JP3694998B2 - 電圧発生回路 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電圧発生回路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
一般的に、集積回路(IC)などの内部電源電圧Vint を発生する内部電圧発生回路では、例えば、バンドギャップ基準電源を用いて、基準電圧を発生し、内部電圧発生回路により発生された内部電源電圧Vint と基準電圧とを比較し、比較結果に応じて内部電源電圧Vint を制御する。
【0003】
図5は一般的な電圧発生回路の一例を示す回路図である。
図示のように、本例の電圧発生回路は電流源Iext 、バンドギャップ基準電源VB 、バッファBUF1 ,BUF2 、p型MOSトランジスタ(以下、pMOSトランジスタ)PT1 により構成されている。
【0004】
バンドギャップ基準電源VB により、基準電圧Vref 、例えば、1.4Vの定電圧が発生され、バッファBUF1 の入力端子“+”に入力されている。バッファBUF1 の反転入力端子“−”は出力端子と接続され、即ち、バッファBUF1 がボルテージフォロワを形成している。このため、バッファBUF1 の出力端子に基準電圧Vref に追従する電圧信号VB1が出力される。
【0005】
バッファBUF1 により出力された電圧信号VB1がバッファBUF2 の反転入力端子“−”に入力され、バッファBUF2 の入力端子“+”が内部電源電圧Vint の出力端子Tvin に接続されているので、入力端子“+”に内部電源電圧Vint が印加されている。
【0006】
バッファBUF2 の出力端子がpMOSトランジスタPT1 のゲートに接続され、pMOSトランジスタPT1 のソース電極が外部電源電圧Vext の供給線に接続され、ドレイン電極が内部電源電圧Vint の出力端子Tvin に接続されている。
【0007】
このように形成された電圧発生回路においては、バッファBUF2 により、バッファBUF1 の出力端子に出力された電圧信号VB1と内部電源電圧Vint とが比較され、比較結果に応じて内部電源電圧Vint のレベルが制御される。
例えば、内部電源電圧Vint が電圧信号VB1より高くなっている場合には、バッファBUF2 の出力電圧VB2が上昇し、これに応じて、pMOSトランジスタPT1 のオン抵抗値が大きくなり、pMOSトランジスタPT2 のドレイン電極の電位、即ち、内部電源電圧Vint が下がる方向に制御される。
一方、内部電源電圧Vint が電圧信号VB1より低くなっている場合には、バッファBUF2 の出力電圧VB2が低下し、これに応じて、pMOSトランジスタPT1 のオン抵抗値が小さくなり、内部電源電圧Vint が上がる方向に制御される。
【0008】
このように、バッファBUF2 およびpMOSトランジスタPT1 により、常に内部電源電圧Vint の変動を打ち消すように働くので、内部電源電圧Vint がバンドギャップ基準電源VB により設定された基準電圧Vref のレベルに保持される。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述した従来の内部電圧発生回路においては、バンドギャップ基準電源により発生された基準電圧Vref およびpMOSトランジスタPT1 のしきい値電圧Vthが負の温度係数を有するので、温度の上昇に応じて内部電源電圧Vint 低下するという問題がある。
【0010】
さらに、LSI回路においては、温度上昇に伴いキャリアの平均自由行程が低下するので、LSI回路は高温なほど速度が低下し、温度特性による内部電源電圧Vint の低下と重なり、大きな設計マージンが必要である。
【0011】
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、温度および外部電圧の変動によらず、設計マージンを大幅に低減でき、所定のクロック周波数において、必要最低限の動作電源電圧を発生できる電圧発生回路を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明は、入力したクロック信号の周波数に応じて、所定の電圧を被供給対象回路に供給する電圧発生回路であって、入力したクロック信号を動作電源電圧に応じた遅延時間をもって遅延させる可変遅延回路と、上記可変遅延回路により遅延されたクロック信号と上記入力したクロック信号との位相比較を行い、比較結果に応じたアップ信号またはダウン信号を出力する位相比較回路と、上記位相比較回路によりアップ信号を受けると電圧が上がる方向に制御され、ダウン信号を受けると電圧が下がる方向に制御された信号を出力する処理手段と、ボルテージフォロワを構成するバッファであって、上記処理手段の出力信号を受けて当該出力信号と同じレベルの電圧信号を生成し、上記可変遅延回路に上記動作電源電圧として供給するバッファと、上記バッファの出力電圧に追従する電圧を発生し、上記被供給対象回路に出力するバッファ回路とを有する。
