JP3682851B2 - 排気ガス浄化システム - Google Patents
排気ガス浄化システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP3682851B2 JP3682851B2 JP2000196404A JP2000196404A JP3682851B2 JP 3682851 B2 JP3682851 B2 JP 3682851B2 JP 2000196404 A JP2000196404 A JP 2000196404A JP 2000196404 A JP2000196404 A JP 2000196404A JP 3682851 B2 JP3682851 B2 JP 3682851B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exhaust gas
- nox
- diffusion control
- purification catalyst
- gas purification
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Exhaust Gas After Treatment (AREA)
- Electrical Control Of Air Or Fuel Supplied To Internal-Combustion Engine (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、内燃機関や燃焼器等から排出される排気ガスを浄化するシステムに係り、特に、排気ガス中の窒素酸化物(NOx)を高効率で浄化する排気ガス浄化システムに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、自動車等の内燃機関から排出される排気ガスに含まれる一酸化炭素(CO)、炭化水素(HC)及び窒素酸化物(NOx)等を浄化する触媒などとしては、理論空燃比で働く三元触媒やこれを用いた排気ガス浄化システムなどが知られている。
また、内燃機関の排気ガスが酸素過剰のときのように、窒素酸化物の浄化が三元触媒では不可能な場合の窒素酸化物の浄化方法としては、特許掲載第2600429号公報で示されているように、排気ガスが酸素過剰の時にNOxを吸収させ、吸収させたNOxをNOx吸収剤に流入する排気ガス中の酸素の濃度を低下させて放出させて浄化処理するという排気ガス浄化システムが用いらている。
【0003】
しかし、かかる三元触媒を用いた排気ガス浄化システムや特許掲載第2600429号公報に示されているような排気ガス浄化システムでは、吸収させたNOxを脱離して浄化する際に、還元剤としてHCやCOを用いており、これら従来技術では、NOxを反応浄化させるためにはHCやCOをNOx浄化触媒に供給する必要がある。このため、NOx浄化触媒には、HCやCOの一部が残ってしまうことがあり、より高いレベルで排気ガスを浄化することが困難であった。
また、消費されなかったHCやCOを浄化する方法として、NOx触媒上で同時に酸化反応させる方法やNOx浄化触媒の後段に三元触媒を配置する方法が採用されているが、NOx浄化触媒やその後段の三元触媒が排気流路のエンジンから離れた位置に配置されるため排気ガスの排気温度が低下してしまい、十分なHCやCONOx浄化性能が得られない。特にエンジン始動直後に排出されるHCやCO成分浄化が困難であるという問題もあった。
【0004】
更に、NOxの反応浄化に水素を用いる触媒としては、特開平6−1216174号公報に示されているように、水素吸蔵合金に吸蔵された水素を用いて、リーン領域の還元性ガスを含まない排気ガス中のNOxを浄化する排気ガス浄化触媒が提案されている。
【0005】
一方、触媒において排気ガス中のガス拡散性を制御する方法としては、特開平10−43588号公報に、貴金属触媒層の上に細孔径分布の最頻地が異なる2種以上の耐火性無機物からなる炭化水素脱離抑制層をコートして、エンジンの冷間始動時に排出されるHCを一時的に吸着させておき、脱離時のHCの拡散性を制御してHCの脱離を遅らせる排気ガス浄化触媒が記載されている。
また、特開平11−22645号公報には、細孔径分布が4〜9Åで、細孔径のピーク(最頻値)の異なる2種以上の炭化水素吸着材を多層構造体として用いることで同様に冷間始動時の炭化水素の吸着効率に優れ、更に吸着した炭化水素の脱離遅延化を図った触媒が記載されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、かかる触媒等では、以下のような課題があった。
即ち、特開平6−1216174号公報に示されているように、水素吸蔵合金に吸蔵された水素を用いて、リーン領域の還元性ガスを含まない排気ガス中のNOxを浄化する排気ガス浄化触媒では、水素吸蔵合金そのもののNOx浄化機能でリーン領域のNOxを浄化するために、十分な触媒性能が得られないという課題があった。
【0007】
また、特開平10−43588号公報及び特開平11−22645号公報に記載の触媒では、ガスの拡散性を制御する対象が炭化水素であり、そのため拡散層に用いる材料としては、細孔径分布が炭化水素の吸着性能に適しており、且つ炭化水素の脱離を抑制できるような細孔分布を持つものが選ばれている。しかし、炭化水素に比較し分子径のより小さいH2ガスの拡散性の制御が充分に行なえず、また、NOx浄化のための還元剤としてH2が存在する排気ガス中で適切なH2ガスのガス拡散制御が行なえず、十分なNOx浄化性能が得られないという課題があった。
