JP3750179B2 - 有機酸リチウム塩の精製方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、粗（Ｃｒｕｄｅ）スルホンイミドリチウム塩の精製方法に関する。更に詳しくは種々のリチウム電池の溶質として好適に用いられる高純度、高性能なスルホンイミドリチウム塩の精製方法に関する。
【従来の技術】
近年の電気製品の軽量化、小型化にともない、高いエネルギー密度を持つリチウム電池が注目され、様々な研究が行われている。また、リチウム電池の適用分野の拡大に伴い電池特性の改善も要望されている。
電池特性の一つとして保存特性があげられる。保存特性を改善するためには、電解液中
の不純物を極力少なくし、保存中に進行する化学反応を抑制する必要がある。そこで、通常は電解液を構成する溶媒、溶質には純度が９９．０％以上の高純度材料が用いられている。
【０００２】
特に、溶媒は高純度化技術が進み、通常は純度９９．９％以上のものが入手でき、工業的にも用いられている。
一方、これまでに種々のリチウム塩が電解質として検討されてきた。（特開平３−７４０６１号、特開平７−２１１３４９号）具体的には六フッ化リン酸リチウム（ＬｉＰＦ6 ）、過塩素酸リチウム（ＬｉＣｌＯ4 ）、リチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（ＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 ）、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ4 ）、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム（ＬｉＣＦ3 ＳＯ3 ）、リチウムトリス（トリフルオロメタンスルホニル）メサイド（ＬｉＣ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）3 ）等があげられる。
【０００３】
一般に、過塩素酸塩は爆発性が高いものが多く、過塩素酸リチウムもその例外ではない。また、六フッ化リン酸リチウムも熱に対して安定ではなく、水分存在下では分解反応が進行する。これに対して、リチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、リチウムトリス（トリフルオロメタンスルホニル）メサイドなどの有機酸リチウム塩溶質は、耐熱性が高い溶質であるが、現状入手できる有機酸リチウム塩溶質は不純物含量の高いものであり、電池性能に悪影響を及ぼすものである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は前記問題点を鑑みてなされたものであり、高純度、高性能なスルホンイミドリチウム塩溶質を得るための、粗スルホンイミドリチウム塩の精製方法を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、不純物を含有する下式（Ｉ）で示される有機酸リチウム塩が、（１）１，４−ジオキサンを用いて再結晶する工程、（２）有機酸リチウム塩を沸点が１００℃以下の極性溶媒に溶解し、濾過を行った後、得られた濾液より極性溶媒を除去してスルホンイミドリチウム塩を得る工程の２つの精製工程を経る（（１）と（２）の工程の順序はいずれが先でもよい。）ことを特徴とするスルホンイミドリチウム塩の精製方法を提供するものである。
【０００６】
【化２】
（ＲｆＳＯ2 ）n ＸＬｉ （Ｉ）
【０００７】
（式中、Ｒｆは炭素数が１〜４のパーフルオロアルキル基、Ｘは窒素原子、ｎは２である。）
【０００８】
【発明の実施の形態】
粗スルホンイミドリチウム塩：本発明の精製の対象となる電解液の溶質となる前記式（Ｉ）で示されるスルホンイミドリチウム塩は、製造時に複製する硫酸塩（Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ塩等）を不純物として含有しており、これらが電池性能を低下させている。 市販の粗スルホンイミドリチウム塩としてはこれら不純物を含有するリチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（ＬｉＮ（ＣＦ３ＳＯ２）２）等があげられる。
【０００９】
特に、スルホンイミドリチウム塩としてリチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドに対して本精製方法は不純物除去効果が他のものよりも高い。
精製方法：精製は、前記不純物を含有するスルホンイミドリチウム塩を（１）１，４−ジオキサンを用いて再結晶する工程、（２）スルホンイミドリチウム塩を沸点が１００℃以下の極性溶媒に溶解し、濾過を行った後、得られた濾液より極性溶媒を除去する工程よりなる。
【００１０】
この工程は、いずれが先でもよい。
１）再結晶：再結晶に用いる溶媒は、１，４−ジオキサンが有効である。一般的な極性溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エタノール、ジメトキシエタン等を用いた場合、スルホンイミドリチウム塩の溶解度は５０重量％前後であるため再結晶による精製は回収率が悪く、生産性が低下する。
【００１１】
再結晶操作の際のスルホンイミドリチウム塩の１，４−ジオキサンへの溶解量は、１０〜３０重量％が望ましい。１０重量％未満ではスルホンイミドリチウム塩が完全に溶解し、再結晶化しないため精製不可である。３０重量％を越えては通常の条件下でスルホンイミドリチウム塩を１，４−ジオキサンに完全に溶解させることが困難であるため、精製効率が悪い。再結晶は、充分な効果を得るためには２回以上繰り返すことが望ましい。
この再結晶ではＮａ塩、Ｋ塩が除去される。
【００１２】
