JP3732533B2 - 結像用の電子エネルギーフィルタ - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は特許請求の範囲の上位概念に示された結像用の電子エネルギーフィルタに関する。
【0002】
【従来技術】
結像用電子エネルギーフィルタは、所定のエネルギー領域の電子の選択により対象結像または回折像のコントラストを改善する目的で、透過型電子けんび鏡において使用される。エレメント分布(配分配置)およびエネルギ損失スペクトルの位置合せも、この種のフィルタ装置により可能となる。
【0003】
米国特許A1−4740704号公報およびA1−4760261号公報に、分散素子として3つまたは4つの一様な磁界を用いるフィルタ装置が示されている。このフィルタは直視形である、即ち入射する電子路の光軸と出射する電子路の光軸とが互いに同軸関係にある。これによりこのフィルタは電子けんび鏡の中で良好に作用できる。この場合この電子けんび鏡においては安定性の理由で電子路の光軸は通常は垂直に上から下へ走行する。偏向磁界の方向へ電子を集束するために、磁極片の入射縁および出射縁は電子ビームの波面方向に対して傾斜しており、これにより磁界方向へ作用する4極子成分が生ずる。
【0004】
この種のスペクトロメータのエネルギー選択平面における分散能は、100KeVの電子のエネルギーの場合は約1〜2μm/eVの値を有する。これにより約1〜2eVのエネルギー幅を設定調整できる。一様な磁界中での分散は電子エネルギーの増加と共に減少する。そのため著しく高い電子エネルギーの下で、同じ最小のエネルギー幅を設定調整するためには、著しく大きい値を有するフィルタが必要とされる。その結果、電子けんび鏡において使用する場合は、電子光学的筒の長さが著しく大きくなる。そのため筒の機械的安定性が損なわれる。それと同時に幾何学的な画像エラーが増加する。何故ならば著しく大型化されたフィルタの場合は、小型のフィルタの場合に比較して、光軸から著しく離れた、軸から外れたビームが案内されるからである。
【0005】
電子分光学のための、非一様な偏向磁界を有する磁気スペクトロメータは、例えば、Reiew of Scientific Instruments,32巻、1614(1961)に示されている。このスペクトロメータは唯1つのセクタ磁石を有し、その磁極片面は互いに傾斜されている。これにより形成される傾斜磁界はビーム偏向のほかにさらに、電子ビーム軸の平面に対して垂直に集束を行なわせる。しかしこのスペクトロメータの場合は、光軸は、フィルタへの入射の際とフィルタからの出射の際とは互いに同軸ではない。そのため電子けんび鏡に用いる場合は全体の構造が不安定になる。
【0006】
電子けんび鏡における、非一様な偏向磁界を有するスペクトロメータの使用は、例えばOptik,71巻、73頁(1985)に提案されている。しかしこの刊行物は実質的に、種々異なる非一様な磁界中の電子路を対象とするだけであり、この種のフィルタの構成のための具体的な提案は何も示されていない。
【0007】
さらにOptik,38巻,502頁(1973)およびOptik,40巻,141頁(1974)に既に、電子ビーム装置において2つの非一様な偏向磁界の使用が提案されている。しかしこの装置は開口エラーの補正のために用いられる。さらにこの装置の場合も電子ビームの光軸は、第1の偏向磁界の中への入射の前と第2の偏向磁界からの出射の後とでは、互いに同軸ではない。
【0008】
【発明が解決すべき問題点】
本発明の課題は、例えば120KeVを上回わる著しく高い電子エネルギーの場合も、同じ小さい最小のエネルギー幅の下で、一層コンパクトな構成を許容する磁気式電子エネルギーフィルタを提供することである。
【0009】
【課題を解決する手段】
この課題は請求項1の特徴部分に示された構成により解決されている。
【0010】
【発明の効果】
本発明によりビーム偏向用の複数個のセクタ磁石から構成される結像用の電子エネルギーフィルタが提案される。少なくとも1つの第1のセクタ磁石は一様な偏向磁界を有し、少なくとも1つの第2のセクタ磁石は非一様の偏向磁界を有する。
【0011】
非一様の偏向磁界の使用により、120゜を上回わる値をとることのできる著しく大きい偏向角度が実現される。分散能は偏向磁界内の電子路の長さと共に増加するため、偏向角度が大きい場合は、著しく大きい曲率半径なしに即ち著しく大きい寸法なしに、分散能が相応に大きくなる。寸法の一層の小型化は、セクタ磁石が実質的に一様の偏向磁界を有することにより、可能となる。何故ならばこの一様な偏向磁界を電子ビームが2回、異なる方向へ通過するからである。
【0012】
