JP3269575B2 - 鏡補正器を有する、荷電素粒子ビーム用結像系 - Google Patents
鏡補正器を有する、荷電素粒子ビーム用結像系Info
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
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Description
偏向器と該偏向器の後方に配置された静電鏡とを有す
る、例えば粒子ビーム顕微鏡での荷電素粒子ビーム用結
像系であって、前記偏向器は、第1の領域では第1の対
称平面に対して対称であり、少なくとも第2の領域では
第2の対称平面に対して対称である、荷電素粒子ビーム
用結像系に関する。
電子光学結像系の製造は、光学系と比較して複雑であ
る。というのは結像のために使用される磁気円形レンズ
が常に正の色誤差を有しているからである。従いこのよ
うな結像系を複数のレンズの直列回路により補正するこ
とは不可能である。
から、電子光学系の開口誤差を2つの磁気的ダブレット
系と各ダブレットに続く6極素子により補正することが
公知である。なるほど基本的には8極素子とコンビネー
ション型電磁的4極素子により開口誤差と色誤差を同時
に補正することができる。しかし4極フィールドの安定
性と多極素子の調整に高い要求が課せられる。
いて同時に補正することが公知である。というのは静電
鏡の色誤差および開口誤差は負であり得るからである。
相応する結像系は例えば、Journal of Ap
plied Physics,67巻、6027、19
90年に記載されている。このような鏡補正機構に対し
てはビーム偏向器が必要である。この偏向器は対物レン
ズから到来する電子ビームを鏡へ偏向し、鏡で反射され
た電子ビームを観察ビーム路へ偏向する。磁気的ビーム
偏向器は通常それ自体、2次誤差の原因となる。という
のは磁気的ビーム偏向器は回転対称でないからである。
この付加的誤差を回避するために、引用された文献個所
には、偏向は中間像平面で行うべきことが提案されてい
る。全体としてここでは、それぞれ挿入接続されたリレ
ーレンズ装置を備えた3つの偏向器からなる系が必要で
ある。そのため結像系全体は非常に複雑で高価である。
ら、請求項1の上位概念に記載したような鏡補正機構が
公知である。この鏡補正機構では、種々異なる磁界強度
の5つのセクタを備えた1つの90°偏向器が設けられ
ている。偏向器の対称平面はそれぞれ同時に中間像平面
である。鏡自体は第2のカソードレンズの画像平面に配
置される。この第2のカソードレンズは偏向器の外部に
ある回折平面の後方に配置されている。ここでは電子ビ
ームが偏向器を2度通過した後に、偏向器の2次誤差が
残る。
項1の上位概念に記載された結像系を改善して、簡単な
構成で色結像誤差を補正し得るように構成することであ
る。
り、鏡が偏向器の2つの対称平面に対して共役関係に配
置されており、2つの対称平面は1:1の結像倍率で連
続して結像されるように構成して解決される。
を順次、1:1の結像倍率で結像し、同時に2つの対称
平面が鏡に結像される。従い、鏡に入射し、鏡から出射
する粒子軌道が鏡の光学軸に対して対称であり、偏向器
内では対称平面に対して対称または非対称に延在する。
そのため2次誤差および偏向器を2度通過した後の分散
が消失する。従って鏡の負の色誤差および開口誤差が残
るだけである。これらの誤差は、ビーム路中にある別の
要素、例えばレンズまたは多極素子の色誤差および開口
誤差により補償されるように調整することができる。従
いビーム偏向器は粒子ビームを、鏡への経路および鏡か
らの経路で、第2の平平面に対してそれぞれ量的に同じ
角度で偏向すればよい。
鏡の間に回転自在な磁気レンズ系を配置することができ
る。レンズ励起および鏡電圧の変化により、色誤差およ
び開口誤差も広い範囲で変化する。しかしとくに有利に
は、静電鏡レンズ系としても作用する電極装置を使用す
る。この電極装置は回折平面の近傍に配置された磁気的
