JP3757239B2

JP3757239B2 - 真空室用ロックおよび真空室ならびに回路

Info

Publication number: JP3757239B2
Application number: JP2001211704A
Authority: JP
Inventors: マリナスフランシスカスヨハネスエバース、; ミカエルアドリアナスセオドラスホムパス、
Original assignee: オー．ティー．ビー．グループビー．ブイ．
Priority date: 2000-07-12
Filing date: 2001-07-12
Publication date: 2006-03-22
Anticipated expiration: 2021-07-12
Also published as: DE60129975D1; JP2002139166A; US20020021542A1; DE60142012D1; CN1291061C; EP1299571B1; EP1172456B1; DE60129975T2; WO2002004697A1; HK1043161B; ES2291331T3; ATE370262T1; AU2001272844A1; US7198678B2; US6615547B2; JP2004502869A; US20040083968A1; HK1043161A1; NL1015690C2; EP1172456A1

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は, 真空室用ロックに係わり、ロックは, 外側密封部及び内側密封部から構成される通路を有し, 外側密封部は, 真空室内の真空によって生じた差圧の影響のもとで閉位置を保持することができ, 前述の差圧によって生じた力に対して開けることができ、内側密封部は, 開位置を保持することができ、前述のあらかじめ張力を加えた内側密封部を閉じる閉止部を構成する。
【０００２】
【従来の技術】
かかるロックの手段によって真空室の内側空間及びその周囲との間に製品を移送することが真空を保持されている中で可能である。真空室の内部では, 種々の操作が製品の上に行われる。より特定な一つとして、ＣＤディスク又はＤＶＤディスクなどの回路基板上に金属膜を付着させる方法による金属層の適用が考慮される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
既知のロックにおける内側密封部は、機械的方法の中で閉位置に保持される。したがって、押し棒を真空壁の壁を通して外部から操作しなければならない。このような操作方法には問題があり, 真空方法の操作に不都合な影響を及ぼす。要求される真空が密封を保持するために本当に得られるような正しい方法で内側密封部を平行な面で交換するのが容易ではないことは明白である。更なる問題には, 真空室の壁に関して押し棒の密封を常に保持することができないことである。
【０００４】
本発明の目的は, 前述の不都合を有しない上述の種類のロックを提供することにある。前述の目的は, 電磁気の構成による閉止方法によって達成することができる。
【０００５】
電磁気による内部密閉方法は, 真空室の壁を通して機械的移動を必要とせずに操作することができる。それゆえ, 密封の問題は, 解消される。更に, 内側密封部に必要な平行動作は, 例えば極片を伴う電磁気の共同操作によって得られる。この目的のために、電磁気は, 前述の通路の周りに延長することができ、極片は, 対応する方法で内側密封部を超えて延長することができる。特に, 通路並びに外側及び内側密封部は、円筒状にすることができる。
【０００６】
電磁気と極片との間の共同操作を改善するために, 極片は, 少なくとも１つの円環状隆起又は溝を有する電磁石に表面を向け, 通路を囲む部分は, 少なくとも対応する位置に溝又は隆起をそれぞれ有し, 当該隆起は, 内側密封部によって通路が閉止した場合に前述の溝に挿入される。当該隆起及び溝は, 内側密封部及び当該通路の正確な相互位置決めが必要である。
【０００７】
極片の代わりに第２の電磁気又は永久磁石を提供することができる。
外側密封部は円環状O リングから構成され, O −リングは、真空の影響のもとで押し付けられて保持される。内側密封部は円環状O −リングを有し, 活性化した電磁気の影響のもとで押し付けられ保持される。
【０００８】