非一様な偏向磁界を有するセクタ磁石の構成のために、2つの互いに傾斜された、截頭錐体セクタ面を磁極片として設けると有利である。この場合、先を切り取られた二重錐体の面の間に、回転対称の、半径方向に外側へ拡大するくさび状のスリットが形成される。
【0013】
本発明の有利な実施例は、一様な偏向磁界を有する第1のセクタ磁石および、それぞれ非一様の偏向磁界を有する2つの別のセクタ磁石を有する。セクタ磁石の間に磁界のない空間が形成され、この空間の中に、画像エラーを補正するための多極素子を設けることができる。
【0014】
セクタ磁石の間隔と偏向角度とを、一様な偏向磁界中へ入射する電子の光軸とこの磁界から出射する電子の光軸とが接触するかまたは2回交差するように選定することにより、著しくコンパクトな装置が形成される。これによりフィルタ入力側とフィルタ出力側との間隔が最小化される。
【0015】
電子けんび鏡における電子エネルギーフィルタの使用のために、電子路の光軸がフィルタに入射する際におよびフィルタから出射する際に互いに同軸に走行する。これにより安定性の向上ためフィルタは、通常のように電子けんび鏡の垂直の構造体へ最適に適合化される。
【0016】
セクタ磁石は、わん曲された光軸の走行する平面に対して垂直な面に対称的に設けられる。この場合、フィルタ全体にわたり電子が通過する際に結像エラーの一部分が、この対称性にもとづいて消滅する。
【0017】
セクタ磁石の磁極片が電子ビーム束の入射面および出射面において直線状であることにより、本発明による電子フィルタは著しく簡単に製造できる。さらに一様な偏向磁界中への1回目の入射の際の、および非一様な偏向磁界への入射の際およびここからの出射の際の、および一様な偏向磁界からの際後の出射の際の、光軸とセクタ磁石の磁極縁との間の入射角度および出射角度は、それぞれ90゜にされている。これにより磁界中への入射の際の、または磁界からの出射の際の電子ビーム束の屈折が回避される。これにより走行路が著しくなめらかになり、さらにセクタ磁石の縁における集束効果が生じなくなる。これによりフィルタが調整ずれを受けにくくなる。
【0018】
セクタ磁石の対称的な配置により定められる対称性を得る目的で結像エラーの補正のために用いられる多極レンズも、対称面に対称的に設けられる。この場合、それぞれ2つの互いに対称的に配置された多極レンズは1つの共通の制御装置を介して同様に励磁される。
【0019】
第1のセクタ磁石の前方の入力画像平面の前方に、およびこの入力画像平面に対称的な出力側画像面の後方に、付加的に、4極子と6極子との重畳から成る多極レンズがそれぞれ配置される。4極子磁界と6極子磁界は互いに独立に設定調整可能にされる。4極レンズの変化により、非一様のセクタ磁石における連続的な4極子と関連づけて、集束化を電子路平面に垂直の方向に任意に設定調整できる。6極磁界はさらに、個別のセクタ磁石の間に配置される6極磁界の様に、画像エラーの補正のためにおよび走行路における電子ビームの集束化のために用いられる。電子路に沿っての多極素子の適切な位置定めにより、入力画像平面と出力画像平面との間に全部で7つの6極子と、および入力画像平面と出力画像平面との間に配置された重畳された両方の多極子により、1つのエネルギーフィルタが実現される。前記7つの6極子のうち1つの6極子は、対称面において第2および第3のセクタ磁石の間に配置されている。このフィルタは、全部の幾何学的画像エラーおよびそれぞれの作動形式において実質的にエネルギーに依存する2階のエラーに関して、補正されている。そのため入力画像面は非点収差のなくかつ色収差のなく高い分解能で出力画像平面へ結像される。さらに対称性にもとづいてフィルタの3次のゆがみが消滅する。
【0020】
本発明の別の有利な実施例および適用は従属形式の請求項に示されている。電子けんび鏡たとえば透過型電子けんび鏡と関連づけて電子エネルギーフィルタを使用するためにさらに次のことは重要である。即ち画像平面とクロスオーバ平面との間隔が、即ち入力画像平面と入力回折平面との間隔が、ないし出力画像平面と出力回折平面との間隔が、電子けんび鏡の電子的光学的結像装置により与えられる間隔に適合化されることは、重要である。さらに外側の4極子は、これにより生じ得る構造エラーに起因する非点収差を補正できる利点を有する。
【0021】
次に本発明の詳細を図面に示された実施例を用いて説明する。
【0022】
【実施例】
図示1に示されている電子エネルギーフィルタは3つのセクタ磁石1,2,3から構成されており、それらのうち、図面平面の下側に存在する磁極片1a,2a,3aだけが示されている。フィルタの光軸は4で示されている。この光軸4は所定の目標エネルギのための電子ビーム束の中心ビームと一致する。個々の電子に対する正確なビーム路は、セクタ磁石の中の分散にもとづいてその都度の電子エネルギーに依存しており、見やすくするためにここには図示されていない。