２）不溶物濾過：不溶物濾過に用いる溶媒は、スルホンイミドリチウム塩の溶解度が高い一般的な極性溶媒が使用可能であるが、この操作の後、溶液を乾固し、スルホンイミドリチウム塩を回収する必要があるため、沸点が１００℃以下の低沸点溶媒が望ましい。特にエタノール、酢酸エチル、ジメチルカーボネート、ジメトキシエタンなどの沸点が３５〜１００℃の極性溶媒はスルホンイミドリチウム塩の溶解性も高く特に好ましい。スルホンイミドリチウム塩は、これら低沸点有機溶媒に対し、５〜６０重量％、好ましくは、２０〜５０重量％の量溶解される。
【００１３】
濾過は、通常のフィルター濾過を、減圧濾過器、加圧濾過器のいずれの装置によっても実施可能である。用いるフィルターとしては、孔径１〜０．０１μｍのメンブランフィルターが望ましい。
不溶物濾過の後に、スルホンイミドリチウム塩を回収するために乾固、乾燥が必要であるが、精製処理の順番が再結晶の後に不純物濾過である場合、かつ不純物濾過に用いた溶媒が電解液を構成する溶媒の一つである場合には、乾固、乾燥が省略できるため、特に好ましい。
【００１４】
不溶物濾過ではＣａ塩、Ｍｇ塩が除去される。再結晶および不溶物濾過は、それぞれ別の不純物に対して除去効果があるため、処理の順番は問題とならない。すなわち、再結晶の後、不溶物濾過を行っても、不溶物濾過の後、再結晶を行っても上記の不純物に対する除去効果は同様である。
【００１５】
【実施例】
以下に、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。
実施例１
表１に示す量の不純物量を含有するリチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（ＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 ）を３００ｇ、１，４−ジオキサンを１，５００ｇ秤取り、ガラス製容器（内容量２リットル）内に投入した。湯浴を用いてガラス製容器を５０℃に加温し、ＬｉＮ（ＣＦ3 ）ＳＯ2 ）2 が完全に溶解するまで攪拌を行った。ＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 が溶解した後、ガラス製容器を徐冷し、室温で１昼夜放置した。得られた結晶をデカンテーションによって回収し、さらに１，４−ジオキサンを１，０００ｇ投入した。同様な操作を繰り返し、５０℃で溶解後、デカンテーションによって結晶を回収した。
【００１６】
得た結晶をエタノール６００ｇに２３℃の恒温室で溶解し、加圧濾過器を用いて、孔径０．１μｍのメンブランフィルターによって濾過を行った。
得た濾液を、ロータリーエバポレーターを用いて５０〜８０℃で濃縮した。さらに１５０℃で乾燥し、粉末状のＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 を１８０ｇ（回収率６０％）回収した。得たＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 中の不純物含有量を表１に示す。
【００１７】
実施例２
実施例１において、１，４−ジオキサンでの再結晶とエタノールでの不溶物濾過の順番を逆にし、３００ｇのＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 をエタノール６００ｇに溶解し、加圧濾過器を用いて、孔径０．１μｍのメンブランフィルターによって濾過を行った。
【００１８】
得た濾液を、ロータリーエバポレーターを用いて５０〜８０℃で濃縮した。さらに１５０℃で乾燥し、粉末状のＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 を回収した。
得た結晶を、１，４−ジオキサン１，５００ｇとともに、ガラス製容器（内容量２リットル）内に投入した。湯浴を用いてガラス製容器を５０℃に加温し、ＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 が完全に溶解するまで攪拌を行った。ＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 が溶解した後、ガラス製容器を徐冷し、室温で１昼夜放置した。得た結晶をデカンテーションによって回収し、さらに１，４−ジオキサンを１，０００ｇ投入した。同様な操作を繰り返し、５０℃で溶解後、デカンテーションによって結晶を回収した。
【００１９】
さらに、ロータリーエバポレーターを用いて１５０℃で乾燥し、塊状のＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 を１８０ｇ（回収率６０％）回収した。得たＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 中の不純物含有量を表１に示す。
比較例１
実施例１において、１，４−ジオキサンで再結晶を２回繰り返した後、不溶物濾過を行わず、得た結晶を、ロータリーエバポレーターを用いて１５０℃で乾燥することによって、塊状のＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 を１８０ｇ（回収率６０％）回収した。得たＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 中の不純物含有量を表１に示す。
【００２０】
比較例２
実施例１において、１，４−ジオキサンでの再結晶を行わず、エタノールに溶解させたＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 を孔径０．１μｍのメンブランフィルターで濾過し、得た濾液を、ロータリーエバポレーターを用いて濃縮、乾燥することによって、粉末状のＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 を２９０ｇ（回収率９７％）回収した。
得たＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 中の不純物含有量を表１に示す。
【００２１】