【0013】
また、本発明では、上記可変遅延回路は、上記バッファの出力電圧を動作電源電圧として、直列に接続されたm段(mは整数)のゲート回路により構成され、この整数mは論理回路の最大設計ゲート数は整数)より大きく設定されている。
【0014】
また、本発明では、上記処理生手段は、上記位相比較回路からの比較結果に応じて、出力電圧を制御する積分手段により構成され、または、上記電圧発生手段は、上記位相比較回路からの比較結果に応じて計数値を設定する計数手段と、上記計数手段の計数値に応じた電圧信号を出力するディジタル/アナログ変換手段とにより構成されている。
【0015】
さらに、本発明では、上記可変遅延回路と上記位相比較回路との間に、上記可変遅延回路により遅延された信号をさらに遅延させて、上記位相比較回路に入力する固定遅延回路を有する。
【0016】
本発明によれば、動作電源電圧に応じて遅延時間が制御される可変遅延回路により、クロック信号が遅延され、比較対象信号として位相比較回路に入力され、クロック信号基準信号として位相比較回路に入力される。位相比較回路により、比較対象信号と基準信号の位相差に応じて、例えば、アップ信号またはダウン信号が出力される。処理手段により、アップ信号またはダウン信号に応じた電圧信号が発生される。
【0017】
電圧発生手段の出力信号が動作電源電圧として、可変遅延回路に入力され、これに応じて可変遅延回路の遅延時間が制御され、さらに、バッファ回路を介して、電圧発生手段により出力された電圧に追従する内部電源電圧が発生され、被供給対称回路、例えば、LSI回路に供給される。
これにより、温度および外部電圧の変動によらず、所定のクロック周波数における必要最低限の動作電源電圧を発生でき、LSI回路の低電圧化および省電力化を図れ、設計マージンを大幅に低減できる電圧発生回路を実現できる。
【0018】
【発明の実施の形態】
第1実施形態
図1は本発明に係る電圧発生回路の第1の実施形態を示す回路図である。
図示のように、本実施形態の電圧発生回路は電圧制御遅延回路10、位相比較器20、処理手段としての積分器30、バッファBUF1 ,BUF2 およびp型MOSトランジスタPT1 により構成されている。
【0019】
電圧制御遅延回路10はm段のNANDゲートNA1 ,NA2 ,…,NAm により構成されている。これらのNANDゲートが直列に接続され、後段のNANDゲートの入力端子が前段のNANDゲートの出力端子に接続され、初段のNANDゲートNA1 の入力端子がシステムクロック信号CLKの入力端子TCLK に接続され、最後段のNANDゲートNAm の出力端子が位相比較器20の比較対象信号Svar の入力端子に接続されている。
【0020】
このように、電圧制御遅延回路10に入力されたクロック信号CLKがm段のNANDゲートNA1 ,NA2 ,…,NAm により位相が遅延し、遅延した信号比較対象信号Svar として位相比較器20に入力される。
また、位相比較器20の基準信号入力端子がクロック信号CLKの入力端子TCLK に接続されている。即ち、クロック信号CLKを基準信号Sref として位相比較器20に入力される。
【0021】
位相比較器20は基準信号Sref としてのクロック信号CLKと電圧制御遅延回路10からの比較対象信号Svar とを位相比較し、比較結果に応じてアップ信号Supまたはダウン信号Sdwを発生し、積分器30に出力する。
【0022】
積分器30は位相比較器20からのアップ信号Supまたはダウン信号Sdwを受けて、これらの信号に応じて積分処理を行い、積分信号SV を発生し、バッファBUF1 に出力する。
【0023】
バッファBUF1 の入力端子“+”は積分器30の出力端子に接続され、反転入力端子“−”は出力端子と接続されている。即ち、バッファBUF1 によりボルテージフォロワが形成されている。このため、バッファBUF1 の出力端子により、積分器30から出力された積分信号SV と同一レベルの信号SV1が出力される。
また、バッファBUF1 の出力信号SV1が電圧制御遅延回路10の動作電源電圧として、電圧制御遅延回路10に供給される。