【0023】
中心の電子ビーム(光軸4)は垂直の軸線に沿って上方から電子エネルギーフィルタの中へ入射する。垂直に上から下へ走行する電子ビーム路を有する透過型電子けんび鏡内にフィルタを取り付ける場合、フィルタの光軸4は、フィルタの入射の際およびこれからの出射際に電子けんび鏡の光軸と一致する。該透過型電子顕微鏡は、ここでは図示されていない。この場合、入力側画像平面Beは電子けんび鏡の中間画像平面と一致し、入力側回折画像平面Deは電子けんび鏡の回折平面と一致する。電子けんび鏡の結像側領域におけるフィルタの正確な配置は米国特許願第A14812652号公報に詳述されているため、これに関してはこの公報を参照のこと。
【0024】
第1のセクタ磁石1の磁極片1aは内側において平らな平行の磁極面を有する。両方の別のセクタ磁石2,3の磁極片2a,3aは、截頭二重錐体である。磁極片1a,2a,3aの縁領域に、周回する溝1b,2b,3bが、ここには図示されていない励磁コイルを収容するために設けられている。溝1b,2b,3bおよびこれにより形成された周回する縁領域1c,2c,3cの中への励磁コイルの挿入により、セクタ磁石の外側に現われる漂遊磁界が著しく低減されている。
【0025】
第1のセクタ磁石1の中には一様な偏向磁界が発生される。この目的でセクタ磁石1は、図1の図面平面に平行な2つの平面に配置されている、平らな磁極片面を有する2つの磁極片を有する。光軸4に沿って偏向磁界の入射縁1dに垂直に目標エネルギーを持って入射する電子は、磁極片1aの間で図面平面に垂直な磁界により曲率半径R1の円軌道へ偏向される。入射縁1dにおける入射と出射縁1eにおける出射との間に、光軸4は相応の円弧区間を約135゜の角度をなして走行する。そのため第1のセクタ磁石から出る電子ビーム束の光軸は、入射する電子ビーム束の光軸から、偏向角度φ=135゜だけ偏向する。この著しく大きい偏向角度φにより、所定の偏向半径R1の場合の第1の偏向領域内での電子ビーム束の走行路の長さは著しく大きくなる、したがって第1の偏向領域内での分散も著しく大きくなる。
【0026】
光軸4と一様なセクタ磁石1の出射縁1eとの間の傾斜により、電子線ビーム束は磁界方向へ集束される。この集束作用は、光軸4が出射縁1eに対して垂直であるときは、セクタ磁石1の後方の付加的な4極子により発生できる。
【0027】
第1の偏向磁界からの出射後に電子はまず最初に、3つの6極子6a,7a,8aが設けられている磁界のない中間室を通過し、続いて第2のセクタ磁石の偏向磁界の中へ入射する。第2のセクタ磁石の内部の偏向磁界は、2つの互いに傾斜する磁極片2a,2f(図2)の間に発生される非一様な傾斜磁界である。
【0028】
図1の図面平面に対して垂直な、図2の断面図において電子ビーム路の光軸は同じく4で示されている。錐体状の磁極片面2a,2fの凹欠2bの中へ挿入されたコイル体は十字格子状の線により示されている。
【0029】
錐体面2a,2fの両方の母線の間の傾斜角度αは約4゜である。全体のセクタ磁石2は、光軸4の平面に垂直な軸13を中心とする回転により形成される。錐体面2a,2fの両方の母線の光点12は、光軸4から見て、軸13の後方に位置する。
【0030】
両方の磁極片面2a,2fの傾斜により、磁極片の間のくさび状のスリットの中に傾斜磁界が形成される。図2には記入されていない磁力線は、錐体面2a,2fの母線の交点12を中心とする円弧区間である。この場合、磁界の強さは外側の方向(Xの正の方向、図1と図2における互いに対応する座標系を比較せず)へ増加してゆくスリットの幅にもとづいて、減少する。傾斜磁界は2極磁界の作用を有し、この傾斜磁界に付加的に4極磁界が重畳される。2極磁界は、一様な偏向磁界の2極磁界の様に、円形路区間における電子ビーム路の偏向とX方向への集束化を行なわせる。重畳された4極子成分は付加的に電子ビーム束を、図1の図面平面へ垂直なy方向への集束する。
【0031】
さらに図1に示されている様に光軸4は、入射縁2dにおいて第2の偏向磁界の中への入射の際に、および出射縁2eにおいて第2の偏向磁界からの出射の際に、それぞれ入射縁2dおよび出射縁2eに対して垂直になる。第2の偏向磁界からの出射後は電子ビームの光軸は第1の偏向磁界への入射前の光軸と平行に走行して、次に第3のセクタ磁石3の同じく非一様な勾配磁界の中を通過し、次に第1のセクタ磁界1の一様な偏向磁界の中を通過し、ここで電子ビームは出射縁1fから出射する。
【0032】
フィルタ全体はビーム路平面(図1の図面平面)に垂直な中心平面5に対称的に構成されている。そのため第3のセクタ磁石3の構造は、この対称の第2のセクタ磁石2の構造から、平面5における鏡対称化により形成される。第3のセクタ磁石3と第1のセクタ磁石1との間に3つの別の6極子8b,7b,6bが、対称平面5に対して6極8a,7a,6aに対称的に設けられている。別の6極子9が、第2のセクタ磁石2と第3のセクタ磁石3との間に、対称平面5に設けられている。この個所に入力側面像平面Beの実像の中間像も存在する。