6極素子を備えているようにする。このような静電レン
ズ系は回転自在であり、また色誤差と開口誤差が相互に
依存しないで調整可能である。
体または磁気レンズ系の光学軸を半分の偏向角で交差し
なければならない。
たは対物レンズの回折平面に共役する。
電子顕微鏡、ラスタ電子顕微鏡および制限的にイオンビ
ーム装置に有利に使用することができる。電子顕微鏡に
使用する場合は100kV以下のエネルギ領域が特に有
利である。
である。これにより光学軸が偏向器の前方と後方で垂直
に延在することができる。この手段は安定性の理由から
電子顕微鏡では通常のものである。
の多数の対称性を備えたこのような偏向器は、照明の際
に照明ビーム路と観察ビーム路との分離にも同時に用い
ることができる。
向分割のための外部磁界、少なくとも第2の磁界を形成
する。この場合磁界は次のように調整する。すなわち、
偏向器が同時に磁界レンズのように、ビーム路中にある
レンズの中間像平面をスティグマティックに入り混じっ
て結像するように調整する。
対称平面が対物レンズの回折平面に共役するような2つ
の磁界を有する偏向器はラスタ電子顕微鏡にも適する。
このような2つのセグメントからなる偏向器は非常に簡
単である。偏向器を通過した後にまだ存在する偏向器の
分散誤差と鏡の画像誤差との相互作用に起因する、2段
および3段のコンビネーション誤差は軸方向ビームに対
しては消失し、従い無害である。
ような)結像された系で結像誤差を補正するためには、
2つまたは3つの磁気的偏向場を有する、場合により付
加的に重畳された静電偏向フィールドを有する偏向器が
有利である。このような偏向器は確かに複雑であるが、
その代り各個別の通過毎に分散を無くすことができる。
通過に対して既に分散のない偏向器と静電鏡を用いるこ
とによって、対物レンズの色誤差および開口誤差を大き
な画像野にわたって、すなわち軸外のビームに対しても
補正することができる。画像野をさらに拡大することは
別のレンズを偏向器と鏡の間に挿入することによって得
られる。それにより偏向器と鏡の間では少なくとも3つ
のレンズが作用する。
例では内部磁界には別個のしかし大きさおよび方向的に
は同じである磁界が、外部磁界には外部磁界とは方向が
逆の磁界が重畳される。これらの磁界へは電子が各通過
の際に2度、入射および出射する。内部磁界はそれぞれ
近似的に外部磁界の2倍の強度である。
対して垂直の平平面ないし平面を形成しなければならな
い。この平面は粒子ビームの横断平面に対して大きい。
なぜならそのようにしないと、縁部4極が発生し、これ
が往復する電子を種々異なるように偏向するからであ
る。その他に、縁部磁界の障害的影響が回避され、同一
平平面内にある同じ入射角の粒子路が、外部磁界で同じ
曲率半径の軌跡を描く。
1を備えた電子源と、コンデンサレンズ2を有する。コ
ンデンサレンズはクロスオーバ平面1を光学軸4に沿っ
て結像する。この電子は第1の入射平面3aにてビーム
偏向器3へ入射する。ビーム偏向器3は正方形の横断面
を有しており、外部磁極片3eおよび内部磁極片3fか
らなる。外部磁極片3eの間には外部磁界B1が、内部
磁極片3f間には内部磁界B2が存在する。2つの磁界
は図平面に対して垂直に配列されている。外部磁界B1
は内部磁界B2よりも強力である。従い対角平面3g,
3hは偏向器3の対称平面である。2つの磁界B1,B
2の大きさは、偏向器3が光学軸4を90°だけ鏡5の
方向に偏向し、コンデンサレンズ2の後方中間像平面6
がスティグマティックに、鏡5と偏向器3との間の中間
像平面7に結像されるように調整されている。さらにコ
ンデンサレンズの中間像平面にはフィールドレンズ13
が配置されている。このフィールドレンズはコンデンサ
レンズ2の後方回折平面15を偏向器の対角平面3gに
結像する。
3gを静電鏡5に結像する。鏡5とレンズ系8a,8b
は共にオートコリメーションシステムとして作用し、対
角平面3gを対角平面3hに1:1の結像倍率で結像す