【0008】
本発明は、このような従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、酸素過剰領域(例えばリーン状態)で走行することによる燃費向上効果を十分に享有し、排気ガス中に含まれるH2を還元剤として有効に活用し得る排気ガス浄化システムを提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、所定のH2拡散制御材によって水素の拡散速度を制御してNOx浄化触媒がNOxを浄化する際の水素濃度を増大することにより、上記課題が解決することを見出し、本発明を完成するに至った。
【0010】
即ち、本発明の排気ガス浄化システムは、主として酸素過剰領域で運転される内燃機関又は燃焼装置の排気通路に、水素の拡散性をコントロールするH2拡散制御材と、少なくとも水素を還元剤として窒素酸化物を還元処理するNOx浄化触媒を配置して成り、
上記NOx浄化触媒が窒素酸化物を還元処理する際に供給される排気ガス中のH2濃度を、上記H2拡散制御材によるH2の拡散速度制御により増大することを特徴とする。
【0011】
また、本発明の排気ガス浄化システムの好適形態は、上記H2拡散制御材の上流側に水素供給源を付加して成り、この水素供給源が水素生成排ガス浄化触媒であり、短時間の理論空燃比ないし燃料過剰領域の運転を加えることを特徴とする。
【0012】
更に、本発明の排気ガス浄化システムの他の好適形態は、上記H2拡散制御材及びNOx浄化触媒がそれぞれH2拡散制御層及びNOx浄化触媒層を形成し、これら両層が一体構造型担体に積層されて多層構造をなし、このNOx浄化触媒層の内表面及び外表面のいずれか一方又は双方に上記H2拡散制御層が接していることを特徴とする。
【0013】
更にまた、本発明の排気ガス浄化システムの更に他の好適形態は、上記H2拡散制御材が、細孔径が0.74Å以上且つ細孔径分布の最頻値が4Å以下である耐火性無機物を含有すること、更に、細孔径分布の最頻値が4Å超10Å以下である耐火性無機物を含有することを特徴とする。
【0014】
【作用】
本発明においては、内燃機関又は燃焼装置の排気通路に、水素の拡散性をコントロールするH2拡散制御材を配置して排気ガス中のH2の拡散速度を制御し、NOx浄化触媒が窒素酸化物を還元処理する際に排気ガスの水素濃度を増大することとした。
また、H2拡散制御材の近傍又は下流にNOx浄化触媒を配置し、少なくとも水素を還元剤としてNOx浄化処理ができるようにした。
更に、所要に応じて、H2拡散制御材の上流側に水素供給源を付加し、短時間の理論空燃比ないし燃料過剰領域の運転を加えることとした。
このように、本発明の排気ガス浄化システムでは、H2拡散制御材とNOx浄化触媒とを所望の構成で配置し、NOx浄化触媒がNOx浄化の際の還元剤として用いるH2をH2拡散制御材で適切に制御することにより、より高いレベルの排気ガス浄化を行うことができる。
【0015】
ここで、排気ガスに含まれる主な還元成分としては、HC、CO及びH2が知られており、特許掲載第2600429号公報に記載の手法では、リーン域においてNOxを吸収し、理論空燃比又は燃料過剰領域においてNOxを放出させ還元剤により還元浄化する場合の還元剤として、主にHCが用いられている。また、リーン域でNOxを還元浄化する触媒においても、還元剤としては主にHCが用いられている。
【0016】
しかしながら、大気環境保全の意味から、昨今、内燃機関から排出される排出ガス成分をよりいっそう浄化することが必要とされている。そのために、内燃機関の改良や排気ガス浄化用触媒の改良が進められているが、HC、COの還元成分をあまり減らしてしまうと、NOx浄化を行う還元成分が無くなり、充分なNOx浄化が行えない。そこで、HC、COをある程度排気ガス中に残した状態でNOx浄化触媒に排出する必要があるが、より高いレベルの排気ガス浄化を行うことが困難であった。これに対し、本発明では上述の如くH2を還元剤とするため、このような問題も回避され得る。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の排気ガス浄化システムについて、詳細に説明する。
上述の如く、本発明の排気ガス浄化システムは、主として酸素過剰領域で運転される内燃機関又は燃焼装置の排気通路にH2拡散制御材とNOx浄化触媒を配置したものである。
【0018】
ここで、上記H2拡散制御材としては、NOxを浄化する際の還元剤となる水素(H2)の拡散性をコントロールできるものである限り使用することができるが、特に本発明の排気ガス浄化システムでは、2種以上の耐火性無機物を含み、この耐火性無機物には、少なくとも細孔径分布のピーク(最頻値)が4Å以下である耐火性無機物と、10Å以下である耐火性無機物とが含まれているH2拡散制御材を用いることが好ましい。なお、H2ガスにおけるH−H結合間距離は、0.74Å程度であるので、理論的には0.74Å以上の細孔径であれば分子篩作用によるH2の吸着・脱離を行い得ると推測できる。
かかる細孔径を有する少なくとも2種類以上のH2拡散制御材を使用すれば、H2がより適切な吸着・脱離を行うようになり、拡散速度が好適に制御される。なお、拡散速度の制御は拡散速度の遅延によって行われ、また、H2分子に拡散速度差が付与されるので、H2が上記NOx浄化触媒に供給される時間を延長することができる。