【0033】
フィルタの入力側画像平面Beの前方およびこのBeに対して、対称面5に関して鏡対称の出力側画像平面Baの後方に、さらに2つの別の多極子10,11が設けられている。これらの両方の多極子10,11の各々は、6極子と4極子との重畳から形成される。これらの多極子はそれぞれ互いに独立に励磁される。この電子エネルギーフィルタは入力側画像平面Beを非点収差なくかつ色収差補正の下に出力側画像平面Baの中へ結像する。同時にこのフィルタは入力側回折面Deを分散的に出力側回折面Daへ結像する。個々のセクタ磁石1,2,3の間の間隔は、3つの所属の偏向領域において同一の偏向角度へ、次のように適合化される。即ち電子路が第1のセクタ磁石1の中を1回目に通過する際に、およびセクタ磁石1の中を2回目に通過する際に、2回交差するように、適合化される。これにより入力側画像平面Beと出力側画像平面Baとの間の間隔が、電子けんび鏡の光軸に沿って測って、著しく小さくなる。そのためけんび鏡の電子的光学的円柱体は本発明のフィルタの組み込みによりわずかしか延長されず、さらに装置全体の機械的安定性が実質的に不利な影響を受けない。
【0034】
多極子10,11の中で発生される磁界が変化されることなく(分散的な)回折面における著しいエラーが補正できる。全体的に、9つの多極子6a,7a,8a,9,8b,7b,6b,10,11の適切な設定調整により、2次の全部の幾何学的画像エラーおよびの著しいエネルギー依存性の2階のエラーを補正できる。
【0035】
しかしフィルタ構成全体は中心平面5に対して対称であるため、必ずしも全部の多極素子を個別に制御可能にする必要はない。多すぎる製造技術費用および多すぎる調整費用を回避する目的で、それぞれ互いに対称的に設けられる多極素子ならびに第2および第3のセクタ磁石を、それぞれ1つの共通の電流制御を介して励磁すると有利である。
【0036】
フィルタの良好な補正特性にもとづいて、および著しく高い電子エネルギーの際も著しく大きい分散能にもとづいて、このフィルタは、出力回折面Daの中の選択絞りの挿入により、画像における著しく良好なエネルギー分解能を形成させる。200KeVの電子エネルギーの場合、フィルタの全部の分散能は約10μm/eVの値を有する。その結果、開口直径1μmの選択絞りによりさらにエネルギー幅0.1〜0.2eVが設定調整可能となる。高いエネルギー分解能により、この分解能を制限する、電子けんび鏡の対物レンズの色誤差も低減される。そのため分解能および画像コントラストが改善される。分解能利得は、補正されない対物レンズの場合は約20%までであり、球面的に補正された対物レンズの場合は3倍の値を有する。
【0037】
例えばセクタ磁石の縁における屈折の回避による滑らかな電子ビーム路により、このフィルタは調整ずれの影響をほとんど受けなくなる。
【0038】
前述の実施例のいくつかの構成を総括する。
【0039】
光軸4は、フィルタに入射する際とフィルタから出射する際とは同軸に走行する。さらにセクタ磁石1,2,3は、光軸4の存在する平面に対して垂直な平面5に対称的に設けられている。
【0040】
入射する光軸4の方向へ見て、入力画像平面Beの手前に、およびこのBeに対称的な出力画像平面Baの後方に、4極子と6極子の重畳からそれぞれ形成される多極レンズ10,11が配置されている。4極子磁界と6極子磁界は互いに独立に設定調整される。
【0041】
セクタ磁石1,2,3の間に設けられる多極レンズ6a,7a,8a,9,8b,7b,6bが6極子として構成されている。
【0042】
各々の偏向磁界における偏向角度は90゜よりも大きくされている、例えば115゜よりも大きくされている。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のフィルタの実施例を、光軸を含む平面において示す横断面図である。
【図2】傾斜された磁極片面を有するセクタ磁石を、図1に垂直な平面から見た横断面図である。
【符号の説明】
1,2,3 セクタ磁石、 1a,2a,3a 磁極片、 4 光軸、 Be入力側画像平面、 De 入力側回折平面、 1b,2b,3b 溝、 1c,2c,3c 縁の領域、 R1 曲率半径、 1d 入力側縁、 1e 出力側縁、 6a,7a,8a,9 6極子、 5 中心平面、 Ba 出力側画像平面、 10,11 多極素子、 da 出力側回折平面
Claims (7)