【0024】
バッファBUF2 の反転入力端子“−”がバッファBUF1 の出力端子に接続され、バッファBUF2 の出力端子がpMOSトランジスタPT1 のゲートに接続されている。pMOSトランジスタPT1 のソース電極が外部電源電圧Vext の供給線に接続され、ドレイン電極が内部電源電圧Vint の出力端子Tvin に接続されている。
さらに、バッファBUF2 の入力端子“+”が出力端子Tvin に接続されている。
【0025】
このように、pMOSトランジスタPT1 は内部電源電圧Vint のドライバーとして動作し、バッファBUF2 およびpMOSトランジスタPT1 の働きにより、出力端子Tvin に出力された内部電源電圧Vint はBUF2 の反転入力端子“−”に入力された電圧SV1に追従する。即ち、内部電源電圧Vint は積分器30から出力された積分信号SV に追従する。
内部電源電圧Vint は、例えば、半導体チップ上に形成されているLSI回路に供給される。
【0026】
以下、図1を参照しつつ、上述した構成を有する電圧発生回路の動作について説明する。
電圧制御遅延回路10を構成するNANDゲートの段数mは、例えば、内部電源電圧Vint の供給対象であるLSI回路の最大設計ゲート数より大きく設定されている。また、電圧制御遅延回路10の動作電源電圧はバッファBUF1 の出力信号SV1であり、内部電源電圧Vint と同レベルである。このため、電圧制御遅延回路10により生じた遅延時間は、常にLSI回路の最大の遅延時間より大きくなる。
【0027】
ここで、例えば、電圧制御遅延回路10を構成する各段のNANDゲートの遅延時間がTpdとすると、電圧制御遅延回路10の遅延時間TD1は次式により求められる。
【0028】
【数1】
D1 = m・Tpd …(1)
なお、内部電源電圧Vint の供給対象であるLSI回路の最大遅延時間がクロック信号の1周期以内になるように、LSI回路のゲート段数の最大値がに設計されるとすると、上述したように電圧制御遅延回路10を構成するNANDゲートの段数mは次式を満たすように設定される。
【0029】
数2
m > L …(2)
このように電圧制御遅延回路10を構成するNANDゲートの段数mを設定すれば、LSI回路において、クロック信号CLKの一周期以内に所要の演算が行われる。
【0030】
位相比較器20により、電圧制御遅延回路10により出力された比較対象信号Svar の位相とクロック信号CLKの位相とが比較され、比較結果に応じて、アップ信号Supまたはダウン信号Sdwが積分器30に出力される。
例えば、基準信号Sref としてのクロック信号CLKの位相が進んでいる場合には、位相比較器20によりアップ信号Supが出力され、逆に、クロック信号CLKが位相が遅れている場合には、位相比較器20によりダウン信号Sdwが出力される。
【0031】
積分器30により、位相比較器20からのアップ信号Supまたはダウン信号Sdwに応じた積分信号SV が出力される。例えば、位相比較器20からアップ信号Supを受けた場合には、積分信号SV の電圧が上がる方向に制御され、位相比較器20からダウン信号Sdwを受けた場合には、積分信号SV の電圧が下がる方向に制御される。
【0032】
ボルテージフォロワを構成するバッファBUF1 により、入力端子“+”に入力された積分信号SV と同レベルの電圧信号SV1が出力される。電圧信号SV1は電圧制御遅延回路10の動作電源電圧として供給されるので、電圧制御遅延回路10の出力信号Svar の位相がクロック信号CLKより遅れた場合には、位相比較器20によりアップ信号Supが出力され、積分信号SV およびバッファBUF1 の出力信号SV1の電圧レベルが上昇する方向に制御される。電圧制御遅延回路10の動作電源電圧が上昇することにより、電圧制御遅延回路10を構成する各NANDゲートの遅延時間が短縮し、電圧制御遅延回路10の出力信号Svar の位相遅れが低減する方向に調整される。
【0033】
バッファBUF1 の出力信号SV1がバッファBUF2 に入力され、バッファBUF2 およびpMOSトランジスタPT1 の働きにより、出力端子Tvin に出力された内部電源電圧Vint が積分器30により出力された積分信号SV に追従する。これにより、内部電源電圧Vint を動作電源電圧とするLSI回路の最大遅延時間が電圧制御遅延回路10と同様に、低減する方向に制御される。
【0034】