本発明は, 更に付着装置などの真空室に係わり, 先行の請求の一つに従う少なくとも一つのロックから構成され、当該ロックは外側密封部及び外側密封部から構成される通路を有し, 外側密封部は真空室内の真空によって生じた差圧の影響のもとで閉止位置を保持することができ, 前述の差圧によって生じた力に対して開くことができる。内側密封部は、あらかじめ張力を加えられて開位置に保持することができ前述の既生張力に対して内側密封部を閉止するロック装置から構成され, 真空室は台から構成され、当該台は通路に沿って移動することができ, 前述の内側密封部を支える。当該閉止部は, 電磁気及び極片、第２電磁気又は永久磁石から構成される。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、請求項１の発明によれば、大気側に位置し、ディスクが出し入れされる開口用通路を有する外側密封部と、真空側に位置し、外側密封部に対して離間接近すると共に回転する内側密封部と、上記通路を開放・密閉する蓋と、両密封部の間隙における前記通路の周囲に設けられるシール手段とを有し、該シール手段の駆動力が、大気と真空との差圧および電磁石の磁力により得られることを特徴とする真空室用ロックにより達成される。
【００１０】
また、上記目的は、請求項２の発明によれば、上記電磁石が外側密封部に設けられることを特徴とする、請求項１に記載の真空室用ロックにより達成される。
【００１１】
また、上記目的は、請求項３の発明によれば、上記電磁石が環状であることを特徴とする、請求項２に記載の真空室用ロックにより達成される。
【００１２】
また、上記目的は、請求項４の発明によれば、上記電磁石の磁力により吸引される極片が該電磁石に対向して設けられることを特徴とする、請求項１または２に記載の真空室用ロックにより達成される。
【００１３】
また、上記目的は、請求項５の発明によれば、上記極片が内側密封部に設けられることを特徴とする、請求項４に記載の真空室用ロックにより達成される。
【００１４】
また、上記目的は、請求項６の発明によれば、上記極片が上記電磁石の存在の範囲を超えて外側密封部に対向して存在していることを特徴とする、請求項３または５に記載の真空室用ロックにより達成される。
【００１５】
また、上記目的は、請求項７の発明によれば、上記通路と同様に上記外側密封部および内側密封部が円柱状であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載の真空室用ロックにより達成される。
【００１６】
また、上記目的は、請求項８の発明によれば、上記内側密封部に環状の隆起または溝が設けられると共に、この隆起または溝に対応する環状の溝または隆起が外側密封部に設けられ、シール状態において隆起と溝とが嵌合することを特徴とする、請求項６または７に記載の真空室用ロックにより達成される。
【００１７】
また、上記目的は、請求項９の発明によれば、上記内側密封部に設けられた環状の隆起または溝が上記極片に存在することを特徴とする、請求項８に記載の真空室用ロックにより達成される。
【００１８】
また、上記目的は、請求項１０の発明によれば、上記外側密封部に設けられた環状の電磁石に対向して、環状の第２の電磁石または永久磁石が上記内側密封部に設けられることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の真空室用ロックにより達成される。
【００１９】
また、上記目的は、請求項１１の発明によれば、両密封部の間隙における前記通路の周囲の内側密封部に、大気と真空との差圧により外側密封部に押しつけられる環状のＯリングが設けられることを特徴とする、請求項８〜１０のいずれかに記載の真空室用ロックにより達成される。
【００２０】
また、上記目的は、請求項１２の発明によれば、上記Ｏリングが上記電磁石の磁力により吸引されるものであることを特徴とする、請求項８〜１１のいずれかに記載の真空室用ロックにより達成される。
【００２１】
また、上記目的は、請求項１３の発明によれば、シール状態において両密封部の間隙を確保するのに必要な厚さを上記Ｏリングが有することを特徴とする、請求項１１または１２のいずれかに記載の真空室用ロックにより達成される。
【００２２】
また、上記目的は、請求項１４の発明によれば、上記内側密封部に薄隔膜が設けられることを特徴とする、請求項８〜１２のいずれかに記載の真空室用ロックにより達成される。
【００２３】
