JP3663422B2 - メタノールを原料とする水素製造方法及びこの方法を用いた水素製造装置 - Google Patents

メタノールを原料とする水素製造方法及びこの方法を用いた水素製造装置 Download PDF

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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、メタノールを原料とする水素製造方法に関し、また、この方法を用いた、小型、軽量の水素製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
燃料電池は、燃料の持つ化学エネルギーを、直接電気エネルギーに変えて取り出すもので、エネルギー変換効率が高く、それ故、環境に優しい動力源である。燃料電池の中でも、水素と酸素を燃料とする燃料電池は、反応生成物が水であるため、主に無公害な自動車用動力源として実用化されつつある。
ところで、燃料電池を動力源とする自動車は、水素ガスを充填した高圧ボンベを搭載し、この高圧ボンベの水素ガスを燃料とする方式と、石油、メタノール等の燃料を搭載し、この燃料から改質装置と呼ばれる水素製造装置を介して取り出した水素を燃料とする方式がある。
水素ガスは、空気との混合によって爆発する危険が極めて大きいので、高圧ボンベの水素ガスを燃料とする方式よりも、燃料電池と水素製造装置が一体物で構成され、石油、メタノール等の燃料から必要な時に必要な量の水素ガスを生成するシステムが安全性の観点から好ましい。
【０００３】
しかしながら、従来の水素製造装置は、装置が大きく、また水素を製造するための消費エネルギーが大きいために、自動車等への利用は実用化していない。このことを、従来の水素製造装置の例を用いて具体的に説明する。尚、メタノールから水素ガスを製造する製造装置は従来存在しないが、気体メタノールを分解して水素を生成する技術は知られており（特許文献１，非特許文献１、２参照）、下記の従来装置の説明は、この技術に基づいたものである。
図５は従来のメタノールから水素ガスを製造する水素製造装置の模式図である。図において、液体のメタノール５１を、バーナー等の加熱装置５２で約３００℃に加熱されたメタノール気化装置５３に導入し、メタノール５１を気化し、気化したメタノール５４を触媒層５５に導入する。触媒層５５は、Ｐｄ／ＣｅＯ2 等の、メタノールを水素ガスと炭酸ガスを主成分とするその他のガスに分解する触媒５６を層状に積層した構造を有しており、触媒層５５に導入された気化したメタノール５４は、触媒５６によって水素ガスと炭酸ガスを主成分とするその他のガス５７に分解される。触媒層５５は触媒５６を活性化するために、バーナー等の加熱装置５２で約３００℃に加熱することが必要である。触媒層５５で分解されて生じた水素ガスと炭酸ガスを主成分とするその他のガス５７は、分離装置５８に導入され、その他のガス５９と水素ガス６０に分離され、水素ガス６０が製造される。分離装置５８は例えば、炭酸ガスを選択的に吸着する選択吸着装置である。
【特許文献１】
特開平９−１８７６５３号公報
【非特許文献１】
Ｙｏｓｈｉｋａｚｕ Ｕｓａｍｉ ｅｔ ａｌ．，“Ｃａｔａｌｙｓｔｉｃ ｍｅｔｈａｎｏｌ ｄｅｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ ａｔ ｌｏｗ ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅｓ ｏｖｅｒ ｐａｌｌａｄｉｕｍ ｓｕｐｐｏｒｔｅｄ ｏｎ ｍｅｔａｌ ｏｘｉｄｅｓ”Ａｐｐｌｉｅｄ Ｃａｔａｌｙｓｉｓ Ａ：Ｇｅｎｅｒａｌ １７１（１９９８）１２３−１３０
【非特許文献２】
Ｋｉｙｏｈａｒｕ ＮＡＫＡＧＡＷＡ，ｅｔ ａｌ，Ｄｉａｍｏｎｄ−ｓｕｐｐｏｒｔｅｄ ｍｅｔａｌ ｃａｔａｌｙｓｔ：ａ ｎｏｖｅｌ ｍｅｄｉｕｍ ｆｏｒ ｈｙｄｒｏｇｅｎ ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ ｆｒｏｍ ｍｅｔｈａｎｏｌ ｄｅｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ，Ｃａｔａｌｙｓｉｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ，２００２，ｖｏｌ．８０，ｎｏ．３−４，ｐ．１６１−１６４