一方、電圧制御遅延回路10からの比較対象信号Svar の位相が基準信号Sre f としてのクロック信号CLKの位相より進んでいる場合、位相比較器20によりダウン信号Sdwが出力される。これに応じて、位相比較器20によりダウン信号Sdwが出力され、積分器30により出力された積分信号SV の電圧が下がる方向に制御される。
【0035】
これに応じて、バッファBUF1 から出力された電圧信号SV1の電圧が積分信号SV に追従して下がり、これを動作電源電圧として電圧制御遅延回路10に供給されるので、電圧制御遅延回路10の遅延時間TD1が増加し、位相比較器20に出力された比較対象信号Svar の位相が遅れるように制御され、クロック信号CLKの位相と一致するとき安定する。
動作電源電圧としてLSI回路に供給される内部電源電圧Vint のレベルも上述のように低下し、LSI回路の最大遅延時間がクロック信号CLKの1周期分以内に保持される。
【0036】
このように、本発明の電圧発生回路により、LSI回路で生じたクロック信号CLKの遅延時間を所定の範囲、例えば、システムクロック信号CLKの1周期分以内に保持するための必要最低限の内部電源電圧Vint をLSI回路に供給する。例えば、動作モードに応じて、システムクロック信号の周波数が切り換えられるLSI回路においては、それぞれのクロック信号の周波数に応じて、LSI回路の遅延時間を一定の範囲内に保持するための必要最低限の内部電源電圧Vint が供給され、LSI回路の低電圧化、省電力化を図れる。
また、温度変化などによるLSI回路の遅延時間の変動が電圧発生回路により自動に対処でき、常に回路の遅延時間を一定に保持するように、内部電源電圧Vint のレベルが制御される。これにより、LSI回路の設計マージンを大幅に低減できる。
【0037】
図2は図1に示す電圧発生回路のタイミングチャートである。
図示のように、入力されたクロック信号CLKにより電圧制御遅延回路10の出力信号Svar の位相が遅れた場合には、位相比較器20によりアップ信号Supが出力され、これに応じて、積分器30により出力された積分信号SV の電位が上がる方向に制御される。
【0038】
積分信号SV に追従する電圧信号SV1が電圧制御遅延回路10の動作電源電圧として電圧制御遅延回路10に帰還され、電圧信号SV1のレベルに応じて、電圧制御遅延回路10の遅延時間TD1が制御される。
例えば、図2に示すように、電圧制御遅延回路10により遅延された比較対象信号Svar の位相がクロック信号CLKより1周期以上遅れた場合には、位相比較器20によりアップ信号Supが出力され、これに応じて積分器30により、積分信号SV のレベルが上昇する方向に制御されるので、電圧信号SV1のレベルもこれに応じて上昇する方向に制御される。
電圧制御遅延回路10の出力信号Svar の位相とクロック信号CLKの位相が同相になるとき、即ち、クロック信号CLKより電圧制御遅延回路10の出力信号Svar の位相遅れがクロック信号CLKの1周期になるときで安定する。
【0039】
積分信号SV に応じて、内部電源電圧Vint が生成され、LSI回路に供給されるので、LSI回路の遅延時間を一定の範囲内に、例えば、本例ではクロック信号CLKの1周期以内に保持されるために必要最低限の内部電源電圧Vint が供給される。
【0040】
このように、電圧制御遅延回路10、位相比較器20および積分器30により構成された帰還回路により内部電源電圧Vint のレベルが制御されるので、内部電源電圧Vint を動作電源電圧として動作するLSI回路では、最大設計ゲート段数で動作するときに所要の演算動作がクロック信号CLKの1周期以内に行うことができる。例えば、クロック信号CLKの周波数が切り換えられたときでも、常にそのクロック信号CLKに応じて、必要最低限の内部電源電圧Vint がLSI回路に供給される。
さらに、温度、プロセスまたは外部電源電圧Text の変動に対して、上述した帰還回路によりLSI回路に必要最低限の内部電源電圧Vint が供給される。
【0041】
以上説明したように、本実施形態によれば、直列に接続されたm段のNANDゲートにより電圧制御遅延回路10を形成し、位相比較器20により電圧制御遅延回路10で遅延した信号Svar の位相とクロック信号CLKの位相とを比較し、比較結果に応じてアップ信号Supまたはダウン信号Sdwを出力し、これらの信号に応じて積分器30により、積分信号SV を発生する。バッファBUF1 により、積分信号SV に追従する信号SV1を生成し、電圧制御遅延回路10の動作電源電圧として電圧制御遅延回路10に帰還し、さらにバッファBUF2 およびpMOSトランジスタPT1 により、信号SV1に追従する内部電源電圧Vint を発生し、出力端子Tvin に出力するので、クロック信号CLKの周波数に応じて、LSI回路の最大遅延時間を所定の範囲内に保持するための必要最低限の内部電源電圧Vint が供給され、LSI回路の低電圧化、省電力化を図れ、設計マージンの低減を実現できる。
