーフカット工程が行われ、図8(b)に示す第1の溝11a,11bが形成される。しかる後、図8(b)において想像線で示されている第3のブレード23を用いて、フルカット工程が行われる。すなわち、圧電体ウエハー11の下面に至るように、第3のブレード23を用いた切断が行われる。この切断では、切り出された面は平滑面となるため、粗面を形成する場合に比べ、チッピングやウエハーの欠けは生じ難い。
【0050】
上記のようにして、フルカット工程を行った後に、図8(c)に示すように、第2のブレード22を用いて第2のハーフカット工程が行われる。なお、図8(c)では、隣り合う端面反射型表面波装置1,1が分断されているが、図8(a)〜(d)で示す一連の工程では、圧電体ウエハー11は、図示しない切断ステージ上に粘着テープなどにより仮固定されている。従って、図8(c)において隣り合う端面反射型表面波装置1,1は分離されているが、両者の間隔がずれることはない。よって、次に行われる第2のハーフカット工程を安定にかつ確実に行うことができる。
【0051】
図8(c)に想像線で示す第2のブレード22を用いて、第2のハーフカット工程が行われる。この場合、第2のブレード22の厚みは、上記フルカット工程により形成された隙間11eの幅方向寸法よりも大きく、第1,第2の端面部2a1,2b1間の距離よりも小さな厚みのブレードが用いられる。このようにして、第2のハーフカット工程が行われ、第2の端面部2a2,2b2が形成され、かつ前述したフルカット工程により切り出された面のうち、第2の端面部2a2,2b2よりも下方部分が第3の端面部2a3,2b3を構成する。
【0052】
第3の製造方法においても、第2のハーフカット工程において、切り出された面が粗面となる条件で第2のハーフカット工程を行うことにより、第1,第2の製造方法と同様に、粗面の第2の端面部2a2,2b2を容易に形成することができる。また、フルカットに際して粗面を形成するものではないため、第2のハーフカット工程において、チッピングやウエハーの欠けも生じ難い。
【0053】
また、第3の製造方法では、第2の端面部2a2,2b2の形成前にフルカット工程が行われるので、第1,第2の製造方法に比べて、第2のハーフカット工程中やハーフカット後のウエハーの取り外しの際のハーフカット溝に沿う割れを抑制することができる。
【0054】
なお、上述した第1〜第3の製造方法では、隣り合う端面反射型表面波装置1,1間において、各端面反射型表面波装置1の反射端面側を分断する工程につき説明したが、圧電体ウエハーでは、前述したように、個々の弾性表面波装置用のIDT3,4がマトリックス状に形成されている。すなわち、図10に示すように、圧電体ウエハー11は、最終的に、破線X,Yで切断され、個々の端面反射型表面波装置1が得られる。上述した第1〜第3の製造方法は、この破線Xに相当する部分での切断方法である。これに対して、対向二端面とは直交する方向の側面2d,2e側の切断は、上記破線Yに沿って行われる。すなわち、図11の破線Yに沿って圧電体ウエハー11がフルカットされる。このフルカット工程を第2のフルカット工程とする。
【0055】
第2のフルカット工程は、第1,第2のハーフカット工程及びフルカット工程を終了した後に行われてもよい。
さらに、第2のフルカット工程は、反射端面側の三段の階段状構造を形成した後に行う必要は必ずしもない。すなわち、特に、第2のハーフカット工程後には、第1,第2の溝が形成されて圧電体ウエハーが割れやすくなる。従って、第2のフルカット工程は、第1のハーフカット工程と第2のハーフカット工程との間で行われることが望ましく、その場合には、第2のフルカット工程による圧電体ウエハーの割れや欠けを確実に抑制することができる。
【0056】
もっとも、第1,第2のハーフカット工程後、特に第2のハーフカット工程後の圧電体ウエハーは、複数の溝を有するため、非常に割れやすい。従って、最も好ましくは、第2のフルカット工程を先に実施した後、本発明に従って第1,第2のハーフカット工程及びフルカット工程を、行うことが望ましい。すなわち、第2のフルカット工程により、反射端面と直交する方向に複数の端面反射型表面波装置が連結された短冊状の圧電体ウエハー部分を得、該短冊状の圧電体ウエハー部分において第1,第2ハーフカット工程及びフルカット工程を実施することが望ましい。これは、ダイサーへの圧電体ウエハーの取付け及び取り外しの際に加わる圧力の影響を小さくし得るためである。
【0057】
なお、本発明では、第1の端面部及び第2の端面部と最終段の端面部が形成されておればよく、第1の端面部と最終段の端面部との間に、複数段の第2の端面部が形成されていてもよい。この場合、複数段の第2の端面部を形成するために、第2のハーフカット工程を複数回実施すればよい。
【0058】
また、本発明は、上述した縦結合共振子型の端面反射型表面波装置に限らず、端面反射型表面波共振子や他の構造の端面反射型表面波フィルタなど、端面反射型表面波装置一般に適応し得るものである。