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながらこの装置において気化装置５３は、自動車の駆動力に見合った量の水素ガスを常時製造しなければならないため、気化装置５３全体を約３００℃の高温に加熱して気化速度を高く保たなければならず、また、自動車の大きさに比し、無視できない容積を必要としている。
また触媒層５５も同様に、自動車の駆動力に見合った量の水素ガスを常時製造しなければならないため、触媒層５５全体を約３００℃の高温に加熱して触媒反応速度を高く保たなければならず、また、自動車の大きさに比し、無視できない容積を必要としている。
このように、従来の水素製造装置は、大型、かつ重量が大きすぎ、また、気化装置や触媒層を加熱するための消費エネルギーが大きく、自動車に搭載することができなかった。
【０００５】
本発明は上記課題に鑑み、小型、軽量な装置で水素の製造が可能なメタノールを原料とする水素製造方法を提供し、また、その方法を用いた小型、軽量な、メタノールを原料とする水素製造装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明のメタノールを原料とする水素製造方法は、触媒を担持した基板を、液体メタノール中で加熱することにより、基板から液体メタノールに向かう急激な温度勾配を形成し、温度勾配と触媒の触媒作用と基板の触媒作用とにより、メタノールの接触分解反応を生じさせて水素ガスを生成することを特徴とする。
また、本発明の水素製造装置は、液体メタノールを供給する供給孔と発生する水素ガスを取出す取出孔を備えた、液体メタノールと発生する水素ガスを保持する容器と、容器に供給された液体メタノールに浸漬される、メタノールの接触分解反応を生ずる触媒を担持した基板と、基板を加熱する手段とからなり、基板を加熱することにより、基板から液体メタノールに向かう急激な温度勾配を形成し、温度勾配と触媒の触媒作用と基板の触媒作用とにより、メタノールの接触分解反応を生じさせて水素ガスを生成することを特徴とする。
好ましくは、触媒は、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｐｔ又はＲｕである。
触媒を担持した基板は導電性を有する基板又は抵抗体を有する基板であり、基板を加熱する手段は導電性を有する基板又は抵抗体を有する基板に電流を供給して加熱する電源手段であれば好ましい。上記触媒を担持した基板は、酸化ダイヤモンド、二酸化珪素、二酸化ジルコニウム、二酸化セリウム又は二酸化チタンであれば好ましい。また、触媒を担持した基板は、活性炭であっても良い。この触媒を担持した基板は、好ましくは３００℃以上に加熱される。
【０００７】
本発明の方法及び装置によれば、メタノール中で触媒を担持した基板を加熱することによって、基板の表面から液体メタノールに向かって急激な温度勾配が生じ、この急激な温度勾配と、酸化物基板の触媒作用と、基板に担持された触媒の触媒作用とにより、メタノールの特異な接触分解反応が生じ、基板近傍のメタノールが分解して水素ガスを発生する。特に、基板が酸化ダイヤモンドであり、触媒がＮｉであれば、水素発生効率が高い。
【０００８】
このように、本発明の方法によれば、メタノール中で触媒を担持した基板を加熱するだけで水素を製造できるから、従来方法で必要とした、メタノール気化用とメタノール分解用の２つの容器を必要とせず、１個の容器でよいので、装置を小型化できる。
また、基板の表面から液体メタノールに向かう急激な温度勾配と、酸化物基板の触媒作用と、基板に担持された触媒の触媒作用とによるメタノールの特異な接触分解反応の反応速度が極めて大きいので、同一の水素生成速度を有する従来の装置と比べて小型軽量にすることができる。また、基板の表面から液体メタノールに向かう急激な温度勾配と、酸化物基板の触媒作用と、基板に担持された触媒の触媒作用とによるメタノールの特異な接触分解反応の反応速度が極めて大きいので、水素を生成するための消費エネルギーが小さい。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき詳細に説明する。本発明の装置を用いて、本発明の方法を説明する。
図１は本発明のメタノールを原料とする水素製造装置の構成を示す図である。なお、実質的に同一の部材には同一の符号を付して説明する。