【0042】
第2実施形態
図3は本発明に係る電圧発生回路の第2の実施形態を示す回路図である。
図示のように、本実施形態の電圧発生回路はフリップフロップDFF1 、電圧制御遅延回路10、位相比較器20、カウンタ(計数手段)40、ディジタル/アナログ変換器(D/A)50、バッファBUF1 ,BUF2 およびp型MOSトランジスタPT1 により構成されている。ディジタル/アナログ変換器50により処理手段が構成される。
フリップフロップDFF1 のクロック信号入力端子CKがクロック信号CLKの入力端子に接続され、出力端子が電圧制御遅延回路10の入力端子に接続され、反転出力端子が入力端子Dに接続され、さらに位相比較器20の基準信号Sref の入力端子に接続されている。
電圧制御遅延回路10の出力端子が位相比較器20の比較対象信号Svar の入力端子に接続されている。
【0043】
フリップフロップDFF1 のクロック信号入力端子CKがクロック信号CLKの入力端子に接続され、出力端子が電圧制御遅延回路10の入力端子に接続され、反転出力端子が入力端子Dに接続され、さらに位相比較器20の基準信号Sref の入力端子に接続されている。
電圧制御遅延回路10の出力端子が位相比較器20の比較対象信号Svar の入力端子に接続されている。
【0044】
位相比較器20は電圧制御遅延回路10からの比較対象信号Svar およびフリップフロップDFF1 からの基準信号Sref の位相を比較し、比較結果に応じてアップ信号Supまたはダウン信号Sdwを発生し、カウンタ40に出力する。
【0045】
カウンタ40は位相比較器20からのアップ信号Supまたはダウン信号Sdwに応じてカウントアップまたはカウントダウンの計数動作を行い、カウント値S40を生成し、ディジタル/アナログ変換器50に出力する。
【0046】
ディジタル/アナログ変換器50はカウンタ40からのカウント値S40に応じて、電圧信号S50発生し、バッファBUF1 に出力する。
【0047】
バッファBUF1 はボルテージフォロワを構成し、ディジタル/アナログ変換器50からの電圧信号S50に追従する電圧信号SV1を生成し、バッファBUF2 に出力する。BUF2 およびpMOSトランジスタPT1 は入力された電圧信号SV1に追従する内部電源電圧Vint を発生し、出力端子Tvin に出力する。
また、バッファBUF1 により発生された電圧信号SV1は電圧制御遅延回路10の動作電源電圧として、電圧制御遅延回路10に供給される。
【0048】
以下、本第2の実施形態の電圧発生回路の動作について説明する。
図3に示すように、フリップフロップDFF1 は分周回路を構成し、入力されたクロック信号CLKが2分周され、分周信号が電圧制御遅延回路10に入力され、電圧制御遅延回路10により遅延した信号を比較対象信号Svar として位相比較器20に入力される。
一方、フリップフロップDFF1 の反転出力端子から出力された分周信号の反転信号が基準信号Sref として位相比較器20に入力される。
【0049】
位相比較器20により、電圧制御遅延回路10により出力された比較対象信号Svar の位相とフリップフロップDFF1 からの基準信号Sref の位相とが比較され、比較結果に応じて、アップ信号Supまたはダウン信号Sdwがカウンタ40に出力される。
例えば、基準信号Sref としてのクロック信号CLKの位相が進んでいる場合には、位相比較器20によりアップ信号Supが出力され、逆に、クロック信号CLKが位相が遅れている場合には、位相比較器20によりダウン信号Sdwが出力される。
【0050】
カウンタ40により、位相比較器20からのアップ信号Supまたはダウン信号Sdwに応じて、カウントアップまたはカウントダウンの計数動作が行われ、カウント値S40がディジタル/アナログ変換器50に出力される。
ディジタル/アナログ変換器50において、カウンタ40からのカウント値S40に応じた電圧信号S50が生成され、バッファBUF1 に出力される。
【0051】
バッファBUF1 ,BUF2 およびpMOSトランジスタPT1 の構成部分の動作は図1に示す第1の実施形態の動作と同様であり、ここで、その詳細の説明を省略する。