る。これにより鏡5に入射し出射する電子路はミラーア
ームの光学軸11に対して対称となる。
あるから、これらは2次誤差の原因とはならず、回転対
称でない偏向器3の分散と2次誤差は、偏向器3でのビ
ーム路の対称性により2度の通過後に相殺される。
2に沿って出射する。この光学軸12は偏向器3へ入射
する電子の光学軸4と同心である。偏向器3、レンズ系
8a,8bおよび鏡5から形成される系により、コンデ
ンサレンズ2の中間像平面6が中間像平面9に、結像倍
率1:1で結像される。対物レンズ10はここに発生し
たクロスオーバ平面1の像を、中間拡大率Vで縮小して
対象物16に結像する。図示しない走査系は対象物16
の走査に用いる。対物レンズ側の中間像平面9には別の
フィールドレンズ17が配置されている。このフィール
ドレンズは対称平面3g,3hを、対物レンズ10の対
象物16とは反対側の回折平面に結像する。
3b,3c,3dはそれぞれ光学軸4、11、12に対
して垂直な平面である。それにより縁部フィールドの障
害となる影響が回避される。内部偏向磁界B2の入射お
よび出射平面3i,3k,3l,3mは外部磁界B1の
それぞれ所属の入出射平面3a,3b,3c,3dに対
して平行である。
圧を適切に選択することにより、鏡とレンズのこの組合
せ体の負の色誤差が広い範囲にわたり、対物レンズ10
の正の色誤差が補償されるように変化する。残った球平
面収差は簡単に、レンズ8a,8b間の回折平面7に、
光学軸11に対して芯合わせして配置された磁気的6極
素子18により調整される。この6極素子にはビームが
2回通過し、従い冒頭に述べた6極ダブレットのように
作用する。このようにしてカソード1が色誤差および開
口誤差なしで対象物16に結像される。レンズ8a,8
bおよび鏡5からなる系は、図4または図5の静電鏡−
レンズ組合せ体により置換することができる。
断平面でのビーム偏向器3が図示されている。このビー
ム偏向器3は上側磁極片31と下側磁極片32からな
る。磁極片のそれぞれには内部矩形溝33と外部矩形溝
34が刻まれている。この2つの溝33、34には偏向
器の励磁コイル35、36が収容されている。外部コイ
ル35は比較的に強く励磁され、2つの溝33、34の
間の領域に、強度B1の外部偏向磁界を形成する。内部
コイル36は比較的に弱く、外部コイル35とは反対方
向に励磁される。これにより2つの磁極片31と32の
間の、溝33内の内部領域には強度B2の比較的に弱い
内部偏向磁界が発生する。2つの磁極片31と32の間
の矢印は2つの偏向磁界B1,B2の磁極線を表す。こ
こで矢印の間隔は磁界強度を象徴的に示す。
的に示されている。すなわち、図1の偏向器3内でそれ
ぞれ90°偏向された光学軸が図3では直線として示さ
れている。偏向器前方および後方の中間像平面はC1と
C2により示されている。すなわち、図1でカソード1
から出射する電子に対するコンデンサレンズの像平面6
はC1により、偏向器3と鏡5の間の像平面19はC2
により示されている。図1の中間平面の磁束軌道はxχ
により、図1の図平面に対して垂直のyz平面での磁束
軌道はyδにより示されている。2つ偏向磁界B1,B
2により表された偏向器の中央で、2つの磁束軌道x
χ、yδが光学軸zと交差する。
径路はxαにより示されている。xα軌道に沿って飛行
する電子は、外部磁界B1へ入射する際に光学軸14に
対して垂直の速度成分により、光学軸4方向の力を受け
る。これにより電子は光学軸4方向への偏向を受ける。
次いで内部磁界B2では、xα軌道に沿って飛行する電
子が光学軸から離れる方向で偏向を受ける。従ってxα
軌道はその後の経過でまず光学軸から離れ、次いで対称
平面3gの領域で光学軸に対して平行に経過する。次い
で対称平面3gの後方では、xα軌道は再び光学軸に接
近し、鏡ビーム路の光学軸11と中間像平面C2の領域
で交差する。
るyβ口径路は外部磁界B1にてx方向の加速を受け
る。この速度成分は漂遊磁界37(図2参照)と共に、
外部磁界B1から内部磁界B2へ移行する際に光学軸4