- ビーム偏向用の複数個のセクタ磁石(1,2,3)から構成されており、少なくとも1つの第1のセクタ磁石(1)が一様な偏向磁界を有し、さらに少なくとも1つの第2のセクタ磁石(2,3)が非一様の偏向磁界を有することを特徴とする、結像用の電子エネルギーフィルタ。
- 少なくとも3つのセクタ磁石(1,2,3)が設けられており、少なくとも2つのセクタ磁石(2,3)がそれぞれ1つの非一様な偏向磁界を有する、請求項1記載の電子エネルギーフィルタ。
- 光軸(4)におけるビームは、電子エネルギーフィルタへの入射の際および電子エネルギーフィルタ外へ出射の際に一様な偏向磁界の中を通過し、該光軸は該一様な偏向磁界中で互いに接触するかまたは2回交差する、請求項1又は2記載の電子エネルギーフィルタ。
- 第2または、第2と第3のセクタ磁石(2,3)がそれぞれ、交点(12)から始まって半径方向へ拡大してゆく、磁極片面(2a,2f)の間のスリットを有する、請求項1から3までのいずれか1項記載の電子エネルギーフィルタ。
- 第2および第3のセクタ磁石(2,3)が截頭錐体のセクタ面(2a,2f)として構成されている、請求項4記載の電子エネルギーフィルタ。
- セクタ磁石(1,2,3)は、それぞれ直線状の入射縁および出射縁(1d,2d,3d,1e,2e,3e,1f)を有し、
一様な偏向磁界中への1回目の入射の際、および非一様な偏向磁界中への入射と該非一様な偏向磁界からの出射の際、および一様な偏向磁界からの最後の出射の際、光軸(4)とセクタ磁石(1,2,3)の入射縁(1d,2d,3d)および出射縁(2e,3e,1f)との間の入射角度および出射角度は、それぞれ90゜の値を有する請求項1から5までのいずれか1項記載の電子エネルギーフィルタ。 - 偏向磁界の外側に複数個の多極レンズ(6a,6b;7a,7b;8a,8b;9)が、光軸(4)の平面に対して垂直である該電子エネルギーフィルタの中央平面(5)に対して対称的に配置されており、
それぞれ互いに対称的に配置されている該多極レンズ対(6a,6b;7a,7b;8a,8b)は、それぞれ共通の電流源によって励磁される、請求項6記載の電子エネルギーフィルタ。
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Families Citing this family (35)
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JP3139920B2 (ja) * | 1994-07-25 | 2001-03-05 | 株式会社日立製作所 | エネルギフィルタおよびこれを備えた透過電子顕微鏡 |
JP3363718B2 (ja) * | 1995-11-28 | 2003-01-08 | 日本電子株式会社 | オメガ型エネルギーフィルター |
US6184524B1 (en) | 1996-08-07 | 2001-02-06 | Gatan, Inc. | Automated set up of an energy filtering transmission electron microscope |
US5798524A (en) * | 1996-08-07 | 1998-08-25 | Gatan, Inc. | Automated adjustment of an energy filtering transmission electron microscope |
JPH10125267A (ja) * | 1996-10-16 | 1998-05-15 | Jeol Ltd | エネルギーフィルタ |
JP3497336B2 (ja) * | 1996-12-03 | 2004-02-16 | 日本電子株式会社 | エネルギーフィルタ |
JPH10302711A (ja) * | 1997-02-27 | 1998-11-13 | Jeol Ltd | オメガ型エネルギーフィルタ |
JP3376857B2 (ja) * | 1997-05-07 | 2003-02-10 | 日新電機株式会社 | イオン注入装置 |
JP3518271B2 (ja) * | 1997-08-28 | 2004-04-12 | 株式会社日立製作所 | エネルギーフィルタおよびこれを備えた電子顕微鏡 |
DE19860988B4 (de) * | 1997-08-28 | 2007-12-13 | Hitachi, Ltd. | Elektronenmikroskop mit Energiefilter |
DE19738070A1 (de) * | 1997-09-01 | 1999-03-04 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | Energiefilter, insbesondere für ein Elektronenmikroskop |