この部分により、ディジタル/アナログ変換器50により発生された電圧信号S50に追従する内部電源電圧Vint が発生され、出力端子Tvin に出力される。
【0052】
このように、フリップフロップDFF1 からなる分周回路、電圧制御遅延回路10、位相比較器20および積分器30により構成された帰還回路により内部電源電圧Vint のレベルが制御され、電圧制御遅延回路10の遅延時間が分周信号の半周期分、即ち、クロック信号CLKの1周期分となるように制御されるので、内部電源電圧Vint を動作電源電圧として動作するLSI回路では、最大設計ゲート段数で動作するときに所要の演算動作がクロック信号CLKの1周期以内に行うことができる。
【0053】
なお、図3においては、カウンタ40およびディジタル/アナログ変換器50の代わりに、図1に示すように積分器30を用いて、位相比較器20の出力信号に応じた電圧信号を発生できることはいうまでもない。
【0054】
以上説明したように、本実施形態によれば、フリップフロップDFF1 により分周回路を形成し、直列に接続されたm段のNANDゲートにより電圧制御遅延回路10を形成し、電圧制御遅延回路10で遅延した分周信号を比較対象信号Svar として、クロック信号CLKを基準信号Sref として、位相比較器20により位相を比較し、比較結果に応じてアップ信号Supまたはダウン信号Sdwを出力し、これらの信号に応じてカウンタ40によりカウント値S40を発生し、ディジタル/アナログ変換器50により電圧信号S50を出力し、バッファBUF1 により、電圧信号S50に追従する信号SV1を生成し、電圧制御遅延回路10の動作電源電圧として電圧制御遅延回路10に帰還し、さらにバッファBUF2 およびpMOSトランジスタPT1 により、信号SV1に追従する内部電源電圧Vint を発生し、出力端子Tvin に出力するので、クロック信号CLKの周波数に応じて、LSI回路の遅延時間を所定の範囲内に保持するための必要最低限の内部電源電圧Vint が供給され、LSI回路の低電圧化、省電力化を図れ、設計マージンの低減を実現できる。
【0055】
第3実施形態
図4は本発明に係る電圧発生回路の第3の実施形態を示す回路図である。
図示のように、本実施形態の電圧発生回路は電圧制御遅延回路10、位相比較器20、積分器30、固定遅延回路60、バッファBUF3 およびp型MOSトランジスタPT1 により構成されている。
【0056】
本実施形態においては、電圧制御遅延回路10、位相比較器20、積分器30の構成部分が、図1に示す本発明の第1の実施形態と同様であり、ここで、これらの構成部分について詳細の説明を省略する。以下、図4を参照しつつ、第1の実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
【0057】
固定遅延回路60は、例えば、基板上に形成されたRC配線により構成され、電圧発生回路の供給対象回路であるLSI回路のクリティカルパス(最大遅延経路)に等価なRC配線により構成され、入力信号に対して、固定の遅延時間TD2を与える。
または、固定遅延回路60は、クリティカルパスの遅延時間と同等な遅延時間を持つフリップフロップにより構成される。
図4に示すように、固定遅延回路60の入力端子が電圧制御遅延回路10の出力端子に接続され、出力端子が位相比較器20の比較対象信号Svar の入力端子に接続されている。
【0058】
位相比較器20の基準信号入力端子がクロック信号CLKの入力端子TCLK に接続されている。位相比較器20により発生されたアップ信号Supおよびダウン信号Sdwがそれぞれ積分器30に入力され、積分器30はこれらの信号に応じて積分信号SV を生成し、バッファBUF3 の反転入力端子“−”に入力する。
【0059】
バッファBUF3 の出力端子がpMOSトランジスタPT1 のゲート電極に接続され、pMOSトランジスタPT1 のソース電極が外部電源電圧Vext の供給線に接続され、ドレイン電極が内部電源電圧Vint の出力端子Tvin に接続されている。
【0060】
バッファBUF3 の入力端子“+”は内部電源電圧Vint の出力端子Tvin に接続されている。
さらに、内部電源電圧Vint は電圧制御遅延回路10の動作電源電圧として、電圧制御遅延回路10に供給される。
【0061】
以下、図4を参照しながら、本実施形態の動作について説明する。
クロック信号CLKが電圧制御遅延回路10に入力され、これにより、遅延時間TD1が与えられ、さらに固定遅延回路60に入力され、固定遅延回路60により遅延時間TD2が与えられ、比較対象信号Svar として位相比較器20に出力される。