方向への屈折を生じる。従って、yβ軌道は内部磁界B
2内で光学軸に対して平行に経過する。内部磁界B2か
ら外部磁界B1へ移行する際、yβ軌道は光学軸方向に
別の屈折を受ける。重要なことは偏向器の外部領域4
0、41で、xα軌道とyβ軌道は同じ角度で光学軸
4、11を中間像平面C1,C2内で横切ることであ
る。というのはこのことは、中間像平面C1がスティグ
マティックにそして符号なしで倍率1:1で中間像平面
C2に結像されることを意味するからである。
せ体60は4つの電極61、62、63、64を有す
る。この静電鏡レンズ組合せ体は図1の鏡5とレンズ8
a,8bの代わりに使用し得るものである。光学軸zは
ここに図示しないビーム偏向器の方向を指す。電極6
1、62、63、64は電位Φ1、Φ2、Φ3、Φ4に
ある。ビーム偏向器側の電極64の電位Φ4は入射する
電子の運動エネルギに相応する。
鏡レンズ組合せ体60内の電子のエネルギ66が示され
ている。運動エネルギ66の経過は10kVのエネルギ
を有する電子に関連し、電極電位は表1に示された値に
相応する。
道と(xχ、yδ)軌道が、電位Φ1、Φ2、Φ3、Φ
4の3つの異なる調整において示されている。実線の軌
道は表1に示された電位調整状態に所属する。電圧を表
2に示したように調整した場合は破線で示した軌道が、
表3に示したように調整した場合は一点鎖線により示し
た軌道が生じる。表1から3に示された色収差Ccに対
する値から、静電鏡レンズ組合せ体60の負の色誤差が
広い領域にわたって、電極に印加される電位変化により
調整されることがわかる。色収差の誤差係数Ccおよび
球平面収差の誤差係数Coは、同様に表に示された中間
倍率Vの場合、対物平面に関連する。
すべての電位調整状態において同じ個所z0で光学軸z
と交差し、引き続き光学軸zに関して入射路に対して鏡
対象の軌道で拡散する。α軌道、β軌道に沿って拡散す
る電子はα軌道、β軌道の端部にてその中へ反射する。
α軌道、β軌道は光学軸zとz1で示した個所で交差す
る。この個所に仮想中間像平面が存在する。χ路とδ路
は光学軸z=180mmの際に交差する。ここには回折
平面が存在し、回折平面は装置全体では偏向器の対称平
面3g,3hと一致する。
する。この偏向器は外部磁極片81と内部磁極片82を
有する。内部磁極片82間の磁界B4は量的に、外部磁
極片81間の磁界B3の2倍の大きさである。2つの磁
界B3,B4の方向は中間平面に対し垂直である。内部
磁極片と外部磁極片との間には空間83が存在する。こ
の空間には有利には磁界がない。ここには原理的には第
3の偏向磁界を挿入することもできる。
る。この電界はそれぞれの光学軸85a〜cに対して半
径方向に配列されている。電界を形成するために電極8
4a〜eが設けられている。光学軸85a〜c側の電極
表平面は円筒外套の形状を有している。電極に印加され
る電圧は、内部磁界B4での電子軌道の磁気的偏向度が
ほぼ半分まで補償されるように選定されている。これに
より偏向器による結像には既に一回の通過の際に分散が
なくなる。
平面80gに対して対称であり、光学軸85bおよび8
5cの領域で別の対称平面80hに対して対称である。
る電子を各通過の際にそれぞれ90°偏向する。その際
照明側では、図示しないコンデンサレンズの中間像平面
87は対角平面80hに結像される。対物レンズ90の
前方に配置されたフィールドレンズ91は対角平面80
hを、対物レンズ90の後方回折平面90aに結像す
る。同時にフィールドレンズ91は、対物レンズ90の
回折平面90aを対角平面80gに結像する。図1と同
様に、この対角平面80gも鏡93を介して第2の対角
平面80hに結像される。ここで対角平面80g,80
hの中間像は鏡93にある。投影機構94は対物レンズ
92の実像を平面95に形成する。偏向器自体は中間像
平面86、88、89をスティグマティックに符号なし
で連続して結像する。
間平面に対して垂直方向に、電極84a〜cにさらに一