【0059】
また、図6から図8に示した製造方法では、第2の端面部2a2,2b2は、圧電体ウエハーの上面と直交する方向に延ばされていたが、第2の端面部2a2,2b2は傾斜面とされていてもよい。すなわち、図9(a)〜(d)に示すように、第1の製造方法と同様に、第1のハーフカット工程を行った後に、先端に行く程厚みが薄くなるブレード22Bを用いて第2のハーフカット工程を行ない、第2の端面部2a2,2b2を傾斜面として形成してもよい。このように、本発明に係る端面反射型表面波装置における粗面からなる第2の端面部2a2,2b2は圧電基板の上面と直交する方向以外に延びる傾斜面であってもよい。
【0060】
【発明の効果】
第1の発明に係る端面反射型表面波装置の製造方法では、第1のハーフカット工程により、平滑な反射端面として機能する第1の端面部が形成される。第1のハーフカット工程よりも後に、第2のハーフカット工程が行われて、粗面の第2の端面部が形成されるが、ハーフカットにより粗面を形成するため、フルカットに際して粗面を形成する場合に比べて、圧電基板のチッピングやクラックの発生を確実に抑制することができる。
【0061】
従って、第1の発明によれば、第2の端面部が粗面とされているため、不要波の反射による特性の劣化が抑制され、良好な特性を有する端面反射型表面波装置を、圧電基板のチッピングやクラックを生じさせることなく確実に提供することが可能となる。
【0062】
第2の発明によれば、第1の端面部と最終段の端面部との間に、表面粗さRaが0.006λ以上である第2の端面部が形成されるので、群遅延時間特性の偏差が少ない、良好な特性を有する端面反射型表面波装置を提供することができる。
【0063】
第3の発明に係る端面反射型表面波装置では、第1の端面部と、粗面である第2の端面部と、最終段の端面部とを有し、第1の端面部の深さ方向寸法d1が、1.8λ〜3.8λの範囲とされているので、群遅延時間特性の偏差が少なく、良好な特性を有する端面反射型表面波装置を提供することができる。
【0064】
第4の発明では、第1の端面部と最終段の端面部との間に配置されている粗面の第2の端面部の深さ方向寸法d2が0.5λ以上とされているので、群遅延時間特性の偏差が少ない、良好な特性を有する端面反射型表面波装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a),(b)は、本発明の一実施例に係る端面反射型表面波装置の平面図及び(a)中のA−A線に沿う部分切欠正面断面図。
【図2】第2の端面部の表面粗さRaと、帯域内GDT偏差との関係を示す図。
【図3】第1の端面部の深さ方向寸法d1と、挿入損失との関係を示す図。
【図4】第1の端面部の深さ方向寸法d1と、帯域内GDT偏差との関係を示す図。
【図5】第2の端面部の深さ方向寸法d2と、帯域内GDT偏差との関係を示す図。
【図6】(a)〜(d)は、本発明の製造方法の実施例としての第1の製造方法を説明するための各部分切欠断面図。
【図7】(a)〜(e)は、本発明の製造方法の実施例としての第2の製造方法を説明するための各部分切欠断面図。
【図8】(a)〜(d)は、本発明の製造方法の実施例としての第3の製造方法を説明するための各部分切欠断面図。
【図9】(a)〜(d)は、本発明の製造方法の実施例としての第4の製造方法を説明するための各部分切欠断面図。
【図10】圧電体ウエハーから端面反射型表面波装置を切り出す工程を説明するための略図的平面図。
【符号の説明】
1…端面反射型表面波装置
2…圧電基板
2a,2b…端面
2a1,2b1…第1の端面部
2a2,2b2…第2の端面部
2a3,2b3…第3の端面部
2c…上面
2d,2e…側面
3,4…IDT
5a,5b…段差
11…圧電体ウエハー
11a,11b…第1の溝
11c…第2の溝
21…第1のブレード
22…第2のブレード
22A…第2のブレード
22B…第2のブレード
23…第3のブレード

Claims (15)

  1. 対向二端面を有する圧電基板と、前記圧電基板上に形成された少なくとも1つのIDTとを備え、SHタイプの表面波が対向二端面で反射される端面反射型表面波装置の製造方法であって、
    圧電基板を用意する工程と、
    前記圧電基板の上面に、少なくとも1つのIDTを形成する工程と、
    反射端面として機能する対向し合う二端面を形成するために、前記圧電基板の上面から、圧電基板の底面には至らないように第1のブレードを用いて圧電基板をハーフカットし、反射端面として機能する平滑な第1段の端面部を形成する第1のハーフカット工程と、
    前記第1のハーフカット工程後に、第1の端面部よりも表面波伝搬方向外側において、表面粗さRaが0.006λ以上である粗面により構成される第2の端面部を第1の端面部の下方に形成するように、第2のブレードを用いて前記圧電基板の底面には至らない深さまで圧電基板を切断し、粗面の第2の端面部を形成する第2のハーフカット工程と、