【表１】
【００２２】
【発明の効果】
本発明の精製方法により、高純度、高性能なスルホンイミドリチウム塩溶質を提供することができる。これを溶質とした電解液は熱安定性及び安定性に優れる。よって、リチウム一次電池、リチウム二次電池の熱安定性及び安全性に寄与することができる。
【発明の属する技術分野】
本発明は、粗（Ｃｒｕｄｅ）スルホンイミドリチウム塩の精製方法に関する。更に詳しくは種々のリチウム電池の溶質として好適に用いられる高純度、高性能なスルホンイミドリチウム塩の精製方法に関する。
【従来の技術】
近年の電気製品の軽量化、小型化にともない、高いエネルギー密度を持つリチウム電池が注目され、様々な研究が行われている。また、リチウム電池の適用分野の拡大に伴い電池特性の改善も要望されている。
電池特性の一つとして保存特性があげられる。保存特性を改善するためには、電解液中
の不純物を極力少なくし、保存中に進行する化学反応を抑制する必要がある。そこで、通常は電解液を構成する溶媒、溶質には純度が９９．０％以上の高純度材料が用いられている。
【０００２】
特に、溶媒は高純度化技術が進み、通常は純度９９．９％以上のものが入手でき、工業的にも用いられている。
一方、これまでに種々のリチウム塩が電解質として検討されてきた。（特開平３−７４０６１号、特開平７−２１１３４９号）具体的には六フッ化リン酸リチウム（ＬｉＰＦ6 ）、過塩素酸リチウム（ＬｉＣｌＯ4 ）、リチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（ＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 ）、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ4 ）、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム（ＬｉＣＦ3 ＳＯ3 ）、リチウムトリス（トリフルオロメタンスルホニル）メサイド（ＬｉＣ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）3 ）等があげられる。
【０００３】
一般に、過塩素酸塩は爆発性が高いものが多く、過塩素酸リチウムもその例外ではない。また、六フッ化リン酸リチウムも熱に対して安定ではなく、水分存在下では分解反応が進行する。これに対して、リチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、リチウムトリス（トリフルオロメタンスルホニル）メサイドなどの有機酸リチウム塩溶質は、耐熱性が高い溶質であるが、現状入手できる有機酸リチウム塩溶質は不純物含量の高いものであり、電池性能に悪影響を及ぼすものである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は前記問題点を鑑みてなされたものであり、高純度、高性能なスルホンイミドリチウム塩溶質を得るための、粗スルホンイミドリチウム塩の精製方法を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、不純物を含有する下式（Ｉ）で示される有機酸リチウム塩が、（１）１，４−ジオキサンを用いて再結晶する工程、（２）有機酸リチウム塩を沸点が１００℃以下の極性溶媒に溶解し、濾過を行った後、得られた濾液より極性溶媒を除去してスルホンイミドリチウム塩を得る工程の２つの精製工程を経る（（１）と（２）の工程の順序はいずれが先でもよい。）ことを特徴とするスルホンイミドリチウム塩の精製方法を提供するものである。
【０００６】
【化２】
（ＲｆＳＯ2 ）n ＸＬｉ （Ｉ）
【０００７】
（式中、Ｒｆは炭素数が１〜４のパーフルオロアルキル基、Ｘは窒素原子、ｎは２である。）
【０００８】
【発明の実施の形態】
粗スルホンイミドリチウム塩：本発明の精製の対象となる電解液の溶質となる前記式（Ｉ）で示されるスルホンイミドリチウム塩は、製造時に複製する硫酸塩（Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ塩等）を不純物として含有しており、これらが電池性能を低下させている。 市販の粗スルホンイミドリチウム塩としてはこれら不純物を含有するリチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（ＬｉＮ（ＣＦ３ＳＯ２）２）等があげられる。
【０００９】
特に、スルホンイミドリチウム塩としてリチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドに対して本精製方法は不純物除去効果が他のものよりも高い。
精製方法：精製は、前記不純物を含有するスルホンイミドリチウム塩を（１）１，４−ジオキサンを用いて再結晶する工程、（２）スルホンイミドリチウム塩を沸点が１００℃以下の極性溶媒に溶解し、濾過を行った後、得られた濾液より極性溶媒を除去する工程よりなる。
【００１０】
この工程は、いずれが先でもよい。
１）再結晶：再結晶に用いる溶媒は、１，４−ジオキサンが有効である。一般的な極性溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エタノール、ジメトキシエタン等を用いた場合、スルホンイミドリチウム塩の溶解度は５０重量％前後であるため再結晶による精製は回収率が悪く、生産性が低下する。
【００１１】
再結晶操作の際のスルホンイミドリチウム塩の１，４−ジオキサンへの溶解量は、１０〜３０重量％が望ましい。１０重量％未満ではスルホンイミドリチウム塩が完全に溶解し、再結晶化しないため精製不可である。３０重量％を越えては通常の条件下でスルホンイミドリチウム塩を１，４−ジオキサンに完全に溶解させることが困難であるため、精製効率が悪い。再結晶は、充分な効果を得るためには２回以上繰り返すことが望ましい。
この再結晶ではＮａ塩、Ｋ塩が除去される。
【００１２】