定のオフセット電位を印加することができる。これによ
り4極フィールドが形成される。この4極フィールドは
中間平面に対して垂直に、付加的なフォーカシングない
しデフォーカシング作用をする。これは正または負のオ
フセット電位が印加されるかに応じて行われる。オフセ
ット電位の値(磁極片81、82の電位に対する相対的
電位)は、偏向器80が画像平面内および画像平面に対
して垂直方向で同じ屈折度を有するように選定される。
領域において、対角平面80g,80hの1つに対して
対称に延在しているから、偏向器80の2次誤差は2度
の通過後にちょうど相殺される。鏡93の負の色誤差
は、対物レンズ90の正の色誤差が補償されるように調
整される。対物レンズ90および鏡93の共通の開口誤
差は磁気的6極素子96により補償される。そのために
6極素子96は回折平面90aと同じ平面90bに配置
される。従い対物レンズ92は色誤差および開口誤差な
しで拡大されて平面95に結像される。
ないから、分散と鏡93の色誤差または開口誤差とのコ
ンビネーション誤差も発生しない。従って大画像野に対
する結像系も色誤差および開口誤差に関して補正され
る。
g,80hおよび鏡93に結合されなくても良いことに
注意すべきである。中間像平面を対角平面に結像するこ
とも可能である。その場合は対物レンズ92の実中間像
が鏡93に発生する。また6極素子は回折平面にあるよ
うに配置されなければならない。軌道を交換したことに
よりその場合は静電6極素子が使用される。
る系は有利には、静電鏡レンズ系98からなる。これを
図7および図8に基づいて説明する。
〜106を有している。6つの電極での電位の適切な選
択により、結像特性は中間像平面と回折平面との種々異
なる間隔に対して調整され、また色誤差および鏡レンズ
組合せ体の内部のα軌道の勾配も調整される。電極10
3のこの中空空間には開口誤差を調整するための磁気的
6極素子が配置される。6極フィールドは電極103の
壁を通って作用する。図7には簡単化のため、鏡レンズ
組合せ体100の半分しか図示していない。電極101
〜106自体はそれぞれ光学軸zに対して回転対称であ
る。
らΦ6の際の10kV電子に対する(xα,yβ)軌道
および(xχ,yδ)軌道が示されている。(α、β)
軌道上の電子はそれぞれ個所z0で自身に反射され、一
方(χ、δ)軌道上の電子はz軸に対して鏡対称に
(χ、δ)軌道上を偏向される。
せ体の色誤差Ccは大きな領域にわたって変化される。
表4〜8では固定されており、電位Φ1〜Φ4も適切に
適合されている電位Φ5の変化により、さらにz2に存
在する回折平面の位置が変化される。開口誤差を調整す
るための磁気的6極素子は、z3にある回折平面の近傍
に配置される。
び色誤差Ccに対する値は、同様に表に示された中間倍
率の際に対象平面に関連する。従いビーム偏向器および
静電鏡レンズ組合せ体からなる系は対物レンズの励起が
種々異なり、そこから得られる中間倍率が種々異なる場
合に、色誤差と開口誤差を同時に補正することができ
る。
い偏向器110に対する第2の実施例が示されている。
偏向器は外部の正方形状磁極片111を2つ有してい
る。これらの磁極片の間には中間平面に対して垂直に外
部磁界B5が形成される。この偏向器の内部には3つの
別の磁極片対112、113、114が配置されてい
る。磁極片対112と114は第1の対角平面110h
に対して鏡対称であり、磁極片対113は現行機の第2
の対角平面110gに対して鏡対称である。内部磁極片
対の間には磁気的偏向フィールドB6が形成される。こ
の磁界も同様に中間平面に対して垂直であるが、しかし
外部偏向磁界B5とは反対方向である。内部偏向磁界B
6の大きさは外部偏向磁界B5の大きさにほぼ等しい。
b,115cに沿って入射する電子をそれぞれ合計で9
0°だけ偏向する。その際電子は偏向器内部でそれぞれ
2回、内部磁界B6に入射および出射する。そのために
内部偏向磁界の入射平面および出射平面116a,11
6b,116c,116dは実質的に相互にM状に配置