本発明のメタノールを原料とする水素製造装置１は、原料とする液体メタノール２と発生するガス３を保持する容器４と、容器４中の液体メタノール２に浸積して保持される触媒を担持した基板５と、基板５に直流又は交流の電流を供給する電源６とよりなる。なお、この実施形態の場合、基板加熱手段として、基板５に電流を流す電源を示しているが、もちろん、これに限らず、基板５を加熱することができる他の手段、例えばヒーターであっても良い。基板５は、酸化物からなる基板上に遷移金属触媒が担持されている。例えば、酸化物基板上に、遷移金属を蒸着し、水素中で表面を還元処理したものを基板として使用できる。
【００１０】
この水素製造装置１を動作させるには、容器４のメタノール供給孔４ａから液体メタノール２を供給し、基板５がメタノール２中に浸積されるようにする。この状態で電源６から電線６ａを介して電流を供給し、基板５を加熱する。加熱温度は、後述するように３００℃以上であれば好ましい。基板５が加熱されると、基板５の表面から水素ガスを主成分としたガスの泡３が激しく生成される。ガス３を容器４のガス取出孔４ｂから取り出す。取り出したガス３は、水素ガスを主成分とし、その他、一酸化炭素と微量な二酸化炭素、メタン等を含んでいる。取り出したガス３を周知のガス分離装置で分離すれば、水素ガスを得ることができる。
【００１１】
この装置によれば、触媒を担持した基板５を加熱するだけで、メタノール２が分解し、水素ガスを主成分とするガス３が生成されるので、従来例で示したような、メタノール気化用とメタノール分解用の二つの容器を必要とせず、一つですむので装置が小型化できる。また、下記の実施例で示すように、本発明の方法によるメタノール分解反応は、従来例で示した、気化したメタノールガスを触媒で分解する方法に比べ、反応速度が格段に速いため、装置を小型化しても十分な量の水素ガスを製造できる。またそれ故、水素ガスを生成するための消費エネルギーが小さい。
本発明の方法によるメタノール分解反応のメカニズムは、現在までのところ十分解明されていないが、基板の表面から液体メタノールに向かう急激な温度勾配と、酸化物基板の触媒作用と、基板に担持された触媒の触媒作用とにより、メタノールの特異な接触分解反応が生じるものと考えられる。
【００１２】
次に、実施例を示す。
図１に示した本発明の装置を用い、基板及び基板に担持する触媒を種々変えて、メタノールから水素ガスへの変換効率を比較した。
使用した基板は、酸化ダイヤモンド（Ｏ−ｄｉａ）、二酸化珪素（ＳｉＯ2 ）、二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）、活性炭（ＡＣ）、二酸化セリウム（ＣｅＯ2 ）、二酸化チタン（ＴｉＯ2 ）、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）、及び酸化マグネシウム（ＭｇＯ）である。使用した触媒は、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｐｔ及びＲｕである。
触媒を担持した基板の作製は、上記の基板上に上記の金属の薄膜をスパッタリング、蒸着法または含浸法で形成し、水素雰囲気中で表面を還元してから実験した。基板温度が３００℃の一定温度になるように電流を制御して通電し、３０分間に生成するガス量を測定し、また、生成ガスの組成比を測定した。
【００１３】
図２は、酸化ダイヤモンドを基板とし、触媒金属を種々変えた場合のメタノールからガスへの変換効率を示す図である。右の縦軸は変換効率を示し、横軸は触媒金属を示す。また左の縦軸はガスの組成比を表している。図の折れ線グラフは変換効率を示し、棒グラフはガスの成分組成比を示す。なお、変換効率及び組成比はモル比で求めたものであり、また、縦軸のスケールは相対比較を示すための任意メモリである。
図からわかるように、Ｎｉを触媒とした場合にもっとも変換効率が高い。生成するガスの組成は、水素ガスが６０％〜７０％であり、残りは、一酸化炭素、二酸化炭素及びメタンである。
【００１４】
図３は、Ｎｉを触媒金属とし、基板を種々変えた場合のメタノールからガスへの変換効率を示す図である。右の縦軸は変換効率を示し、横軸は基板を示す。また左の縦軸はガスの組成比を表している。図の折れ線グラフは変換効率を示し、棒グラフはガスの成分組成比を示す。なお、変換効率及び組成比は、モル比で求めたものであり、また、縦軸のスケールは相互に比較するための任意メモリである。
図からわかるように、酸化ダイヤモンドを基板とした場合にもっとも変換効率が高い。生成するガスの組成は、水素ガスが６０％〜７０％であり、残りは、一酸化炭素、二酸化炭素及びメタンである。
【００１５】