【0019】
また、上記耐火性無機物としては、具体的にはゼオライト、アルミナ、シリカ、シリカアルミナ又はアルミナシリケイト及びこれらを任意に組合せたものを使用することができる。
【0020】
一方、上記NOx浄化触媒としては、少なくともH2を含む還元成分によってNOxを還元浄化できれば十分であるが、本排気ガス浄化システムでは、この還元成分は、上述のH2拡散制御材の作用により主成分がH2ということになる。
【0021】
かかるNOx浄化触媒としては、NOx吸着/吸蔵型浄化触媒、NOx選択還元触媒又は所定の三元触媒が適しており、NOx吸着/吸蔵型浄化触媒は、酸素過剰領域(リーン状態など)においてNOxを一時的に吸着/吸収し理論空燃比(ストイキ)及び/又は燃料過剰領域(リッチ状態など)でNOxを放出して還元成分によりNOxを浄化し、NOx選択還元触媒は、リーン状態においてNOxを還元成分と選択的に反応させて浄化し、所定の三元触媒は、ストイキ近傍のリーン条件下でNOxを還元浄化する機能を有する。
【0022】
本発明の排気ガス浄化システムでは、上記NOx吸着/吸蔵型浄化触媒として、セシウム(Cs)、バリウム(Ba)、ナトリウム(Na)、カリウム(K)、マグネシウム(Mg)、ランタン(La)又はカルシウム(Ca)及びこれらの混合金属元素、並びに白金(Pt)、パラジウム(Pd)又はロジウム(Rh)及びこれらの混合貴金属元素とを含む触媒を使用することができる。
【0023】
また、本発明の排気ガス浄化システムでは、上記NOx選択還元触媒として、銅(Cu)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、鉄(Fe)、ガリウム(Ga)、ランタン(La)、セリウム(Ce)、亜鉛(Zn)、チタン(Ti)、カルシウム(Ca)、バリウム(Ba)又は銀(Ag)及びこれらの混合元素、及び/又は白金(Pt)、イリジウム(Ir)、パラジウム(Pd)又はロジウム(Rh)及びこれらの混合貴金属元素を含むゼオライト若しくはアルミナを用いてなる触媒を使用することができる。
【0024】
更に、本発明の排気ガス浄化システムでは、上記所定の三元触媒として、Pt、Pd又はRh及びこれらの混合金属元素と、ランタン(La)、セリウム(Ce)、プラセオジウム(Pr)、ネオジム(Nd)又はサマリウム(Sm)及びこれらの混合希土類元素、Zr又はBa及びこれらの任意の組合せにかかるものとを含む触媒を使用することができる。
【0025】
上述したNOx浄化触媒に含まれる貴金属の量は、これら触媒の機能が十分に得られる限り、特に限定されないが、代表的には、H2拡散制御材及びNOx浄化触媒を含む一体構造型担体1L容量当たりに貴金属を0.5〜10gの割合で含んでいることが好ましい。
【0026】
また、本発明の排気ガス浄化システムでは、上記排気通路における上記H2拡散制御材の上流側に水素供給源を付加することが好ましい。これにより、NOx浄化触媒がNOx浄化の際に必要とされる還元剤を十分に供給できる。かかる水素供給源としては、排気ガス中より水素を生成し得る水素生成排ガス浄化触媒や外部からH2を供給し得る水素ボンベなどを例示できる。なお、水素生成排ガス浄化触媒を使用するときは、短時間の理論空燃比ないし燃料過剰領域の運転を加えることが好ましく、これにより水素の供給量を増大できる。
【0027】
更に、本発明の排気ガス浄化システムでは、上述したH2拡散制御材がH2の拡散速度を制御し、上述したNOx浄化触媒が窒素酸化物を還元処理する際に供給される排気ガス中のH2濃度を増大させることにより、NOxの浄化が効率良く行われるものである。
即ち、H2拡散制御材が、H2ガスの分子径に対応した一定の細孔径を有し、H2ガスの分子径はHCやCOの分子径よりも遥かに小さいことから、分子篩作用によりH2ガスが優先的に選択されて上記H2拡散制御材に吸着し、所望の拡散速度でH2を脱離・放出し、かかるH2を用いてNOx浄化触媒がNOxを浄化するものである。
【0028】
ここで、上記NOx浄化触媒が窒素酸化物を還元処理するタイミングとしては、NOx浄化触媒の種類や量によって異なるが、吸蔵又は吸着したNOxを放出・脱離したり、吸蔵NOxが飽和状態になったりして、NOx浄化のために還元剤が要求されるときを例示できる。
【0029】
具体的には、「水素生成排ガス浄化触媒−H2拡散制御材−NOx浄化触媒」の場合、NOx吸着/吸蔵型触媒を用いた場合には、リッチスパイクが入った時に、NOxが触媒上から脱離し、還元処理される。NOx選択還元触媒では、リッチスパイクが入った後のリーン状態に入ってから、H2やHCを還元剤として還元処理が行われる。三元触媒を用いた場合は、リッチスパイクが入った時に、主に還元処理が行われるが、一部はリーンに入った状態でもH2やHC、COを還元剤として、還元処理が行われる。
H2拡散制御材の上流側にH2吸蔵合金を配置した場合には、NOx浄化触媒で還元剤が不足するタイミング、NOx吸着/吸蔵型触媒では、リッチスパイクが終わる時期、NOx選択還元触媒では、リーン運転中でHC、H2及びCO等の還元剤が少ない時期、三元触媒では、リッチ、リーンの運転条件にかかわらず、NOxに対して、HC、H2及びCO等の還元剤の量の少ない時期にH2を放出させて、NOxを還元処理することができる。
【0030】