また、上記目的は、請求項１５の発明によれば、ディスクの処理を行う装置と、真空室用ロックを有する真空室であって、大気側に位置し、ディスクが出し入れされる開口用通路を有する外側密封部と、真空側に位置し、外側密封部に対して離間接近すると共に回転する内側密封部と、上記通路を開放・密閉する蓋と、両密封部の間隙における前記通路の周囲に設けられるシール手段とを有し、該シール手段の駆動力が、大気と真空との差圧および電磁石の磁力により得られることを特徴とする真空室により達成される。
【００２４】
また、上記目的は、請求項１６の発明によれば、上記真空室は、円柱状周囲壁および当該円柱状周囲壁の両端に２個の壁を有し、その一つに円柱状通路が外側真空蓋を伴う鼓胴状ハウジングから構成され、ハウジング内は台が共軸回転可能な方式で取り付けられることを特徴とする、請求項１５に記載の真空室により達成される。
【００２５】
また、上記目的は、請求項１７の発明によれば、上記回路は、ロックの中又は請求項１５又は１６の一つに述べた真空室の中で残留磁気の影響を避ける回路で, その回路の中でＤＣ電圧源の直列回路、スイッチ、それに平行する蓄電器を伴う電磁石の巻線及び減衰エレメントを有することを特徴とする、請求項８〜１４に記載の回路により達成される。
【００２６】
また、上記目的は、請求項１８の発明によれば、上記蓄電器と平行に接続された計測分岐の中に特徴付けられた, 最初に言及した蓄電器に平行な配分蓄電器に連続したＡＣ電圧源から構成される当該計測分岐, 同様に前述の最初に言及した蓄電器に平行なＡＣ電圧計測装置を有することを特徴とする、請求項１７に記載の回路により達成される
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な一実施の形態を説明する。
前述の真空室は, 鼓胴状ハウジング, 円筒状周囲壁, 同じく当該円筒状周囲壁の両端に２個の壁を有しその一つに円筒状通路が外側真空蓋を伴い形成され, 円形周囲を伴うハウジングの中に台が共軸回転可能な方式で取付けられた鼓胴状ハウジングから構成される。
【００２８】
図１において、上面図は一般に２３に示す付着装置の如き真空装置を提供し,同様に, 負荷及び除負荷装置を提供する。最後に言及した装置は, それぞれディスク１６を把握することができ当該付着装置と図示されていないその他との間の当該ディスクを移動させることができる掴み部２５から構成される。提供する実施態様において, 一組の掴み装置２５は、本発明に従う一組のロックの上に位置し, 付着装置の中にディスクを装着又はそこからディスクを取り外すよう準備される。ディスクの装着後, ディスクは, これらが付着器具２９の下方に来るまで付着装置２３の中で１８０°移動させる。ディスクの操作が終わると, これらは再び１８０°移動させ, 一組の掴み装置２５によって取り除かれる。
【００２９】
ディスク１６の装着及び除去は, 真空室６の上部壁１３の中に存在する一組のロックを通して行われる。生産率に関して、ディスクを変更したときですら真空室内の真空を保持することが望ましい。この目的のためにロックが存在する。
図２に示すロックは, 真空室６の一部, 上部壁１３の一部だけを形成し, 同様に, 回転台１２は断面図に図示される。回転台１２は円形円周端１４及び真空室６の中に回転し得るよう取付けたその中心２１( 図１参照) から構成される。
真空室６は、上部壁１３の中で構成され通路は真空蓋２によって閉止される。この真空蓋２は、O リング９, 通路を囲む上部壁１３の部分と共に操作する。真空蓋２は, 操作部( 図示されず) によって開又は閉位置において持ち込まれる。
【００３０】
真空室６の内部空間１５の中で真空は真空部２２( 図１参照) によって保持され, 台１２は回転が可能なように装着される。この台１２は内側密封ディスク３を運送し, その上にＣＤ又はＤＶＤ用のプラスチックブランクなどの回路基板が取付けられる。
【００３１】
密封ディスク３は, その周りに円環状極片が５が装着される芯１８から構成される。当該極片５は、芯１８の下に達する抵抗部１７から構成される。芯１８は更にO リング１０を備え, 以下に述べる方法で真空室６の壁１３と共同操作することができる。
【００３２】
図２に図示の状態では, 真空蓋２は閉止され操作されるべき基板は内側密封ディスク３の上, 特に芯１８の上に存在する。室６へのディスク１６の挿入又は除去の間, 密封蓋２は通路１を開けるために取り外さなければならない。真空室６内の真空を保持できるためには、内側密封ディスク３を上方へ移動させＯリング１０を上方壁１３に押し付けてシールする。この目的のために, 上方壁１３は壁内の溝１９の中に円環状電磁石４を有する。当該電磁石４は被覆電線２０によって電流が供給される。