一方、クロック信号CLKは基準信号Sref として位相比較器20に入力される。
【0062】
位相比較器20により、遅延時間が与えられた比較対象信号Svar と基準信号Sref としてクロック信号CLKとの位相が比較され、比較結果に応じてアップ信号Supまたはダウン信号Sdwが発生され、積分器30に出力される。
【0063】
積分器30において、位相比較器20からのアップ信号Supまたはダウン信号Sdwに応じて積分信号SV が生成され、バッファBUF3 の反転入力端子“−”に入力される。
【0064】
バッファBUF3 およびpMOSトランジスタPT1 により構成された駆動部分により、内部電源電圧Vint が発生され、出力端子Tvin に出力される。
pMOSトランジスタPT1 は内部電源電圧Vint のドライバーとして動作する。これにより、バッファBUF3 の出力信号のレベルに応じて、内部電源電圧Vint のレベルが制御され、常に積分器30により出力された積分信号SV のレベルに追従する。
【0065】
本実施形態においては、電圧制御遅延回路10により発生した遅延時間TD1は電圧制御遅延回路10の動作電源電圧、即ち、出力端子Tvin に出力された内部電源電圧Vint のレベルにより制御される。
一方、固定遅延回路60により発生された固定遅延時間TD2は上述したように、クリティカルパスの遅延時間と同等な遅延時間に設定されている。
【0066】
電圧制御遅延回路10は図1に示す第1の実施形態と同様に、例えば、m段のNANDゲートにより構成され、各段のNANDゲートにより、例えば、遅延時間Tpdが与えられるとすると、電圧制御遅延回路10の遅延時間TD1は第1の実施形態に示す式(1)により求められる。即ち、(TD1 = m・Tpd)である。
【0067】
なお、第1の実施形態と同様に、電圧制御遅延回路10を構成するNANDゲートの段数mは、内部電源電圧Vint の供給対象LSI回路のゲート段数の設計最大値がとすると、m>となるように、電圧制御遅延回路10を構成するNANDゲートの段数を設定すれば、LSI回路において、クロック信号CLKの一周期以内に所要の演算が行われる。
【0068】
固定遅延回路60により与えられた遅延時間TD2はLSI回路における配線のクリティカルパスにより生じた遅延時間と同様に設定される。
【0069】
このように、本実施形態における遅延回路部分は、可変遅延回路としての電圧制御遅延回路10と固定遅延回路60とにより構成されている。
可変遅延回路は、例えば、第1および第2の実施形態に示す電圧制御遅延回路と同様に構成され、動作電源電圧に応じて遅延時間TD1が制御される。
【0070】
一方、固定遅延回路60は、例えば、RC配線により構成され、内部電源電圧Vint の供給対象であるLSI回路のクリティカルパスにより生じた遅延時間に応じて、遅延時間TD2が設定される。
なお、ここで、この固定遅延回路の遅延時間TD2は、LSI回路クリティカルパスにより生じた遅延時間に応じて設定され、システムクロック信号CLKの1周期以内、あるいは1周期以上に設定できる。
【0071】
なお、図4においては、積分器30の代わりに、図3に示すカウンタ40およびディジタル/アナログ変換器50を用いて、位相比較器20の出力信号に応じた電圧信号を発生できることはいうまでもない。
また、バッファBUF3 およびpMOSトランジスタPT1 の代わりに、図3に示すように、バッファBUF1 により構成されたボルテージフォロワにより、積分信号SV に追従する電圧信号SV1を発生し、これを動作電源電圧として電圧制御遅延回路10に帰還し、さらに電圧信号SV1に追従する内部電源電圧Vint をバッファBUF2 およびpMOSトランジスタPT1 により発生できることはいうまでもない。
【0072】
以上説明したように、本実施形態によれば、直列に接続されたm段のNANDゲートにより電圧制御遅延回路10を形成し、さらに固定遅延回路60を設け、電圧制御遅延回路10および固定遅延回路60により遅延した信号Svar とクロック信号CLKとの位相を比較し、比較結果に応じてアップ信号Supまたはダウン信号Sdwを出力し、これらの信号に応じて積分器30により、積分信号SV を発生する。バッファBUF3 により、積分信号SV に追従する内部電源電圧Vint を発生し、動作電源電圧として電圧制御遅延回路10に帰還し、さらに出力端子Tvin に出力するので、クロック信号CLKの周波数に応じたLSI回路の遅延時間を所定の範囲内に保持するための必要最低限の内部電源電圧Vint が供給され、LSI回路の低電圧化、省電力化を図れ、設計マージンの低減を実現できる。