    前記第2の端面部よりも表面波伝搬方向外側において、前記圧電基板の下面に至る平滑な端面部が形成されるように、第3のブレードを用いて圧電基板を切断するフルカット工程とを備える、端面反射型表面波装置の製造方法。
  2. 前記第1のハーフカット工程、第2のハーフカット工程及びフルカット工程が、マザーの圧電ウエハーの状態で行われ、
    前記フルカット工程により、マザーの圧電体ウエハーが分割されて個々の弾性表面波装置が得られる、請求項1に記載の端面反射型表面波装置の製造方法。
  3. 前記第2のハーフカット工程後に前記フルカット工程が行なわれる、請求項1または2に記載の端面反射型表面波装置の製造方法。
  4. 前記第2のハーフカット工程前に前記フルカット工程が行なわれる、請求項1または2に記載の端面反射型表面波装置の製造方法。
  5. 前記第2のハーフカット工程で用いられる第2のブレードの厚みが、フルカット工程で用いられる第3のブレードの厚みよりも大きい、請求項1〜4のいずれかに記載の端面反射型表面波装置の製造方法。
  6. 前記第2のハーフカット工程において、第2のブレードの位置を表面波伝搬方向においてずらせて2度カットが行なわれる、請求項1〜4のいずれかに記載の端面反射型表面波装置。
  7. 第2のハーフカット工程が複数回行われ、それによって表面波伝搬方向において複数段の第2の端面部が形成される、請求項1〜6のいずれかに記載の端面反射型表面波装置の製造方法。
  8. 前記マザーの圧電体ウエハーから個々の弾性表面波装置を切り出すために、前記反射端面と直交する方向にマザーの圧電体ウエハーをフルカットする第2のフルカット工程をさらに備え、
    前記第2のフルカット工程が、前記第1のハーフカット工程、第2のハーフカット工程及びフルカット工程よりも先に行われる、請求項1〜7のいずれかに記載の端面反射型表面波装置の製造方法。
  9. 前記弾性表面波装置を前記マザーの圧電体ウエハーから切り出すために、前記対向二端面と直交する方向にマザーの圧電体ウエハーをフルカットする、第2のフルカット工程をさらに備え、
    前記第2のフルカット工程が、前記第1のハーフカット工程と、第2のハーフカット工程との間に行われる、請求項1〜7のいずれかに記載の端面反射型表面波装置の製造方法。
  10. 請求項1〜9のいずれかに記載の端面反射型表面波装置の製造方法により得られた端面反射型表面波装置。
  11. 対向二端面を有する圧電基板と、
    前記圧電基板上に形成された少なくとも1つのIDTと、
    前記対向二端面が反射端面とされている端面反射型の表面波装置であって、
    記圧電基板の上面から下面に至らない位置に形成されており、反射端面として機能する平滑な第1の端面部と、
    前記第1の端面部よりも表面波伝搬方向外側に配置されており、圧電基板の下面から上方に延びる平滑な最終段の端面部と、
    前記第1の端面部と最終段の端面部との間に配置されており、表面粗さRaが0.006λ以上である第2の端面部とを備える、端面反射型表面波装置。
  12. 前記第1の端面部の深さ方向寸法をd1としたとき、1.8λ≦d1≦3.5λである、請求項11に記載の端面反射型表面波装置。
  13. 前記第2の端面部の深さ方向寸法をd2としたとき、d2≧0.5λである、請求項11または12に記載の端面反射型表面波装置。
  14. 対向二端面を有する圧電基板と、
    前記圧電基板上に形成された少なくとも1つのIDTと、
    前記対向二端面が反射端面とされている端面反射型の弾性表面波装置であって、
    前記圧電基板の上面から下面に至らない位置に形成されており、前記反射端面として機能する平滑な第1の端面部と、
    前記第1の端面部よりも表面波伝搬方向外側に配置されており、圧電基板の下面から上方に延びる平滑な最終段の端面部と、
    前記第1の端面部と最終段の端面部との間に配置されており、表面粗さRaが0.006λ以上である粗面からなる第2の端面部とを備え、
    前記第1の端面部の深さ方向寸法をd1としたとき、1.8λ≦d1≦3.5λの範囲とされている、端面反射型表面波装置。
  15. 対向二端面を有する圧電基板と、
    前記圧電基板上に形成された少なくとも1つのIDTと、
    前記対向二端面が反射端面とされている端面反射型の弾性表面波装置であって、
    前記圧電基板の上面から下面に至らない位置に形成されており、前記反射端面として機能する平滑な第1の端面部と、
    前記第1の端面部よりも表面波伝搬方向外側に配置されており、圧電基板の下面から上方に延びる平滑な最終段の端面部と、
    前記第1の端面部と最終段の端面部との間に配置されており、表面粗さRaが0.006λ以上である粗面からなる第2の端面部とを備え、
    前記第2の端面部の深さ方向寸法をd2としたとき、d2≧0.5λとされている、端面反射型表面波装置。
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