また、H2の拡散速度は、上記H2拡散制御材の有する細孔径の異なる材料を用いる、細孔を有する材料の表面状態を化学的に改質する、細孔径を有する材料の使用量を変える(コート量を変える)、異なる細胞径の配分比率を変えることにより制御される。
【0031】
更に、H2拡散制御材に吸着されるH2としては、排気ガス中のH2、上流側に設置した水素生成排ガス浄化触媒で排気ガス中のHCやCOなどを改質・生成して得られるH2、及び上流側に設置した水素供給装置から供給するH2などを挙げることができる。なお、上記水素生成排ガス浄化触媒としては、例えば、酸化触媒や三元触媒などを例示できる。
更にまた、水素吸蔵合金(La−Ni系、Mg−Ni系、Ti−Fe系及びPd−Ce系合金等)やカーボンナノチューブなどの水素吸蔵材を上記H2拡散制御材の上流、又は上記水素供給源とこのH2拡散制御材との間に付加すれば、H2拡散制御材に関わるH2を増大でき、H2の拡散速度を更に有効に制御できる。
【0032】
また、本排気ガス浄化システムでは、H2拡散制御材がH2の拡散制御を行うが、この結果、上記NOx浄化触媒に供給される排気ガスを、次式(A)
H2量/TR量≧0.3…(A)
(式中のTR量は、排気ガス中の全還元成分量を示す)で表されるガス組成を満足するように制御することが望ましい。この関係を満足すれば、NOx浄化触媒は、好適なNOx浄化率を実現する。
【0033】
更に、上記NOx浄化触媒と上記H2拡散制御材とは、少なくとも同時(H2拡散制御材が先)に、排気ガスに接触しなければH2の拡散速度が制御されない。
かかる観点から、本発明の排気ガス浄化システムでは、H2拡散制御材をNOx浄化触媒と区分して又は混合して配置することが可能である。なお、このときH2拡散制御材とNOx浄化触媒との配置比率又は混合比率は、H2拡散制御材/NOx浄化触媒=1/9〜4/6であることが好ましい。
【0034】
上記H2拡散制御材及びNOx浄化触媒を区分して配置するときは、例えば、ハニカム状担体などの一体構造型担体に、H2拡散制御材の一例であるH2拡散制御層とNOx浄化触媒材の一例であるNOx浄化触媒層とを積層して成る多層構造とすることができる。このとき、上記両層は少なくとも1以上で任意に積層することができ、2層構造やサンドイッチ型構造などとすることができるが、上記NOx浄化触媒層の内表面及び外表面のいずれか一方又は双方に上記H2拡散制御層が接していることが好ましい。なお、特に経済性や生産性を考慮すると、両層合わせて4層以下の構造であることが望ましい。
【0035】
また、上記H2拡散制御層は、同一又は異なる成分・細孔径を有するH2拡散制御材の積層体であることがより好ましく、H2の拡散速度の制御がより的確に行われ易い。
なお、上記多層構造とする場合の最上層又は最下層は、H2拡散制御層及びNOx浄化触媒層のいずれであっても良いが、特に、最上層となる排気ガス接触層が、H2拡散制御層であれば、排気ガス中のH2の拡散制御がより効率よく行われ、最下層となる担体担持層が、NOx浄化触媒層であれば、排気ガス中の被毒成分の影響を受けにくくなる。
【0036】
更に、1つの担体上に上記H2拡散制御材とNOx浄化触媒とを塗り分けて配置することや上記H2拡散制御材とNOx浄化触媒とを別々の担体に独立させてタンデム配置することもできる。この場合には、それぞれの触媒反応に適した担体(セル密度、セル形状など)の選択やコート層厚さの選択が可能と成るので好ましい。
【0037】
一方、H2拡散制御材及びNOx浄化触媒を混合して配置することもできる。具体的には、各成分を粒状やペレット状などにし、これらを混合して排気通路内に配置することができる。但し、反応効率を向上すべく、H2拡散制御材及びNOx浄化触媒を区分して配置するときと同様に一体構造型担体に配置することが望ましい。
【0038】
ここで、かかる一体構造型担体としては、耐熱性材料から成るモノリス担体やメタル担体などを例示できる。特に、自動車の排気ガス浄化に使用するに当たっては、ハニカム状担体にコートすることにより、H2拡散制御材又はNOx浄化触媒と排気ガスとの接触面積(反応表面積)を拡大でき、圧力損失も減少できるのでより有効となる。
なお、かかるハニカム状担体としては、一般にセラミック等のコージェライト質のものが多く用いられるが、フェライト系ステンレス等の金属材料からなるハニカム材料を用いることも可能であり、更にはH2拡散制御材又はNOx浄化触媒の粉末そのものをハニカム状に成形してもよい。
【0039】
また、上記ハニカム状担体にコートする場合のH2拡散制御材又はNOx浄化触媒の担持量は、一体構造型担体1L容量当たりにH2拡散制御材が30〜100g、NOx浄化触媒が50〜300gであることが好ましい。これは、触媒成分担持層は触媒活性や触媒寿命の面からは厚い(担持量が多い)ことが好ましいが、コート層が厚くなりすぎると、反応ガスが拡散不良となりコート層内部の触媒と十分に接触できなくなる、言い換えれば、活性に対する増量効果が飽和し、排気ガスの通過抵抗も大きくなるためである。
【0040】
【実施例】
以下、本発明を実施例及び比較例により更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【0041】
(実施例1)
まず、排気ガス浄化触媒(H2拡散制御材及びNOx浄化触媒)を調製し、その後得られた排気ガス浄化触媒を用いたて、排ガス浄化システムを構築した。
【0042】
[排気ガス浄化システムの構築]