【0073】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の電圧発生回路によれば、温度および外部電圧の変動によらず、所定のクロック周波数における必要最低限の動作電源電圧を発生でき、設計マージンを大幅に低減できる利点がある。
さらに、本発明によれば、システムクロックの周波数に応じて、必要最低限の動作電源電圧を発生でき、LSI回路の低電圧化、省電力化を図れる利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る電圧発生回路の第1の実施形態を示す回路図である。
【図2】図1に示す電圧発生回路のタイミングチャートである。
【図3】本発明に係る電圧発生回路の第2の実施形態を示す回路図である。
【図4】本発明に係る電圧発生回路の第3の実施形態を示す回路図である。
【図5】一般的な電圧発生回路の一例を示す回路図である。
【符号の説明】
10…電圧制御遅延回路、20…位相比較器、30…積分器、40…カウンタ、50…ディジタル/アナログ変換器、60…固定遅延回路、BUF1 ,BUF2 …バッファ、PT1 …p型MOSトランジスタ、DFF1 …フリップフロップ、NA1 ,NA2 ,…,NAm …NANDゲート、Vext …外部電源電圧、TCLK …クロック信号CLKの入力端子、Tvin …内部電源電圧出力端子、Vint …内部電源電圧、GND…接地電位,Iext …外部電流源、VB …バンドギャップ基準電源。

Claims (10)

  1. 入力したクロック信号の周波数に応じて、所定の電圧を被供給対象回路に供給する電圧発生回路であって、
    入力したクロック信号を動作電源電圧に応じた遅延時間をもって遅延させる可変遅延回路と、
    上記可変遅延回路により遅延されたクロック信号と上記入力したクロック信号との位相比較を行い、比較結果に応じたアップ信号またはダウン信号を出力する位相比較回路と、
    上記位相比較回路によりアップ信号を受けると電圧が上がる方向に制御され、ダウン信号を受けると電圧が下がる方向に制御された信号を出力する処理手段と、
    ボルテージフォロワを構成するバッファであって、上記処理手段の出力信号を受けて当該出力信号と同じレベルの電圧信号を生成し、上記可変遅延回路に上記動作電源電圧として供給するバッファと、
    上記バッファの出力電圧に追従する電圧を発生し、上記被供給対象回路に出力するバッファ回路と
    を有する電圧発生回路。
  2. 上記可変遅延回路は、上記バッファの出力電圧を動作電源電圧として、直列に接続されたm段(mは整数)のゲート回路により構成されている
    請求項1記載の電圧発生回路。
  3. 上記被供給対象回路は論理回路であって、上記整数mは論理回路の最大設計ゲート数L(Lは整数)より大きく設定されている
    請求項2記載の電圧発生回路。
  4. 上記処理手段は、上記位相比較回路からの比較結果に応じて、出力電圧を制御する積分手段により構成されている
    請求項1記載の電圧発生回路。
  5. 上記処理手段は、上記位相比較回路からの比較結果に応じて計数値を設定する計数手段と、
    上記計数手段の計数値に応じた電圧信号を出力するディジタル/アナログ変換手段と
    を有する請求項1記載の電圧発生回路。
  6. 上記可変遅延回路と上記位相比較回路との間に、上記可変遅延回路により遅延された信号をさらに遅延させて、上記位相比較回路に入力する固定遅延回路
    を有する請求項1記載の電圧発生回路。
  7. 上記固定遅延回路は、上記被供給対象回路における配線の最長遅延経路の遅延時間と同等な遅延時間を有する
    請求項6記載の電圧発生回路。
  8. 上記固定遅延回路は、上記被供給対象回路における配線の最長遅延経路と等価な基板配線により構成されている
    請求項6記載の電圧発生回路。
  9. 上記クロック信号を分周する分周回路を有し、上記分周回路からの分周信号は上記可変遅延回路により遅延され、比較対象信号として上記位相比較回路に供給されると共に、上記分周信号の反転信号が基準信号として上記位相比較回路に供給される
    請求項1記載の電圧発生回路。
  10. 上記分周回路はフリップフロップにより構成された2分周回路である
    請求項9記載の電圧発生回路。
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