DE19746785A1 (de) | 1997-10-23 | 1999-04-29 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | Teilchenstrahlgerät mit Energiefilter |
DE19855629A1 (de) | 1998-12-02 | 2000-06-08 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | Teilchenoptische Anordnung und Verfahren zur teilchenoptischen Erzeugung von Mikrostrukturen |
JP3691954B2 (ja) * | 1998-02-26 | 2005-09-07 | 日本電子株式会社 | 結像型エネルギフィルタ歪補正装置 |
JP3692011B2 (ja) * | 1999-06-01 | 2005-09-07 | 日本電子株式会社 | 磁界型エネルギーフィルタ |
WO2001003155A1 (en) | 1999-07-02 | 2001-01-11 | Michael Mauck | Method and apparatus for simultaneously depositing and observing materials on a target |
DE10001277A1 (de) * | 2000-01-14 | 2001-07-19 | Harald Rose | Elektronenoptischer Korrektor zur Beseitigung der Bildfehler dritter Ordnung |
DE10005347A1 (de) * | 2000-02-08 | 2001-08-09 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | Elektronenenergiefilter mit magnetischen Umlenkbereichen |
JP2002025485A (ja) | 2000-07-06 | 2002-01-25 | Jeol Ltd | エネルギーフィルタ |
DE10107910A1 (de) * | 2001-02-20 | 2002-08-22 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | Teilchenstrahlsystem mit einem Spiegelkorrektor |
US7022987B2 (en) | 2001-02-20 | 2006-04-04 | Carl Zeiss Nis Gmbh | Particle-optical arrangements and particle-optical systems |
JP3789104B2 (ja) * | 2002-05-13 | 2006-06-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 元素分布観察方法及び装置 |
JP3867048B2 (ja) * | 2003-01-08 | 2007-01-10 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | モノクロメータ及びそれを用いた走査電子顕微鏡 |
US7341569B2 (en) * | 2004-01-30 | 2008-03-11 | Ekos Corporation | Treatment of vascular occlusions using ultrasonic energy and microbubbles |
US7439520B2 (en) * | 2005-01-24 | 2008-10-21 | Applied Biosystems Inc. | Ion optics systems |
US7351958B2 (en) * | 2005-01-24 | 2008-04-01 | Applera Corporation | Ion optics systems |
US7394069B1 (en) | 2005-08-30 | 2008-07-01 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Large-field scanning of charged particles |
JP4685637B2 (ja) * | 2006-01-05 | 2011-05-18 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | モノクロメータを備えた走査電子顕微鏡 |