硝酸Pd水溶液を活性アルミナ粉末に含浸し、乾燥後空気中400℃で1時間焼成して、Pd担持アルミナ粉末(粉末B)を得た。この粉末のPd濃度は5.0重量%であった。
硝酸Rh水溶液を活性アルミナ粉末に含浸し、乾燥後空気中400℃で1時間焼成して、Rh担持アルミナ粉末(粉末C)を得た。この粉末のRh濃度は3.0重量%であった。
粉末Bを347g、粉末Cを58g、活性アルミナ粉末を496g、水900gを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリ液を得た。粉砕時間を1時間とした。このスラリ液をコーディライト質モノリス担体(1.3L、400セル)に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリを取り除いて130℃で乾燥した後、400℃で1時間焼成し、コート層重量200g/L−担体を得た。更に、このコートを行なった担体に酢酸バリウム水溶液を用いて含浸担持を行ない、120℃で乾燥後400℃で焼成を行ないNOx浄化触媒層とした。
【0043】
アルコキシド法等により細孔径のピーク(最頻値)が10Å以下になるように調製した活性アルミナ500gと、細孔径が4Å以下であるA型ゼオライト500gと、2%硝酸溶液1000gとを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリ液を得た。粉砕時間は1時間とした。このスラリ液を、上記NOx浄化触媒層に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリを取り除いて130℃で乾燥した後、400℃で1時間焼成し、コート層重量50g/Lとした排気ガス浄化触媒とし、この触媒を用いたシステム(No.1)を構築した。積層したH2拡散制御層及びNOx浄化触媒層の構成を表1に示す。
【0044】
(実施例2)
活性アルミナを用いず、MFIゼオライトを用いた以外は、実施例1と同様の操作を繰り返して、排気ガス浄化触媒とし、この触媒を用いたシステム(No.2)を構築した。積層したH2拡散制御層及びNOx浄化触媒層の構成を表1に示す。
【0045】
(実施例3)
H2拡散制御層として更にMFIゼオライトを用いた以外は、実施例1と同様の操作を繰り返して、排気ガス浄化システム(No.3)を構築した。なお、以下に排気ガス浄化触媒の調製方法を示す。また、積層したH2拡散制御層及びNOx浄化触媒層の構成を表1に示す。
【0046】
[排気ガス浄化触媒の調整]
アルコキシド法等により細孔径のピークが10Å以下になるように調製した活性アルミナ400gと、MFIゼオライト(細孔径分布のピーク 5.8Å)300gと、細孔径が4Å以下であるA型ゼオライト300gと、シリカゾル200gと、水1000gとを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリ液を得た。粉砕時間は1時間とした。このスラリ液を、上記NOx浄化触媒層に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリを取り除いて130℃で乾燥した後、400℃で1時間焼成し、H2拡散制御層のコート層重量50g/Lとした排気ガス浄化触媒を得た。
【0047】
(実施例4)
アルコキシド法等により細孔径のピークが10Å以下になるように調製した活性アルミナ500gと、細孔径が4Å以下であるA型ゼオライト500gと、2%硝酸溶液1000gとを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリ液を得た。粉砕時間は1時間とした。このスラリ液をコーディライト質モノリス担体(1.3L、400セル)に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリを取り除いて130℃で乾燥した後、400℃で1時間焼成しコート層重量50g/Lとして、H2の拡散制御層とした。
【0048】
実施例1で用いた、粉末Bを347g、粉末Cを58g、活性アルミナ粉末を496g及び水900gを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリ液を得た。粉砕時間を1時間とした。このスラリ液を上記H2拡散制御層に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリを取り除いて130℃で乾燥した後、400℃で1時間焼成し、NOx浄化触媒層としてコート層重量200g/L−担体を得た。さらに、このコートを行なった担体に酢酸バリウム水溶液を用いて含浸担持を行ない、120℃で乾燥後400℃で焼成を行ない排気ガス浄化触媒とし、この触媒を用いたシステム(N0.4)を構築した。積層したH2拡散制御層及びNOx浄化触媒層の構成を表1に示す。
【0049】
(実施例5)
実施例4の内層を25g/Lとし、更にNOx浄化触媒層に上に、実施例4の内層と同様にして、H2拡散制御層が25g/Lとなるようにコートして排気ガス浄化触媒とし、この触媒を用いたシステム(No.5)を構築した。積層したH2拡散制御層及びNOx浄化触媒層の構成を表1に示す。
【0050】
(実施例6)