図４は変換効率の基板温度依存性を示す図である。Ｎｉを触媒とし基板を酸化ダイヤモンドとした場合の測定結果である。図の縦軸は変換効率を示し、横軸は基板温度を示す。なお、縦軸のスケールは、相互に比較するための任意メモリである。
この図から、基板温度が約３００℃以上であれば、十分な変換効率が得られることがわかる。
【００１６】
上記実施例からわかるように、触媒を担持した基板は、酸化ダイヤモンドを基板とし、触媒金属をＮｉとした場合に、また、基板温度が３００℃以上である場合に水素の生成効率が高くなる。
なお、酸化ダイヤモンドとは、ダイヤモンド表面の炭素原子のダングリングボンドが酸素で終端されたダイヤモンドである。
【００１７】
【発明の効果】
上記説明から理解されるように、本発明の方法によれば、メタノール中で触媒を担持した基板を加熱するだけで水素を製造できるので、従来方法では必要とした、メタノール気化用とメタノール分解用の２つの容器を必要とせず、一つの容器でよいので、装置を小型化できる。また、基板の表面から液体メタノールに向かう急激な温度勾配と、酸化物基板の触媒作用と、基板に担持された触媒の触媒作用とによるメタノールの特異な接触分解反応の反応速度が極めて大きいので、同一の水素生成速度を有する従来の装置と比べて小型軽量にすることができる。また、接触分解反応の反応速度が極めて大きいので、水素を生成するための消費エネルギーが小さい。
従って、本発明は燃料電池を動力源とする自動車等に使用すれば、極めて有用である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のメタノールを原料とする水素製造装置の構成を示す図である。
【図２】酸化ダイヤモンドを基板とし、触媒金属を種々変えた場合の水素生成効率を示す図である。
【図３】Ｎｉを触媒金属とし、基板を種々変えた場合の水素生成効率を示す図である。
【図４】水素変換効率の基板温度依存性を示す図である。
【図５】従来の水素製造装置の構成を示す図である。
【符号の説明】
１ メタノールを原料とする水素製造装置
２ 液体メタノール
３ 発生するガス
４ 容器
４ａ メタノール供給孔
４ｂ ガス取出孔
５ 触媒を担持した基板
６ 電源
６ａ 電線
５１ 液体メタノール
５２ 加熱装置
５３ 気化装置
５４ 気化したメタノール
５５ 触媒層
５６ 触媒
５７ 水素ガスとその他のガス
５８ 分離装置
５９ その他のガス
６０ 水素ガス

Claims (5)

  1. Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｒｕの何れかから選ばれる触媒を担持した、酸化ダイヤモンド、二酸化珪素、二酸化ジルコニウム、二酸化セリウム、二酸化チタン又は活性炭でなる基板を、液体メタノール中で加熱することにより、上記基板から上記液体メタノールに向かう急激な温度勾配を形成し、この温度勾配と上記触媒の触媒作用と上記基板の触媒作用とにより、メタノールの接触分解反応を生じさせて水素ガスを生成することを特徴とする、水素製造方法。
  2. 前記触媒を担持した基板は導電性を有する基板又は抵抗体を有する基板であり、上記基板を加熱する手段は上記導電性を有する基板又は抵抗体を有する基板に電流を供給して加熱する電源手段であることを特徴とする、請求項１に記載の水素製造方法。
  3. 前記触媒を担持した基板を、３００℃以上に加熱することを特徴とする、請求項１又は２に記載の水素製造方法。
  4. 液体メタノールを供給する供給孔と生成する水素ガスを取り出す取出孔とを備えた、上記液体メタノールと生成する水素ガスを保持する容器と、この容器に供給された液体メタノールに浸漬される、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｒｕの何れかから選ばれる触媒を担持した、酸化ダイヤモンド、二酸化珪素、二酸化ジルコニウム、二酸化セリウム、二酸化チタン又は活性炭でなる基板と、この基板を加熱する手段とからなり、上記基板を加熱することにより、上記基板から上記液体メターノールに向かう急激な温度勾配を形成し、この温度勾配と上記触媒の触媒作用と上記基板の触媒作用とにより、メタノールの接触分解反応を生じさせて水素ガスを生成することを特徴とする、水素製造装置。
  5. 前記触媒を担持した基板は導電性を有する基板又は抵抗体を有する基板であり、前記基板を加熱する手段は上記導電性を有する基板又は抵抗体を有する基板に電流を供給して加熱する電源手段であることを特徴とする、請求項４に記載の水素製造装置。
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