２）不溶物濾過：不溶物濾過に用いる溶媒は、スルホンイミドリチウム塩の溶解度が高い一般的な極性溶媒が使用可能であるが、この操作の後、溶液を乾固し、スルホンイミドリチウム塩を回収する必要があるため、沸点が１００℃以下の低沸点溶媒が望ましい。特にエタノール、酢酸エチル、ジメチルカーボネート、ジメトキシエタンなどの沸点が３５〜１００℃の極性溶媒はスルホンイミドリチウム塩の溶解性も高く特に好ましい。スルホンイミドリチウム塩は、これら低沸点有機溶媒に対し、５〜６０重量％、好ましくは、２０〜５０重量％の量溶解される。
【００１３】
濾過は、通常のフィルター濾過を、減圧濾過器、加圧濾過器のいずれの装置によっても実施可能である。用いるフィルターとしては、孔径１〜０．０１μｍのメンブランフィルターが望ましい。
不溶物濾過の後に、スルホンイミドリチウム塩を回収するために乾固、乾燥が必要であるが、精製処理の順番が再結晶の後に不純物濾過である場合、かつ不純物濾過に用いた溶媒が電解液を構成する溶媒の一つである場合には、乾固、乾燥が省略できるため、特に好ましい。
【００１４】
不溶物濾過ではＣａ塩、Ｍｇ塩が除去される。再結晶および不溶物濾過は、それぞれ別の不純物に対して除去効果があるため、処理の順番は問題とならない。すなわち、再結晶の後、不溶物濾過を行っても、不溶物濾過の後、再結晶を行っても上記の不純物に対する除去効果は同様である。
【００１５】
【実施例】
以下に、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。
実施例１
表１に示す量の不純物量を含有するリチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（ＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 ）を３００ｇ、１，４−ジオキサンを１，５００ｇ秤取り、ガラス製容器（内容量２リットル）内に投入した。湯浴を用いてガラス製容器を５０℃に加温し、ＬｉＮ（ＣＦ3 ）ＳＯ2 ）2 が完全に溶解するまで攪拌を行った。ＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 が溶解した後、ガラス製容器を徐冷し、室温で１昼夜放置した。得られた結晶をデカンテーションによって回収し、さらに１，４−ジオキサンを１，０００ｇ投入した。同様な操作を繰り返し、５０℃で溶解後、デカンテーションによって結晶を回収した。
【００１６】
得た結晶をエタノール６００ｇに２３℃の恒温室で溶解し、加圧濾過器を用いて、孔径０．１μｍのメンブランフィルターによって濾過を行った。
得た濾液を、ロータリーエバポレーターを用いて５０〜８０℃で濃縮した。さらに１５０℃で乾燥し、粉末状のＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 を１８０ｇ（回収率６０％）回収した。得たＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 中の不純物含有量を表１に示す。
【００１７】
実施例２
実施例１において、１，４−ジオキサンでの再結晶とエタノールでの不溶物濾過の順番を逆にし、３００ｇのＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 をエタノール６００ｇに溶解し、加圧濾過器を用いて、孔径０．１μｍのメンブランフィルターによって濾過を行った。
【００１８】
得た濾液を、ロータリーエバポレーターを用いて５０〜８０℃で濃縮した。さらに１５０℃で乾燥し、粉末状のＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 を回収した。
得た結晶を、１，４−ジオキサン１，５００ｇとともに、ガラス製容器（内容量２リットル）内に投入した。湯浴を用いてガラス製容器を５０℃に加温し、ＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 が完全に溶解するまで攪拌を行った。ＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 が溶解した後、ガラス製容器を徐冷し、室温で１昼夜放置した。得た結晶をデカンテーションによって回収し、さらに１，４−ジオキサンを１，０００ｇ投入した。同様な操作を繰り返し、５０℃で溶解後、デカンテーションによって結晶を回収した。
【００１９】
さらに、ロータリーエバポレーターを用いて１５０℃で乾燥し、塊状のＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 を１８０ｇ（回収率６０％）回収した。得たＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 中の不純物含有量を表１に示す。
比較例１
実施例１において、１，４−ジオキサンで再結晶を２回繰り返した後、不溶物濾過を行わず、得た結晶を、ロータリーエバポレーターを用いて１５０℃で乾燥することによって、塊状のＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 を１８０ｇ（回収率６０％）回収した。得たＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 中の不純物含有量を表１に示す。
【００２０】
比較例２
実施例１において、１，４−ジオキサンでの再結晶を行わず、エタノールに溶解させたＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 を孔径０．１μｍのメンブランフィルターで濾過し、得た濾液を、ロータリーエバポレーターを用いて濃縮、乾燥することによって、粉末状のＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 を２９０ｇ（回収率９７％）回収した。