γ−アルミナを主たる成分とする活性アルミナに硝酸セリウム溶液と硝酸バリウム溶液を含浸し、乾燥した後500℃で1時間焼成した。このときのセリウム担持濃度は7重量%、バリウム濃度は5重量%とした。こうして得られた粉末に硝酸パラジウム水溶液を含浸し、乾燥した後400 ℃で1時間焼成して、Pd担持活性アルミナ粉末を得た。Pdの担持濃度は1.00重量%。この粉末700gと、酸化セリウム粉末300gと、アルミナゾル1000gとをボールミルで混合、粉砕して得られたスラリをモノリス担体基材(1.3 L,400 セル)に付着させ焼成(400 ℃、1時間)した。この時の付着量は200g/Lに設定した。このようにしてNOx浄化触媒層を得た。
【0051】
更に、このNOx浄化触媒層上に、実施例1と同様の操作を繰り返して、H2拡散制御層を焼成後の付着量が50g/Lとなるように付着させ、排気ガス浄化触媒とし、この触媒を用いたシステム(No.6)を構築した。積層したH2拡散制御層及びNOx浄化触媒層の構成を表1に示す。
【0052】
(比較例1)
H2拡散制御層を積層せず、NOx浄化触媒層のみとした以外は実施例1と同様の操作を繰り返して、排気ガス浄化触媒とし、この触媒を用いたシステムを構築した。NOx浄化触媒層の構成を表1に示す。
【0053】
(比較例2)
H2拡散制御層を積層せず、NOx浄化触媒層のみとした以外は実施例6と同様の操作を繰り返して、排気ガス浄化触媒とし、この触媒を用いたシステムを構築した。NOx浄化触媒層の構成を表1に示す。
【0054】
【表1】
【0055】
[性能評価方法]
上記方法で得たマニホールド直下型触媒(Pd/Rh−2.82g/L触媒0.7L)とNOx浄化触媒とを用いて、排気量1.8Lの直噴ガソリンエンジンを搭載した乗用車の排気通路に、エンジンの排気直後に上記マニホールド直下型触媒を、その後段にNOx浄化触媒を配置して性能評価を行った。
性能評価(車両評価)は、北米のテストモードであるLA4−CHモード(FTP−75モード)にて走行し、その時の排出量を測定することにより行った。この結果を表2に示す。
【0056】
また、表2に示す残存率は、次の式、
残存率=(1−NOx浄化触媒出口の排気ガス中のHC、CO及びNOx排出量/エンジンアウトの排出ガス中のHC、CO及びNOx排出量)×100
より求めた。
排出ガス中のHC、CO及びNOx排出量は、上記の車両評価モードを走行したときの排出量を示す。表2のNOx/HCの比率は、上記の車両評価モードを走行中のスタート直後の走行部分、具体的にはFTP−75モードのスタート後、約200秒までの走行部分を除いた部分のNOx、HCの各成分の平均濃度を用いて計算した値である。また、HC濃度も同様にして計算した平均濃度を示している。スタート直後の走行部分を除くのは、エンジンスタート直後で未燃焼のHC排出によりHC濃度が高いためである。
【0057】
【表2】
【0058】
以上、本発明を好適実施例及び比較例により詳細に説明したが、本発明の好適範囲内にある実施例1〜6は、表2に示すように比較例に比べて排気ガス成分の転化率が高く、HC、CO及びNOxの残存率が低いことから、H2がH2拡散制御層から適度な拡散速度でNOx浄化触媒層に供給され、優れた排気ガス浄化性能を示すことがわかる。
一方、比較例1及び2は、HC、CO及びNOxの残存率が高く、特にH2拡散制御層を積層しなかったため、NOx転化率が低いことがわかる。
【0059】
【発明の効果】
以上説明してきたように、本発明によれば、所定のH2拡散制御材が吸着H2の拡散速度を制御し、所定のNOx浄化触媒が排気ガス中のH2濃度を増大することとしたため、主として酸素過剰領域(例えばリーン状態)で走行することによる燃費向上効果を十分に享有し、排気ガス中に含まれるH2を還元剤として有効に活用し得る排気ガス浄化システムを提供することができる。
Claims (13)
- 主として酸素過剰領域で運転される内燃機関又は燃焼装置の排気通路に、水素の拡散性をコントロールするH2拡散制御材と、少なくとも水素を還元剤として窒素酸化物を還元処理するNOx浄化触媒を配置して成り、
上記NOx浄化触媒が窒素酸化物を還元処理する際に供給される排気ガス中のH2濃度を、上記H2拡散制御材によるH2の拡散速度制御により増大することを特徴とする排気ガス浄化システム。 - 上記H2の拡散速度制御が、細孔径分布のピークの異なる2種以上の耐火性無機物が行う吸着・脱離によることを特徴とする請求項1記載の排気ガス浄化システム。
- 上記排気通路における上記H2拡散制御材の上流側に、水素供給源を付加して成ることを特徴とする請求項1又は2に記載の排気ガス浄化システム。
- 上記水素供給源が水素生成排ガス浄化触媒であり、短時間の理論空燃比ないし燃料過剰領域の運転を加えることを特徴とする請求項3記載の排気ガス浄化システム。
- 上記H2拡散制御材の上流、又は上記水素供給源とこのH2拡散制御材との間に、水素吸蔵材を付加して成ることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つの項に記載の排気ガス浄化システム。
- 上記H2拡散制御材及びNOx浄化触媒がそれぞれH2拡散制御層及びNOx浄化触媒層を形成し、これら両層が一体構造型担体に積層されて多層構造をなし、このNOx浄化触媒層の内表面及び外表面のいずれか一方又は双方に上記H2拡散制御層が接していることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つの項に記載の排気ガス浄化システム。
- 上記窒素酸化物を還元処理する際に上記NOx浄化触媒に供給される排気ガスが、次式(A)
H2量/TR量≧0.3…(A)