されている。外部および内部磁界B5,B6は、電子軌
道が偏向器110の3つの使用象限のそれぞれにおい
て、対角平面110g,110hの1つに対してそれぞ
れ対称に延在し、内部磁界と外部磁界とでの偏向が反対
方向であることによって、各90°偏向が分散なしで行
われるように調整される。その際電子軌道は。それぞれ
90°異なる角度の下で内部磁界B6に入射ないし出射
する。これにより中間平面に対して垂直に、電子軌道の
フォーカシングに作用するそれぞれの4極フィールドが
有効となる。
要なだけであり、構成が図6の偏向器に対して比較的簡
単であることを別にすれば、2つの偏向器80、110
は同等の結像特性を有している。偏向器110の構成
は、電子顕微鏡内では図6の偏向器とまったく同じであ
る。従って対称平面110g,110hへの画像平面お
よび回折平面の結像に関してもう一度述べない。
を補正し得る結像系が得られる。
模式図である。
の模式図である。
平面図およびその静電鏡組合せ体の軸電位の線図であ
る。
4つの電位組合せで示す線図である。
路の模式図である。
体の断平面図である。
す模式図である。
称平面 2;90 対物レンズ
Claims (10)
- 【請求項1】 ビーム路に配置された偏向器と該偏向器
の後方に配置された静電鏡とを有する、例えば粒子ビー
ム顕微鏡での荷電素粒子ビーム用結像系であって、 前記偏向器は、第1の領域では第1の対称平面に対して
対称であり、少なくとも第2の領域では第2の対称平面
に対して対称である、荷電素粒子ビーム用結像系におい
て、 静電鏡(5;60;93;100)は偏向器(3;8
0;110)の2つの対称平面(3g,3h;80g,
80h;110g,110h)に対して共役関係に配置
されており、該2つの対称平面(3g,3h;80g,
80h;110g,110h)は結像倍率1:1で相互
に結像されることを特徴とする、鏡補正器を有する、荷
電素粒子ビーム用結像系。 - 【請求項2】 静電鏡(5;93)は静電鏡レンズ組合
せ体(60;98;100)であるか、または偏向器
(3;80;110)と静電鏡(5;93)との間に磁
気レンズ系(8a,8b;97a,97b)が配置され
ている請求項1記載の結像系。 - 【請求項3】 偏向器(3;80;110)は粒子ビー
ムを各通過の際に、それぞれ同じ偏向角度だけ偏向する
請求項2記載の結像系。 - 【請求項4】 対称平面(3g,3h;80g,80
h;110g,110h)は、静電鏡レンズ組合せ体
(18;98)または磁気レンズ系(8a,8b;97
a,97b)の光学軸(11、99b)を、半分の偏向
角で横切る請求項3記載の結像系。 - 【請求項5】 対称平面(3g,3h;80g,80
h;110g,110h)は、中間像平面または対物レ
ンズ(2;90)の回折平面(15;90a)に対して
共役平面である請求項8記載の結像系。 - 【請求項6】 2つの正確に同一方向の偏向磁界(B
1,B2)が形成され、対物レンズ(2)の回折平面
(15)に対する対称平面(3g,3h)は共役平面で
ある請求項5記載の結像系。 - 【請求項7】 ビーム偏向器(80)には、少なくとも
2つの偏向磁界(B3,B4)と、付加的静電偏向フィ
ールド(E)が形成される請求項5記載の結像系。 - 【請求項8】 ビーム偏向器(110)には、外部磁界
(B5)と、大きさおよび方向の同じ3つの内部磁界
(B6)が形成される請求項5記載の結像系。 - 【請求項9】 内部磁界(B6)の入射および出射平面
(116a〜d)は、M字状に配置されており、粒子ビ
ームは各偏向の際に、内部磁界へ2回入射および出射す
る請求項8記載の結像系。 - 【請求項10】 対物レンズ(2;90)の回折平面
(15;90a)に対して共役の平面(7;90b)に
は6極素子(18;96)が配置されている請求項1か
ら9までのいずれか1記載の結像系。
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