【００３３】
活性化した位置において、電磁石４は極片５に引張り作用を働かせ, 上方に動きＯリング１０が上部壁１３に対して押し付け芯１８と共に保持するようにする。
その後, 回路基板１６は取り外すことができ、又は新しい回路基板を芯１８の上に置くことができる。
これらの操作が行われた後, 密封蓋２は取り外されその後は電磁石４の活性化は停止される。その後は内側密封ディスク３は芯１８及び台１２と共同操作する薄隔膜１１の影響ものもとに開位置に戻る。それゆえロックを動かすのに必要な電磁石は残留磁気が問題となるおそれのある磁化材料から製作した芯と共に共同操作する。この残留磁気は強力であるためにロックの正常な操作が妨げられる恐れがある。この問題に対して二つの解法が提案される。
【００３４】
第１の解法に従ってゴムＯリング１０は、閉止位置においてＯリングが反対側の金属部に押し付けられ上下壁間に若干の空気の隙間が保持されるような厚いものを選択する。これは, 磁力回路が電磁石自体から離れ, 芯を形成する部品もまた空気の隙間があるように構成されることを意味する。当該空気の隙間の影響は, 芯を通る磁束が制限され最大引付け力は０リングの“ばね”力よりも小さくなることである。この制限の故に残留磁気の形成も強く制限され結果として残る少量は問題とはならない。
【００３５】
第２の解法に従って蓄電器を電磁石の巻線と平行に置く。図３を参照してその中に電磁石４の巻線は４４で示される。活性化したこの巻線４４の回路は直流電圧源４０、回路制限抵抗器４２及びスイッチ４６から構成される。第２の解法に従って残留磁気の帯磁を避けるために、蓄電器４８は巻線４４と平行に置かれる。この蓄電器４８の影響はその中のスイッチ４６が閉じている場合は無視することができる。この巻線４４の真のインピーダンスがむしろ小さいと仮定した場合は、蓄電器４８に蓄積される電荷もまた小さく無視することができる。スイッチ４６が開けられた場合第１に巻線４４はその回路を保持しようと試み蓄電器４８に負荷を始める。蓄電器４８はＤＣ電源４０の極性と反対の方向に電荷される。負荷過程が停止すると直ぐに蓄電器４８は巻線４４を通って解放し他方向の電流が巻線４４を通って流れ残留磁気を打ち消す電界を生じさせる。実際に巻線４４及び蓄電器４８は巻線４４及び蓄電器４８のインピーダンス値によって決定される値の固有周波数をもつ平行ＬＣ−回路を形成する。この場合このような回路への電力供給は中断され、回路は減衰ＡＣ振動を生じ始め、多数の波形の後零に減少する。この現象のために、残留磁気は芯の中又は電磁回路のその他帯磁の可能性がある部分に生じない。
【００３６】
図３に示す電気回路の小さい延長は可動ロック部の位置を検出する可能性を提供する。この回路延長は蓄電器５０、ＡＣ電圧気５２及びＡＣ電圧測定器５４から構成される。蓄電器５０は一方でＤＣブロックとして機能するのでＤＣ回路４０, ４２，４４，４６は事実上影響を受けない。蓄電器４８と共に蓄電器５０はＡＣ電圧分配器を形成し, 電源５２によって供給されるＡＣ電圧部はＬＣ回路４４／４８上に印される。
【００３７】
スイッチ４６が閉じているかぎり、ＤＣ電流は巻線４４を通って流れ、電磁石は活性化し扉は閉位置に保持される。この場合、電磁石の磁束は磁化されうる材料だけを通して走り（空気隙間が小さい場合を除く。）巻線４４の自己誘導はむしろ高くなる。ＡＣ電圧計５４は相応じて高い値を示す。
【００３８】
スイッチ４６が開いている場合には、巻線４４を通して電流は流れることはなく、電磁石は離反しロックを閉位置へ持って来る。この位置では電磁束回路の中にやや大きい空気の隙間があり巻線４４のインピーダンスはやや低い。ＡＣ電圧計５４は相応じてやや低い電圧値を示す。
もし、いかなる理由（例えば残留磁気）にしろスイッチ４６が開いているにも拘らずロックは閉位置にある場合は、計器５４はやや低い値を示し取付け操作者に対して何か悪い取付けのため開くべきロックが閉じたままになっている兆候を生じる。閉止すべきロックが開くこの逆の場合も発生する。事実上, このロックは操作者によってこの方法で看視することができる。
【００３９】
エネルギーの損失を避けるために抵抗器４２は巻線に置換えることができる。その場合には減衰エレメント（ダイオード, バリスター又は抵抗器）はスイッチ４６が開くと直ぐに発生するピーク電圧を減衰させる巻線に対して平行に置くべきである。
【００４０】
【発明の効果】