DE102009044989A1 (de) * | 2009-09-24 | 2011-03-31 | Funnemann, Dietmar, Dr. | Bildgebender Energiefilter für elektrisch geladene Teilchen sowie Spektroskop mit einem solchen |
US8183526B1 (en) * | 2011-02-11 | 2012-05-22 | Electron Optica | Mirror monochromator for charged particle beam apparatus |
US9595417B2 (en) * | 2014-12-22 | 2017-03-14 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | High resolution charged particle beam device and method of operating the same |
US9472373B1 (en) * | 2015-08-17 | 2016-10-18 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Beam separator device, charged particle beam device and methods of operating thereof |
JP6914666B2 (ja) * | 2017-02-08 | 2021-08-04 | 日本電子株式会社 | エネルギーフィルタおよび荷電粒子線装置 |
JP6808772B2 (ja) | 2019-04-08 | 2021-01-06 | 日本電子株式会社 | エネルギーフィルタおよび荷電粒子線装置 |
EP4002420A1 (en) * | 2020-11-12 | 2022-05-25 | FEI Company | Method of determining an energy width of a charged particle beam |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2444390A1 (fr) * | 1978-12-15 | 1980-07-11 | Cgr Mev | Systeme magnetique de regroupement des particules chargees au sein d'un faisceau pulse |
FR2453492A1 (fr) * | 1979-04-03 | 1980-10-31 | Cgr Mev | Dispositif de deviation magnetique achromatique d'un faisceau de particules chargees et appareil d'irradiation utilisant un tel dispositif |
JPS59215650A (ja) * | 1983-05-24 | 1984-12-05 | Jeol Ltd | 質量分析装置 |
DE3532698A1 (de) * | 1985-09-13 | 1987-03-26 | Zeiss Carl Fa | Elektronenenergiefilter vom alpha-typ |
DE4041495A1 (de) * | 1990-12-22 | 1992-06-25 | Zeiss Carl Fa | Elektronenenergiefilter, vorzugsweise vom alpha- oder omega-typ |
DE4129403A1 (de) * | 1991-09-04 | 1993-03-11 | Zeiss Carl Fa | Abbildungssystem fuer strahlung geladener teilchen mit spiegelkorrektor |
EP0538938B1 (en) * | 1991-10-24 | 1996-08-28 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Electron beam apparatus |
-
1993
- 1993-03-26 DE DE4310559A patent/DE4310559A1/de not_active Withdrawn
-
1994
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