(式中のTR量はその排気ガス中の全還元成分量を示す)で表される排気ガス組成を満足することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1つの項に記載の排気ガス浄化システム。 - 上記H2拡散制御材が、細孔径が0.74Å以上且つ細孔径分布の最頻値が4Å以下である耐火性無機物を含有することを特徴とする請求項1〜7のいずれか1つの項に記載の排気ガス浄化システム。
- 上記H2拡散制御材が、細孔径分布の最頻値が4Å超10Å以下である耐火性無機物を更に含有することを特徴とする請求項8に記載の排気ガス浄化システム。
- 上記耐火性無機物が、ゼオライト、アルミナ、シリカ、シリカアルミナ及びアルミナシリケイトから成る群より選ばれた少なくとも1種のものであることを特徴とする請求項8又は9に記載の排気ガス浄化システム。
- 上記NOx浄化触媒が、セシウム、バリウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、ランタン及びカルシウムから成る群より選ばれた少なくとも1種の金属元素と、白金、パラジウム及びロジウムから成る群より選ばれた少なくとも1種の貴金属元素とを含む、NOx吸蔵型浄化触媒であることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1つの項に記載の排気ガス浄化システム。
- 上記NOx浄化触媒が、銅、コバルト、ニッケル、鉄、ガリウム、ランタン、セリウム、亜鉛、チタン、カルシウム、バリウム及び銀から成る群より選ばれた少なくとも1種の元素、及び/又は白金、イリジウム、パラジウム及びロジウムから成る群より選ばれた少なくとも1種の貴金属元素を含むゼオライト若しくはアルミナを含有する、NOx選択還元触媒であることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1つの項に記載の排気ガス浄化システム。
- 上記NOx浄化触媒が、白金、パラジウム及びロジウムから成る群より選ばれた少なくとも1種の金属元素と、ランタン、セリウム、プラセオジウム、ネオジウム及びサマリウムから成る群より選ばれた少なくとも1種の希土類元素、ジルコニウム、及びバリウムから成る群より選ばれた少なくとも1種のものとを含有する、三元触媒であることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1つの項に記載の排気ガス浄化システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000196404A JP3682851B2 (ja) | 2000-06-29 | 2000-06-29 | 排気ガス浄化システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000196404A JP3682851B2 (ja) | 2000-06-29 | 2000-06-29 | 排気ガス浄化システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002013412A JP2002013412A (ja) | 2002-01-18 |
JP3682851B2 true JP3682851B2 (ja) | 2005-08-17 |
Family
ID=18694908
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000196404A Expired - Lifetime JP3682851B2 (ja) | 2000-06-29 | 2000-06-29 | 排気ガス浄化システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3682851B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4704964B2 (ja) * | 2006-06-15 | 2011-06-22 | 本田技研工業株式会社 | NOx浄化システム及びNOx浄化方法 |
JP2008284432A (ja) * | 2007-05-16 | 2008-11-27 | Nissan Diesel Motor Co Ltd | エンジンの排気浄化装置 |
JP2010163358A (ja) * | 2010-02-15 | 2010-07-29 | Hitachi Ltd | 水素供給装置および水素供給方法 |
JP5878337B2 (ja) * | 2011-11-04 | 2016-03-08 | 日野自動車株式会社 | 排ガス浄化装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH045420A (ja) * | 1990-04-19 | 1992-01-09 | Iseki & Co Ltd | 内燃機関 |
JP2984528B2 (ja) * | 1993-10-04 | 1999-11-29 | トヨタ自動車株式会社 | 内燃機関の排気浄化装置 |
JPH07136467A (ja) * | 1993-11-19 | 1995-05-30 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 窒素酸化物の除去方法 |
JP3741297B2 (ja) * | 1997-02-14 | 2006-02-01 | トヨタ自動車株式会社 | 排ガス浄化用触媒 |