上記のように、本発明によれば要求される真空が密封を保持するために本当に得られるような正しい方法で内側密封部を平行な面で交換することが可能であり、また真空室の壁に関して押し棒の密封を常に保持することができる効果がある。
なおまた、本発明によれば、電磁気の構成による閉止方法が可能なロック装置が可能となる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に従うロックを伴う付着装置の上面図を示す。
【図２】本発明によるロックの図１内のＡ−Ａ線断面図を示す。
【図３】残留磁気を防止する電気回路を示す。
【符号の説明】
１通路
２外側密封部
３内側密封部
４電磁石
５閉止部
６真空室用ロック

Claims

大気側に位置し、ディスクが出し入れされる開口用通路を有する外側密封部と、真空側に位置し、外側密封部に対して離間接近すると共に回転する内側密封部と、上記通路を開放・密閉する蓋と、両密封部の間隙における前記通路の周囲に設けられるシール手段とを有し、該シール手段の駆動力が、大気と真空との差圧および電磁石の磁力により得られることを特徴とする真空室用ロック。
上記電磁石が外側密封部に設けられることを特徴とする、請求項１に記載の真空室用ロック。
上記電磁石が環状であることを特徴とする、請求項２に記載の真空室用ロック。
上記電磁石の磁力により吸引される極片が該電磁石に対向して設けられることを特徴とする、請求項１または２に記載の真空室用ロック。
上記極片が内側密封部に設けられることを特徴とする、請求項４に記載の真空室用ロック。
上記極片が上記電磁石の存在の範囲を超えて外側密封部に対向して存在していることを特徴とする、請求項３または５に記載の真空室用ロック。
上記通路と同様に上記外側密封部および内側密封部が円柱状であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載の真空室用ロック。
上記内側密封部に環状の隆起または溝が設けられると共に、この隆起または溝に対応する環状の溝または隆起が外側密封部に設けられ、シール状態において隆起と溝とが嵌合することを特徴とする、請求項６または７に記載の真空室用ロック。
上記内側密封部に設けられた環状の隆起または溝が上記極片に存在することを特徴とする、請求項８に記載の真空室用ロック。
上記外側密封部に設けられた環状の電磁石に対向して、環状の第２の電磁石または永久磁石が上記内側密封部に設けられることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の真空室用ロック。
両密封部の間隙における前記通路の周囲の内側密封部に、大気と真空との差圧により外側密封部に押しつけられる環状のＯリングが設けられることを特徴とする、請求項８〜１０のいずれかに記載の真空室用ロック。
上記Ｏリングが上記電磁石の磁力により吸引されるものであることを特徴とする、請求項８〜１１のいずれかに記載の真空室用ロック。
シール状態において両密封部の間隙を確保するのに必要な厚さを上記Ｏリングが有することを特徴とする、請求項１１または１２のいずれかに記載の真空室用ロック。
上記内側密封部に薄隔膜が設けられることを特徴とする、請求項８〜１２のいずれかに記載の真空室用ロック。
ディスクの処理を行う装置と、真空室用ロックを有する真空室であって、真空室用ロックは、大気側に位置し、ディスクが出し入れされる開口用通路を有する外側密封部と、真空側に位置し、外側密封部に対して離間接近すると共に回転する内側密封部と、上記通路を開放・密閉する蓋と、両密封部の間隙における前記通路の周囲に設けられるシール手段とを有し、該シール手段の駆動力が、大気と真空との差圧および電磁石の磁力により得られることを特徴とする真空室。
上記真空室は、円柱状周囲壁および当該円柱状周囲壁の両端に２個の壁を有し、その一つに円柱状通路が外側真空蓋を伴う鼓胴状ハウジングから構成され、ハウジング内は台が共軸回転可能な方式で取り付けられることを特徴とする、請求項１５に記載の真空室。
上記回路は、ロックの中又は請求項１５または１６の一つに述べた真空室の中で残留磁気の影響を避ける回路で、その回路の中でＤＣ電圧源の直列回路、スイッチ、それに平行する蓄電器を伴う電磁石の巻線及び減衰エレメントを有することを特徴とする、請求項８〜１４のいずれかに記載の回路。
上記蓄電器と平行に接続された計測分岐の中に特徴付けられた、最初に言及した蓄電器に平行な配分蓄電器に連続したＡＣ電圧源から構成される当該計測分岐、同様に前述の最初に言及した蓄電器に平行なＡＣ電圧計測装置を有することを特徴とする、請求項１７に記載の回路。