得たＬｉＮ（ＣＦ3 ＳＯ2 ）2 中の不純物含有量を表１に示す。
【００２１】
【表１】
【発明の効果】
本発明の精製方法により、高純度、高性能なスルホンイミドリチウム塩溶質を提供することができる。これを溶質とした電解液は熱安定性及び安定性に優れる。よって、リチウム一次電池、リチウム二次電池の熱安定性及び安全性に寄与することができる。
Claims (3)
- 不純物を含有する下式（Ｉ）で示される有機酸リチウム塩が、（１）１，４−ジオキサンを用いて再結晶する工程、（２）有機リチウム塩を沸点が１００℃以下の極性溶媒に溶解し、濾過を行った後、得られた濾液より極性溶媒を除去してスルホンイミドリチウム塩を得る工程の２つの精製工程を経る（（１）と（２）の工程の順序はいずれが先でもよい）ことを特徴とするスルホンイミドリチウム塩の精製方法。
- スルホンイミドリチウム塩が、リチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドであることを特徴とする請求項１記載のスルホンイミドリチウム塩の精製方法。
- 極性溶媒が、エタノール、酢酸エチル、ジメチルカーボネート、ジメトキシエタンより選ばれた少なくとも１種であることを特徴とする請求項１または２記載のスルホンイミドリチウム塩の精製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06599496A JP3750179B2 (ja) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | 有機酸リチウム塩の精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06599496A JP3750179B2 (ja) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | 有機酸リチウム塩の精製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09255685A JPH09255685A (ja) | 1997-09-30 |
| JP3750179B2 true JP3750179B2 (ja) | 2006-03-01 |
Family
ID=13303081
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP06599496A Expired - Fee Related JP3750179B2 (ja) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | 有機酸リチウム塩の精製方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3750179B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6248883B1 (en) * | 1998-07-31 | 2001-06-19 | Moltech Corporation | Methods of purifying lithium salts |
| JP5402634B2 (ja) * | 2007-08-17 | 2014-01-29 | 旭硝子株式会社 | 精製された含フッ素ビススルホニルイミドのアンモニウム塩の製造方法 |
| JP5557010B2 (ja) * | 2010-06-01 | 2014-07-23 | トヨタ自動車株式会社 | 電解液の製造方法 |
| JP5756999B2 (ja) * | 2011-04-06 | 2015-07-29 | 三菱マテリアル電子化成株式会社 | ビス（ペルフルオロアルカンスルホン）イミド塩の製造方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2637284B1 (fr) * | 1988-10-05 | 1991-07-05 | Elf Aquitaine | Methode de synthese de sulfonylimidures |
| FR2645533B1 (fr) * | 1989-04-06 | 1991-07-12 | Centre Nat Rech Scient | Procede de synthese de sulfonylimidures |
| JP3117369B2 (ja) * | 1994-09-12 | 2000-12-11 | セントラル硝子株式会社 | スルホンイミドの製造方法 |
| JP3874435B2 (ja) * | 1995-10-09 | 2007-01-31 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | 有機スルホニルイミドリチウム |
-
1996
- 1996-03-22 JP JP06599496A patent/JP3750179B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09255685A (ja) | 1997-09-30 |
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| Date | Code | Title | Description |
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| A977 | Report on retrieval |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A521 | Written amendment |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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