JP3741303B2 (ja) * | 1997-12-08 | 2006-02-01 | トヨタ自動車株式会社 | 排ガス浄化用触媒 |
-
2000
- 2000-06-29 JP JP2000196404A patent/JP3682851B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002013412A (ja) | 2002-01-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5826285B2 (ja) | NOx吸収触媒 | |
JP3724708B2 (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
JP5802260B2 (ja) | リーンバーンエンジン用の排気ガス後処理においてナイトラスオキサイドを減少させる方法 | |
JP3855266B2 (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
JP5590640B2 (ja) | 排気ガス浄化システム | |
JP2002364343A (ja) | 排気ガス浄化システム | |
EP2629881B1 (en) | NOx STORAGE COMPONENT | |
EP0935055A2 (en) | Device for purifying oxygen rich exhaust gas | |
JPWO2010041741A1 (ja) | 排ガス浄化装置 | |
JP3965676B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒及び排ガス浄化システム | |
JP3788141B2 (ja) | 排気ガス浄化システム | |
JP4573993B2 (ja) | 排気ガス浄化用触媒及びその製造方法 | |
JP3551348B2 (ja) | 排気ガス浄化装置 | |
JP6775052B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
JP2004275814A (ja) | 排ガス浄化触媒、その製造方法及び排ガス浄化装置 | |
JP3682851B2 (ja) | 排気ガス浄化システム | |
JP2001293374A (ja) | 排気ガス浄化用触媒及び排気ガス浄化システム | |
JP2000054825A (ja) | 耐硫黄被毒性NOx吸蔵材、これを用いた排ガス浄化触媒及び浄化システム | |
JP3560147B2 (ja) | 排気ガス浄化システム | |
JP2002168117A (ja) | 排気ガス浄化システム | |
JP2004230241A (ja) | 排気ガス浄化触媒及びその製造方法 | |
JP2003135970A (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
JP3871110B2 (ja) | 排気ガス浄化触媒及びその製造方法 | |
JP3661555B2 (ja) | 排気ガス浄化システム | |
JP3477982B2 (ja) | 排気ガス浄化用触媒及び排気ガス浄化方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050126 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050203 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050329 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050506 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050519 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 3682851 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090603 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090603 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100603 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110603 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120603 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120603 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130603 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140603 Year of fee payment: 9 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |